JPS63260946A - 固相ペプチド合成用支持体 - Google Patents
固相ペプチド合成用支持体Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07K—PEPTIDES
- C07K1/00—General methods for the preparation of peptides, i.e. processes for the organic chemical preparation of peptides or proteins of any length
- C07K1/04—General methods for the preparation of peptides, i.e. processes for the organic chemical preparation of peptides or proteins of any length on carriers
- C07K1/042—General methods for the preparation of peptides, i.e. processes for the organic chemical preparation of peptides or proteins of any length on carriers characterised by the nature of the carrier
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、Merr l f ie ld合成の既知
の一般的原理に従って固相におけるペプチド及びペプチ
ドアミドの合成のための支持体として使用するための新
規な合成樹脂に関する。この発明の合成樹脂は、前記の
Merrifield合成のために使用することができ
そして場合によっては0〜5moβ%、好ましくは1〜
’l mo R%のジビニルベンゼンにより架橋されて
いるポリスチレンの骨格構成から成り、該骨格構造のベ
ンゼン環において次の弐(I):RO3 I (式中、Xは一〇−又は−Nl+−であり、そしてRは
C1〜C4−アルキル基である)で表わされる基により
直換されていることを′(〒徴とする。この発明の樹脂
中のXは好ましくは一〇−であり、そして記号Rは好ま
しくは直鎖C3〜C4−アルキル基特にメチル基である
。
の一般的原理に従って固相におけるペプチド及びペプチ
ドアミドの合成のための支持体として使用するための新
規な合成樹脂に関する。この発明の合成樹脂は、前記の
Merrifield合成のために使用することができ
そして場合によっては0〜5moβ%、好ましくは1〜
’l mo R%のジビニルベンゼンにより架橋されて
いるポリスチレンの骨格構成から成り、該骨格構造のベ
ンゼン環において次の弐(I):RO3 I (式中、Xは一〇−又は−Nl+−であり、そしてRは
C1〜C4−アルキル基である)で表わされる基により
直換されていることを′(〒徴とする。この発明の樹脂
中のXは好ましくは一〇−であり、そして記号Rは好ま
しくは直鎖C3〜C4−アルキル基特にメチル基である
。
この発明はまた、前記の樹脂の製造方法、並びにペプチ
ド及びペプチドアミド、特にN−末端アミノ基及び/又
は他の官能基において保護されているそれらの製造のた
めの該樹脂の使用に関する。
ド及びペプチドアミド、特にN−末端アミノ基及び/又
は他の官能基において保護されているそれらの製造のた
めの該樹脂の使用に関する。
この発明はまた、基−XHが−NH□である場合それが
保護された形にある対応する樹脂、場合によっては保護
されているアミノ酸、ペプチド又はペプチドアミド残基
が付加されている樹脂、並びに上記の方法により、特に
例中に記載されている方法により製造される遊離ペプチ
ド及びペプチドアミドに関する。
保護された形にある対応する樹脂、場合によっては保護
されているアミノ酸、ペプチド又はペプチドアミド残基
が付加されている樹脂、並びに上記の方法により、特に
例中に記載されている方法により製造される遊離ペプチ
ド及びペプチドアミドに関する。
ペプチド化合物のMerrifield合成の原理は1
962年に公表され、一般に知られている。この方法に
おいては、一端(通常N−末端)で保護されたアミノ酸
が適切に官能化された基材ポリマー(はとんどの一般的
形態においてはクロロメチル化ポリスチレン)に結合(
付加)される。この結合は、一方において、ペプチドの
合成の種々の反応条件下(特にN−末端アミノ保護基の
除去)においてそのまま維持されるために十分に強くあ
るべきであり、しかし他方、生成物を損傷しない条件下
でポリマー支持体から最終ペプチドが切り離さね2るこ
とが可能でなければならない。次に、実際の合成は支持
体に付加されたアミノ酸において行われる。この工程に
おいては通常、N−末端保護基が除去され、この遊離さ
れたアミノ基がN−末o:;1が保護された適切なアミ
ノ酸誘導体によりアシル化され(すなわち、新たなペプ
チド結合が形成され)、そして所望の長さのアミノ酸配
列が得られるまで末端保護基の除去及び他のアミノ酸残
基に上るアシル化を反復する。次に、この配列を適当な
試薬により最終ペプチドとして支持体から切り離す(取
り出す)。この理想的な反応過程は、実際に実施される
場合には多(の不利な点及び誤りの原因に悩まされ、そ
して最近の20年にわたり、ペプチドに関する文献はこ
れらの点に積極的に関心を寄仕ている。最も11雄な問
題の1つは、支持体上で合成された配列には二次生成物
が必然的に伴い、そしてすでに形成された不完全構造体
く例えば短縮された配列を有する二次生成物)が合成の
その後のすべての段階において同時に反応し、そして次
の段階に持ち込まれ、その結果最後には、構造の類似す
る支配的な量の二次生成物と一緒にごくわずかな量の目
的生成物がしばしば得られ、該目的生成物を前記二次生
成物から?Jf雑な方法で分離しなければならないこと
である。実質上常に保護されなければならない(アシル
化1桑作におLJる相対的にエネルギソシュな条件のた
め)他の側鎖官能基を、使用されるアミノ酸が含有する
場合、この状況は特に困難である。これらの保護基は今
度は、N−末0:11i基が遊離される場合、そのまま
維持される様に十分に耐性でなければならない。他の問
題点はペプチドアミド類により提起される。
962年に公表され、一般に知られている。この方法に
おいては、一端(通常N−末端)で保護されたアミノ酸
が適切に官能化された基材ポリマー(はとんどの一般的
形態においてはクロロメチル化ポリスチレン)に結合(
付加)される。この結合は、一方において、ペプチドの
合成の種々の反応条件下(特にN−末端アミノ保護基の
除去)においてそのまま維持されるために十分に強くあ
るべきであり、しかし他方、生成物を損傷しない条件下
でポリマー支持体から最終ペプチドが切り離さね2るこ
とが可能でなければならない。次に、実際の合成は支持
体に付加されたアミノ酸において行われる。この工程に
おいては通常、N−末端保護基が除去され、この遊離さ
れたアミノ基がN−末o:;1が保護された適切なアミ
ノ酸誘導体によりアシル化され(すなわち、新たなペプ
チド結合が形成され)、そして所望の長さのアミノ酸配
列が得られるまで末端保護基の除去及び他のアミノ酸残
基に上るアシル化を反復する。次に、この配列を適当な
試薬により最終ペプチドとして支持体から切り離す(取
り出す)。この理想的な反応過程は、実際に実施される
場合には多(の不利な点及び誤りの原因に悩まされ、そ
して最近の20年にわたり、ペプチドに関する文献はこ
れらの点に積極的に関心を寄仕ている。最も11雄な問
題の1つは、支持体上で合成された配列には二次生成物
が必然的に伴い、そしてすでに形成された不完全構造体
く例えば短縮された配列を有する二次生成物)が合成の
その後のすべての段階において同時に反応し、そして次
の段階に持ち込まれ、その結果最後には、構造の類似す
る支配的な量の二次生成物と一緒にごくわずかな量の目
的生成物がしばしば得られ、該目的生成物を前記二次生
成物から?Jf雑な方法で分離しなければならないこと
である。実質上常に保護されなければならない(アシル
化1桑作におLJる相対的にエネルギソシュな条件のた
め)他の側鎖官能基を、使用されるアミノ酸が含有する
場合、この状況は特に困難である。これらの保護基は今
度は、N−末0:11i基が遊離される場合、そのまま
維持される様に十分に耐性でなければならない。他の問
題点はペプチドアミド類により提起される。
なぜなら、それらと支持体との結合は(通常のペプチド
のエステル結合とは異り)やはりペプチド結合であって
、完全なアミノ酸配列のアミノ酸間の結合に類似し°ζ
いるからである。従って、他のペプチド結合を維持しな
がらペプチドアミドを支持体から選択的に切り離すこと
について困難が生ずる。これらの(そしてさらに他の)
理由のため、固相合成(Merrifield合成)は
最近、最大30個のアミノ酸を有するペプチドを合成す
る場合にのみ幾つかの利点を有する方法であると考えら
れている。
のエステル結合とは異り)やはりペプチド結合であって
、完全なアミノ酸配列のアミノ酸間の結合に類似し°ζ
いるからである。従って、他のペプチド結合を維持しな
がらペプチドアミドを支持体から選択的に切り離すこと
について困難が生ずる。これらの(そしてさらに他の)
理由のため、固相合成(Merrifield合成)は
最近、最大30個のアミノ酸を有するペプチドを合成す
る場合にのみ幾つかの利点を有する方法であると考えら
れている。
その適用範囲を拡大するため、例えばE、Δthert
on等、Proceedings of the 7t
h American PeptideSymposi
um+ 163 195頁、Pierce C1+em
ical Com−pany、 l?oclford、
IL、 USA (1981)により、保護された
官能基(N−末端アミノ基を包含する)を有する全アミ
ノ酸部分配列を組立ブロックの形で支持体に付加し、そ
して組立ブロックの形の他の保護されたペプチド断片と
連結することがQgされている。従って、支持体上の固
相合成によりこれらの必要な組立ブロック(ペプチド断
片)を製造することも可能なはずである。しかしながら
、これは全く新たな問題を提起する。このため、N−末
端保護基及び他の官能基の保護基(これは必然的に前者
とは異る)が影響を受けないような穏和でありぞして/
又は選択的な条件下で幾つかの保護されたアミノ酸残基
から成る合成されたペプチド断片が樹脂への付着から解
放されることを許容する樹脂が必要である。種々の提案
及び部分的解決の詳細な検討をA Lher ton等
の上記の発表に見ることができる。これらの著、には彼
ら自身の最良の解決策として、ノルバリンを介して2−
又は3−メトキシ−4−ヒドロキシメチルフェノキシ酢
酸に結合しているポリアミド塩基樹脂の使用を提案して
いる。次に、第一の(保護された)アミノ酸のC−末端
がエステル結合によりヒドロキシメチル基に付加され、
合成の終点におけるこの結合の開裂(樹脂からの切り離
し)が塩化メチレン中1%トリフルオロ酢酸を用いて行
われる。しかしながら、技術の現状において最良の一つ
であると考えることができるこの方法でさえ、普遍的に
応用することができない。なぜなら、著者自身が述べて
いるように、合成の終りにおける除去条件下で側鎖の二
つの非常に重要な保1!基、すなわちリジンのε−アミ
ノ基のter t−ブトキシカルボニル保護基及びチロ
シンのヒドロキシ基を保護するterL−ブチル基が容
易に除去され、これらの保31基の使用が問題となるか
らである。さらに、この樹脂は、ペプチドアミドの直接
固相合成のためには適切でない。このすべてがおそらく
、この方法の明瞭な利点にもかかわらず該方法が今まで
広く使用されていない理由を説明しているであろう。
on等、Proceedings of the 7t
h American PeptideSymposi
um+ 163 195頁、Pierce C1+em
ical Com−pany、 l?oclford、
IL、 USA (1981)により、保護された
官能基(N−末端アミノ基を包含する)を有する全アミ
ノ酸部分配列を組立ブロックの形で支持体に付加し、そ
して組立ブロックの形の他の保護されたペプチド断片と
連結することがQgされている。従って、支持体上の固
相合成によりこれらの必要な組立ブロック(ペプチド断
片)を製造することも可能なはずである。しかしながら
、これは全く新たな問題を提起する。このため、N−末
端保護基及び他の官能基の保護基(これは必然的に前者
とは異る)が影響を受けないような穏和でありぞして/
又は選択的な条件下で幾つかの保護されたアミノ酸残基
から成る合成されたペプチド断片が樹脂への付着から解
放されることを許容する樹脂が必要である。種々の提案
及び部分的解決の詳細な検討をA Lher ton等
の上記の発表に見ることができる。これらの著、には彼
ら自身の最良の解決策として、ノルバリンを介して2−
又は3−メトキシ−4−ヒドロキシメチルフェノキシ酢
酸に結合しているポリアミド塩基樹脂の使用を提案して
いる。次に、第一の(保護された)アミノ酸のC−末端
がエステル結合によりヒドロキシメチル基に付加され、
合成の終点におけるこの結合の開裂(樹脂からの切り離
し)が塩化メチレン中1%トリフルオロ酢酸を用いて行
われる。しかしながら、技術の現状において最良の一つ
であると考えることができるこの方法でさえ、普遍的に
応用することができない。なぜなら、著者自身が述べて
いるように、合成の終りにおける除去条件下で側鎖の二
つの非常に重要な保1!基、すなわちリジンのε−アミ
ノ基のter t−ブトキシカルボニル保護基及びチロ
シンのヒドロキシ基を保護するterL−ブチル基が容
易に除去され、これらの保31基の使用が問題となるか
らである。さらに、この樹脂は、ペプチドアミドの直接
固相合成のためには適切でない。このすべてがおそらく
、この方法の明瞭な利点にもかかわらず該方法が今まで
広く使用されていない理由を説明しているであろう。
驚くべきことに、この発明の合成樹脂は今までの提案が
有する既知の欠点を有さず、そしてそれ故に保護された
及び保護されていないペプチド及びペプチドアミドの固
相合成の広い適用を可能にすることが今や見出された。
有する既知の欠点を有さず、そしてそれ故に保護された
及び保護されていないペプチド及びペプチドアミドの固
相合成の広い適用を可能にすることが今や見出された。
好ましくは、最も使用されている支持体ポリマー、すな
わちポリスチレンが合成樹脂の合成のためのポリマー骨
格として使用される。
わちポリスチレンが合成樹脂の合成のためのポリマー骨
格として使用される。
以下余白
〔課題を解決するだめの手段〕
詳しくは、その骨格にフェニル基を含有する任意の合成
樹脂を基本ポリマーとして使用することができる。ペプ
チドの固相合成のための支持体として20年間にわたり
一般に使用されておりそしてその目的のための種々の商
業的調製物の形で入手可能なスチレンのポリマーが好ま
しい。有機溶剤中での不溶性及び安定性を増強するため
、5moβ%以下の、そして好ましくは約1〜2モル%
のジビニルベンゼンにより架橋されたポリスチレン樹脂
が好ましい。この様な基本ポリマーはそれらのフェニル
基(ベンゼン環)においてクロロメチル化又はブロモメ
チル化により置換され、そして次にそれぞれ塩素又は臭
素を置換することによりメチレン基において実際のアン
カー基が導入される。さらに、ハロメチル化、特にクロ
ロメチル化されたポリスチレンは、“Merrif 1
eld”樹脂の名称のもとにペプチドの固相合成におい
て広く使用されている一般的な市販の製品である。
樹脂を基本ポリマーとして使用することができる。ペプ
チドの固相合成のための支持体として20年間にわたり
一般に使用されておりそしてその目的のための種々の商
業的調製物の形で入手可能なスチレンのポリマーが好ま
しい。有機溶剤中での不溶性及び安定性を増強するため
、5moβ%以下の、そして好ましくは約1〜2モル%
のジビニルベンゼンにより架橋されたポリスチレン樹脂
が好ましい。この様な基本ポリマーはそれらのフェニル
基(ベンゼン環)においてクロロメチル化又はブロモメ
チル化により置換され、そして次にそれぞれ塩素又は臭
素を置換することによりメチレン基において実際のアン
カー基が導入される。さらに、ハロメチル化、特にクロ
ロメチル化されたポリスチレンは、“Merrif 1
eld”樹脂の名称のもとにペプチドの固相合成におい
て広く使用されている一般的な市販の製品である。
以下余白
〔具体的な記載〕
上に定義した新規な合成樹脂の製造のためのこの発明の
方法は、適当なポリスチレン、例えば、0〜5moβ%
のジビニルベンゼンで架橋されておりそして骨格構造の
ベンゼン環においてり四ロメチル化又はブロモメチル化
されている前記のポリスチレンを、 a)次の式(■): ”0\ (式中、Mはアルカリ金属であり、そしてRはriii
記の意味を有する) で表わされる化合物; b)遷元剤:及び、Xが−Nl!−である場合には、 c)?ミノ基を導入する試薬; と次々に反応せしめることを含んで成る。
方法は、適当なポリスチレン、例えば、0〜5moβ%
のジビニルベンゼンで架橋されておりそして骨格構造の
ベンゼン環においてり四ロメチル化又はブロモメチル化
されている前記のポリスチレンを、 a)次の式(■): ”0\ (式中、Mはアルカリ金属であり、そしてRはriii
記の意味を有する) で表わされる化合物; b)遷元剤:及び、Xが−Nl!−である場合には、 c)?ミノ基を導入する試薬; と次々に反応せしめることを含んで成る。
段階a)の反応は、好ましくは塩に対する良好な溶解力
を有する高極性溶剤、例えば二極性非プロトン性溶剤、
例えばジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ヘキサ
メチルリントリアミド、N。
を有する高極性溶剤、例えば二極性非プロトン性溶剤、
例えばジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ヘキサ
メチルリントリアミド、N。
N′−プロピレン尿素、又は脂肪族アミド、例えば特に
ジメチルホルムアミド、あるいはさらに前記の溶剤の混
合物の存在下で、そして好ましくは水分を厳重に排除し
て行われる。好ましくは、式(II)のアルカリ金属塩
の溶液が使用され、そしてこの目的のためにセシウム塩
(Mがセシウム)が特に適当である。反応はO℃〜50
℃の温度において、好ましくは室温の範囲内で行うこと
ができ、反応時間は数時間にわたり、例えば8〜72時
間である。この時間中、反応混合物は好ましくは機械的
に撹拌又は振とうされる。出発物質として使用される2
、4−ジアルコキシ−4′−ヒドロキシベンゾフェノン
はそれ自体既知の方法で、例えば対応するレヅルシノー
ルジエステルを塩化p−ヒドロキシベンゾイルにより塩
化アルミニウム触媒のもとでC−アシル化するか、ある
いはこのアシル化の変法によって得ることができ、この
ものから1」的とする塩が、対応するアルカリ金属水酸
化物、例えば水酸化セシウノ、との常用の反応により得
られる。
ジメチルホルムアミド、あるいはさらに前記の溶剤の混
合物の存在下で、そして好ましくは水分を厳重に排除し
て行われる。好ましくは、式(II)のアルカリ金属塩
の溶液が使用され、そしてこの目的のためにセシウム塩
(Mがセシウム)が特に適当である。反応はO℃〜50
℃の温度において、好ましくは室温の範囲内で行うこと
ができ、反応時間は数時間にわたり、例えば8〜72時
間である。この時間中、反応混合物は好ましくは機械的
に撹拌又は振とうされる。出発物質として使用される2
、4−ジアルコキシ−4′−ヒドロキシベンゾフェノン
はそれ自体既知の方法で、例えば対応するレヅルシノー
ルジエステルを塩化p−ヒドロキシベンゾイルにより塩
化アルミニウム触媒のもとでC−アシル化するか、ある
いはこのアシル化の変法によって得ることができ、この
ものから1」的とする塩が、対応するアルカリ金属水酸
化物、例えば水酸化セシウノ、との常用の反応により得
られる。
段階b)は、それ自体既知の方法で、還元剤、例えばオ
キソ基をヒドロキシ基に還元するだめの通常の還元剤に
より行われる。適当な還元剤は例えばジボラン又はコン
プレックスヒドロキシド、例えば特にアルカリ金属ポロ
ヒドリド(例えばすトリウムボロヒドリド、リチウムボ
ロヒドリド又はカリウムボロヒドリド)、並びにさらに
、アルカリ金属アルミニウムヒドリド(例えばすトリウ
ムアルミニウムヒドリド“又はリチウムアルミニウムヒ
ドリド)であり、これらは便利な非反応性有機)8剤、
特に開鎖式又は環状エーテル(例えばそれぞれジイソプ
ロピルエーテル又は1.2−ヅメ1−キシ−もしくは−
ジエトキシーエタン、あるいはジオキサン又はテトラヒ
ドロフラン)中で、試薬に依存して0℃〜約ioo’c
の温度において行われる。反応時間は使用される試薬及
び反応条件に依存し、そして原則として1〜48時間で
あり、振とう又は1覚拌が固体成分と液体成分との間の
接触を促進する。必要であれば、この反応工程は新たな
還元剤を用いて反復することができ、過剰の試薬は反応
の終了において例えばアセトンのごときケトンによって
破壊するのが好ましい。
キソ基をヒドロキシ基に還元するだめの通常の還元剤に
より行われる。適当な還元剤は例えばジボラン又はコン
プレックスヒドロキシド、例えば特にアルカリ金属ポロ
ヒドリド(例えばすトリウムボロヒドリド、リチウムボ
ロヒドリド又はカリウムボロヒドリド)、並びにさらに
、アルカリ金属アルミニウムヒドリド(例えばすトリウ
ムアルミニウムヒドリド“又はリチウムアルミニウムヒ
ドリド)であり、これらは便利な非反応性有機)8剤、
特に開鎖式又は環状エーテル(例えばそれぞれジイソプ
ロピルエーテル又は1.2−ヅメ1−キシ−もしくは−
ジエトキシーエタン、あるいはジオキサン又はテトラヒ
ドロフラン)中で、試薬に依存して0℃〜約ioo’c
の温度において行われる。反応時間は使用される試薬及
び反応条件に依存し、そして原則として1〜48時間で
あり、振とう又は1覚拌が固体成分と液体成分との間の
接触を促進する。必要であれば、この反応工程は新たな
還元剤を用いて反復することができ、過剰の試薬は反応
の終了において例えばアセトンのごときケトンによって
破壊するのが好ましい。
段階b)に従って得られた“ヒドロキシ樹脂”を“アミ
ノ樹脂°に転換するために用いられる任意段階C)は、
例えばアンモニアを用いて行われる。この目的のため、
例えばアンモニアガスが、極性)8剤、例えば段階a)
又はb)において記載した溶剤のいずれか中“ヒドロキ
シ樹脂”の撹拌された懸濁液にQ ’c〜室温において
導入される。
ノ樹脂°に転換するために用いられる任意段階C)は、
例えばアンモニアを用いて行われる。この目的のため、
例えばアンモニアガスが、極性)8剤、例えば段階a)
又はb)において記載した溶剤のいずれか中“ヒドロキ
シ樹脂”の撹拌された懸濁液にQ ’c〜室温において
導入される。
この工程はまた特に、上昇した圧力のもとて50℃以下
の温度で振とうしながら行うこともできる。
の温度で振とうしながら行うこともできる。
段階C)において使用されるアミノ基を導入するための
試薬として、塩基による処理によってそこからアルコー
ル成分を除去することができ、そして酸性条件下で安定
であるカルバメートが特にb−rましい。この様なカル
バメートの例として、β−位に活性な、特に電子吸引性
の置換基を担持する置換されたカルバメートが挙げられ
る。β−(低級アルカン−もしくはアレーン−スルボニ
ル)−エチルカルバメート、例えばβ−(メタンスルホ
ニル)−エチルカルバメート又はβ−(ベンゼンスルボ
ニル)−エチルカルバメート、β−にドロー、シア/
−t+ L < ハハローフェニル)−エチルカルバメ
ート、例えばβ−(p−ニトロフェニル)−エチルカル
バメート、β−ジー(p−ニトロフェニル)−エチル力
ルバメー1− 又ハβ−(ペンタフルオロフェニル)−
エチルカルバメート、あるいは特に9−フルオレニルメ
チルカルバメートが適当である。上記のカルハメ−1・
を用いる反応において、不活性行a溶剤、例えばハ[1
炭化水素、例えば塩化メチレン、クロロホルム又は1.
2−ジクロロエタン、あるいはエーテル、例えばジイソ
プロピルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジフト−1
zシエタン、ジエトニトシエタン、テトラヒドロフラン
又はジオキサン中“ヒドロキシ樹脂”の懸濁液が、20
℃〜80℃、好ましくは約50℃の温度において、カル
バメート及び強酸、例えば有機スルホン酸、好ましくは
低級アルカンスルホン酸又はアレーンスルホン酸、例え
ばメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸又はp−l・
ルエンスルホン酸と共に、数時間、例えば2〜48時間
撹拌される。こうして、−X−H基の代りに−Nll−
W基を有する上に定義した構造を有する合成樹脂が得ら
れ、ここでWはアミノ保護基であって、このアミノ保護
基は塩基で処理することによって除去され得るもの、例
えば置換されたエトキシカルボニル基である。次に、“
アミノ樹脂”を遊離せしめるため、保護基を、不活性有
機溶剤中、好ましくは上記のエーテル又はジー低級アル
キルアミド、例えばジメチルホルムアミド又はジメチル
アセタミド中第三又は好ましくは第二開鎖式又は環状ア
ミン、例えばトリエチルアミン、トリブチルアミン、ジ
エチルアミン、ピペリジン、ピロリジン又はモルホリン
の溶液により、0℃〜50℃の温度、好ましくはおよそ
室温において、例えば数分間、例えば1分間ないし数時
間、例えば6時間の反応時間で除去する。さらに、アミ
ンの代りにアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリ
ウム、又は水酸化アンモニウム、例えば水酸化ベンジル
トリメチルアンモニウムを使用することもでき、この場
合には一層低い温度において、短い反応時間の後、例え
ば1分間未満の後、開裂がすでに完了する。
試薬として、塩基による処理によってそこからアルコー
ル成分を除去することができ、そして酸性条件下で安定
であるカルバメートが特にb−rましい。この様なカル
バメートの例として、β−位に活性な、特に電子吸引性
の置換基を担持する置換されたカルバメートが挙げられ
る。β−(低級アルカン−もしくはアレーン−スルボニ
ル)−エチルカルバメート、例えばβ−(メタンスルホ
ニル)−エチルカルバメート又はβ−(ベンゼンスルボ
ニル)−エチルカルバメート、β−にドロー、シア/
−t+ L < ハハローフェニル)−エチルカルバメ
ート、例えばβ−(p−ニトロフェニル)−エチルカル
バメート、β−ジー(p−ニトロフェニル)−エチル力
ルバメー1− 又ハβ−(ペンタフルオロフェニル)−
エチルカルバメート、あるいは特に9−フルオレニルメ
チルカルバメートが適当である。上記のカルハメ−1・
を用いる反応において、不活性行a溶剤、例えばハ[1
炭化水素、例えば塩化メチレン、クロロホルム又は1.
2−ジクロロエタン、あるいはエーテル、例えばジイソ
プロピルエーテル、ジイソブチルエーテル、ジフト−1
zシエタン、ジエトニトシエタン、テトラヒドロフラン
又はジオキサン中“ヒドロキシ樹脂”の懸濁液が、20
℃〜80℃、好ましくは約50℃の温度において、カル
バメート及び強酸、例えば有機スルホン酸、好ましくは
低級アルカンスルホン酸又はアレーンスルホン酸、例え
ばメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸又はp−l・
ルエンスルホン酸と共に、数時間、例えば2〜48時間
撹拌される。こうして、−X−H基の代りに−Nll−
W基を有する上に定義した構造を有する合成樹脂が得ら
れ、ここでWはアミノ保護基であって、このアミノ保護
基は塩基で処理することによって除去され得るもの、例
えば置換されたエトキシカルボニル基である。次に、“
アミノ樹脂”を遊離せしめるため、保護基を、不活性有
機溶剤中、好ましくは上記のエーテル又はジー低級アル
キルアミド、例えばジメチルホルムアミド又はジメチル
アセタミド中第三又は好ましくは第二開鎖式又は環状ア
ミン、例えばトリエチルアミン、トリブチルアミン、ジ
エチルアミン、ピペリジン、ピロリジン又はモルホリン
の溶液により、0℃〜50℃の温度、好ましくはおよそ
室温において、例えば数分間、例えば1分間ないし数時
間、例えば6時間の反応時間で除去する。さらに、アミ
ンの代りにアルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリ
ウム、又は水酸化アンモニウム、例えば水酸化ベンジル
トリメチルアンモニウムを使用することもでき、この場
合には一層低い温度において、短い反応時間の後、例え
ば1分間未満の後、開裂がすでに完了する。
前にすでに述べたように、この発明はまた、ペプチド及
びペプチドアミド、特にN−末端アミノ基及び/又は側
鎖の官能基において保護されているそれらの固相合成の
ために、本発明の合成樹脂を使用することにも関する。
びペプチドアミド、特にN−末端アミノ基及び/又は側
鎖の官能基において保護されているそれらの固相合成の
ために、本発明の合成樹脂を使用することにも関する。
この発明に従えば、ペプチド化合物は上に定義した合成
樹脂を用いて次の様にして製造される。
樹脂を用いて次の様にして製造される。
a)合成樹脂を、次の式:
%式%
(式中、Yは一〇−又は−NH−であり、WlはN−末
端アミノ保護基であり、そしてAM’ は1〜25個の
アミノ酸残基から成るアミノ酸配列のアシル基であって
、この配列は所望により官能基において保護されている
) で表わされる化合物と、又はその反応性官能誘導体と反
応せしめることによりnii記樹脂の−X−基にW”I
M’ −残基を付加し; b)N−末端保護基Wlを除去し: C)遊離したN−末端アミン基を、次の式:%式% (式中、W2及びM2は前記の基W+及びMlと類似の
意味を有する) で表わされる酸と、又はその反応性官能誘導体と反応せ
しめることによりアシル化し; d)段階b)に従う除去及び段階C)に従うアシル化の
交互の操作を、目的とするアミノ酸配列が得られるまで
必要なだけ反復し;そしてe)生じたベプチじ又はペプ
チドアミドを、所望により保護基の除去の後又は保護基
の除去と同時に、酸分解により前記樹脂から切り離す。
端アミノ保護基であり、そしてAM’ は1〜25個の
アミノ酸残基から成るアミノ酸配列のアシル基であって
、この配列は所望により官能基において保護されている
) で表わされる化合物と、又はその反応性官能誘導体と反
応せしめることによりnii記樹脂の−X−基にW”I
M’ −残基を付加し; b)N−末端保護基Wlを除去し: C)遊離したN−末端アミン基を、次の式:%式% (式中、W2及びM2は前記の基W+及びMlと類似の
意味を有する) で表わされる酸と、又はその反応性官能誘導体と反応せ
しめることによりアシル化し; d)段階b)に従う除去及び段階C)に従うアシル化の
交互の操作を、目的とするアミノ酸配列が得られるまで
必要なだけ反復し;そしてe)生じたベプチじ又はペプ
チドアミドを、所望により保護基の除去の後又は保護基
の除去と同時に、酸分解により前記樹脂から切り離す。
C−末端が保護されたアミノ酸又はアミノ酸配列を本発
明の樹脂に付加する場合、その条件は常に、反応に関与
する官能基を考慮して選択される。
明の樹脂に付加する場合、その条件は常に、反応に関与
する官能基を考慮して選択される。
好適に使用される支持体樹脂はXが一〇−である式(1
)の“ヒドロキシ樹脂”であり、アミlS形の最終生成
物が望まれる場合には、この樹脂を保護されたアミノ酸
アミド又はアミド形の保護されたアミノ酸配列と、例え
ばWl及びAM’が前に定義した通りである式W’
AM’ Nlhの化合物と反応せしめることができ、
この反応において樹脂のヒドロキシ基−X Hがアミド
性C−末端アミド基と交換される。この付加反応は通常
は酸により触媒され、例えば有機スルホン酸、好ましく
は低級アルカンスルホン酸又はアレーンスルポン酸、例
えばメタンスルポン酸、ヘンゼンスルホン酸又はp−ト
ルエンスルホン酸により触媒され、そして不活性有機溶
剤、例えば塩素化アルカン(例えば塩化メチレン、クロ
ロホルl、又は1.2−ジクロロエタン)及び/又は開
鎖式又は環状エーテル(例えば、それぞれジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテルもしくはジブチルエーテ
ル、又は1.2−ジメトキシエタンもしくは1.2−ジ
ェトキシエタン、あるいはジオキサン又はテトラヒドロ
フラン)の存在下で、数時間、例えば2〜48時間にわ
たり、20゛c〜80℃の温度、好ましくは約50℃に
て行われる。必要であれば、付加操作を反復することが
できる。次に、C−末端アミドが付加された樹脂、すな
わちヘンゼン環が次の式(■): (式中、R,W’及びAM’ は前記の意味を有する) で表わされる基により置換されている樹脂を段階b)〜
d)に従う所望のアミノ酸配列の合成にかける。完成さ
れたペプチドアミドの脱着は弗化水素を用いて行うこと
ができるが、しかし好ましくは穏和な酸性剤、例えばト
リフルオロ酢酸を用いて、好ましくは不活性有機稀釈剤
、例えばハロアルカン中で、又は水中で行われる。例え
ば、脱着は、トリフルオロ酢酸と塩化メチレン又は1.
2−ジクロロエタンとの例えばl:l容量比の混合物を
用いて行われる。しかしながら、通常使用される酸分解
的に除去され得る保護基のすべてがこれらの条件下で耐
性であるとは限らない。従って、樹脂からの脱着と同様
に対応する保護基も除去され、遊離官能基を有するペプ
チドアミドが得られる。
)の“ヒドロキシ樹脂”であり、アミlS形の最終生成
物が望まれる場合には、この樹脂を保護されたアミノ酸
アミド又はアミド形の保護されたアミノ酸配列と、例え
ばWl及びAM’が前に定義した通りである式W’
AM’ Nlhの化合物と反応せしめることができ、
この反応において樹脂のヒドロキシ基−X Hがアミド
性C−末端アミド基と交換される。この付加反応は通常
は酸により触媒され、例えば有機スルホン酸、好ましく
は低級アルカンスルホン酸又はアレーンスルポン酸、例
えばメタンスルポン酸、ヘンゼンスルホン酸又はp−ト
ルエンスルホン酸により触媒され、そして不活性有機溶
剤、例えば塩素化アルカン(例えば塩化メチレン、クロ
ロホルl、又は1.2−ジクロロエタン)及び/又は開
鎖式又は環状エーテル(例えば、それぞれジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテルもしくはジブチルエーテ
ル、又は1.2−ジメトキシエタンもしくは1.2−ジ
ェトキシエタン、あるいはジオキサン又はテトラヒドロ
フラン)の存在下で、数時間、例えば2〜48時間にわ
たり、20゛c〜80℃の温度、好ましくは約50℃に
て行われる。必要であれば、付加操作を反復することが
できる。次に、C−末端アミドが付加された樹脂、すな
わちヘンゼン環が次の式(■): (式中、R,W’及びAM’ は前記の意味を有する) で表わされる基により置換されている樹脂を段階b)〜
d)に従う所望のアミノ酸配列の合成にかける。完成さ
れたペプチドアミドの脱着は弗化水素を用いて行うこと
ができるが、しかし好ましくは穏和な酸性剤、例えばト
リフルオロ酢酸を用いて、好ましくは不活性有機稀釈剤
、例えばハロアルカン中で、又は水中で行われる。例え
ば、脱着は、トリフルオロ酢酸と塩化メチレン又は1.
2−ジクロロエタンとの例えばl:l容量比の混合物を
用いて行われる。しかしながら、通常使用される酸分解
的に除去され得る保護基のすべてがこれらの条件下で耐
性であるとは限らない。従って、樹脂からの脱着と同様
に対応する保護基も除去され、遊離官能基を有するペプ
チドアミドが得られる。
合成の最後において遊離酸の形のペプチド(所望により
N−末端保護基及び/又は他の保護基を伴う)が所望さ
れる場合、使用される支持体はやはりXが一〇−である
式(+)の“ヒドロキシ樹脂”である。このものを遊離
酸の形の又は該酸の反応性官能誘導体の形の保護された
アミノ酸又は保護されたアミノ酸配列と、例えばWl及
びAM”が前記の意味を有する弐W’ −AM’ −0
11の化合物と反応せしめ、この反応において樹脂のヒ
ドロキシ基がエステル化される。付加反応はペプチド合
成において一般的なアシル化条件下で行われる。
N−末端保護基及び/又は他の保護基を伴う)が所望さ
れる場合、使用される支持体はやはりXが一〇−である
式(+)の“ヒドロキシ樹脂”である。このものを遊離
酸の形の又は該酸の反応性官能誘導体の形の保護された
アミノ酸又は保護されたアミノ酸配列と、例えばWl及
びAM”が前記の意味を有する弐W’ −AM’ −0
11の化合物と反応せしめ、この反応において樹脂のヒ
ドロキシ基がエステル化される。付加反応はペプチド合
成において一般的なアシル化条件下で行われる。
使用される反応性官能誘導体は例えば付加されるべき酸
の無水物、例えば対称無水物であり、例えば有機第三級
塩基、例えば後で記載する塩基中で用いられる。他の適
当な官能誘導体は付加されるべき酸の活性エステルであ
り、このものもまた後に記載する有機第三級塩基の存在
下で反応する。
の無水物、例えば対称無水物であり、例えば有機第三級
塩基、例えば後で記載する塩基中で用いられる。他の適
当な官能誘導体は付加されるべき酸の活性エステルであ
り、このものもまた後に記載する有機第三級塩基の存在
下で反応する。
好ましい活性エステルは特に、電子吸引性置換基を有す
るフェノールのエステル、及びN−ヒドロキシイミドの
エステルである。しかしながら好ましくは、付加される
べき化合物は遊離酸の形で使用され、そして縮合剤とし
てのカルボジイミド、例えばジイソプロピルカルポジ・
イミド又は特にシンクロヘキシルカルボジイミドの助け
によりアシル化される。反応は有機塩基、特に第三級塩
基(例えば、ピリジン、キノリン、4−ジメチルアミノ
ピリジン、N−メチルピペリジン、N−メチルモルホリ
ン、N、N’−ジメチルピペラジン、又はトリエチルア
ミンもしくはジイソプロピルエチルアミン)の存在下で
、そして不活性有機溶剤、例えば塩素化アルカン(例え
ば塩化メチレン又はクロロホルム)及び/又は開鎖式も
しくは環状エーテル(例えばそれぞれ、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテルもしくはジブチルエーテル
又は1.2−ジメト」−シエタンもしくは1.2−ジェ
トキシエタン、あるいはジオキサン又はテトラヒドロフ
ラン)中で行われる。活性化されたN−ヒドロキシ化合
物、例えば1−ヒドロキシベンゾトリアゾールが好適に
添加される。反応時間はi則として、0℃〜40℃の温
度において数時間、例えば2〜48時間であり、所望に
よりアシル化反応は反復することができる。不所望の二
次生成物を防止する手段として、得られる樹脂を塩基、
例えば前に記載した塩基のいずれかの存在下で塩化ベン
ゾイル(又は類似の単純な酸誘導体)で処理し、こうし
てなお遊離している樹脂のヒドロキシル基をブロックす
るのが有利である。次に、付加されたC−末端エステル
を有する樹脂、ずなわらベンゼン環が次の式(■); (式中、R、W’及びAM’ は前記の意味を有する) で表わされる基により置換されている樹脂を、段階b)
〜d)に従って所望のアミノ酸配列の合成にかける。保
護基、特に酸感受性保gl基を有しない最終生成物が所
望の場合、完成されたペプチド酸の脱着(方法e)は弗
化水素を用いて行うことができるが、しかしながら好ま
しくは、穏和な酸、例えばハロアルカンのごとき不活性
有機溶剤により好適に稀釈されたトリフルオロ酢酸を用
いて行う。その後の合成に使用されるべきペプチド断片
の場合に通常好ましいように、N−末端アミノ基及び/
又は他の官能基が維持されているペプチド(アミノ酸配
)列が所望の場合、樹脂からの最終生成物の脱着は特に
穏和な酸分解条件下で、例えば中性有機溶剤により稀釈
されていてもよい有機酸、特にアルカンカルボン酸、好
ましくは蟻酸又はプロピオン酸、特゛に酢酸を用いて行
われ、特に好ましいものとして、酢酸と塩化メチレン又
はクロロホルムとの約l:l〜約1 :19、特ニ1
: 9の容量比での混合物が挙げられる。さらに、太き
く稀釈されたトリフルオロ酢酸、例えば、塩化メチレン
もしくはクロロホルム、又はピリジニウム塩、例えば塩
酸ピリジニウム、極性の塩−もしくはペプチド−溶解性
溶剤、例えばジメチルアセタミド又はジメチルホルムア
ミド中0.1〜2%の溶液の形のトリフルオロ酢酸も適
当である。nQ着は通常、0℃〜50℃の温度において
、好ましくは室温の範囲内で行われ、反応時間は数分間
〜数時間(例えば2〜8時間)である。
るフェノールのエステル、及びN−ヒドロキシイミドの
エステルである。しかしながら好ましくは、付加される
べき化合物は遊離酸の形で使用され、そして縮合剤とし
てのカルボジイミド、例えばジイソプロピルカルポジ・
イミド又は特にシンクロヘキシルカルボジイミドの助け
によりアシル化される。反応は有機塩基、特に第三級塩
基(例えば、ピリジン、キノリン、4−ジメチルアミノ
ピリジン、N−メチルピペリジン、N−メチルモルホリ
ン、N、N’−ジメチルピペラジン、又はトリエチルア
ミンもしくはジイソプロピルエチルアミン)の存在下で
、そして不活性有機溶剤、例えば塩素化アルカン(例え
ば塩化メチレン又はクロロホルム)及び/又は開鎖式も
しくは環状エーテル(例えばそれぞれ、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテルもしくはジブチルエーテル
又は1.2−ジメト」−シエタンもしくは1.2−ジェ
トキシエタン、あるいはジオキサン又はテトラヒドロフ
ラン)中で行われる。活性化されたN−ヒドロキシ化合
物、例えば1−ヒドロキシベンゾトリアゾールが好適に
添加される。反応時間はi則として、0℃〜40℃の温
度において数時間、例えば2〜48時間であり、所望に
よりアシル化反応は反復することができる。不所望の二
次生成物を防止する手段として、得られる樹脂を塩基、
例えば前に記載した塩基のいずれかの存在下で塩化ベン
ゾイル(又は類似の単純な酸誘導体)で処理し、こうし
てなお遊離している樹脂のヒドロキシル基をブロックす
るのが有利である。次に、付加されたC−末端エステル
を有する樹脂、ずなわらベンゼン環が次の式(■); (式中、R、W’及びAM’ は前記の意味を有する) で表わされる基により置換されている樹脂を、段階b)
〜d)に従って所望のアミノ酸配列の合成にかける。保
護基、特に酸感受性保gl基を有しない最終生成物が所
望の場合、完成されたペプチド酸の脱着(方法e)は弗
化水素を用いて行うことができるが、しかしながら好ま
しくは、穏和な酸、例えばハロアルカンのごとき不活性
有機溶剤により好適に稀釈されたトリフルオロ酢酸を用
いて行う。その後の合成に使用されるべきペプチド断片
の場合に通常好ましいように、N−末端アミノ基及び/
又は他の官能基が維持されているペプチド(アミノ酸配
)列が所望の場合、樹脂からの最終生成物の脱着は特に
穏和な酸分解条件下で、例えば中性有機溶剤により稀釈
されていてもよい有機酸、特にアルカンカルボン酸、好
ましくは蟻酸又はプロピオン酸、特゛に酢酸を用いて行
われ、特に好ましいものとして、酢酸と塩化メチレン又
はクロロホルムとの約l:l〜約1 :19、特ニ1
: 9の容量比での混合物が挙げられる。さらに、太き
く稀釈されたトリフルオロ酢酸、例えば、塩化メチレン
もしくはクロロホルム、又はピリジニウム塩、例えば塩
酸ピリジニウム、極性の塩−もしくはペプチド−溶解性
溶剤、例えばジメチルアセタミド又はジメチルホルムア
ミド中0.1〜2%の溶液の形のトリフルオロ酢酸も適
当である。nQ着は通常、0℃〜50℃の温度において
、好ましくは室温の範囲内で行われ、反応時間は数分間
〜数時間(例えば2〜8時間)である。
支持体樹脂としてXが−N H−である式<1)の“ア
ミノ樹脂”を使用し、そしてこれをk 乱酔の形の又は
酸の反応性官能誘導体の形の保護されたアミノ酸又は保
護されたアミノ酸配列と、例えばwl及びAM’が前記
の意味を有する式W+ −AM0 −011の化合物と
反応せしめることによってもペプチドアミドを得ること
ができる。これは、付加されたC−末端アミドを有する
樹脂、すなわちベンゼン環が式(III)の基により置
換されている樹脂をもたらす。反応は好ましくは、遊離
酸又はその反応性官能誘導体による“ヒドロキシ樹脂”
のエステル化について前に記載した反応条件のもとで行
われる。次に、段階b)〜d)による所望のアミノ酸配
列の合成、及び完成したペプチドアミドのC)による脱
着が正確に前記の様にして行われる。
ミノ樹脂”を使用し、そしてこれをk 乱酔の形の又は
酸の反応性官能誘導体の形の保護されたアミノ酸又は保
護されたアミノ酸配列と、例えばwl及びAM’が前記
の意味を有する式W+ −AM0 −011の化合物と
反応せしめることによってもペプチドアミドを得ること
ができる。これは、付加されたC−末端アミドを有する
樹脂、すなわちベンゼン環が式(III)の基により置
換されている樹脂をもたらす。反応は好ましくは、遊離
酸又はその反応性官能誘導体による“ヒドロキシ樹脂”
のエステル化について前に記載した反応条件のもとで行
われる。次に、段階b)〜d)による所望のアミノ酸配
列の合成、及び完成したペプチドアミドのC)による脱
着が正確に前記の様にして行われる。
アミノ酸配列が樹脂から脱着され得るその相対的容易さ
は、N−末端のアミノ保護基の特定の選択により決定さ
れ、このアミノ保護基の除去は、前記アミノ酸配列が前
記樹脂に付着したままである(そして他の保護基も維持
される)程厳格でなければならず、しかしながらそれに
もかかわらず該除去は定量的でなければならない。この
N−末端アミノ保護基W1又はW2は好ましくは、塩基
性条件下で除去され得る基、特にオキシカルボニル型の
基である。好ましいN−末端アミノ保ΔW基W+及びW
2は、β−位において活性な、特に電子吸引性の置換基
を担持する置換された工1・;1−ジカルボニル基、例
えば対応するカルバメートの場合に前記したものである
。β−(メタンスルホニル)−工トキシカルボニル基、
β−(p−ニトロフェニル)−工l・キシカルボニル基
、及ヒβ−ジー(p−ニトロフェニル)−エトキシカル
ボニル基が特に好ましく、そして9−フルオレニルメ1
=t−ジカルボニルM (Fmoc)が特に好ましい。
は、N−末端のアミノ保護基の特定の選択により決定さ
れ、このアミノ保護基の除去は、前記アミノ酸配列が前
記樹脂に付着したままである(そして他の保護基も維持
される)程厳格でなければならず、しかしながらそれに
もかかわらず該除去は定量的でなければならない。この
N−末端アミノ保護基W1又はW2は好ましくは、塩基
性条件下で除去され得る基、特にオキシカルボニル型の
基である。好ましいN−末端アミノ保ΔW基W+及びW
2は、β−位において活性な、特に電子吸引性の置換基
を担持する置換された工1・;1−ジカルボニル基、例
えば対応するカルバメートの場合に前記したものである
。β−(メタンスルホニル)−工トキシカルボニル基、
β−(p−ニトロフェニル)−工l・キシカルボニル基
、及ヒβ−ジー(p−ニトロフェニル)−エトキシカル
ボニル基が特に好ましく、そして9−フルオレニルメ1
=t−ジカルボニルM (Fmoc)が特に好ましい。
これらの保護基は、無機又は有機塩基、特に第三級又は
第二級アミン、例えば“アミノ樹脂゛の製造について前
記したものにより除去することができる。
第二級アミン、例えば“アミノ樹脂゛の製造について前
記したものにより除去することができる。
段階b)に従うN−末端アミノ保護基、特にFmoc基
の除去の条件は、“アミン樹脂”の製造と関連して前に
記載されており、そして−最に知られている。
の除去の条件は、“アミン樹脂”の製造と関連して前に
記載されており、そして−最に知られている。
特にMerrif 1eld支持体上での、段階C)に
従う遊乱化されたN−末端アミノ基のアシル化は、同和
合成のために共通な一饅的条件のもとにjテわれる。多
くの既知の変法の内、N−末端において1’ m o
cにより又は同等の塩基感受性保護基により保護されて
おり、側鎖のすべての官能基が保護された形にあるアミ
ノ酸(又はアミノ酸配列)を用いて、あるいは核酸の反
応性官能誘導体例えば対称無水物又は活性エステルを用
いて行われる変法が特に注目される。遊離酸を使用する
場合、使用される縮合剤はジシクロへキシルカルボジイ
ミド(又は類似の試薬)であり、好ましくは1−ヒドロ
キシヘンシトリアゾールとの組合わせにおいて、そして
第三級有機塩基、例えば第三級脂肪族もしくは環状アミ
ン又はヘテロ芳香族塩基、例えば(−リエチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン、N、N−ジメチルアニリ
ン、N−メチルピペリジン、N−エチルピペリジン、N
−メチルモルポリン、N、N’−ジメチルピペラジン、
又はピリジン及びその類似体、キノリン又は4−ジメチ
ルアミノピリジンの存在下で使用される。対称無水物又
は活性エステルを用いるアシル化はまた前記の第三級塩
基の存在下で、そして好ましくはさらに1−ヒドロキシ
ベンゾ!・リアゾールの存在下で行われる。適当な活性
エステルは電子吸引性置換基を担持するフェノール、例
えばp−二I・ロフェノール、ペンタフルオロフェノー
ル又は2,4.5−トリクロロフェノールとのエステル
、あるいはN−ヒドロキシアミド、例えばN−ヒドロキ
シサクシンイミド又はN−ヒドロキシ−ノルポル・J−
ンーもしくは5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸
イミドとのエステルである。上記の変法のアシル化条件
は一般に知られている。所望により、アシル化工程は反
復することができ、そして/又は正しくない配列の形成
を防止するため、残留する未アシル化出発月料を常法に
従って単純なカルボン酸誘導体、例えば無水西¥fIJ
、又は塩化アセチルによりアシル化し、そして合成のそ
の後の段階においてアミノ酸残基によりさらに不所望の
アシル化が起らないようにする。
従う遊乱化されたN−末端アミノ基のアシル化は、同和
合成のために共通な一饅的条件のもとにjテわれる。多
くの既知の変法の内、N−末端において1’ m o
cにより又は同等の塩基感受性保護基により保護されて
おり、側鎖のすべての官能基が保護された形にあるアミ
ノ酸(又はアミノ酸配列)を用いて、あるいは核酸の反
応性官能誘導体例えば対称無水物又は活性エステルを用
いて行われる変法が特に注目される。遊離酸を使用する
場合、使用される縮合剤はジシクロへキシルカルボジイ
ミド(又は類似の試薬)であり、好ましくは1−ヒドロ
キシヘンシトリアゾールとの組合わせにおいて、そして
第三級有機塩基、例えば第三級脂肪族もしくは環状アミ
ン又はヘテロ芳香族塩基、例えば(−リエチルアミン、
ジイソプロピルエチルアミン、N、N−ジメチルアニリ
ン、N−メチルピペリジン、N−エチルピペリジン、N
−メチルモルポリン、N、N’−ジメチルピペラジン、
又はピリジン及びその類似体、キノリン又は4−ジメチ
ルアミノピリジンの存在下で使用される。対称無水物又
は活性エステルを用いるアシル化はまた前記の第三級塩
基の存在下で、そして好ましくはさらに1−ヒドロキシ
ベンゾ!・リアゾールの存在下で行われる。適当な活性
エステルは電子吸引性置換基を担持するフェノール、例
えばp−二I・ロフェノール、ペンタフルオロフェノー
ル又は2,4.5−トリクロロフェノールとのエステル
、あるいはN−ヒドロキシアミド、例えばN−ヒドロキ
シサクシンイミド又はN−ヒドロキシ−ノルポル・J−
ンーもしくは5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸
イミドとのエステルである。上記の変法のアシル化条件
は一般に知られている。所望により、アシル化工程は反
復することができ、そして/又は正しくない配列の形成
を防止するため、残留する未アシル化出発月料を常法に
従って単純なカルボン酸誘導体、例えば無水西¥fIJ
、又は塩化アセチルによりアシル化し、そして合成のそ
の後の段階においてアミノ酸残基によりさらに不所望の
アシル化が起らないようにする。
この発明の合成のための適当なアミノ酸残基は、特にペ
プチド組立ブロックの形のL−糸系統天然α−アミノ酸
、及びその密′接に関連する類個体、例えば特に“非天
然”D−糸系統エナンチオマーに由来するものである。
プチド組立ブロックの形のL−糸系統天然α−アミノ酸
、及びその密′接に関連する類個体、例えば特に“非天
然”D−糸系統エナンチオマーに由来するものである。
好ましいα−アミノ酸は、例えばグリシン、アラニン、
バリン、ロイシン、イソロイシン、フェニルアラニン、
アスパラギン酸、グルタミン酸、アルギニン、ヒスデシ
ン及びリジン、そしてさらにα−アミノ酪酸、ノルバリ
ン、イソバリン、ノルロイシン、オルニチン及びシトル
リン、並びにアスパラギン、グルタミン、チロシン、ト
リプトファン、メチオニン、スレオニン、セリン、しか
しさらにプロリン及びヒドロキシプロリン(α−アミノ
基がアルキル基と結合して環を形成している)、そしζ
さらにシスティン及びシスチン(後者は、配列中の相互
に分離された位置に存在することができる、相互に一緒
に結合した2体のシスティンの一対として存在する)で
ある。さらに、鎖の任意の位置に、例えば末端C−原子
に(例えばβ−アラニン、T−アミノ酪酸又はδ−アミ
ノバレリアン酸におけるごとく)アミノ基を担持する、
CI”’ C? −アルカンカルボン酸、特に線状のそ
れ、に由来する他のアミノ酸も適当であり、これらはさ
らに他の第一アミノ基を担持する(例えば、T−ジアミ
ノ酪酸におけるように)ことができ、又は他の官能基、
例えばヒドロキシ、メルカプト、ジスルフィド、グアニ
ジノ、カルボキシ又はカルボキサミド基により、あるい
は環状ヒドロカルビルへテロシクリル基、例えばフェニ
ル、p−ヒドロキシフェニル、インドリル又はイミダゾ
リルにより置換されていることができる。これらのアミ
ノ酸が不斉炭素原子を含有する場合、これらのアミノ酸
はうセミ体の形で、又は好ましくは光学活性の形で使用
することができる。
バリン、ロイシン、イソロイシン、フェニルアラニン、
アスパラギン酸、グルタミン酸、アルギニン、ヒスデシ
ン及びリジン、そしてさらにα−アミノ酪酸、ノルバリ
ン、イソバリン、ノルロイシン、オルニチン及びシトル
リン、並びにアスパラギン、グルタミン、チロシン、ト
リプトファン、メチオニン、スレオニン、セリン、しか
しさらにプロリン及びヒドロキシプロリン(α−アミノ
基がアルキル基と結合して環を形成している)、そしζ
さらにシスティン及びシスチン(後者は、配列中の相互
に分離された位置に存在することができる、相互に一緒
に結合した2体のシスティンの一対として存在する)で
ある。さらに、鎖の任意の位置に、例えば末端C−原子
に(例えばβ−アラニン、T−アミノ酪酸又はδ−アミ
ノバレリアン酸におけるごとく)アミノ基を担持する、
CI”’ C? −アルカンカルボン酸、特に線状のそ
れ、に由来する他のアミノ酸も適当であり、これらはさ
らに他の第一アミノ基を担持する(例えば、T−ジアミ
ノ酪酸におけるように)ことができ、又は他の官能基、
例えばヒドロキシ、メルカプト、ジスルフィド、グアニ
ジノ、カルボキシ又はカルボキサミド基により、あるい
は環状ヒドロカルビルへテロシクリル基、例えばフェニ
ル、p−ヒドロキシフェニル、インドリル又はイミダゾ
リルにより置換されていることができる。これらのアミ
ノ酸が不斉炭素原子を含有する場合、これらのアミノ酸
はうセミ体の形で、又は好ましくは光学活性の形で使用
することができる。
固相合成の特定の特徴は、アミノ酸残基中の反応に関与
しない官能基(そしてさらに、液相合成においては遊離
のままであることができる官能基)が原則として保護さ
れた形であることを要求する。
しない官能基(そしてさらに、液相合成においては遊離
のままであることができる官能基)が原則として保護さ
れた形であることを要求する。
保3I基の選択は合成の条件及び製造されるべき最終生
成物の用途に依存する。幾つかの官能基が保護されるべ
き場合、有利な組み合わせを選択しなければならない。
成物の用途に依存する。幾つかの官能基が保護されるべ
き場合、有利な組み合わせを選択しなければならない。
特に、N−末端保護基、例えばr1moc基の除去の間
にアミノ酸側鎖の官能基の保i(! 2g’が耐性であ
るように、そしてその後の合成のための保護されたベプ
チI゛組立ブロックが最終生成物として望まれる場合、
合成の終りにおける樹脂からの脱着のために使用される
穏和な酸性条件下で安定であるように注意すべきである
。
にアミノ酸側鎖の官能基の保i(! 2g’が耐性であ
るように、そしてその後の合成のための保護されたベプ
チI゛組立ブロックが最終生成物として望まれる場合、
合成の終りにおける樹脂からの脱着のために使用される
穏和な酸性条件下で安定であるように注意すべきである
。
存在する他のアミノ基、例えばりジン残基中のε−アミ
ノ基を保護するため、ペプチド化学における一般的な、
弱塩基性条件下で安定な任意のアミノ保護基を使用する
ことができる。適当な保護基は既知の参照文献、例えば
1louben−WeyL Metho−den de
r Organischen Chemie、第四版、
Vol 15/1、 IE、Wunsch()&i集)
、5ynLt+ese von Peptiden(
Georg Thieme Verlag、スタソトガ
ルト、1974)に総合的に記載されている。
ノ基を保護するため、ペプチド化学における一般的な、
弱塩基性条件下で安定な任意のアミノ保護基を使用する
ことができる。適当な保護基は既知の参照文献、例えば
1louben−WeyL Metho−den de
r Organischen Chemie、第四版、
Vol 15/1、 IE、Wunsch()&i集)
、5ynLt+ese von Peptiden(
Georg Thieme Verlag、スタソトガ
ルト、1974)に総合的に記載されている。
従って例えば、還元により又は強い塩基性条件下で除去
することができるアミノ保gin、例えば特に、ベンジ
ルオキシカルボニル基、及び芳香族成分においてハロゲ
ン原子、二1・0基、低級アルコキシ基及び/又は低級
アルキル基により置換されているベンジルオキシカルボ
ニル基、例えばp−クロロ−もしくはp−プロモーベン
ジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカル
ボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボニル又はp
−トリルメトキシカルボニル基、そしてさらにイソニコ
チニルオキシカルボニル基、並びにさらにスルホニル基
、例えばp−トルエンスルホニル、ヘンゼンスルホニル
、0−二トロベンゼンスルホニル及び他の置換されたベ
ンゼンスルホニル基、又はさらにアシル基、例えばホル
ミル、トリフルオロアセチル又はフタロイル基が好まし
い。有利なアミノ保護基は、3個の炭化水素基により置
換されたシリル基、例えばトリフェニルシリル、ジメチ
ル−ter t−ブチル−シリル又は特にトリメチルシ
リルをβ−位にをするエトキシカルボニル基である。こ
の様なβ−(トリーヒドロカルビルシリル)−エトキシ
カルボニル基、例えばβ−(トリー低級アルキルシリル
)−エトキシカルボニル基、例えば特にβ−(トリメチ
ルシリル)−エトキシカルボニル基は、酸性加水分解及
び水素化分解の条件下では耐性であるが、しかし弗素イ
オンの作用による非常に特異的な、非常に穏和な条件下
で除去され得る。この観点におい°ζ、前記保護基はカ
ルボキシ保護基として後に記載するβ−シリルエチルエ
ステル基に類似した挙動をする。
することができるアミノ保gin、例えば特に、ベンジ
ルオキシカルボニル基、及び芳香族成分においてハロゲ
ン原子、二1・0基、低級アルコキシ基及び/又は低級
アルキル基により置換されているベンジルオキシカルボ
ニル基、例えばp−クロロ−もしくはp−プロモーベン
ジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカル
ボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボニル又はp
−トリルメトキシカルボニル基、そしてさらにイソニコ
チニルオキシカルボニル基、並びにさらにスルホニル基
、例えばp−トルエンスルホニル、ヘンゼンスルホニル
、0−二トロベンゼンスルホニル及び他の置換されたベ
ンゼンスルホニル基、又はさらにアシル基、例えばホル
ミル、トリフルオロアセチル又はフタロイル基が好まし
い。有利なアミノ保護基は、3個の炭化水素基により置
換されたシリル基、例えばトリフェニルシリル、ジメチ
ル−ter t−ブチル−シリル又は特にトリメチルシ
リルをβ−位にをするエトキシカルボニル基である。こ
の様なβ−(トリーヒドロカルビルシリル)−エトキシ
カルボニル基、例えばβ−(トリー低級アルキルシリル
)−エトキシカルボニル基、例えば特にβ−(トリメチ
ルシリル)−エトキシカルボニル基は、酸性加水分解及
び水素化分解の条件下では耐性であるが、しかし弗素イ
オンの作用による非常に特異的な、非常に穏和な条件下
で除去され得る。この観点におい°ζ、前記保護基はカ
ルボキシ保護基として後に記載するβ−シリルエチルエ
ステル基に類似した挙動をする。
酸分解により除去され得る基、例えば特にter t−
ブト・)−ジカルボニル基及び類似の基、例えばLer
t−アミルオキシカルボニル、インプロポキシカルボ
ニル、ジイソプロピルメトキシカルボニル、アリルオキ
シカルボニル カルボニル、シクロへキシルオキシカルボニル、d−イ
ソボルニルオキシカルボニル及びアダマンチルオキシカ
ルボニル、そしてさらにアラルキルタイプの基、例えば
ベンズヒドリル及びトリフェニルメチル(トリチル)、
そしてさらに、2−7リールー2−フ゛ロボー1ージカ
ルボニルタイプルコキシカルボニル基、例えば2−フェ
ニル−又は2−p−ビフェニリル−2−プロボー1;ジ
カルボニル基が特に好ましい。
ブト・)−ジカルボニル基及び類似の基、例えばLer
t−アミルオキシカルボニル、インプロポキシカルボ
ニル、ジイソプロピルメトキシカルボニル、アリルオキ
シカルボニル カルボニル、シクロへキシルオキシカルボニル、d−イ
ソボルニルオキシカルボニル及びアダマンチルオキシカ
ルボニル、そしてさらにアラルキルタイプの基、例えば
ベンズヒドリル及びトリフェニルメチル(トリチル)、
そしてさらに、2−7リールー2−フ゛ロボー1ージカ
ルボニルタイプルコキシカルボニル基、例えば2−フェ
ニル−又は2−p−ビフェニリル−2−プロボー1;ジ
カルボニル基が特に好ましい。
例えば天然アミノ酸アルギニン中に存在するグアニジノ
官能基の保護基として上記のアミン保護ノNの1つを使
用することが可能である。スルホニル基、特に低級アル
カンスルホニル基、例えばメタン−、エタン−もしくは
・イソプロパン−スルホニル基、又はアレーンスルボニ
ル基、例えば置換されたベンゼンスルボニル基が特に好
ましく、ここで好ましい置Hilは低級アルキル、例え
ばメーy−ル、低級アルコキシ、例えばメトキシ、融合
した低級アルコキシ、例えばl−オキサ−1,4−ブチ
レン、ニトロ、又はハロゲン、例えば塩素もしくは臭素
である。2,3.5−1リメチル−4−メトキシヘンゼ
ンスルホニル基及び2,2.5。
官能基の保護基として上記のアミン保護ノNの1つを使
用することが可能である。スルホニル基、特に低級アル
カンスルホニル基、例えばメタン−、エタン−もしくは
・イソプロパン−スルホニル基、又はアレーンスルボニ
ル基、例えば置換されたベンゼンスルボニル基が特に好
ましく、ここで好ましい置Hilは低級アルキル、例え
ばメーy−ル、低級アルコキシ、例えばメトキシ、融合
した低級アルコキシ、例えばl−オキサ−1,4−ブチ
レン、ニトロ、又はハロゲン、例えば塩素もしくは臭素
である。2,3.5−1リメチル−4−メトキシヘンゼ
ンスルホニル基及び2,2.5。
7−ペンタメチル−クロマン−6−スルホニル基が特に
好ましい。
好ましい。
ヒドロギシ保31,Bとして、その目的のためにペプチ
ド化学において一般的である任,0,の基を使用するこ
とが可能である。例えば前に引用した11ouben−
Wey lを参照のこと。酸分解により除去することが
できる基、例えば2−テトラヒドロピラニル基 tert−ブトキシカルボニルが好ましい。しかしなが
ら、還元により又は塩基性条件下で除去され得るヒドロ
キシ保護基、例えば芳香族成分中でノ\l:1ゲン、ニ
トロ及び/又は低級アルコキシにより置換されていても
よいベンジル又はヘンシルオキシカルボニル基、低級ア
ルカノイル栽、例えばアセチル、又はアロ・イル法、例
えばベンゾイル基を使用することもできる。
ド化学において一般的である任,0,の基を使用するこ
とが可能である。例えば前に引用した11ouben−
Wey lを参照のこと。酸分解により除去することが
できる基、例えば2−テトラヒドロピラニル基 tert−ブトキシカルボニルが好ましい。しかしなが
ら、還元により又は塩基性条件下で除去され得るヒドロ
キシ保護基、例えば芳香族成分中でノ\l:1ゲン、ニ
トロ及び/又は低級アルコキシにより置換されていても
よいベンジル又はヘンシルオキシカルボニル基、低級ア
ルカノイル栽、例えばアセチル、又はアロ・イル法、例
えばベンゾイル基を使用することもできる。
カルボキシ保a1基として、その目的のために一般的な
任意の基を使用することができる。前記の11oube
n−Weylを参照のこと。すなわち、カルボキシ基は
例えばヒドラジド形成により、又はエステル化により保
護される。例えば、エステル化のためには場合によって
は置換されている低級アルカノール、例えばメタノール
、エタノール、シアンメチルアルコール、2.2.2−
1−リクロロエタノール、ベンゾイルメチルアルコール
、又は特にLer t−ブチルアルコール、しかしさら
に場合によっては置を負されているベンジルアルコール
である。置換されたアルカノールの特に有利な類は、そ
のβ−位に置換シリル基、例えばトリフェニルシリル、
ジメチル−tert 7’チル−シリル、又は特にト
リメチルシリルを担持するエタノールである。これらの
”rルコールはカルボキシ基の保護のために特に適当で
ある。なぜなら、対応するβ−シリルエチルエステル、
例えばβ−(トリメチルシリル)エチルエステルは通常
のアルキルエステルと同じ安定性を有するが、しかし弗
素イオンにより選択的に除去することができ、この際他
のすべての保8MSが維持されるからである。
任意の基を使用することができる。前記の11oube
n−Weylを参照のこと。すなわち、カルボキシ基は
例えばヒドラジド形成により、又はエステル化により保
護される。例えば、エステル化のためには場合によって
は置換されている低級アルカノール、例えばメタノール
、エタノール、シアンメチルアルコール、2.2.2−
1−リクロロエタノール、ベンゾイルメチルアルコール
、又は特にLer t−ブチルアルコール、しかしさら
に場合によっては置を負されているベンジルアルコール
である。置換されたアルカノールの特に有利な類は、そ
のβ−位に置換シリル基、例えばトリフェニルシリル、
ジメチル−tert 7’チル−シリル、又は特にト
リメチルシリルを担持するエタノールである。これらの
”rルコールはカルボキシ基の保護のために特に適当で
ある。なぜなら、対応するβ−シリルエチルエステル、
例えばβ−(トリメチルシリル)エチルエステルは通常
のアルキルエステルと同じ安定性を有するが、しかし弗
素イオンにより選択的に除去することができ、この際他
のすべての保8MSが維持されるからである。
メルカプト保A1.Mとして、この目的のためにペプチ
ド化学において一般的な任意の基を使用することができ
る。メルカプト基は特に適当なアシル化又はアルキル化
により保護される。例えば、アシル化のためにはアセチ
ルもしくはベンジル基、低級アルキル−(例えばエチル
−)カルバモイル基、又は場合によっては前記の様に置
換されているベンジルオキシカルボニル ル二Vル化のためには例えば、tar L−ブチル、−
イソブ1ーキシメチル、ベンジルチオメチルもしくはテ
トラヒドロピラニル基、又は場合によってはハ1コゲン
、低級アルコキシ又はニトロにより置換されているアリ
ールメチル基、例えばベンジル、p−メトキシベンジル
、ジフェニルメチル、ジメ;・キシベンズヒドリル、又
はトリチル、そしてさらにフェニルシクロヘキシル、p
−メトキシフェニルシクロヘキシル、又は2−チェニル
シクロへキシルが適当である。アシル基が例えばアセチ
ル又はベンゾイルであるアシルアミノメチル基も非常に
有利である。アセチルアミノメチル基が特に好ましい。
ド化学において一般的な任意の基を使用することができ
る。メルカプト基は特に適当なアシル化又はアルキル化
により保護される。例えば、アシル化のためにはアセチ
ルもしくはベンジル基、低級アルキル−(例えばエチル
−)カルバモイル基、又は場合によっては前記の様に置
換されているベンジルオキシカルボニル ル二Vル化のためには例えば、tar L−ブチル、−
イソブ1ーキシメチル、ベンジルチオメチルもしくはテ
トラヒドロピラニル基、又は場合によってはハ1コゲン
、低級アルコキシ又はニトロにより置換されているアリ
ールメチル基、例えばベンジル、p−メトキシベンジル
、ジフェニルメチル、ジメ;・キシベンズヒドリル、又
はトリチル、そしてさらにフェニルシクロヘキシル、p
−メトキシフェニルシクロヘキシル、又は2−チェニル
シクロへキシルが適当である。アシル基が例えばアセチ
ル又はベンゾイルであるアシルアミノメチル基も非常に
有利である。アセチルアミノメチル基が特に好ましい。
好ましくは、側鎖の保護基は、それらがi(Uの条件下
で除去され得るように選択される。酸分解により除去す
ることができ、そしてすでに注目されている基、特にt
ar L−ブチルに由来する基が特に好ましい。従って
、これらの保3H1のすべての除去は単一の操作によっ
て有利に行われる。
で除去され得るように選択される。酸分解により除去す
ることができ、そしてすでに注目されている基、特にt
ar L−ブチルに由来する基が特に好ましい。従って
、これらの保3H1のすべての除去は単一の操作によっ
て有利に行われる。
保護基は一般に既知の方法で除去される。例えば、酸分
解又は酸性加水分解はトリフルオロ酢酸、塩基又は弗化
水素により、そして容易に除去され得る保31gの場合
はさらに低級脂肪族カルボン酸、例えば蟻酸及び/又は
酢酸により、ハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレン
、又は水及び場合によってはポリハロゲン化低級フルカ
ノール又は低級アルカノン、例えば1.1,1,3,3
.3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール又はへキサ
フルオロアセ1−ンの存在下で行われる。1元により除
去され得る基例えばベンジル基を含有する基は好ましく
は水素化分解により、例えばパラジウムにより触媒され
た水素化により行われる。イソニコチニルオキシカルボ
ニル基は好ましくは亜鉛還元によって除去される。β−
シリルエトキシカルボニル基は弗素イオンにより開裂さ
れる。
解又は酸性加水分解はトリフルオロ酢酸、塩基又は弗化
水素により、そして容易に除去され得る保31gの場合
はさらに低級脂肪族カルボン酸、例えば蟻酸及び/又は
酢酸により、ハロゲン化炭化水素、例えば塩化メチレン
、又は水及び場合によってはポリハロゲン化低級フルカ
ノール又は低級アルカノン、例えば1.1,1,3,3
.3−ヘキサフルオロプロパン−2−オール又はへキサ
フルオロアセ1−ンの存在下で行われる。1元により除
去され得る基例えばベンジル基を含有する基は好ましく
は水素化分解により、例えばパラジウムにより触媒され
た水素化により行われる。イソニコチニルオキシカルボ
ニル基は好ましくは亜鉛還元によって除去される。β−
シリルエトキシカルボニル基は弗素イオンにより開裂さ
れる。
この発明はまた、この発明の樹脂を用いる合成法の中間
体及び最終生成物に関する。この発明はまた、−X −
II基の代り−Nl1−W、−X−静−W又は−X−A
M−11の基を担持し、ここでXが一〇−又は−N l
−1−であり、WがN−末端アミノ保護基であり、そし
てAMが1〜180個のアミノ酸残基から成るアミノ酸
配列であり、これは所望により官能基において保護され
ている、最初に記載した構造の合成樹脂、特に例1に記
載したものに関する。この発明はまた、式W−AM’
−Xllで表わされ、式中−X−が−〇−又は−N [
1−であり、Wが末端アミノ保護基であり、そしてAM
’、が場合によっては官能基において保護されている2
〜180個のアミノ酸残基から成るアミノ酸配列のアシ
ル基であるペプチド及びペプチドアミド、並びに式II
−AMQ−XllのN−末端アミノ基を有する類似の化
合物、特に下記の例において記載するペプチド及びペプ
チドアミドに関する。
体及び最終生成物に関する。この発明はまた、−X −
II基の代り−Nl1−W、−X−静−W又は−X−A
M−11の基を担持し、ここでXが一〇−又は−N l
−1−であり、WがN−末端アミノ保護基であり、そし
てAMが1〜180個のアミノ酸残基から成るアミノ酸
配列であり、これは所望により官能基において保護され
ている、最初に記載した構造の合成樹脂、特に例1に記
載したものに関する。この発明はまた、式W−AM’
−Xllで表わされ、式中−X−が−〇−又は−N [
1−であり、Wが末端アミノ保護基であり、そしてAM
’、が場合によっては官能基において保護されている2
〜180個のアミノ酸残基から成るアミノ酸配列のアシ
ル基であるペプチド及びペプチドアミド、並びに式II
−AMQ−XllのN−末端アミノ基を有する類似の化
合物、特に下記の例において記載するペプチド及びペプ
チドアミドに関する。
例えばアミノ酸、ペプチド及び保護基等の記載のために
使用される略号は一般的な略号、例えば前に引用した1
louben−Weylに記載されている略号である。
使用される略号は一般的な略号、例えば前に引用した1
louben−Weylに記載されている略号である。
特にことわらない限り、アミノ酸残基の名称及び略号は
天然り一系列のα−アミノ酸の残基を意味する。特にこ
とわらない限り、有機基又は化合物について使用する“
低級”なる語は、その基又は化合物が最大7個、しかし
好ましくは最大4個の炭素原子を有することを意味する
。
天然り一系列のα−アミノ酸の残基を意味する。特にこ
とわらない限り、有機基又は化合物について使用する“
低級”なる語は、その基又は化合物が最大7個、しかし
好ましくは最大4個の炭素原子を有することを意味する
。
次に、例によりこの発明を具体的に説明するが、これに
よりこの発明の範囲を限定するものではない。略号は次
の意味を有する。
よりこの発明の範囲を限定するものではない。略号は次
の意味を有する。
Boc =tert−ブトキシカルボニルBut =L
ert−ブチル(エーテル中)TLC−薄層クロマトグ
ラフィ− DCCI=ジシクロへキシル力ルポジイミドロi^=ジ
メチルアセタミド DMF =ジメチルホルムアミド DMSO=ジメチルスルホキシド HDC= 1 、2−エチレンジクロリドFAB−MS
=ファスト・アトム・ボンバードメント(Fast A
tom旦ombardment)マススペク;・ルFm
oc=9−フルオレニルメトキシカルボニル+10Bt
=l−ヒドロキシベンゾトリアゾール+1PLC=高圧
液体クロマトグラフィー[GF−2−インシュリン様増
殖因子−2旧F=マクロフア一ジ遁走阻止因子 Mtr −2、3、5−トリメチル−4−メトキシベン
ゼンスルホニル OBu t = ter t−ブチル(エステル中)T
FA = トリフルオロ酢酸 TIIF =テトラヒドロフラン Trt = トリチル 以下余白 □(ンη□h l工4−ジノl−=1ニジー・1′−ヒ
トし2.1−シー2 、4 ’−ジヒドロキシー4−メ
トキシーヘンヅフェノンの製造CR11y、 S、 、
Grover、 P、に、及びAnand N1Ly
a : Indian Journal or CI
iemiClle 9 +619−623 (197
1))と同様にして、レゾルシノールジメチルエーテル
及び4−ヒトm7キシ安息香酸からtJi記化金化合物
成する。
ert−ブチル(エーテル中)TLC−薄層クロマトグ
ラフィ− DCCI=ジシクロへキシル力ルポジイミドロi^=ジ
メチルアセタミド DMF =ジメチルホルムアミド DMSO=ジメチルスルホキシド HDC= 1 、2−エチレンジクロリドFAB−MS
=ファスト・アトム・ボンバードメント(Fast A
tom旦ombardment)マススペク;・ルFm
oc=9−フルオレニルメトキシカルボニル+10Bt
=l−ヒドロキシベンゾトリアゾール+1PLC=高圧
液体クロマトグラフィー[GF−2−インシュリン様増
殖因子−2旧F=マクロフア一ジ遁走阻止因子 Mtr −2、3、5−トリメチル−4−メトキシベン
ゼンスルホニル OBu t = ter t−ブチル(エステル中)T
FA = トリフルオロ酢酸 TIIF =テトラヒドロフラン Trt = トリチル 以下余白 □(ンη□h l工4−ジノl−=1ニジー・1′−ヒ
トし2.1−シー2 、4 ’−ジヒドロキシー4−メ
トキシーヘンヅフェノンの製造CR11y、 S、 、
Grover、 P、に、及びAnand N1Ly
a : Indian Journal or CI
iemiClle 9 +619−623 (197
1))と同様にして、レゾルシノールジメチルエーテル
及び4−ヒトm7キシ安息香酸からtJi記化金化合物
成する。
5.00 g (19,3mmo E )の(1)を4
0 mlのエタノール及び16rnlの水中に)訃濁し
、そして4.5 mlの水中3.25 g (L9mm
o A )の水酸化セシウム−水和物の)8液を加える
。溶液を真空゛濃縮し、4 Q +nlの水/Lert
−ブチルアルコール(1: 1)に入れ、そして凍結乾
燥する。わずかに黄味がかった凍結乾燥物を2011ぼ
のtar t−ブチルアルコールから、拮晶化して塩(
IA)を白色粉末として得る。
0 mlのエタノール及び16rnlの水中に)訃濁し
、そして4.5 mlの水中3.25 g (L9mm
o A )の水酸化セシウム−水和物の)8液を加える
。溶液を真空゛濃縮し、4 Q +nlの水/Lert
−ブチルアルコール(1: 1)に入れ、そして凍結乾
燥する。わずかに黄味がかった凍結乾燥物を2011ぼ
のtar t−ブチルアルコールから、拮晶化して塩(
IA)を白色粉末として得る。
以下余白
炎人 4=−(2,jニジメ日・ス仝yfL遼四月二2
0.0 g (13,4mmoβ)のクロロメチル−ポ
リスチレン−1%ジビニルヘンゼン(P V B)(メ
リフィールドポリマー、フル力、スイス、0.67mm
oIC1/IK>を高真空下で50℃?ニア f II
;胃1)卜乾燥する。26.1 g (67mmo 1
)の(IA)を約50011L/のピリジンに懸濁し
、次に高真空下で蒸発濃縮し、これを3凹繰り返し、そ
して残渣を約70011L/の乾燥DMFに)容解し、
そして高真空下−(: V’J 4001lIN lン
濃縮する。樹脂を加え、そして反応977合物を室温に
て20時間水分を排除しながら振とぅする。樹脂を濾過
し、そして100+1σずつの次の溶剤:3X、(ソプ
ロピル下ルコール、3 X D M Fl、3×水、3
XI)MF、5x水、4×イソプロピルアルコールによ
り洗浄する。樹j1ηを高真空下で、l OoC−45
℃に′ζ、一定重量になるまで乾燥する。IRスペクト
ルは予ffjJIlりのC=0バンドを示す。
0.0 g (13,4mmoβ)のクロロメチル−ポ
リスチレン−1%ジビニルヘンゼン(P V B)(メ
リフィールドポリマー、フル力、スイス、0.67mm
oIC1/IK>を高真空下で50℃?ニア f II
;胃1)卜乾燥する。26.1 g (67mmo 1
)の(IA)を約50011L/のピリジンに懸濁し
、次に高真空下で蒸発濃縮し、これを3凹繰り返し、そ
して残渣を約70011L/の乾燥DMFに)容解し、
そして高真空下−(: V’J 4001lIN lン
濃縮する。樹脂を加え、そして反応977合物を室温に
て20時間水分を排除しながら振とぅする。樹脂を濾過
し、そして100+1σずつの次の溶剤:3X、(ソプ
ロピル下ルコール、3 X D M Fl、3×水、3
XI)MF、5x水、4×イソプロピルアルコールによ
り洗浄する。樹j1ηを高真空下で、l OoC−45
℃に′ζ、一定重量になるまで乾燥する。IRスペクト
ルは予ffjJIlりのC=0バンドを示す。
例」エ 4−(2,4−ジ・メキシフェニルーヒドl二
[」主[ T II F ri I Mリチウムボロヒドリド14
.5n4を、50 +nlの乾燥テI・ラヒドロフラン
(TIIF)中7.07gの(2)(約4 、3mmo
βのケトン部分)の:懸濁液に加え、そして反応混合物
を1時間、水分を排除して還流する。混合物を約0°C
〜5°Cに冷却した後、2411ぼのメタノール、及び
よく撹拌しながら(i afのアセ1−ンの滴を加える
。濾過された樹脂を30+njずつの次の溶剤:3×メ
タノール、1×水、■×塩酸水溶液(pH約3、a)、
2×水、4×メタノールで洗浄する。樹脂を高真空下4
0°C〜45°Cにて一定重量に達するまで乾燥する。
[」主[ T II F ri I Mリチウムボロヒドリド14
.5n4を、50 +nlの乾燥テI・ラヒドロフラン
(TIIF)中7.07gの(2)(約4 、3mmo
βのケトン部分)の:懸濁液に加え、そして反応混合物
を1時間、水分を排除して還流する。混合物を約0°C
〜5°Cに冷却した後、2411ぼのメタノール、及び
よく撹拌しながら(i afのアセ1−ンの滴を加える
。濾過された樹脂を30+njずつの次の溶剤:3×メ
タノール、1×水、■×塩酸水溶液(pH約3、a)、
2×水、4×メタノールで洗浄する。樹脂を高真空下4
0°C〜45°Cにて一定重量に達するまで乾燥する。
元素分析: 3.67%のO= 2.31mmo 7!
O/ g 61 Rスペクトル:C=0ハンドなし。
O/ g 61 Rスペクトル:C=0ハンドなし。
以下余白
例ヨ’+、 N−Fmoc−Prol −4(2ヨ
ー土二]乞仁上0.46g (約0.26mmo E
)の(3) 、0.31 g (0,92mmo l
)のFmoc−Pro −NI+2 、ジクロロメタン
中1Mベンゼンスルホン酸溶液76.5μf (76,
5p mo (! )、及び10−のジオキサンの混合
物を3時間l112M: L、、そしてさらに76.5
11IのIMベンゼンスルボンM?容液を添加した後、
50°Cにてさらに20時間撹開する。樹脂を濾過し、
そして5Q+uZずつの次の溶2Fz : 5 xメタ
ノール、12×ジクじ10メタン、3×メタノール、3
×ジクロロメタンを用いて洗浄する。樹脂を高真空下で
40°C〜50°Cにて、一定重量に達するまで乾燥す
る。約20■のサンプルを用いて、300μlずつの2
0%ピペリジンによる2分間ずつ4回の処理によりl’
m o c &を除去し、そしてジメチルアセタミド
(DMA)により6回洗浄する。分光光度計分析(30
0nm)は樹脂当り0.23mmo l / gのFm
ocの比負荷を与える。
ー土二]乞仁上0.46g (約0.26mmo E
)の(3) 、0.31 g (0,92mmo l
)のFmoc−Pro −NI+2 、ジクロロメタン
中1Mベンゼンスルホン酸溶液76.5μf (76,
5p mo (! )、及び10−のジオキサンの混合
物を3時間l112M: L、、そしてさらに76.5
11IのIMベンゼンスルボンM?容液を添加した後、
50°Cにてさらに20時間撹開する。樹脂を濾過し、
そして5Q+uZずつの次の溶2Fz : 5 xメタ
ノール、12×ジクじ10メタン、3×メタノール、3
×ジクロロメタンを用いて洗浄する。樹脂を高真空下で
40°C〜50°Cにて、一定重量に達するまで乾燥す
る。約20■のサンプルを用いて、300μlずつの2
0%ピペリジンによる2分間ずつ4回の処理によりl’
m o c &を除去し、そしてジメチルアセタミド
(DMA)により6回洗浄する。分光光度計分析(30
0nm)は樹脂当り0.23mmo l / gのFm
ocの比負荷を与える。
−匹五N −(Iloc−Pro−Glu(OBut)
−11e−Pro −子自動ペプチド合成機中で、0
.42 g (97μmo !! )の(4)を次の様
に反応せしめることにより(5)を生成せしめる。Fm
oc基の除去とPmoc−11e 、 Pmoc−Gl
u(OBut)及び[1oc−Proとの縮合(カップ
リング)とを交互に次々と行い、各場合に未反応のアミ
ノ基をアセチル化によりブロックする。
−11e−Pro −子自動ペプチド合成機中で、0
.42 g (97μmo !! )の(4)を次の様
に反応せしめることにより(5)を生成せしめる。Fm
oc基の除去とPmoc−11e 、 Pmoc−Gl
u(OBut)及び[1oc−Proとの縮合(カップ
リング)とを交互に次々と行い、各場合に未反応のアミ
ノ基をアセチル化によりブロックする。
賭及びl?ll1ocの盆去ユ脱ブロッキング)=室温
にてl Onlずつの次の溶剤を用いる:1×イソプロ
ピルアルコール(1分間)、4×脱気したDMA(0,
5分間)、■×イソプロピルアルコール(1分間)、3
×脱気したD M A (0,5分間)、dXDMA中
20%ピペリジン(2分間)、2×水/ジオキサン(1
: 1)(1分間)、5×脱気D M A (0,5分
間)、3×蒸留D M A (0,5分間)。
にてl Onlずつの次の溶剤を用いる:1×イソプロ
ピルアルコール(1分間)、4×脱気したDMA(0,
5分間)、■×イソプロピルアルコール(1分間)、3
×脱気したD M A (0,5分間)、dXDMA中
20%ピペリジン(2分間)、2×水/ジオキサン(1
: 1)(1分間)、5×脱気D M A (0,5分
間)、3×蒸留D M A (0,5分間)。
カンプリング=0.39mmo lのN−保護アミノ酸
、0.68−のDMA中0.57M l−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾール(IIOBL) (0,39mmo
j! )及び0.18−のDMA中2.4Mジシクロ
へキシルカルボジイミド(DCCI) 、0.20af
のDMAの添加(室温にて20分間、40℃にて2時間
)。
、0.68−のDMA中0.57M l−ヒドロキシ
ベンゾトリアゾール(IIOBL) (0,39mmo
j! )及び0.18−のDMA中2.4Mジシクロ
へキシルカルボジイミド(DCCI) 、0.20af
のDMAの添加(室温にて20分間、40℃にて2時間
)。
洗浄及び残留″t1離アミノ基のヱ皇±土化= l X
無水酢酸/ピリジン/DMA (1i 1 : 8容
量)(5分間)、3×脱気DMA、lxイソプロピルア
ルD−ル(1分間)、3×脱気D M A (0,5分
間)。
無水酢酸/ピリジン/DMA (1i 1 : 8容
量)(5分間)、3×脱気DMA、lxイソプロピルア
ルD−ル(1分間)、3×脱気D M A (0,5分
間)。
樹脂をイソプロパツール(3X5ntf)で洗浄シ、そ
して高真空上室温にて乾燥する。
して高真空上室温にて乾燥する。
氾1t−Pro−Glu−11e−Pro−Nl1g0
.46g (約90μmoiりの(5)を室温にて15
分間トリフルオロ酢酸/ジクロロメタン(1:1容量)
中で撹拌し、そして樹脂を濾取し、そして約10+nj
ずつのジクロロメタンで3回洗浄する。濾液を約2−に
真空濃縮し、そして撹拌しながら10afのエーテルに
満願する。沈澱を濾取し、そして真空乾燥する。薄層ク
ロマトグラフィー及びIIPLCによれば、生ずる無色
の粉末は溶液重合法により製造された真正なテトラペプ
チドアミドと同一である。
.46g (約90μmoiりの(5)を室温にて15
分間トリフルオロ酢酸/ジクロロメタン(1:1容量)
中で撹拌し、そして樹脂を濾取し、そして約10+nj
ずつのジクロロメタンで3回洗浄する。濾液を約2−に
真空濃縮し、そして撹拌しながら10afのエーテルに
満願する。沈澱を濾取し、そして真空乾燥する。薄層ク
ロマトグラフィー及びIIPLCによれば、生ずる無色
の粉末は溶液重合法により製造された真正なテトラペプ
チドアミドと同一である。
以下余白
劃」ユO(Fmoc−Gl )−ヒドロキシ1ヒ(6)
2.0g(約1mmol)の(3) 、1.19g (
4mino 1 )のFmoc−Gly−01! 、及
び0.87 g (4,2mono l )のDCCI
をθ℃〜5℃にて5分間、20afの1.2−エタンジ
クロリド(EDC)中で撹拌し、24■(0,2mmo
n )の4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)を
加え、そしてさらに20分間約5℃に置いた後、110
μg (I IIImol)のN−メチルモルボリンを
加える。混合物を室温にて4時間撹拌する。濾過された
樹脂をペプチド合成機中で20−ずつの3×メタノール
、3XEDC,3XDMAにより0.5分間ずつ洗浄す
る。樹脂中になお存在するヒドロキシ基をブロックする
ため、樹脂を室温にて2時間、1.2艷のピリジン及び
6−のDMA中1.23 g (5,4mn+o I
I )の無水安息香酸と共に撹拌し、そして20−ずつ
の2×イソプロピルアルコール、3×脱気DMA、’l
xイソプロピルアルコール、6XEDC,2Xイソプロ
ピルアルコ−/L7.3 xj51気DMA、 3 X
イソプロピルアルコールにより0.5分間ずつ洗浄する
。高真空下45℃にて乾燥した標記化合物は0.26m
mo 1 / gのFmocを含有する。
2.0g(約1mmol)の(3) 、1.19g (
4mino 1 )のFmoc−Gly−01! 、及
び0.87 g (4,2mono l )のDCCI
をθ℃〜5℃にて5分間、20afの1.2−エタンジ
クロリド(EDC)中で撹拌し、24■(0,2mmo
n )の4−ジメチルアミノピリジン(DMAP)を
加え、そしてさらに20分間約5℃に置いた後、110
μg (I IIImol)のN−メチルモルボリンを
加える。混合物を室温にて4時間撹拌する。濾過された
樹脂をペプチド合成機中で20−ずつの3×メタノール
、3XEDC,3XDMAにより0.5分間ずつ洗浄す
る。樹脂中になお存在するヒドロキシ基をブロックする
ため、樹脂を室温にて2時間、1.2艷のピリジン及び
6−のDMA中1.23 g (5,4mn+o I
I )の無水安息香酸と共に撹拌し、そして20−ずつ
の2×イソプロピルアルコール、3×脱気DMA、’l
xイソプロピルアルコール、6XEDC,2Xイソプロ
ピルアルコ−/L7.3 xj51気DMA、 3 X
イソプロピルアルコールにより0.5分間ずつ洗浄する
。高真空下45℃にて乾燥した標記化合物は0.26m
mo 1 / gのFmocを含有する。
(6)と同様にして樹脂化合物(7)を得る。
このものは0.33++mo j! / gのPmoc
を含有する。
を含有する。
1.10 g (0,36mmo II )の例9から
の(7)をペプチド合成機中で、例6と同様にして洗浄
工程及びFmoc除去工程を用いて反応せしめる。アミ
ノ酸10〜18 (すなわち、ニグリンCの46〜54
)を、1.8−のDMA中2.4.5−)ジクロロフェ
ニルエステル(1,08emo 1 )の形で、DMA
中0.57M ll0Bt(1、08mmo j! )
及び0.285Mジイソブ口ピルエチルアミン(0,5
4mmo 1 ) 1.89m/の添加を伴ッテ、室温
にて2時間カップリングせしめる。この工程を、アミノ
酸11 、12 、16及び18(すなわち、ニグリン
Cの47 、48 、52及び54)について反復する
。アミノ酸1〜9 (すなわち、ニグリンCの37〜4
5)は対称無水物(1、08mmo II )の形でカ
ップリングのために用いる。2.16mmo lのFm
oc−アミノ酸を10111Iのジクロロメタンに溶解
しくFmoc−Gly−Offの場合は1111iのD
MAを伴う)、245uv(1,12mmoffのりC
Clを室温にてll?1押しながら添加し、全体を室温
υこで15分間保持し、沈澱したジシクロ・\4−シル
尿素を濾去し、’1.5 nJ!のDMA (藤留した
もの)、8濾液に加え、そしてジクロロメタンを真空除
去する。各場合に、この混合物を合成樹脂に添加し、ぞ
して58μl(0,36mmo 1 >のジイソプロピ
ルエチルアミンを添加した後、室温にて1時間保持する
。
の(7)をペプチド合成機中で、例6と同様にして洗浄
工程及びFmoc除去工程を用いて反応せしめる。アミ
ノ酸10〜18 (すなわち、ニグリンCの46〜54
)を、1.8−のDMA中2.4.5−)ジクロロフェ
ニルエステル(1,08emo 1 )の形で、DMA
中0.57M ll0Bt(1、08mmo j! )
及び0.285Mジイソブ口ピルエチルアミン(0,5
4mmo 1 ) 1.89m/の添加を伴ッテ、室温
にて2時間カップリングせしめる。この工程を、アミノ
酸11 、12 、16及び18(すなわち、ニグリン
Cの47 、48 、52及び54)について反復する
。アミノ酸1〜9 (すなわち、ニグリンCの37〜4
5)は対称無水物(1、08mmo II )の形でカ
ップリングのために用いる。2.16mmo lのFm
oc−アミノ酸を10111Iのジクロロメタンに溶解
しくFmoc−Gly−Offの場合は1111iのD
MAを伴う)、245uv(1,12mmoffのりC
Clを室温にてll?1押しながら添加し、全体を室温
υこで15分間保持し、沈澱したジシクロ・\4−シル
尿素を濾去し、’1.5 nJ!のDMA (藤留した
もの)、8濾液に加え、そしてジクロロメタンを真空除
去する。各場合に、この混合物を合成樹脂に添加し、ぞ
して58μl(0,36mmo 1 >のジイソプロピ
ルエチルアミンを添加した後、室温にて1時間保持する
。
合成が完結し、そして末端Fmoc基が例5に記載した
ようにして除去されたとき、樹脂を5 mlずつのイソ
プロピルアルコールにより5回洗浄し、そして高真空上
室温にて乾燥する。
ようにして除去されたとき、樹脂を5 mlずつのイソ
プロピルアルコールにより5回洗浄し、そして高真空上
室温にて乾燥する。
例狙ユ皿笠麦茸1−\れた β−Ala” −ニゲI
F1.55g (約87μmob>の例1Oからの(8
)を室温にて1.5時間、20−のジクロロメタン/酢
酸(9:1容量)と共にに撹拌し、樹脂を濾取し、そし
てLoneずつの3×ジクロロメタン、4×メタノール
、4×ジクロロメタンにより洗浄する。最初の濾過を洗
浄液と一緒にし、そして真空濃縮し、約5mZの酢酸を
添加し、そして全体を凍結乾燥して無色粉末状の標記化
合物を得る。廿匹=Nucleosil 5 C18
+ 25 X 4.6 as ;グラジェント)8出
:100%△10%B−0%A/100%B、60分間
;A−水0.1%TFA、13−アセ1〜二t・リルO
,1%′FF八において、保持時間52分である。分鬼
叫肛匹−1L■を500μノのトリフルオロエタノール
/7セトニトリル(1: 1)に溶解し、上記のカラム
及びグラジェント潴出を用いて分離を行い、そして主画
分を集め、そして蒸発により濃縮する。こうして6.8
nvの生成物を得る。この生成物はIIPLCによれ
ば90%より多くの標記化合物を含有する。
F1.55g (約87μmob>の例1Oからの(8
)を室温にて1.5時間、20−のジクロロメタン/酢
酸(9:1容量)と共にに撹拌し、樹脂を濾取し、そし
てLoneずつの3×ジクロロメタン、4×メタノール
、4×ジクロロメタンにより洗浄する。最初の濾過を洗
浄液と一緒にし、そして真空濃縮し、約5mZの酢酸を
添加し、そして全体を凍結乾燥して無色粉末状の標記化
合物を得る。廿匹=Nucleosil 5 C18
+ 25 X 4.6 as ;グラジェント)8出
:100%△10%B−0%A/100%B、60分間
;A−水0.1%TFA、13−アセ1〜二t・リルO
,1%′FF八において、保持時間52分である。分鬼
叫肛匹−1L■を500μノのトリフルオロエタノール
/7セトニトリル(1: 1)に溶解し、上記のカラム
及びグラジェント潴出を用いて分離を行い、そして主画
分を集め、そして蒸発により濃縮する。こうして6.8
nvの生成物を得る。この生成物はIIPLCによれ
ば90%より多くの標記化合物を含有する。
1.20g (0,31mmo# )の例8からの(6
)をペプチド合成機中で、例6に記載したように洗浄工
程及びPmoc除去工程を用いて反応せしめる。すべて
のアミノ酸は、カンプリング(1時間)のため、対称無
水物(3当量:例10に記載したようにして製造)の形
で用いる。アミノ酸14 、17及び18(すなわち、
ICF−2の36 、39及び40)については、カッ
プリング工程を反復する(1時間)。
)をペプチド合成機中で、例6に記載したように洗浄工
程及びPmoc除去工程を用いて反応せしめる。すべて
のアミノ酸は、カンプリング(1時間)のため、対称無
水物(3当量:例10に記載したようにして製造)の形
で用いる。アミノ酸14 、17及び18(すなわち、
ICF−2の36 、39及び40)については、カッ
プリング工程を反復する(1時間)。
合成が完了したとき、樹脂を3回5−ずつのインプロパ
ツールで洗浄し、そして高真空下で乾燥する。
ツールで洗浄し、そして高真空下で乾燥する。
以下余白
う引IJ、Fmoc−へs (Ollut)−Ar
(Mtr)−Gl −Phe−T r(But)
1.65g (約154μmoff)の例12からの
(9)を、例11と同様にして33m1のジクロロメタ
ン/酢M (9: 1容量)により開裂せしめ、そして
洗浄する。凍結乾燥により無色粉末を得る。精製のため
、この生成物を自動向流分配装置(5IIJ/相)にお
いて、メタノール/水/クロロホルム/四塩化炭素混合
物(27000: 675 : 900 二157
5)を用いて1.050段階にわたって分配する。両分
46〜75は純粋な(TLC、IIPLCによる)標記
化合物を含有しており、これらを−緒にし”ζ蒸発によ
り濃縮し、残渣をエーテルと共にすりつぶし、そして濾
過する。TLC(シリカゲル上での4種類の系)及び+
1PLc (例11に記載した系:保持時間57分間)
によれば、得られた無色粉末は均一である。
(Mtr)−Gl −Phe−T r(But)
1.65g (約154μmoff)の例12からの
(9)を、例11と同様にして33m1のジクロロメタ
ン/酢M (9: 1容量)により開裂せしめ、そして
洗浄する。凍結乾燥により無色粉末を得る。精製のため
、この生成物を自動向流分配装置(5IIJ/相)にお
いて、メタノール/水/クロロホルム/四塩化炭素混合
物(27000: 675 : 900 二157
5)を用いて1.050段階にわたって分配する。両分
46〜75は純粋な(TLC、IIPLCによる)標記
化合物を含有しており、これらを−緒にし”ζ蒸発によ
り濃縮し、残渣をエーテルと共にすりつぶし、そして濾
過する。TLC(シリカゲル上での4種類の系)及び+
1PLc (例11に記載した系:保持時間57分間)
によれば、得られた無色粉末は均一である。
I’AB−MS (ファスト・アトム・ボンバード・マ
ス・スペクトル):正しい質量ピーク(2480)を示
す。
ス・スペクトル):正しい質量ピーク(2480)を示
す。
チレン〕
4.1g(約1 、89mmo e )のヒドロキシ樹
脂(3)を801TL/のジオキサンに)脈濁する。1
.35 g (5,65mmo l )の9−フルオレ
ニルメチルカルバメート(Carpino、 L、A、
等、J、Org、Chem、 4B、 661 (19
83)に従って製造〕及び1.2−エタンジクロリド9
1Mベンゼンスルホン酸(0,47mmof ) 0.
47m/を加え、そして混合物を50℃にて3時間保護
する。
脂(3)を801TL/のジオキサンに)脈濁する。1
.35 g (5,65mmo l )の9−フルオレ
ニルメチルカルバメート(Carpino、 L、A、
等、J、Org、Chem、 4B、 661 (19
83)に従って製造〕及び1.2−エタンジクロリド9
1Mベンゼンスルホン酸(0,47mmof ) 0.
47m/を加え、そして混合物を50℃にて3時間保護
する。
さらに0.47++i/の1Mベンゼンスルホン酸を添
加した後、全体を50℃にてさらに17時間反応せしめ
る。樹脂を濾過し、そして30 ofずつの3×イソプ
ロピルアルコール、3XEDC,lxジメチルアセタミ
ド(DMA) 、6Xイソプロピルアルコール、3XD
MAにより洗浄する。次に、樹脂を室温にて2時間、2
5m1のDMA及び5mlのピリジン中5.0gの無水
安息香酸と共に保持して未反応のヒドロキシ基をブロッ
クし、そして前記の様にして洗浄する。最終洗浄は6×
イソプロピルアルコールにより行う。次に、得られるF
lllOC−アミノ樹脂(10)を、重量が一定に達す
るまで高真空下で乾燥する。例5に従ってサンプルを開
裂せしめた後、分光光度計によるFmocの測定は、樹
脂当り0.35mmo II / gのIlmocの比
負荷を与えた。
加した後、全体を50℃にてさらに17時間反応せしめ
る。樹脂を濾過し、そして30 ofずつの3×イソプ
ロピルアルコール、3XEDC,lxジメチルアセタミ
ド(DMA) 、6Xイソプロピルアルコール、3XD
MAにより洗浄する。次に、樹脂を室温にて2時間、2
5m1のDMA及び5mlのピリジン中5.0gの無水
安息香酸と共に保持して未反応のヒドロキシ基をブロッ
クし、そして前記の様にして洗浄する。最終洗浄は6×
イソプロピルアルコールにより行う。次に、得られるF
lllOC−アミノ樹脂(10)を、重量が一定に達す
るまで高真空下で乾燥する。例5に従ってサンプルを開
裂せしめた後、分光光度計によるFmocの測定は、樹
脂当り0.35mmo II / gのIlmocの比
負荷を与えた。
遊離アミノ樹脂を製造するため、ジメチルアセタミド(
DMA)中20%ピペリジン30 mf lJ2.0g
のPmoc−アミノ樹脂(10)を室温にて1時間撹拌
し、濾過し、DMA中20%ピペリジンの追加の30m
Zにより再度処理し、そして30 mlずつの3XDM
A、3xイソプロピルアルコール、3XDMA、5xイ
・ソプロピルアルコールにより洗浄する。樹脂を、一定
重量になるまで、高真空下で乾燥する。
DMA)中20%ピペリジン30 mf lJ2.0g
のPmoc−アミノ樹脂(10)を室温にて1時間撹拌
し、濾過し、DMA中20%ピペリジンの追加の30m
Zにより再度処理し、そして30 mlずつの3XDM
A、3xイソプロピルアルコール、3XDMA、5xイ
・ソプロピルアルコールにより洗浄する。樹脂を、一定
重量になるまで、高真空下で乾燥する。
0.50g (約1751J mo l )の例14
からのVmoc −アミノ樹脂(10)を、自動ペプチ
ド合成機中で、次の反応工程により、Fmoc基の除去
、並びにFmoc−Gly 、 Fmoc−Pro+
I’moc−Gly、 Fmoc−Glu(0[1ut
)。
からのVmoc −アミノ樹脂(10)を、自動ペプチ
ド合成機中で、次の反応工程により、Fmoc基の除去
、並びにFmoc−Gly 、 Fmoc−Pro+
I’moc−Gly、 Fmoc−Glu(0[1ut
)。
Fmoc−八5p(OBut)、 Fmoc−Gly
、 Fmoc−Glu(Ollut)。
、 Fmoc−Glu(Ollut)。
Fmoc−11is(Trt)及びFmoc−Metの
縮合を交互に反復し1、各場合において未反応の基をア
セチル化によりブロックすることにより、反応せしめる
。
縮合を交互に反復し1、各場合において未反応の基をア
セチル化によりブロックすることにより、反応せしめる
。
最及びFmocの徐人(脱ブロック)=室温にて、lO
dずつの1×イソプロピルアルコール(1分間)、4×
脱気D M A (0,5分間) 、6XDMA中20
%ピペリジン(2分間)、2×脱気DMA(0,5分間
) 、l xイソプロピルアルコール(1分間)、4×
脱気D M A (0,5分間)、3×蒸留DMA (
0,5分間)。
dずつの1×イソプロピルアルコール(1分間)、4×
脱気D M A (0,5分間) 、6XDMA中20
%ピペリジン(2分間)、2×脱気DMA(0,5分間
) 、l xイソプロピルアルコール(1分間)、4×
脱気D M A (0,5分間)、3×蒸留DMA (
0,5分間)。
カップリング−0,52mmo 1の保護されたアミノ
酸2.4.5−)リクロロフェニルエステル、及ヒDM
A中0.57M 1−ヒドロキシベンゾトリアゾール
(IIOB t) / 0.57 Mジイソプロピルエ
チルアミン0.92+nZ(0,52mmo# ) 、
0.88m7のDMA添加(室温にて30分間)。
酸2.4.5−)リクロロフェニルエステル、及ヒDM
A中0.57M 1−ヒドロキシベンゾトリアゾール
(IIOB t) / 0.57 Mジイソプロピルエ
チルアミン0.92+nZ(0,52mmo# ) 、
0.88m7のDMA添加(室温にて30分間)。
洗浄及び残留遊離アミノ基の1と(lツと化、−1x無
水酢酸/ピリジン/DMA (1: 1 F B容量)
(5分間)、3×脱気D M A (0,5分間)、l
×イソプロピルアルコール(1分間) 、3×脱気DM
A(0,5分間)。
水酢酸/ピリジン/DMA (1: 1 F B容量)
(5分間)、3×脱気D M A (0,5分間)、l
×イソプロピルアルコール(1分間) 、3×脱気DM
A(0,5分間)。
末端Fmoc基を前記の方法により除去する。樹脂をイ
ソプロピルアルコールで洗浄し、そして室温にて高真空
下で乾燥する。
ソプロピルアルコールで洗浄し、そして室温にて高真空
下で乾燥する。
上L
0.65g (約150mmo 1 )の例15からの
(11)をカラム中で60分間、約30mIのジクロロ
メタン中2%トリフルオロ酢酸により洗浄し、溶出液を
約0.3−に濃縮し、l mfのTFA/水(95:5
容量)を加え、そして全体を室温にて15分間保持して
保護基を完全に除去する。5−のジイソプロピルエーテ
ルを添加することによりペプチドアミドを沈澱せしめる
。沈澱を濾取しそして真空乾燥する。生成物を5afの
水に溶解し、濁った部分を遠心分離により除去し、そし
て上清を凍結乾燥する。無色の粉末を得る。これはII
PLcによれば90%より多くの標記化合物を含む。匹
−保持時間6.8分HNucleosilカラム7 C
I[l 、 120X 4.6 sn;グラジェント
:100%V10%B→10%A/90%B、30分間
i A = 0.1%’rF V /水、B−〇、1%
T I” A /アセトニトリル検出215nmにて。
(11)をカラム中で60分間、約30mIのジクロロ
メタン中2%トリフルオロ酢酸により洗浄し、溶出液を
約0.3−に濃縮し、l mfのTFA/水(95:5
容量)を加え、そして全体を室温にて15分間保持して
保護基を完全に除去する。5−のジイソプロピルエーテ
ルを添加することによりペプチドアミドを沈澱せしめる
。沈澱を濾取しそして真空乾燥する。生成物を5afの
水に溶解し、濁った部分を遠心分離により除去し、そし
て上清を凍結乾燥する。無色の粉末を得る。これはII
PLcによれば90%より多くの標記化合物を含む。匹
−保持時間6.8分HNucleosilカラム7 C
I[l 、 120X 4.6 sn;グラジェント
:100%V10%B→10%A/90%B、30分間
i A = 0.1%’rF V /水、B−〇、1%
T I” A /アセトニトリル検出215nmにて。
FAR−MS:質量ピーク927(M→I]゛)。
Thr(Ilut)−Leu−Gln−円1e−νal
−Cys (SBut)−1、00g (約0,
36mmo I! )の○−(17m6cmGly)−
ヒトロー1−シ樹脂(6)をペプチド合成機中で、例1
5に類似する洗浄工程及びFmoc−除去工程を用いて
反応せしめる。
−Cys (SBut)−1、00g (約0,
36mmo I! )の○−(17m6cmGly)−
ヒトロー1−シ樹脂(6)をペプチド合成機中で、例1
5に類似する洗浄工程及びFmoc−除去工程を用いて
反応せしめる。
カップリング: Val, Glu, Gly, Le
u及びAr8は1、20m/のDMA中Fmoc−アミ
ノ酸2,4.5−トリクロロフェニルエステル(0.7
2mmo !! )の形で、DMA中0. 5 M I
IOBt/ 0. 5 Mジイソプロピルエチルアミン
1.44m/と共に室温にて1時間カップリングせしめ
る。他のアミノ酸誘導体は対称無水物(1.08mmo
j! )の形(例1Oと同様にしてIAI製)で室温
にて1時間カップリングせしめる。アミノ酸3 、 8
、10,11,18.20及び21の場合、工程を反
復する(再カップリング)。合成が完了したとき、樹脂
をイソプロピルアルコールで5回洗浄する。
u及びAr8は1、20m/のDMA中Fmoc−アミ
ノ酸2,4.5−トリクロロフェニルエステル(0.7
2mmo !! )の形で、DMA中0. 5 M I
IOBt/ 0. 5 Mジイソプロピルエチルアミン
1.44m/と共に室温にて1時間カップリングせしめ
る。他のアミノ酸誘導体は対称無水物(1.08mmo
j! )の形(例1Oと同様にしてIAI製)で室温
にて1時間カップリングせしめる。アミノ酸3 、 8
、10,11,18.20及び21の場合、工程を反
復する(再カップリング)。合成が完了したとき、樹脂
をイソプロピルアルコールで5回洗浄する。
末端F m o c基が維持されている。次に高真空下
で乾燥する。
で乾燥する。
1、80g (約0. 19mmo l )の例17
からの(12)を室温にて1. 5時間、35IIIZ
のジクロロメタン/酢酸(9:l容量)と混合する。樹
脂を濾取し、難溶性画分を60°Cにて3×50−ジメ
チルスルボギシド(DMSO) 、3 x l−リフル
オロエタノール/ジクロロメタン(1:1容計)、IX
N−メチルピロリドン/DMSO ( 8 : 2容量
)で抽出する。−緒にした゛濾液を高真空下での蒸発に
より濃縮し、そして残渣を50℃にて1時間、5−の水
/メタノール<5:95容量)と共に撹拌する。不溶性
物質を濾取し、そして高真空上室温にて乾燥する。
からの(12)を室温にて1. 5時間、35IIIZ
のジクロロメタン/酢酸(9:l容量)と混合する。樹
脂を濾取し、難溶性画分を60°Cにて3×50−ジメ
チルスルボギシド(DMSO) 、3 x l−リフル
オロエタノール/ジクロロメタン(1:1容計)、IX
N−メチルピロリドン/DMSO ( 8 : 2容量
)で抽出する。−緒にした゛濾液を高真空下での蒸発に
より濃縮し、そして残渣を50℃にて1時間、5−の水
/メタノール<5:95容量)と共に撹拌する。不溶性
物質を濾取し、そして高真空上室温にて乾燥する。
非常に難溶性の両分はIIPLC法により分析すること
ができない。TLC (2種類の系):生成物の純度は
90%より高いCDMSO/ N−メチルピロリドン(
2:8)に2容解〕。FAB−MS:質量ピーク353
9(M−トNa’)。
ができない。TLC (2種類の系):生成物の純度は
90%より高いCDMSO/ N−メチルピロリドン(
2:8)に2容解〕。FAB−MS:質量ピーク353
9(M−トNa’)。
以下余白
4!I!uiLO−(Fmoc−Δla−T r(Bu
t)−Ar (Mtr)−Pro−1、00g (約0
.36mmo 1 )のO−(Fmoc−Gly)−ヒ
ドロキシ樹脂(6)をペプチド合成機中で、例15と同
様にして洗浄工程及びF m o c−除去工程を用い
て反応せしめる。
t)−Ar (Mtr)−Pro−1、00g (約0
.36mmo 1 )のO−(Fmoc−Gly)−ヒ
ドロキシ樹脂(6)をペプチド合成機中で、例15と同
様にして洗浄工程及びF m o c−除去工程を用い
て反応せしめる。
左ユプエllニアミノ酸誘導体を対称無水物(1.08
mmo l )の形(例10と同様にして調製する)で
室温にて1時間カップリングせしめる。アミノ酸NQ3
、 8及び9の場合、カンプリング工程を2当量の2
、 4 、 5 − 1−リクロロフェニルエステル
を用いて反復する。合成が完了した時、樹脂を5回イソ
プロピルアルコールにより洗浄し、末端Fmoc基を維
持し、そして高真空下で乾燥する。
mmo l )の形(例10と同様にして調製する)で
室温にて1時間カップリングせしめる。アミノ酸NQ3
、 8及び9の場合、カンプリング工程を2当量の2
、 4 、 5 − 1−リクロロフェニルエステル
を用いて反復する。合成が完了した時、樹脂を5回イソ
プロピルアルコールにより洗浄し、末端Fmoc基を維
持し、そして高真空下で乾燥する。
以下余白
=イクリニ20. Fmoc−Ala−J−八r+(
MLr)−Pro−5er(But)1.5g(約0.
19mmo 1 )の例19からの(13)を室温にて
1.5時間、3Qnfのジクロロメタン/酢酸(9:1
容量)と混合する。樹脂を除去し、そして濾液を真空濃
縮し、そして高真空下で凍結乾燥する。得られる無色の
わ)末を精製のために自動向流分配機(5m1/相)中
で例13の場合と同じ混合物を用いて1330段分配す
る。両分65〜Illが純粋な(TLC、IIPLCに
よる)標記化合物を含有し、これらを−緒に蒸発濃縮す
る。残渣をエーテルと共にすりつぶし、そして濾過する
。TLC(シリカゲル上での5種類の系)及びIIPL
cによれば、無色の粉末は均一である。保持時間24.
1分間;Nucleosilカラム5 Cps 、 4
.6 X 2501m ;グラジェント溶出=50%A
150%A−0%A/100%B、30分間; A =
0.1%T F A /水、B−〇、1%TFA/ア
セトニトリル、1.OmZ/分;検出 : 2150m
・。
MLr)−Pro−5er(But)1.5g(約0.
19mmo 1 )の例19からの(13)を室温にて
1.5時間、3Qnfのジクロロメタン/酢酸(9:1
容量)と混合する。樹脂を除去し、そして濾液を真空濃
縮し、そして高真空下で凍結乾燥する。得られる無色の
わ)末を精製のために自動向流分配機(5m1/相)中
で例13の場合と同じ混合物を用いて1330段分配す
る。両分65〜Illが純粋な(TLC、IIPLCに
よる)標記化合物を含有し、これらを−緒に蒸発濃縮す
る。残渣をエーテルと共にすりつぶし、そして濾過する
。TLC(シリカゲル上での5種類の系)及びIIPL
cによれば、無色の粉末は均一である。保持時間24.
1分間;Nucleosilカラム5 Cps 、 4
.6 X 2501m ;グラジェント溶出=50%A
150%A−0%A/100%B、30分間; A =
0.1%T F A /水、B−〇、1%TFA/ア
セトニトリル、1.OmZ/分;検出 : 2150m
・。
1.00g (約0.31mmo l!、 )のO−
(Fo+oc−Gaba )−ヒドロキシ樹脂(グリシ
ンの代りに4−アミノ酪酸を用いて例8に従って製造し
たもの)をペプチド合成機中で、例15と同様にして洗
浄工程及びFmoc−除去を用いて反応せしめる。
(Fo+oc−Gaba )−ヒドロキシ樹脂(グリシ
ンの代りに4−アミノ酪酸を用いて例8に従って製造し
たもの)をペプチド合成機中で、例15と同様にして洗
浄工程及びFmoc−除去を用いて反応せしめる。
カップリング:アミノM、誘導体を対称無水物の形(0
,93mmo l ) (例10と同様ニジ−(調m−
r4)で室温にて1時間カップリングせしめる。Phe
及びA!inは2.4.5−トリクロロフヱニルエステ
ル(2当量)の形でカップリングせしめる。アミノ酸1
(八sn)については再カップリングを行う。合成が完
了した時、そして末端Fmoc基が除去された後、樹脂
をイソプロピルアルコールで5回洗浄し、そして高真空
下で乾燥する。
,93mmo l ) (例10と同様ニジ−(調m−
r4)で室温にて1時間カップリングせしめる。Phe
及びA!inは2.4.5−トリクロロフヱニルエステ
ル(2当量)の形でカップリングせしめる。アミノ酸1
(八sn)については再カップリングを行う。合成が完
了した時、そして末端Fmoc基が除去された後、樹脂
をイソプロピルアルコールで5回洗浄し、そして高真空
下で乾燥する。
1.38g (約0.26tamo 1 )の例21
からの(14)を50℃にて1時間、DMA中5%ピリ
ジン塩酸塩5mfと混合する。樹脂を濾取し、DMSO
で洗浄し、濾液を高真空下で濃縮しそしてDMSOから
1回及びjert−ブチルアルコールから2回凍結乾燥
する。
からの(14)を50℃にて1時間、DMA中5%ピリ
ジン塩酸塩5mfと混合する。樹脂を濾取し、DMSO
で洗浄し、濾液を高真空下で濃縮しそしてDMSOから
1回及びjert−ブチルアルコールから2回凍結乾燥
する。
旧ILCによれば得られる無色粉末は95%より高い純
度を有し、そしてIIPLc及びTLCにおいて液相合
成により製造された真正な標品と同一である。
度を有し、そしてIIPLc及びTLCにおいて液相合
成により製造された真正な標品と同一である。
III)LC=保持時間20.6分間; Nucleo
silカラム5 Cps 、 4.6 X 250aa
;グラジエン溶出:100%V10%B→10%A/
90%B130分間;A=0.1%TFA/水、B =
0.1%TFA/アセトニトリル、1. OnJ /
分;検出215nm0以下余白
silカラム5 Cps 、 4.6 X 250aa
;グラジエン溶出:100%V10%B→10%A/
90%B130分間;A=0.1%TFA/水、B =
0.1%TFA/アセトニトリル、1. OnJ /
分;検出215nm0以下余白
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、固相ペプチド合成のための支持体として使用するこ
とができそして0〜5mol%のジビニルベンゼンによ
り架橋されているポリスチレンを基礎とする合成樹脂で
あって、その骨格構造のベンゼン環において次の式(
I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Xは−O−又は−NH−であり、そしてRはC
_1〜C_4−アルキル基である)で表わされる基によ
り置換されていることを特徴とする合成樹脂。 2、前記ポリスチレンが1〜2mol%のジビニルベン
ゼンを有するコポリマーの形態にある、請求項1に記載
の合成樹脂。 3、式( I )においてXが−O−であり、そしてRが
メチル基である、請求項1又は2に記載の合成樹脂。 4、式( I )においてXが−NH−であり、そしてR
がメチル基である、請求項1又は2に記載の合成樹脂。 5、固相ペプチド合成のための支持体として使用するこ
とができ、0〜5mol%のジビニルベンゼンにより架
橋されたポリスチレンを基礎としており、そして骨格構
造のベンゼン環において次の式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Xは−O−又は−NH−であり、そしてRはC
_1〜C_4−アルキル基である)で表わされる基によ
り置換されている合成樹脂の製造方法であって、固相ペ
プチド合成のための支持体として使用することができ、
0〜5mol%のジビニルベンゼンにより架橋されてお
り、そして骨格構造のベンゼン環においてクロロメチル
化又はブロモメチル化されているポリスチレンをa)次
の式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中Mはアルカリ金属であり、そしてRは前記の意味
を有する) で表わされる化合物; b)還元剤;及び、Xが−NH−である場合には c)アミノ基を導入する試薬; と順次反応せしめることを特徴とする方法。 6、Mがセシウムである式(II)の化合物を用いて反応
を行うことを特徴とする請求項5に記載の方法。 7、段階b)においてコンプレックスヒドリド又はジボ
ランを用いて還元を行うことを特徴とする請求項5又は
6に記載の方法。 8、Rがメチル基である式(II)の化合物を用いて反応
を行うことを特徴とする請求項5〜7のいずれか1項に
記載の方法。 9、固相合成の支持体として請求項1に記載の合成樹脂
を使用することを特徴とするペプチド及びペプチドアミ
ドの製造方法。 10、N−末端及び/又は他の官能基において保護され
ているペプチド又はペプチドアミドを製造することを特
徴とする請求項9に記載の方法。 11、a)合成樹脂を、次の式: W^1−AM^−Y−II (式中、Yは−O−又は−NH−であり、W^1はN−
末端アミノ保護基であり、そしてAM^1は1〜25個
のアミノ酸残基から成るアミノ酸配列のアシル基であっ
て、この配列は所望により官能基において保護されてい
る) で表わされる化合物と、又はその反応性官能誘導体と反
応せしめることにより前記樹脂の−X−基にW^1−A
M^1−残基を付加し; b)N−末端保護基W^1を除去し; c)遊離したN−末端アミノ基を、次の式:W^2−A
M^2−OH (式中、W^2及びM^2は前記の基W^1及びM^1
と類似の意味を有する) で表わされる酸と、又はその反応性官能誘導体と反応せ
しめることによりアシル化し; d)段階b)に従う除去及び段階c)に従うアシル化の
交互の操作を、目的とするアミノ酸配列が得られるまで
必要なだけ反復し:そして e)生じたペプチド又はペプチドアミドを、所望により
保護基の除去の後又は保護基の除去と同時に、酸分解に
より前記樹脂から切り離す;ことを特徴とする請求項9
又は10に記載の方法。 12、塩基性条件下で除去することができるアミノ保護
基W^1又はW^2を用いてN−末端アミノ基を保護し
、そして段階b)に従う除去を塩基を用いて行うことを
特徴とする請求項11に記載の方法。 13、塩基性条件下で除去され得るアミノ保護基W^1
又はW^2として9−フルオレニルメトキシカルボニル
基(Fmoc)を使用することを特徴とする請求項12
に記載の方法。 14、段階a)において、Xが−O−である合成樹脂を
W^1及びAM^1が請求項11に記載した意味を有す
る式W^1−AM^1−OHの酸と又はその反応性官能
誘導体と反応せしめ、そして最終生成物を酸性形で取り
出すことを特徴とする請求項11〜13のいずれか1項
に記載の方法。 15、段階a)において、Xが−O−である合成樹脂を
W^1及びAM^1が請求項11に記載した意味を有す
る式W^1−AM^1−NH_2のアミドと反応せしめ
、そして最終生成物をペプチドアミドの形で取り出すこ
とを特徴とする請求項11〜13のいずれか1項に記載
の方法。 16、段階a)において、Xが−NH−である合成樹脂
をW^1及びAM^1が請求項11の意味を有する式W
^1−AM^1−OHの酸と、又はその反応性官能誘導
体と反応せしめ、そして最終生成物をペプチドアミドの
形で取り出すことを特徴とする請求項11〜13のいず
れか1項に記載の方法。 17、ペプチド及びペプチドアミドの固相合成における
支持体としての、請求項1に記載の合成樹脂の使用。 18、請求項1に記載の構造を有する合成樹脂であるが
、しかし−X−H基の代りに−NH−W、−X−AM−
W、又は−X−AM−H基を有し、ここで−X−は−O
−又は−NH−であり、WはN−末端アミノ保護基であ
り、そしてAMは所望により官能基において保護されて
いる1〜180個のアミノ酸残基から成るアミノ酸配列
のアシル基である、該合成樹脂。 19、請求項11の方法により得られるペプチド又はペ
プチドアミドであって、式W−AM^0−XH又は式H
−AM^0−XHの構造を有し、ここでXは−O−又は
−NH−であり、WはN−末端アミノ保護基であり、そ
してAM^0は所望により官能基において保護されてい
る2〜180個のアミノ酸残基から成るアミノ酸配列の
アシル基である、該ペプチド又はペプチドアミド。 20、例のいずれかに記載されている、請求項19に記
載のペプチド又はペプチドアミド。
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