JPS63245410A - 多官能重合体の製造方法 - Google Patents
多官能重合体の製造方法Info
- Publication number
- JPS63245410A JPS63245410A JP8039987A JP8039987A JPS63245410A JP S63245410 A JPS63245410 A JP S63245410A JP 8039987 A JP8039987 A JP 8039987A JP 8039987 A JP8039987 A JP 8039987A JP S63245410 A JPS63245410 A JP S63245410A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- branched alkyl
- polymer
- alkyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 42
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 4
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 17
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Natural products C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims description 7
- -1 diene compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 claims description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 claims 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 7
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 abstract description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 15
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 7
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 5
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 5
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010550 living polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGHRJJRRZDOVPD-UHFFFAOYSA-N 3-methylbutanal Chemical compound CC(C)CC=O YGHRJJRRZDOVPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical class [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- AMIMRNSIRUDHCM-UHFFFAOYSA-N Isopropylaldehyde Chemical compound CC(C)C=O AMIMRNSIRUDHCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N Propionic aldehyde Chemical compound CCC=O NBBJYMSMWIIQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- FWWQKRXKHIRPJY-UHFFFAOYSA-N octadecanal Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC=O FWWQKRXKHIRPJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MMSLOZQEMPDGPI-UHFFFAOYSA-N p-Mentha-1,3,5,8-tetraene Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(C)C=C1 MMSLOZQEMPDGPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N pentan-3-one Chemical compound CCC(=O)CC FDPIMTJIUBPUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N pentanal Chemical compound CCCCC=O HGBOYTHUEUWSSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- XMVYHPBDQZYCEL-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[2-(4-prop-1-en-2-ylphenyl)ethoxy]silane Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(CCO[Si](C)(C)C)C=C1 XMVYHPBDQZYCEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWAJLVLEBYIOTI-OLQVQODUSA-N (1s,6r)-7-oxabicyclo[4.1.0]heptane Chemical compound C1CCC[C@@H]2O[C@@H]21 ZWAJLVLEBYIOTI-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- QOVCUELHTLHMEN-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 QOVCUELHTLHMEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTPNYMSKBPZSTF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1C=C VTPNYMSKBPZSTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=C NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHUZSRRCICJJCN-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC(C=C)=C1 XHUZSRRCICJJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=C(C=C)C=C1 WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCNAQVGAHQVWIN-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-hexylbenzene Chemical compound CCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 LCNAQVGAHQVWIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVTGQMLRTKFKAM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-propylbenzene Chemical compound CCCC1=CC=C(C=C)C=C1 VVTGQMLRTKFKAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBTHFIILQIUOEK-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-4-prop-1-en-2-ylbenzene Chemical compound CCC1=CC=C(C(C)=C)C=C1 IBTHFIILQIUOEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZDGMOYKSFPLSE-UHFFFAOYSA-N 2-Methylaziridine Chemical compound CC1CN1 OZDGMOYKSFPLSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZMAWJRXKGLWGS-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-n-[4-(4-methoxyphenyl)-1,3-thiazol-2-yl]-n-(3-methoxypropyl)acetamide Chemical compound S1C(N(C(=O)CCl)CCCOC)=NC(C=2C=CC(OC)=CC=2)=C1 KZMAWJRXKGLWGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBNVSWHUJDDZRH-UHFFFAOYSA-N 2-methylthiirane Chemical compound CC1CS1 MBNVSWHUJDDZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYURNNNQIFDVCA-UHFFFAOYSA-N 2-propyloxirane Chemical compound CCCC1CO1 SYURNNNQIFDVCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFQWHHUZLDASRR-UHFFFAOYSA-N 3,4-dimethylpenta-1,3-diene Chemical compound CC(C)=C(C)C=C KFQWHHUZLDASRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHUUPUMBZGWODW-UHFFFAOYSA-N 3,6-dihydro-1,2-dioxine Chemical compound C1OOCC=C1 JHUUPUMBZGWODW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAXBWZULOIZPKQ-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-3-methylidenepent-1-ene Chemical compound CC(C)(C)C(=C)C=C WAXBWZULOIZPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORMMMHDICJCPS-UHFFFAOYSA-N 4-prop-1-en-2-yl-n,n-bis(trimethylsilyl)aniline Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(N([Si](C)(C)C)[Si](C)(C)C)C=C1 QORMMMHDICJCPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000799 K alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N Methoxyethane Chemical compound CCOC XOBKSJJDNFUZPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000528 Na alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N Styrene oxide Chemical compound C1OC1C1=CC=CC=C1 AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910000573 alkali metal alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- XZKRXPZXQLARHH-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-dienylbenzene Chemical compound C=CC=CC1=CC=CC=C1 XZKRXPZXQLARHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N carbon disulfide-14c Chemical compound S=[14C]=S QGJOPFRUJISHPQ-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- HKZLNGQCWGVZIW-UHFFFAOYSA-N cyclohex-2-en-1-imine Chemical compound N=C1CCCC=C1 HKZLNGQCWGVZIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001002 functional polymer Polymers 0.000 description 1
- FXHGMKSSBGDXIY-UHFFFAOYSA-N heptanal Chemical compound CCCCCCC=O FXHGMKSSBGDXIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JARKCYVAAOWBJS-UHFFFAOYSA-N hexanal Chemical compound CCCCCC=O JARKCYVAAOWBJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- DWSCDRPLBXJKCC-UHFFFAOYSA-N n,n-bis[tert-butyl(dimethyl)silyl]-4-prop-1-en-2-ylaniline Chemical compound CC(=C)C1=CC=C(N([Si](C)(C)C(C)(C)C)[Si](C)(C)C(C)(C)C)C=C1 DWSCDRPLBXJKCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 239000003586 protic polar solvent Substances 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOVUARRWDCVURC-UHFFFAOYSA-N thiirane Chemical compound C1CS1 VOVUARRWDCVURC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- HFFLGKNGCAIQMO-UHFFFAOYSA-N trichloroacetaldehyde Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C=O HFFLGKNGCAIQMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F4/00—Polymerisation catalysts
- C08F4/42—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
一得 ′1および?
本発明は、新規なアニオン重合開始剤を用いる多官能重
合体の製造方法に関する。
合体の製造方法に関する。
近年、塗料用基体樹脂分野において、ハイソリッド化が
強く要請されている。周知のように、ハイソリッド化の
ためには基体樹脂が高濃度において塗装可能な粘度を保
つように低分子量化する必要がある。しかし既存の技術
による基体樹脂の低分子量化は、i)分子1分布が広い
ため闇雲な低分子量化は極端な低分子量分の生成の原因
となり塗装作業性、塗膜物性に悪影響を及ぼす、ii
)塗膜中の末端自由鎖の増加に伴い、望ましい塗膜物性
が得られない、等の欠点を有する。
強く要請されている。周知のように、ハイソリッド化の
ためには基体樹脂が高濃度において塗装可能な粘度を保
つように低分子量化する必要がある。しかし既存の技術
による基体樹脂の低分子量化は、i)分子1分布が広い
ため闇雲な低分子量化は極端な低分子量分の生成の原因
となり塗装作業性、塗膜物性に悪影響を及ぼす、ii
)塗膜中の末端自由鎖の増加に伴い、望ましい塗膜物性
が得られない、等の欠点を有する。
すなわち、ラジカル重合法によって得られる樹脂は、低
分子量化すると分子量分布が広いため極端な低分子量分
が生成し、極端な低分子量分の中には架橋点となる官能
基が含まれていない可能性がある。
分子量化すると分子量分布が広いため極端な低分子量分
が生成し、極端な低分子量分の中には架橋点となる官能
基が含まれていない可能性がある。
アニオン重合法、特にアニオンリビング重合法は比較的
分子量分布の狭い高分子が得られ、しかも分子量の調節
が容易であるので、より低粘度のハイソリッド塗料用樹
脂の合成法として通している。他方、塗料用樹脂として
使用するためには、分子鎖中に架橋剤と反応し得る官能
基を持っていることが必要である。しかもすぐれた物性
を有する硬化塗膜を得るためには、同じ分子鎖中に少な
(とも2個のそのような官能基を持っていることが望ま
しい。
分子量分布の狭い高分子が得られ、しかも分子量の調節
が容易であるので、より低粘度のハイソリッド塗料用樹
脂の合成法として通している。他方、塗料用樹脂として
使用するためには、分子鎖中に架橋剤と反応し得る官能
基を持っていることが必要である。しかもすぐれた物性
を有する硬化塗膜を得るためには、同じ分子鎖中に少な
(とも2個のそのような官能基を持っていることが望ま
しい。
ところが例えばα−メチルスチレンにNa金属を反応さ
せて得られるジアニオン型リビング四量体を開始剤とし
、二つの生長開始点からアニオン重合法によって生長さ
せて得られるポリマーの生長末端に官能基を導入して多
官能性ポリマーを得ようとする場合、もし一方の生長末
端が停止反応を起こすと単官能の七ツマ−しか得られな
い。
せて得られるジアニオン型リビング四量体を開始剤とし
、二つの生長開始点からアニオン重合法によって生長さ
せて得られるポリマーの生長末端に官能基を導入して多
官能性ポリマーを得ようとする場合、もし一方の生長末
端が停止反応を起こすと単官能の七ツマ−しか得られな
い。
そこで本発明は、アニオン重合法によってポリマー鎖の
中心付近と両末端に架橋剤と反応し得る官能基を有し、
分子量分布の狭い多官能ポリマーを製造する方法を提供
する。
中心付近と両末端に架橋剤と反応し得る官能基を有し、
分子量分布の狭い多官能ポリマーを製造する方法を提供
する。
本光皿少互翌
本発明は、
一般式(1)
%式%
(式中、R1は炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐アルキ
ル基、R2ないしR4は独立にそれぞれ炭素数1〜6の
直鎖もしくは分岐アルキル基もしくはアルコキシ基、ま
たはフェニル基、R5は直接結合手または炭素数1〜6
のアルキレン基、^は一〇−が、R4 を表す。)を有する少なくとも1種の化合物1〜4モル
と、 一般式(II) (式中、R]は前記に同じであり、R7は水素か、また
は炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐アルキル基を表す。
ル基、R2ないしR4は独立にそれぞれ炭素数1〜6の
直鎖もしくは分岐アルキル基もしくはアルコキシ基、ま
たはフェニル基、R5は直接結合手または炭素数1〜6
のアルキレン基、^は一〇−が、R4 を表す。)を有する少なくとも1種の化合物1〜4モル
と、 一般式(II) (式中、R]は前記に同じであり、R7は水素か、また
は炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐アルキル基を表す。
)を有する化合物0〜3モルの割合からなるタキソマー
にアルカリ金属を反応させて得られるジアニオン型リビ
ングテロマーをアニオン重合開始剤として用い、少なく
とも1種のアニオン重合可能な単量体をアニオン重合す
る工程と、かくして得られたポリマーをプロトン供与体
と接触させる工程とを含む多官能重合体の製造方法に関
する。
にアルカリ金属を反応させて得られるジアニオン型リビ
ングテロマーをアニオン重合開始剤として用い、少なく
とも1種のアニオン重合可能な単量体をアニオン重合す
る工程と、かくして得られたポリマーをプロトン供与体
と接触させる工程とを含む多官能重合体の製造方法に関
する。
本発明において使用する開始剤は、置換シリル基で保護
されているヒドロキシル基および/またはアミノ基を有
し、重合後得られたポリマーをプロトン供与体と接触さ
せることにより、緩和な条件で保護基を脱離することが
できるので、得られるポリマーは両末端と、中心付近と
に架橋剤と反応し得る官能基を持つことになる。
されているヒドロキシル基および/またはアミノ基を有
し、重合後得られたポリマーをプロトン供与体と接触さ
せることにより、緩和な条件で保護基を脱離することが
できるので、得られるポリマーは両末端と、中心付近と
に架橋剤と反応し得る官能基を持つことになる。
さらにかりに一方の生長末端が停止反応を起こしても、
開始剤自体が官能基を有するため、物性に悪影響を及ぼ
す一官能性もしくは無官能性のポリマーの生成確立が従
来の技術に比べて格段に低い。しかも開始剤に含まれる
官能基は置換シリル基で保護されているため、アニオン
リビング重合に際して開始点や生長末端に対して不活性
である。
開始剤自体が官能基を有するため、物性に悪影響を及ぼ
す一官能性もしくは無官能性のポリマーの生成確立が従
来の技術に比べて格段に低い。しかも開始剤に含まれる
官能基は置換シリル基で保護されているため、アニオン
リビング重合に際して開始点や生長末端に対して不活性
である。
しい 柳 の−■
本発明において使用するアニオン重合開始剤は、一般式
(I)の保護された官能基を有するα−アルキルスチレ
ン誘導体を含むタキソマーにアルカリ金属またはアルカ
リ金属合金を反応させることによって得られるジアニオ
ン型のりピングテロマー例えば四量体である。
(I)の保護された官能基を有するα−アルキルスチレ
ン誘導体を含むタキソマーにアルカリ金属またはアルカ
リ金属合金を反応させることによって得られるジアニオ
ン型のりピングテロマー例えば四量体である。
このような開始剤は、保護されたヒドロキシル基を有す
るα−アルキルスチレン誘導体I −aI ■ (式中、符号は前記に同じ)、または保護されたアミノ
基を有するα−メチルスチレン誘導体r−b■ −Re R2−3t−R4 (式中、符号は前記に同じ。)をそれぞれ単独に、また
は化合物I−aとI−bとの任意の割合の混合物として
、さらに化合物1−aおよび/または1−bと保護され
た官能基を有しない一般式(II)のα−アルキルスチ
レン化合物との混合物の形で、ナトリウム、カリウム、
ナトリウム/カリウム合金、セシウムのようなアルカリ
金属と反応させることによって得られる。
るα−アルキルスチレン誘導体I −aI ■ (式中、符号は前記に同じ)、または保護されたアミノ
基を有するα−メチルスチレン誘導体r−b■ −Re R2−3t−R4 (式中、符号は前記に同じ。)をそれぞれ単独に、また
は化合物I−aとI−bとの任意の割合の混合物として
、さらに化合物1−aおよび/または1−bと保護され
た官能基を有しない一般式(II)のα−アルキルスチ
レン化合物との混合物の形で、ナトリウム、カリウム、
ナトリウム/カリウム合金、セシウムのようなアルカリ
金属と反応させることによって得られる。
式I−aの化合物の具体例としては、p−(2−トリメ
チルシロキシエチル)−α−メチルスチレン、p−(2
−)リプチルシロキシエチル)−α−メチルスチレン、
p−(2−t−ブチルジメチルシロキシエチル)−α−
メチルスチレン、p−(2−)リプチルシロキシエチル
)−α−メチルスチレン、p −(2−プロピルジメチ
ルシロキシエチル)−α−メチルスチレンなどが挙げら
れる。
チルシロキシエチル)−α−メチルスチレン、p−(2
−)リプチルシロキシエチル)−α−メチルスチレン、
p−(2−t−ブチルジメチルシロキシエチル)−α−
メチルスチレン、p−(2−)リプチルシロキシエチル
)−α−メチルスチレン、p −(2−プロピルジメチ
ルシロキシエチル)−α−メチルスチレンなどが挙げら
れる。
式I−bの化合物の具体例には、p−ビス(トリメチル
シリル)アミノ−α−メチルスチレン、p−ビス(トリ
エチルシリル)アミノ−α−メチルスチレン、p−ビス
(t−ブチルジメチルシリル)アミノ−α−メチルスチ
レン、p−(N−トリメチルシリル−N−メチルアミノ
)−α−メチルスチレン、p−(N−トリエチルシリル
−N−メチルアミノ)−α−メチルスチレン、p−(N
−t−ブチルジメチルシリル−N−メチルアミノ)−α
−メチルスチレンなどがある。
シリル)アミノ−α−メチルスチレン、p−ビス(トリ
エチルシリル)アミノ−α−メチルスチレン、p−ビス
(t−ブチルジメチルシリル)アミノ−α−メチルスチ
レン、p−(N−トリメチルシリル−N−メチルアミノ
)−α−メチルスチレン、p−(N−トリエチルシリル
−N−メチルアミノ)−α−メチルスチレン、p−(N
−t−ブチルジメチルシリル−N−メチルアミノ)−α
−メチルスチレンなどがある。
一般式(Il)の化合物の具体例には、α−メチルスチ
レン、m−またはp−メチル−α−メチルスチレン、m
−またはp−エチル−α−メチルスチレンなどがある。
レン、m−またはp−メチル−α−メチルスチレン、m
−またはp−エチル−α−メチルスチレンなどがある。
また、該開始剤で重合し得る単量体の具体例としては、
スチレン、o−、m−またはp−メチルスチレン、α−
メチルスチレン、o−、m−またはp−エチルスチレン
、o−、m−またはp−プロピルスチレン、o−、m−
またはp−ブチルスチレン、o−、m−またはp−へキ
シルスチレン等のスチレン誘導体、1.3−ブタジェン
、イソプレン、2.3−ジメチル−1,3−ブタジェン
、2−メチル−1,3−ブタジェン、3.4−ジメチル
−1,3−ペンタジェン、3,4−ジメチル−L3−へ
キサジエン、415−ジエチル−1,3−オクタジエン
。
スチレン、o−、m−またはp−メチルスチレン、α−
メチルスチレン、o−、m−またはp−エチルスチレン
、o−、m−またはp−プロピルスチレン、o−、m−
またはp−ブチルスチレン、o−、m−またはp−へキ
シルスチレン等のスチレン誘導体、1.3−ブタジェン
、イソプレン、2.3−ジメチル−1,3−ブタジェン
、2−メチル−1,3−ブタジェン、3.4−ジメチル
−1,3−ペンタジェン、3,4−ジメチル−L3−へ
キサジエン、415−ジエチル−1,3−オクタジエン
。
フェニル−1,3−ブタジェン、 2−tertブチ
ル−1,3−ブタジェン等のジエン類、(メタ)アクリ
ル酸メチル、 (メタ)アクリル酸エチル、(メタ)ア
クリル酸n−ブチル、 (メタ)アクリル酸i−ブチル
、 (メタ)アクリル酸フェニル、 (メタ)アクリル
酸ベンジル等の(メタ)アクリル酸エステル類、および
(メタ)アクリロニトリルが挙げられる。
ル−1,3−ブタジェン等のジエン類、(メタ)アクリ
ル酸メチル、 (メタ)アクリル酸エチル、(メタ)ア
クリル酸n−ブチル、 (メタ)アクリル酸i−ブチル
、 (メタ)アクリル酸フェニル、 (メタ)アクリル
酸ベンジル等の(メタ)アクリル酸エステル類、および
(メタ)アクリロニトリルが挙げられる。
重合は重合反応に対して不活性な溶媒中で行うのが一般
的である。使用し得る溶媒の具体例としては、ジエチル
エーテル、メチルエチルエーテル。
的である。使用し得る溶媒の具体例としては、ジエチル
エーテル、メチルエチルエーテル。
1.4−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン。
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素
類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン。
シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素類が挙げられる。ま
た溶媒はこれらのうち二種以上混合して用いることがで
きる。さらに重合濃度には特に制限はないが5〜30%
で行われるのが一般的である。
た溶媒はこれらのうち二種以上混合して用いることがで
きる。さらに重合濃度には特に制限はないが5〜30%
で行われるのが一般的である。
重合温度は一100℃〜+50℃の範囲内で任意に選択
することができるが、ジエン系単量体の場合は0〜50
°C、スチレン系およびアクリル酸系の単量体の場合は
50℃以下、特に−100℃〜−50°Cの範囲が好ま
しい。
することができるが、ジエン系単量体の場合は0〜50
°C、スチレン系およびアクリル酸系の単量体の場合は
50℃以下、特に−100℃〜−50°Cの範囲が好ま
しい。
重合雰囲気は、不活性ガス雰囲気下、減圧下。
好ましくは高真空下において行われ、重合時間は使用す
る単量体、溶媒1重合温度2重合濃度、得られる重合体
の分子量に応じ、10分ないし48時間が採用される。
る単量体、溶媒1重合温度2重合濃度、得られる重合体
の分子量に応じ、10分ないし48時間が採用される。
また、該開始剤により、公知のアニオンリビング重合法
を用いてランダム共重合体およびブロック共重合体も製
造することができる。
を用いてランダム共重合体およびブロック共重合体も製
造することができる。
かくして得られた重合体の生長末端は“リビングである
ため、メタノールのようなプロトン性溶媒を添加すると
トリアルキルシロキシ末端の重合体が得られ、また適当
な外部試薬との反応により重合体の生長末端側に水酸基
、カルボキシル基。
ため、メタノールのようなプロトン性溶媒を添加すると
トリアルキルシロキシ末端の重合体が得られ、また適当
な外部試薬との反応により重合体の生長末端側に水酸基
、カルボキシル基。
アミノ基、エポキシ基、メルカプト基、スルホニル基、
ハロゲン、ビニル基、ビニリデン基等の官能基を導入し
、両末端に官能基を有する重合体を製造することができ
る。
ハロゲン、ビニル基、ビニリデン基等の官能基を導入し
、両末端に官能基を有する重合体を製造することができ
る。
ポリマーの末端へ水酸基を導入するための外部試薬の具
体例としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、
n−ブチルアルデヒド、クロラール、プロピオンアルデ
ヒド、イソブチルアルデヒド、n−バレルアルデヒド、
イソバレルアルデヒド、n−カプロアルデヒド、n−ヘ
プトアルデヒド、ステアリルアルデヒド等のアルデヒド
類、アセトン、メチルエチルケトン1 ジエチルケトン
等のケトン類、エチレンオキシド、プロピレンオキシド
、トリメチレンオキシド、ブチレンオキシド。
体例としては、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、
n−ブチルアルデヒド、クロラール、プロピオンアルデ
ヒド、イソブチルアルデヒド、n−バレルアルデヒド、
イソバレルアルデヒド、n−カプロアルデヒド、n−ヘ
プトアルデヒド、ステアリルアルデヒド等のアルデヒド
類、アセトン、メチルエチルケトン1 ジエチルケトン
等のケトン類、エチレンオキシド、プロピレンオキシド
、トリメチレンオキシド、ブチレンオキシド。
ペンチレンオキシド、シクロヘキシレンオキシド。
スチレンオキシド等のアルキレンオキシド類およびその
誘導体、および酸素が挙げられる。
誘導体、および酸素が挙げられる。
ポリマーの末端へカルボキシル基を導入するための外部
試薬としては二酸化炭素が挙げられる。
試薬としては二酸化炭素が挙げられる。
ポリマーの末端へハロゲンを導入するための外部試薬と
しては、塩素、臭素、ビスブロモメチルエーテル、ビス
ブロモメチルエーテル等が挙げられる。
しては、塩素、臭素、ビスブロモメチルエーテル、ビス
ブロモメチルエーテル等が挙げられる。
ポリマーの末端ヘアミノ基を導入するための外部試薬と
しては、エチレンイミン、プロピレンイミン、シクロヘ
キセンイミン等のイミンが挙げられる。
しては、エチレンイミン、プロピレンイミン、シクロヘ
キセンイミン等のイミンが挙げられる。
その他、ポリマーの末端へは、例えば二硫化炭素、エチ
レンスルフィド、プロピレンスルフィド。
レンスルフィド、プロピレンスルフィド。
イオウ等によってメルカプト基を、塩化スルフリル等に
よりスルホニル基を、エピクロルヒドリン等によりエポ
キシ基等の官能基を導入することができる。
よりスルホニル基を、エピクロルヒドリン等によりエポ
キシ基等の官能基を導入することができる。
かくして得られる重合体を水、メタノール、エタノール
、塩酸、硫酸などのプロトン供与体と接触させることに
より、保護基であるシリル基を脱離させることができ、
ポリマー鎖の中心付近に水酸基および/またはアミノ基
を有する重合体を得ることができる。またリビング生長
末端に官能基を導入する外部試薬を反応させた後、プロ
トン供与体と反応させれば、ポリマー両末端と、中心付
近とに架橋に携わることのできる官能基を有する多官能
重合体が得られる。
、塩酸、硫酸などのプロトン供与体と接触させることに
より、保護基であるシリル基を脱離させることができ、
ポリマー鎖の中心付近に水酸基および/またはアミノ基
を有する重合体を得ることができる。またリビング生長
末端に官能基を導入する外部試薬を反応させた後、プロ
トン供与体と反応させれば、ポリマー両末端と、中心付
近とに架橋に携わることのできる官能基を有する多官能
重合体が得られる。
以下に本発明の実施例を示す。実施例中のポリマーの諸
物性は次の方法で測定した。
物性は次の方法で測定した。
ポリマーの分子量および分子量分布は示差屈折計、紫外
分光光度計を有するcpc、およびIH−NMRを用い
て測定した。
分光光度計を有するcpc、およびIH−NMRを用い
て測定した。
一方末端の官能基の定量は、水酸化カリウムによる滴定
を用いて行った。
を用いて行った。
実施例1
高真空下ブレークシール法を用い、まず重合装置内をα
−メチルスチレンテトラマージナトリウム塩THF溶液
で充分洗浄後、回収容器に回収し溶封して切り離した。
−メチルスチレンテトラマージナトリウム塩THF溶液
で充分洗浄後、回収容器に回収し溶封して切り離した。
次にTHF 1451niとp−(2−トリエチルシロ
キシエチル)−α−メチルスチレン四量体ジナトリウム
塩C(EOMS)4・2Na)THF溶液(0,089
N、 15.2d)を入れ、重合装置を一78℃に冷
却し、スチレンTHE溶液(スチレン14.9蔵、TH
F60淑)を加え、20分間反応させた。その後二酸化
炭素0.04モルを加え重合反応を停止させた。反応溶
液を弱塩酸酸性のメタノール中に注ぎ、ポリマーを得た
゛。収率98% ポリマーは数平均分子量面が(GPC)が2.2×10
4で、分子量分布Mw/Mn= 1.12となり、仕込
み量より計算された数平均分子量Mk=2.lX104
とほぼ一致した。カルボキシル基のファンクショナリテ
ィー西は1,9(アルカリ?fla定)であった。
キシエチル)−α−メチルスチレン四量体ジナトリウム
塩C(EOMS)4・2Na)THF溶液(0,089
N、 15.2d)を入れ、重合装置を一78℃に冷
却し、スチレンTHE溶液(スチレン14.9蔵、TH
F60淑)を加え、20分間反応させた。その後二酸化
炭素0.04モルを加え重合反応を停止させた。反応溶
液を弱塩酸酸性のメタノール中に注ぎ、ポリマーを得た
゛。収率98% ポリマーは数平均分子量面が(GPC)が2.2×10
4で、分子量分布Mw/Mn= 1.12となり、仕込
み量より計算された数平均分子量Mk=2.lX104
とほぼ一致した。カルボキシル基のファンクショナリテ
ィー西は1,9(アルカリ?fla定)であった。
実施例2
実施例1と同様に高真空下ブレークシール法を用い、T
HF98dと、(EOMS)4 ・2NaTHF溶液(
0,089N、 3.6蹴)とを入れ、スチレンTH
F溶液(スチレン6.7淑、THF35戚)を加え、反
応させた後、エチレンオキシド2巌を加えて重合反応を
停止させた。反応溶液を弱塩酸酸性メタノール溶液中に
注ぎ、ポリマーを得た。
HF98dと、(EOMS)4 ・2NaTHF溶液(
0,089N、 3.6蹴)とを入れ、スチレンTH
F溶液(スチレン6.7淑、THF35戚)を加え、反
応させた後、エチレンオキシド2巌を加えて重合反応を
停止させた。反応溶液を弱塩酸酸性メタノール溶液中に
注ぎ、ポリマーを得た。
収率100%
得られたポリマーはMn (GPC) =4.0 X
10’。
10’。
Mw/Mn= 1.08. Mk=3.9 X 10’
となった。
となった。
実施例3
実施例1と同様に高真空下ブレークシール法を用い、T
HF250dと、(EOMS)a ・2NaTHF溶液
(0,089N、 18.4蹴)とを入れ、メタクリ
ル酸メチル14.6dを蒸気の形で加え、反応させた後
、二酸化炭素0.02モルを加えて重合反応を停止させ
た。反応溶液を弱塩酸酸性メタノール溶液中に注ぎ、ポ
リマーを得た。収率100% 得られたポリマーは籠(GPC) =2.Ox 10’
。
HF250dと、(EOMS)a ・2NaTHF溶液
(0,089N、 18.4蹴)とを入れ、メタクリ
ル酸メチル14.6dを蒸気の形で加え、反応させた後
、二酸化炭素0.02モルを加えて重合反応を停止させ
た。反応溶液を弱塩酸酸性メタノール溶液中に注ぎ、ポ
リマーを得た。収率100% 得られたポリマーは籠(GPC) =2.Ox 10’
。
厘(IH−NMR) = 1.8 X 104.57石
=1.20゜Mk= 1.8 x 10’であり、カル
ボキシル基のファンクショナリティーFn=2.1であ
った。
=1.20゜Mk= 1.8 x 10’であり、カル
ボキシル基のファンクショナリティーFn=2.1であ
った。
図面は実施例2によって得られたポリマーのGPC溶出
曲線である。
曲線である。
Claims (4)
- (1)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1は炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐アル
キル基、R_2ないしR_4は独立にそれぞれ炭素数1
〜6の直鎖もしくは分岐アルキル基もしくはアルコキシ
基、またはフェニル基、R_5は直接結合手または炭素
数1〜6のアルキレン基、Aは−O−か、または式−N
−を表し、R_6は炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐ア
ルキル基か、または▲数式、化学式、表等があります▼
を表す。)を有する少なくとも1種の化合物1〜4モル
と、 一般式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R_1は前記に同じであり、R_7は水素か、
または炭素数1〜6の直鎖もしくは分岐アルキル基を表
す。)を有する化合物0〜3モルの割合からなるタキソ
マーにアルカリ金属を反応させて得られるジアニオン型
リビングテロマーをアニオン重合開始剤として用い、少
なくとも1種のアニオン重合可能な単量体をアニオン重
合する工程と、かくして得られるポリマーをプロトン供
与体と接触させる工程とを含む多官能重合体の製造方法
。 - (2)プロトン供与体と接触させる工程の前に、アニオ
ン重合によって得られたポリマーに、その生長末端へ直
接または二価の有機基を介して架橋剤と反応し得る官能
基を導入し得る試薬を反応させる工程を含む第1項の方
法。 - (3)アニオン重合可能な単量体が、スチレンおよびそ
の誘導体、ジエン化合物、(メタ)アクリル酸エステル
、または(メタ)アクリロニトリルから選ばれる第1項
または第2項の方法。 - (4)アニオン重合によって得られる重合体の数平均分
子量が1,000〜1,000,000である第1項な
いし第3項のいずれかの方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8039987A JPS63245410A (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 多官能重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8039987A JPS63245410A (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 多官能重合体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63245410A true JPS63245410A (ja) | 1988-10-12 |
JPH0585563B2 JPH0585563B2 (ja) | 1993-12-08 |
Family
ID=13717208
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8039987A Granted JPS63245410A (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 多官能重合体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63245410A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002047322A (ja) * | 1999-09-08 | 2002-02-12 | Nippon Soda Co Ltd | A−b−a型アルケニルフェノール系共重合体 |
-
1987
- 1987-03-31 JP JP8039987A patent/JPS63245410A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002047322A (ja) * | 1999-09-08 | 2002-02-12 | Nippon Soda Co Ltd | A−b−a型アルケニルフェノール系共重合体 |
JP4627360B2 (ja) * | 1999-09-08 | 2011-02-09 | 日本曹達株式会社 | A−b−a型アルケニルフェノール系共重合体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0585563B2 (ja) | 1993-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1211270B1 (en) | Star block copolymer | |
JP3431284B2 (ja) | ブロック共重合体の製造方法 | |
EP0095086B1 (en) | Polymerizable, optically active polymer and process for preparing polymerizable polymer | |
US8816009B1 (en) | Method of making functionalized elastomer | |
US3488332A (en) | Process for preparation of living polymer | |
EP0279463B1 (en) | Graft polymerization of substituted styrene polymers having pendant vinylidene groups | |
US7550537B2 (en) | Organo-dilithium compound and process for preparing the same | |
JPS63245410A (ja) | 多官能重合体の製造方法 | |
JPH0258505A (ja) | アニオン重合方法 | |
US4731424A (en) | Process for producing polymer compound containing alkenylsilyl group | |
JPH01308412A (ja) | 多官能重合体の製造方法 | |
JP4926369B2 (ja) | メタクリル酸(アルキル置換)アジリジニルアルキルエステルのリビングポリマー及びその製造方法 | |
JPH0641221A (ja) | ポリ(3−メチル−4−ヒドロキシスチレン)及びその製造方法 | |
Aliev et al. | Asymmetric Reactions During the Polymerization of (RS)-Propylene Sulfide by n-Butyllithium-Lithium (-)-Menthoxide | |
JPS63218704A (ja) | テレキリツフポリマ−の製造方法 | |
JP7479748B2 (ja) | アニオン重合開始剤、アニオン重合開始剤組成物およびその製造方法 | |
JP2000230023A (ja) | ポリ(p−t−ブトキシスチレン)の製造法 | |
US4906705A (en) | Method of lithiating a tertiary chloro alkyl compound and the product provided by said method | |
JPH0453807A (ja) | p―アルケニルフェノール系重合体の製造方法 | |
JP3067115B2 (ja) | 末端官能基含有ポリマーの製造方法 | |
JPH1180220A (ja) | 共役ジエン系重合体の製造方法 | |
US3910868A (en) | Increasing inherent viscosity of copolymers | |
JPH0632818A (ja) | ポリ(p−ヒドロキシスチレン)の製造方法 | |
JPS6018683B2 (ja) | α− メチルスチレン系樹脂の製造法 | |
JPH0329243B2 (ja) |