JPS63244342A - 記録媒体作製方法 - Google Patents
記録媒体作製方法Info
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- JPS63244342A JPS63244342A JP7692887A JP7692887A JPS63244342A JP S63244342 A JPS63244342 A JP S63244342A JP 7692887 A JP7692887 A JP 7692887A JP 7692887 A JP7692887 A JP 7692887A JP S63244342 A JPS63244342 A JP S63244342A
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- magnetic
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、大容量の可逆メモリとして利用される磁性の
記録媒体の作製方法に関するものである0従来の技術 高度情報化社会を迎え、大容量かつ高密度の情報記録媒
体の研究開発或は商品化が加速されている記録媒体とし
て、基材の表面に磁性膜を形成したものが用いられるが
、ここで用いられる磁性薄膜は、蒸着法、スパッタ法な
どにより形成される。
記録媒体の作製方法に関するものである0従来の技術 高度情報化社会を迎え、大容量かつ高密度の情報記録媒
体の研究開発或は商品化が加速されている記録媒体とし
て、基材の表面に磁性膜を形成したものが用いられるが
、ここで用いられる磁性薄膜は、蒸着法、スパッタ法な
どにより形成される。
蒸着法、スパッタ法などは、加熱或はイオン衝撃などに
より、材料を原子、分子或は原子団の形にまで分解して
飛び出させて、基材上に堆積させることにより記録薄膜
を形成する。
より、材料を原子、分子或は原子団の形にまで分解して
飛び出させて、基材上に堆積させることにより記録薄膜
を形成する。
第2図に、直流2極スパツタ装置の概略図を示す。陰極
降下領域9に入り込んだムrイオンが、ターゲットをた
たき、ターゲット物質がとび出して基板上に堆積し、薄
膜が形成されるのである。
降下領域9に入り込んだムrイオンが、ターゲットをた
たき、ターゲット物質がとび出して基板上に堆積し、薄
膜が形成されるのである。
ところで、磁性記録媒体では媒体中の部分的な磁化の向
きに情報信号を担わせる。磁化は原子・分子の電子軌道
やスピンに由来する磁気モーメントの総和であり、ラン
ダムに飛来して来る粒子を受けて成膜する方法では、成
膜直後の磁化の向きは揃っていない。
きに情報信号を担わせる。磁化は原子・分子の電子軌道
やスピンに由来する磁気モーメントの総和であり、ラン
ダムに飛来して来る粒子を受けて成膜する方法では、成
膜直後の磁化の向きは揃っていない。
例えば、光磁気記録媒体では、磁化が基板に垂直に配向
する垂直記録媒体を用いるが、記録する前に磁化の向き
を揃えておくことが必要である。
する垂直記録媒体を用いるが、記録する前に磁化の向き
を揃えておくことが必要である。
磁化の向きを揃えるには、磁性薄膜を保磁力以上の磁界
中に置くことが必要であるが、例えば希土類−遷移金属
を主成分とする垂直磁気記録媒体では、特性上、保磁力
は非常に大きいことが必要である。保磁力が大きくなる
に伴ない、磁化の向きを揃える(初期磁化)ために大き
な磁界が必要となる。このため従来は、大きな磁界発生
装置を用いて発生させた磁界中を通していた。
中に置くことが必要であるが、例えば希土類−遷移金属
を主成分とする垂直磁気記録媒体では、特性上、保磁力
は非常に大きいことが必要である。保磁力が大きくなる
に伴ない、磁化の向きを揃える(初期磁化)ために大き
な磁界が必要となる。このため従来は、大きな磁界発生
装置を用いて発生させた磁界中を通していた。
又、磁性薄膜の保磁力は温度上昇と共に小さくなる性質
がある。この性質を利用して、集光したレーザービーム
によって媒体の温度上昇を行なうと同時に外部より磁界
を与えて、初期イニシャライズを行なっていた。
がある。この性質を利用して、集光したレーザービーム
によって媒体の温度上昇を行なうと同時に外部より磁界
を与えて、初期イニシャライズを行なっていた。
発明が解決しようとする問題点
従来の方法、例えば磁界発生装置を用いる方法では、必
要な磁界が大きくなる程、大きな電磁石が必要となシ、
装置の大型化が必然的であシ、又それに伴なう発熱など
の問題からも限界があった。
要な磁界が大きくなる程、大きな電磁石が必要となシ、
装置の大型化が必然的であシ、又それに伴なう発熱など
の問題からも限界があった。
集光されたレーザービームを用いる場合、例えばディス
ク形状をとる基板上に成膜された記録媒体の初期磁化を
行なう場合、ディスクを高速回転させながらレーザービ
ームを照射して部分的な磁性薄膜の昇温を行なうと同時
に外部よりその温度での保磁力以上の磁界を与えること
によシ、ランダムな磁化の向きを一方向にそろえるので
あるが、ディスクには、信号を記録するだめの案内溝(
トラック)が直径130mmのディスクには約2400
0本あり、ディスクを1分間に1000回転で回転させ
るとしても一面を初期磁化するには、約13.5分必要
である。又、この方法では溝のランド部、或はグループ
部のどちらか一方しか初期磁化出来ず、両方をするには
2倍の時間が必要となる。
ク形状をとる基板上に成膜された記録媒体の初期磁化を
行なう場合、ディスクを高速回転させながらレーザービ
ームを照射して部分的な磁性薄膜の昇温を行なうと同時
に外部よりその温度での保磁力以上の磁界を与えること
によシ、ランダムな磁化の向きを一方向にそろえるので
あるが、ディスクには、信号を記録するだめの案内溝(
トラック)が直径130mmのディスクには約2400
0本あり、ディスクを1分間に1000回転で回転させ
るとしても一面を初期磁化するには、約13.5分必要
である。又、この方法では溝のランド部、或はグループ
部のどちらか一方しか初期磁化出来ず、両方をするには
2倍の時間が必要となる。
このように、従来用いられている方法には、設備的な問
題、或は必要時間がかかりすぎるなど、問題があった。
題、或は必要時間がかかりすぎるなど、問題があった。
本発明はかかる点に鑑みてなされたもので、初期磁化の
だめの特別の設備や時間をかけることなく、いかなる大
きな保磁力を有する磁性膜であっても、成膜と同時に初
期磁化が出来る作製方法を提供するものである。
だめの特別の設備や時間をかけることなく、いかなる大
きな保磁力を有する磁性膜であっても、成膜と同時に初
期磁化が出来る作製方法を提供するものである。
問題点を解決するための手段
本発明は、このような問題を解決するために、基材上に
磁性膜を作製する際に、基材の成膜側の表面に磁界を印
加するようにしたものである。
磁性膜を作製する際に、基材の成膜側の表面に磁界を印
加するようにしたものである。
作用
本発明は、上記した方法によシ、初期磁化のための特別
の設置や時間をかけることなく、いかなる大きな保磁力
を有する磁性膜であっても成膜と同時に、非常に簡単に
、初期磁化が出来るものである。
の設置や時間をかけることなく、いかなる大きな保磁力
を有する磁性膜であっても成膜と同時に、非常に簡単に
、初期磁化が出来るものである。
実施例
第1図に、本発明方法を実施する一実施例であるスパッ
タ装置の基材ホルダ一部の概略図を示す。
タ装置の基材ホルダ一部の概略図を示す。
基材ホルダー4上の基材3が装着される面にシート状の
永久磁石12が配しである。この永久磁石12により、
基材3の膜を形成する側に発生する磁束密度は約aoo
oe以上又は5ガウス以上となっている。垂直磁気異方
性を有する磁性膜を成膜するとき基材3に到達した粒子
の磁気モーメントが、この永久磁石12の磁力線によっ
て方向付けられ、薄膜としての磁化が同一の向きを向く
ために、成膜と同時に垂直磁化膜の初期磁化がなされて
いるのである。
永久磁石12が配しである。この永久磁石12により、
基材3の膜を形成する側に発生する磁束密度は約aoo
oe以上又は5ガウス以上となっている。垂直磁気異方
性を有する磁性膜を成膜するとき基材3に到達した粒子
の磁気モーメントが、この永久磁石12の磁力線によっ
て方向付けられ、薄膜としての磁化が同一の向きを向く
ために、成膜と同時に垂直磁化膜の初期磁化がなされて
いるのである。
なお、本実施例では、永久磁石によって基板の成膜面に
磁界を発生させたが、コイルによって発生させても良い
。基材がテープ状の物で、連続的に成膜される場合は、
コイルによる磁界発生は、有力な方法となる。
磁界を発生させたが、コイルによって発生させても良い
。基材がテープ状の物で、連続的に成膜される場合は、
コイルによる磁界発生は、有力な方法となる。
発明の効果
以上のように、本発明によれば、磁性膜の形成期間中に
基材の成膜する側に磁界を印加する手段を付与するよう
にしたことによシ、初期磁化のための特別な設備や時間
をかけることなく、いかなる大きな保磁力を有する磁性
膜であっても、成膜と同時に初期磁化することが可能と
なり、生産性も良好にできて、その効果は非常に大きい
ものである。
基材の成膜する側に磁界を印加する手段を付与するよう
にしたことによシ、初期磁化のための特別な設備や時間
をかけることなく、いかなる大きな保磁力を有する磁性
膜であっても、成膜と同時に初期磁化することが可能と
なり、生産性も良好にできて、その効果は非常に大きい
ものである。
第1図は、本発明の記録媒体作製方法を実施する一実施
例であるスパッタ装置の基材ホルダ一部の概略側面図、
第2図はその直流2極スパツタ装置の概略ブロック図で
ある。 1・・・・・・基板ホルダー、2・・・・・・永久磁石
、3・・・・・・基板、9・・・・・・陰極降下領域。 2−一一永文個16 3−Xべ
例であるスパッタ装置の基材ホルダ一部の概略側面図、
第2図はその直流2極スパツタ装置の概略ブロック図で
ある。 1・・・・・・基板ホルダー、2・・・・・・永久磁石
、3・・・・・・基板、9・・・・・・陰極降下領域。 2−一一永文個16 3−Xべ
Claims (6)
- (1)基材の表面に磁性膜を形成して記録媒体を作製す
るに際し、前記磁性膜を形成する期間中に前記基材の少
なくとも前記磁性膜を形成する表面の一部に磁界を印加
するようにしたことを特徴とする記録媒体作製方法。 - (2)磁性膜が垂直磁気異方性を有するものであること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の記録媒体作製
方法。 - (3)基材の表面に印加する磁界として、前記基材の表
面に垂直な成分を有するものを用いることを特徴とする
特許請求の範囲第1項または第2項記載の記録媒体作製
方法。 - (4)基材の磁性膜を形成しない側の表面に近接して永
久磁石を設けたことを特徴とする特許請求の範囲第1項
から第3項のいずれかに記載の記録媒体作製方法。 - (5)基材の表面に印加する磁界をコイルにより発生さ
せることを特徴とする特許請求の範囲第1項から第3項
のいずれかに記載の記録媒体作製方法。 - (6)基材の表面に印加する磁界は、前記基材の表面で
の磁束密度の大きさが5ガウス以上のものであることを
特徴とする特許請求の範囲第1項から第5項のいずれか
に記載の記録媒体作製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7692887A JPS63244342A (ja) | 1987-03-30 | 1987-03-30 | 記録媒体作製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7692887A JPS63244342A (ja) | 1987-03-30 | 1987-03-30 | 記録媒体作製方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63244342A true JPS63244342A (ja) | 1988-10-11 |
Family
ID=13619383
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7692887A Pending JPS63244342A (ja) | 1987-03-30 | 1987-03-30 | 記録媒体作製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63244342A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1991006951A1 (fr) * | 1989-11-01 | 1991-05-16 | Nikon Corporation | Pretraitement d'un support d'enregistrement opto-magnetique reinscriptible et support d'enregistrement opto-magnetique reinscriptible pretraite |
-
1987
- 1987-03-30 JP JP7692887A patent/JPS63244342A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1991006951A1 (fr) * | 1989-11-01 | 1991-05-16 | Nikon Corporation | Pretraitement d'un support d'enregistrement opto-magnetique reinscriptible et support d'enregistrement opto-magnetique reinscriptible pretraite |
US5258973A (en) * | 1989-11-01 | 1993-11-02 | Nikon Corporation | Method of pre-processing over-write capable magnetooptical recording medium, and pre-processed over-write capable magnetooptical recording medium |
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