JPS63241198A - Pd−Ni合金めつき液の再生方法 - Google Patents
Pd−Ni合金めつき液の再生方法Info
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- JPS63241198A JPS63241198A JP7425287A JP7425287A JPS63241198A JP S63241198 A JPS63241198 A JP S63241198A JP 7425287 A JP7425287 A JP 7425287A JP 7425287 A JP7425287 A JP 7425287A JP S63241198 A JPS63241198 A JP S63241198A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Pd−Ni−1金めつき液は次のような標準的組成及び
めっき条件下で操業されるめつき赦である:めつき液組
成 Pd 10〜15g7t Ni 10〜15g/ノ アンモニア −8S9 有DI添加剤 光沢剤 109/1 ピット防止剤 1041 めっき条件 DK 1〜5A/dm2 液温 30〜40℃ 陽極 pt閃まRhメッキTI板 光沢剤としては例えばスルフォン酸楓が用いられそして
ピット防止剤としては燐酸エステル等の界面活性剤が用
いられる。Pd−Ni含金めっき液においては、これら
有機添加剤が比較的多湿に含まれること、有機添加剤の
劣化が起)やすくまた劣化が起こるとめつき特性が悪化
すること、高品質のめつき農維持のためには有機添加剤
の管理が非常に重要であシ、そのため有機添加剤の劣化
物の一定水準以上への蓄積を極力排除する必要性がある
こと、高価なPdを含むめっき液のためめっき液の更新
間隔をなるだけ長くする必要性があること等の理由で、
とシわけ、劣化有機不死物の除去によるめっき液の再生
が望まれるのである。
めっき条件下で操業されるめつき赦である:めつき液組
成 Pd 10〜15g7t Ni 10〜15g/ノ アンモニア −8S9 有DI添加剤 光沢剤 109/1 ピット防止剤 1041 めっき条件 DK 1〜5A/dm2 液温 30〜40℃ 陽極 pt閃まRhメッキTI板 光沢剤としては例えばスルフォン酸楓が用いられそして
ピット防止剤としては燐酸エステル等の界面活性剤が用
いられる。Pd−Ni含金めっき液においては、これら
有機添加剤が比較的多湿に含まれること、有機添加剤の
劣化が起)やすくまた劣化が起こるとめつき特性が悪化
すること、高品質のめつき農維持のためには有機添加剤
の管理が非常に重要であシ、そのため有機添加剤の劣化
物の一定水準以上への蓄積を極力排除する必要性がある
こと、高価なPdを含むめっき液のためめっき液の更新
間隔をなるだけ長くする必要性があること等の理由で、
とシわけ、劣化有機不死物の除去によるめっき液の再生
が望まれるのである。
Pd−Ni含金めつき液の劣化状況の診tarは例えば
へルセルテストによシ実施することができる。ハル七ル
テストとは、平行ではなく一定の角度を保つて即ち極間
距離を連続的に変化せしめた陽極と陰極とを偏える小形
めつき僧に被診断めっき液を入れ、電流密度の変化によ
る定着面状態を観察し、正常時のテストと対比してめつ
きit−診断する方法である。Pd−Ni合金めつき液
においては、光沢剤等の添加剤の効果は、電流密度に制
約があ)、低電流部で光沢が悪くなると光沢剤の不足で
ある事を示し、高電流部でコゲ状結晶のめっきとなると
添加剤の分解物による影響が出て来た事を示す。
へルセルテストによシ実施することができる。ハル七ル
テストとは、平行ではなく一定の角度を保つて即ち極間
距離を連続的に変化せしめた陽極と陰極とを偏える小形
めつき僧に被診断めっき液を入れ、電流密度の変化によ
る定着面状態を観察し、正常時のテストと対比してめつ
きit−診断する方法である。Pd−Ni合金めつき液
においては、光沢剤等の添加剤の効果は、電流密度に制
約があ)、低電流部で光沢が悪くなると光沢剤の不足で
ある事を示し、高電流部でコゲ状結晶のめっきとなると
添加剤の分解物による影響が出て来た事を示す。
Pd−Ni含金めつきの操業中、めっき槽からめつき液
の一部は適度な間隔で(連続も1iT)抜出され、本発
明に従う再生を受けた後めっき槽に戻される。
の一部は適度な間隔で(連続も1iT)抜出され、本発
明に従う再生を受けた後めっき槽に戻される。
抜出しめっき液は、液旭測定及び含有金No度分析測定
を受けた後、醸化処理を受ける。酸化処理は、過酸化水
素、過JM素酸・過マンガン醜カリウム等の嗜化薬剤の
添加或いは酸素の吹込みその他任意の方法が採用できる
。要は、有機物質に過度の酸化作用を及ぼしうる酸化剤
であればいずれも使用可能であシ、めっき液全体に分散
せしめられる。
を受けた後、醸化処理を受ける。酸化処理は、過酸化水
素、過JM素酸・過マンガン醜カリウム等の嗜化薬剤の
添加或いは酸素の吹込みその他任意の方法が採用できる
。要は、有機物質に過度の酸化作用を及ぼしうる酸化剤
であればいずれも使用可能であシ、めっき液全体に分散
せしめられる。
めっき液は、めっき操業温度そのままでもよいが、酸化
剤投入後加温してS騰させるのが効果的である。
剤投入後加温してS騰させるのが効果的である。
酢化処理タンクはポリエチレン、ポリプロピレン等のプ
ラスチック製としそして加温ヒータは石英の材質が適例
の一つである。
ラスチック製としそして加温ヒータは石英の材質が適例
の一つである。
こうして酸化処理を施しためっき液は、活性炭処理管受
ける。活性炭処理は、例えば処理タンクに導入しためつ
き液に活性炭を適宜量一般に5〜201/l添加し、2
0〜100分程度攪拌することによって実施される。活
性炭の添加鎗及び攪拌時間は、めっき液の劣化度、活性
炭の梳類や粒度、攪拌効率等に応じて適宜選択される。
ける。活性炭処理は、例えば処理タンクに導入しためつ
き液に活性炭を適宜量一般に5〜201/l添加し、2
0〜100分程度攪拌することによって実施される。活
性炭の添加鎗及び攪拌時間は、めっき液の劣化度、活性
炭の梳類や粒度、攪拌効率等に応じて適宜選択される。
飛#後にピット防止剤の泡が立たなくなれば処理効果が
出たことのめやすとなシ、泡があれば再度活性炭を添加
して再処理すればよい。液温は操業温度そのままでよい
し或いは50℃位まで加温してもよい。
出たことのめやすとなシ、泡があれば再度活性炭を添加
して再処理すればよい。液温は操業温度そのままでよい
し或いは50℃位まで加温してもよい。
この活性炭処理によって、有機添加剤は、劣化したもの
を含めて充分に吸着除去されている。酸化錫f!Mを施
さずに活性炭処iIMを行うと劣化有機添加剤が吸着除
去できなかったため、活性炭処理の意味がなかったわけ
であるが、本発明によって劣化した有機添加剤が除去し
うるので、めつき槽内の劣化有機添加剤水準が一定水準
以下に維持されるO 活性炭処理ずみのめつき液は活性炭を完全に除去するべ
く吸引ろ過、減圧ろ過等のろ過段階金経てめつき偕に戻
される。返送前に、所要盪の光沢剤及びピット防止剤が
添加される。液量及び含有金J4濃度調整も適宜量われ
る。
を含めて充分に吸着除去されている。酸化錫f!Mを施
さずに活性炭処iIMを行うと劣化有機添加剤が吸着除
去できなかったため、活性炭処理の意味がなかったわけ
であるが、本発明によって劣化した有機添加剤が除去し
うるので、めつき槽内の劣化有機添加剤水準が一定水準
以下に維持されるO 活性炭処理ずみのめつき液は活性炭を完全に除去するべ
く吸引ろ過、減圧ろ過等のろ過段階金経てめつき偕に戻
される。返送前に、所要盪の光沢剤及びピット防止剤が
添加される。液量及び含有金J4濃度調整も適宜量われ
る。
酸化処理前に予備的な活性炭処理を行うことも好虐な実
施例の一つである。即ち、抜出しめつき赦が、活性炭処
理→ろ過→酸化処理→活性炭処理→ろ過の段階を経由し
て処理される。予備の活性炭処理で劣化していない有機
添加剤がそして酸化後の活性炭処理で劣化有機添加剤が
主として除去される。
施例の一つである。即ち、抜出しめつき赦が、活性炭処
理→ろ過→酸化処理→活性炭処理→ろ過の段階を経由し
て処理される。予備の活性炭処理で劣化していない有機
添加剤がそして酸化後の活性炭処理で劣化有機添加剤が
主として除去される。
上述した活性炭添加混合法の代シに、活性炭堆積床を備
える吸着カラムを使用し、抜出しめっきαを21!J徹
する方法その他の適宜の接触方法を実施しうるととは云
うまでもない。
える吸着カラムを使用し、抜出しめっきαを21!J徹
する方法その他の適宜の接触方法を実施しうるととは云
うまでもない。
こうして−めっき液の再生を行いながらめっき操業を実
施することによって高品質のめつき皮膜機能(応力、硬
度)が維持される。めっき液の抜出し量に対応する再生
ずみめっき液を用意することによシめつき操業の連続性
は維持され、めっき液の抜出し再生処理it多くするこ
とによシ、めつき槽内の劣化有機添加剤量は充分に低く
抑制される。
施することによって高品質のめつき皮膜機能(応力、硬
度)が維持される。めっき液の抜出し量に対応する再生
ずみめっき液を用意することによシめつき操業の連続性
は維持され、めっき液の抜出し再生処理it多くするこ
とによシ、めつき槽内の劣化有機添加剤量は充分に低く
抑制される。
発明の効果
Pd−Ni含金めつき操業を長期間効果的にしかも経済
的に継続し、生成めっき膜の品質維持に膏与する。
的に継続し、生成めっき膜の品質維持に膏与する。
実施例及び比較例
次の組成を有するPd−Ni含金めつき液を用意した。
Pd 101/I
Ni 101//1
アンモニア −4a5
スルフォン酸塩 109/1
燐酸エステル界面活性剤 104ノ
このめつき液を使用抜法の再生処理を実施した。
活性炭処理 活性炭129/lを添加し、液温↓
m化処理 過酸化水素水25CC/ノを少し活性炭
処理 上記と同様にした。
処理 上記と同様にした。
↓
ろ 過 2枚のろ紙で減圧ろ過した。
↓
成分w!4!ft 有機添加剤所定音添加した。
第1図は、劣化した再生剤めっき液のハルセルテストの
結果を示す。DK2A/dm2 以上でコゲめつきそ
してDKα3〜2A/dm2において光沢不良が発生し
ていることがわかる。
結果を示す。DK2A/dm2 以上でコゲめつきそ
してDKα3〜2A/dm2において光沢不良が発生し
ていることがわかる。
第2図は、上記り生処理後のめつき液のハルセルテスト
結果である。DK5A/dm2以上でニアyが発生して
いるが一5A/dm2以下では全面光沢良好で充分なる
再生効果が得られたことがわかる。
結果である。DK5A/dm2以上でニアyが発生して
いるが一5A/dm2以下では全面光沢良好で充分なる
再生効果が得られたことがわかる。
比較目的のために、酸化魁理を行わずに10Vノの活性
炭を使用しての活性炭処理のみによる回復の状態を第3
図に示す。若干コゲの部分が減少し、かつ光沢もかなシ
低電流密度で(DKα7 A/d m 2以下)回復し
ているが、これではめつき液として操業に支障を起こし
回復不充分である。再度活性炭処理を行っても光沢は回
復しない。
炭を使用しての活性炭処理のみによる回復の状態を第3
図に示す。若干コゲの部分が減少し、かつ光沢もかなシ
低電流密度で(DKα7 A/d m 2以下)回復し
ているが、これではめつき液として操業に支障を起こし
回復不充分である。再度活性炭処理を行っても光沢は回
復しない。
第4図は光沢剤の添加による回ul程度 を示す。
劣化液に光沢剤51/l k添加し、ハルセルテストを
行った。DK2A/dm2以上のコゲめつきは変化がな
かつ九が、DKt3A/din2以下において光沢が得
られるようになった。やはシ、回復効果は不十分であシ
、添加j1を増大しても過剰になると膜品質の急化が生
ずる。
行った。DK2A/dm2以上のコゲめつきは変化がな
かつ九が、DKt3A/din2以下において光沢が得
られるようになった。やはシ、回復効果は不十分であシ
、添加j1を増大しても過剰になると膜品質の急化が生
ずる。
第1図は劣化しためつき液のハルセルテスト結果を示し
、 第2図は本発明に従い再生したものの同結果を示し、 第3図は活性炭処理のみによる同結果を示しそして 第4図は光沢剤の添加による回復状態の同結果を示す。 同 風 間 弘 志 1″′)
・、 j ′・、−一/ 第1図 第2図 一覧’、%’l)L (DK A/drn2)第3図 第4図 t、1忠7% (DK a/dm2) 手続補正書 昭和62年6月26日 特許庁艮官 小 川 邦 夫 殿 事件の表示 昭和62年待 願事 74252 号発
明の名称 Pd−Ni合金めつき液の再止方法補正を
する者 事件との関係 特許出願人名 称
日本に条株式伝社
、 第2図は本発明に従い再生したものの同結果を示し、 第3図は活性炭処理のみによる同結果を示しそして 第4図は光沢剤の添加による回復状態の同結果を示す。 同 風 間 弘 志 1″′)
・、 j ′・、−一/ 第1図 第2図 一覧’、%’l)L (DK A/drn2)第3図 第4図 t、1忠7% (DK a/dm2) 手続補正書 昭和62年6月26日 特許庁艮官 小 川 邦 夫 殿 事件の表示 昭和62年待 願事 74252 号発
明の名称 Pd−Ni合金めつき液の再止方法補正を
する者 事件との関係 特許出願人名 称
日本に条株式伝社
Claims (1)
- 1)Pd−Ni合金めっき液中に蓄積した劣化有機添加
剤を活性炭により吸着除去する活性炭処理に際して、予
じめ該Pd−Ni合金めっき液を酸化処理しておくこと
を特徴とするPd−Ni合金めっき液の再生方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7425287A JPH0653960B2 (ja) | 1987-03-30 | 1987-03-30 | Pd−Ni合金めつき液の再生方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7425287A JPH0653960B2 (ja) | 1987-03-30 | 1987-03-30 | Pd−Ni合金めつき液の再生方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63241198A true JPS63241198A (ja) | 1988-10-06 |
JPH0653960B2 JPH0653960B2 (ja) | 1994-07-20 |
Family
ID=13541780
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7425287A Expired - Lifetime JPH0653960B2 (ja) | 1987-03-30 | 1987-03-30 | Pd−Ni合金めつき液の再生方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0653960B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2239259A (en) * | 1989-12-22 | 1991-06-26 | Omi Int Corp | Purification of nickel electro plating baths |
KR100698430B1 (ko) | 2003-06-13 | 2007-03-22 | 산요덴키가부시키가이샤 | 도금액의 리사이클 방법 |
-
1987
- 1987-03-30 JP JP7425287A patent/JPH0653960B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2239259A (en) * | 1989-12-22 | 1991-06-26 | Omi Int Corp | Purification of nickel electro plating baths |
GB2239259B (en) * | 1989-12-22 | 1994-04-13 | Omi Int Corp | Process for purification of nickel plating baths |
KR100698430B1 (ko) | 2003-06-13 | 2007-03-22 | 산요덴키가부시키가이샤 | 도금액의 리사이클 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0653960B2 (ja) | 1994-07-20 |
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