JPS63239787A - Electric circuit member - Google Patents

Electric circuit member

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JPS63239787A
JPS63239787A JP62065208A JP6520887A JPS63239787A JP S63239787 A JPS63239787 A JP S63239787A JP 62065208 A JP62065208 A JP 62065208A JP 6520887 A JP6520887 A JP 6520887A JP S63239787 A JPS63239787 A JP S63239787A
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electrical
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connection
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吉沢 徹夫
秀之 西田
昌明 今泉
市田 安照
小西 正暉
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、電気回路部材に関する。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] TECHNICAL FIELD The present invention relates to electrical circuit members.

[従来技術] 従来、電気回路部品同士を電気的に接続して構成される
電気回路部材に関する技術としては以下に述べる技術が
知られている。
[Prior Art] Conventionally, the following techniques are known as techniques related to electric circuit members configured by electrically connecting electric circuit components.

■ワイヤポンディング方法、 第13図及び第14図はワイヤポンディング方法によっ
て接続され、封止された半導体装置の代表例を示してお
り、以下、第13図及び第14図に基づきワイヤポンデ
ィング方法を説明する。
■Wire bonding method Figures 13 and 14 show typical examples of semiconductor devices connected and sealed by the wire bonding method. Explain how.

この方法は、Agペースト3等を用いて半導体素子4を
素子搭載部2に固定支持し1次いで、半導体素子4の接
続部5と、リードフレーム1の所望の接続部6とを金等
の極細金属線7を用いて電気的に接続する方法である。
In this method, the semiconductor element 4 is fixedly supported on the element mounting part 2 using Ag paste 3 or the like, and then the connection part 5 of the semiconductor element 4 and the desired connection part 6 of the lead frame 1 are connected with ultrafine material such as gold. This is a method of electrically connecting using metal wires 7.

なお、接続後は、トランスファーモールド法等の方法で
樹脂8を用いて半導体素子4とリードフレーム1を封1
トし、その後、樹脂封止部分から外に伸びたリードフレ
ーム1の不要部分を切断し。
After the connection, the semiconductor element 4 and the lead frame 1 are sealed 1 using a resin 8 using a method such as a transfer molding method.
Then, the unnecessary portion of the lead frame 1 extending outside the resin-sealed portion is cut.

所望の形に曲げ半導体装置9を作る。A semiconductor device 9 is made by bending it into a desired shape.

■TAB (丁ape Automated Bond
ing)法(例えば、特開昭59−139636号公報
)第15図はTAB法により接続され封止された半導体
装置の代表例を示す。
■TAB (Tape Automated Bond
FIG. 15 shows a typical example of a semiconductor device connected and sealed by the TAB method.

この方法は、テープキャリア方式による自動ポンディン
グ方法である。すなわち、第15図に基づいて説明する
と、キャリアフィルム基板16と半導体素子4とを位置
決めした後、キャリアフィルム基板16のインナーリー
ド部17と半導体素子4の接続部5とを熱圧着すること
により接続する方法である。接続後は、樹脂20乃至樹
脂21で封止し半導体装置9とする。
This method is an automatic bonding method using a tape carrier method. That is, to explain based on FIG. 15, after positioning the carrier film substrate 16 and the semiconductor element 4, the inner lead part 17 of the carrier film substrate 16 and the connecting part 5 of the semiconductor element 4 are connected by thermocompression bonding. This is the way to do it. After the connection, the semiconductor device 9 is sealed with resins 20 and 21.

■CCB (Controlled Co11apse
 Bonding )法(例えば、特公昭42−209
6号、特開昭60−57944号公報) 第16図はCCB法によって接続され封止された半導体
装置の代表例を示す、この方法をS16図に基づき説明
する。なお、本方法はフリップチップポンディング法と
も言われている。
■CCB (Controlled Co11apse
Bonding) law (for example, Special Publication Act 1977
(No. 6, Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-57944) FIG. 16 shows a typical example of a semiconductor device connected and sealed by the CCB method. This method will be explained based on FIG. S16. Note that this method is also called a flip chip bonding method.

半導体素子4の接続部5に予め半田バンプ31を設け、
半田バンプ31が設けられた半導体素子4を1回路基板
32上に位置決めして搭載する。
Solder bumps 31 are provided in advance on the connection portion 5 of the semiconductor element 4,
A semiconductor element 4 provided with solder bumps 31 is positioned and mounted on one circuit board 32.

その後、半田を加熱溶解することにより回路基板32と
に半導体素子4とを接続させ、ブラックス洗浄後封正し
て半導体装置9を作る。
Thereafter, the semiconductor element 4 is connected to the circuit board 32 by heating and melting the solder, and the semiconductor device 9 is manufactured by cleaning the solder and sealing it.

(Φ第17及び第18図に示す方法 すなわち、$1の半導体素子4の接続部5以外の部分に
ポリイミド等よりなる絶縁膜71を形成せしめ、接続部
5にはAu等よりなる金属材70を設け1次いで、金属
材70及び絶縁膜71の露出面73.72をモらにする
。一方、第2の半導体素子4′の接続部5“以外の部分
にポリイミド等よりなる絶縁膜71′を形成せしめ、接
続部5゛にはAu等よりなる金属材70°を設け1次い
で、金属材70’及び絶縁膜71゛の露出面73’ 、
72’を平らにする。
(ΦThe method shown in FIG. 17 and FIG. Then, the exposed surfaces 73 and 72 of the metal material 70 and the insulating film 71 are made moly. On the other hand, an insulating film 71' made of polyimide or the like is formed on the part other than the connection part 5'' of the second semiconductor element 4'. A metal material 70' made of Au or the like is provided at the connecting portion 5', and then exposed surfaces 73' of the metal material 70' and the insulating film 71',
Flatten 72'.

しかる後、第18図に示すように第1の半導体M子4と
第2の¥=導体素子4′とを位置決めし、位置決め後、
熱圧着することにより第1の半導体素子4の接続部5と
第2の半導体素子4′の接続部5”を金属材70 、7
0 ’を介して接続する。
Thereafter, as shown in FIG. 18, the first semiconductor M element 4 and the second conductor element 4' are positioned, and after positioning,
By thermocompression bonding, the connecting portion 5 of the first semiconductor element 4 and the connecting portion 5'' of the second semiconductor element 4' are bonded to the metal materials 70, 7.
Connect via 0'.

■第19図に示す方法 すなわち、第1の回路基材75と第2の回路基材75′
の間に、絶縁物質77中に導電粒子79を分散させた異
方性導電膜78を介在させ、第1の回路基材75と第2
の回路基材75′を位置決めしたのち、加圧もしくは、
加圧・加熱し、第1の回路基材75の接続部76と第2
の回路基材75°の接続部76′を接続する方法である
■The method shown in FIG. 19, that is, the first circuit substrate 75 and the second circuit substrate 75'
An anisotropic conductive film 78 in which conductive particles 79 are dispersed in an insulating material 77 is interposed between the first circuit base material 75 and the second circuit base material 75.
After positioning the circuit board 75', pressurize or
By applying pressure and heating, the connection portion 76 of the first circuit substrate 75 and the second
This is a method of connecting the connecting portion 76' of the circuit board at 75°.

■第20図に示す方法 すなわち:第1の回路基材75と第2の回路基材75°
の間に、絶縁物質81中に一定方向にFe、Cu等の金
属線82を配したエラスチックコネクター83を介在さ
せ、第1の回路基材75と第2の回路基材75“を位置
決めしたのち、加圧し、第1の回路基材75の接続部7
6と第2の回路基材75゛の接続部76″を接続する方
法である。
■The method shown in Fig. 20, namely: first circuit substrate 75 and second circuit substrate 75°
After positioning the first circuit base material 75 and the second circuit base material 75'' by interposing an elastic connector 83 in which a metal wire 82 of Fe, Cu, etc. is arranged in a certain direction in an insulating material 81, , and pressurize the connecting portion 7 of the first circuit board 75.
6 and the connecting portion 76'' of the second circuit board 75''.

[発明が解決しようとする問題点] ところで−E記した従来bポンディング法には次のよう
な問題点がある。
[Problems to be Solved by the Invention] The conventional b-pounding method described in -E has the following problems.

■ワイヤポンディング法 ■半導体素子4の接続部5を半導体素子4の内部にくる
ように設計すると、極細金属線7は、その&!径が極め
て小さいために、半導体素子4の外周縁部10あるいは
リードフレーム1の素子搭載部2の外周縁部11に接触
し易くなる。極細金属線7がこれら外周縁部10乃至1
1に接触すると短絡する。さらに、極細金属m7の長さ
を長くせざるを得す、その長さを長くすると、トランス
ファーモールド成形時に極細金属線7が変形しやすくな
る。
■Wire bonding method■ If the connection part 5 of the semiconductor element 4 is designed to be inside the semiconductor element 4, the ultra-fine metal wire 7 will be connected to the &! Since the diameter is extremely small, it easily comes into contact with the outer peripheral edge 10 of the semiconductor element 4 or the outer peripheral edge 11 of the element mounting section 2 of the lead frame 1. The ultra-fine metal wire 7 covers these outer peripheral edges 10 to 1.
If it touches 1, it will short circuit. Furthermore, the length of the ultra-fine metal wire m7 has to be increased, and if the length is increased, the ultra-fine metal wire 7 becomes easily deformed during transfer molding.

従って、半導体素子4の接続部5は半導体素子4上の周
辺に配置する必要が生じ、回路設計上の制限を受けざる
を得なくなる。
Therefore, the connecting portion 5 of the semiconductor element 4 needs to be placed around the semiconductor element 4, and is inevitably subject to circuit design limitations.

■ワイヤポンディング法においては、隣接する極細金属
線7同士の接触等を避けるためには半導体素子4上の接
続部5のピッチ寸法(隣接する接続部の中心間の距fa
) としである程度の間隔をとらざるを得ない、従って
、半導体素子4の大きさが決まれは6必然的に接続部5
の最大数が決まる。
■In the wire bonding method, in order to avoid contact between adjacent ultrafine metal wires 7, the pitch dimension of the connecting parts 5 on the semiconductor element 4 (the distance fa between the centers of adjacent connecting parts
) Therefore, the size of the semiconductor element 4 is determined by the connection part 5.
The maximum number of is determined.

しかるに、ワイヤポンディング法では、このピッチ寸法
が通常0.2mm程度と大きいので。
However, in the wire bonding method, this pitch dimension is usually as large as about 0.2 mm.

接続部5の数は少なくせざるを得なくなる。The number of connection parts 5 has to be reduced.

■半導体素子4上の接続部5から測った極細金属線7の
高さhは通常0.2〜0.4mmであるが、0.2mm
以下にし薄型化することは比較的困難であるので薄型化
を図れない。
■The height h of the ultrafine metal wire 7 measured from the connection part 5 on the semiconductor element 4 is usually 0.2 to 0.4 mm, but it is 0.2 mm.
Since it is relatively difficult to make the device thinner than below, the device cannot be made thinner.

■ワイヤポンディング作業に時間がかかる。特に接続点
数が多くなるとポンディング時間が長くなり生産効率が
悪くなる。
■Wire bonding takes time. In particular, when the number of connection points increases, the bonding time increases and production efficiency deteriorates.

■何らかの要因でトランスファーモールド条件範囲を越
すと、極細金属線7が変形したり最悪の場合には切断し
たりする。
- If the transfer molding condition range is exceeded for some reason, the ultrafine metal wire 7 may be deformed or, in the worst case, may be cut.

また半導体素子4上の接続部5においては、極細金属線
7と合金化されないAiが露出しているためAIR食が
生じ易くなり、信頼性の低下が生じる。
Furthermore, in the connection portion 5 on the semiconductor element 4, since Ai that is not alloyed with the ultrafine metal wire 7 is exposed, AIR corrosion is likely to occur, resulting in a decrease in reliability.

■TAB法 ■半導体素子4の接続部5を半導体素子4の内側にくる
ように設計すると、キャリアフィルム基板16のインナ
ーリード部17の長さ文が長くなるため、インナーリー
ド部17が変形し易くなりインナーリード部を所望の接
続部5に接続できなかったり、インナーリード部17が
半導体素子4の接続部5以外の部分に接触したりする。
■TAB method■ If the connecting part 5 of the semiconductor element 4 is designed to be inside the semiconductor element 4, the length of the inner lead part 17 of the carrier film substrate 16 becomes longer, so that the inner lead part 17 is easily deformed. Otherwise, the inner lead portion may not be able to be connected to the desired connection portion 5, or the inner lead portion 17 may come into contact with a portion of the semiconductor element 4 other than the connection portion 5.

これを避けるためには半導体素子4の接続部5を半導体
素子4上の周辺に持ってくる必要が生じ、設計上の制限
を受ける。
In order to avoid this, it is necessary to bring the connecting portion 5 of the semiconductor element 4 to the periphery above the semiconductor element 4, which is subject to design limitations.

■TAB法においても、半導体素子4上の接続部のピッ
チ寸法は0.09〜0.15mm程度とる必要があり、
従ってワイヤポンディング法の問題点■で述べたと同様
に、接続部数を増加させることはむすかしくなる。
■Even in the TAB method, the pitch dimension of the connection parts on the semiconductor element 4 must be approximately 0.09 to 0.15 mm.
Therefore, similar to the problem (2) of the wire bonding method, it is difficult to increase the number of connections.

■キャリアフィルム基板16のインナーリード部17が
半導体素子4の接続部5以外の部分に接触しないように
させるため所望のインナーリード部17の接続形状が要
求されコスト高となる。
(2) In order to prevent the inner lead portions 17 of the carrier film substrate 16 from coming into contact with portions other than the connection portions 5 of the semiconductor element 4, a desired connection shape of the inner lead portions 17 is required, which increases costs.

■半導体素子4の接続部5とインナーリード部17とを
接続するためには、半導体素子4の接続部5またはイン
ナーリード部17の接続部に金バンプをつけなければな
らずコスト高になる。
(2) In order to connect the connecting portion 5 of the semiconductor element 4 and the inner lead portion 17, gold bumps must be attached to the connecting portion 5 of the semiconductor element 4 or the connecting portion of the inner lead portion 17, which increases the cost.

■CCB法 ■半導体素子4の接続部5に半田バンブ31を形成させ
なければならないためコスト高になる。
(2) CCB method (2) Solder bumps 31 must be formed at the connection portions 5 of the semiconductor element 4, resulting in high costs.

■バンプの半田量が多いと隣接する半田バンプとブリッ
ジ(隣接する半田バンブ同士が接触する現象)が生じ、
逆に少いと半導体素子4の接続部5と基板32の接続部
33が接続しなくなり電気的導通がとれなくなる。すな
わち、接続の信頼性が低くなる。さらに、半田量、接続
の半田形状が接続の信頼性に影響する(ろう接技術研究
会技術資料、No 、017− ’84、ろう接技術研
究会発行)という問題がある。
■If the amount of solder on a bump is large, bridges (a phenomenon in which adjacent solder bumps come into contact with each other) will occur between adjacent solder bumps.
On the other hand, if the amount is too small, the connecting portion 5 of the semiconductor element 4 and the connecting portion 33 of the substrate 32 will not be connected and electrical continuity will not be established. In other words, the reliability of the connection becomes low. Furthermore, there is a problem in that the amount of solder and the solder shape of the connection affect the reliability of the connection (Technical Data of the Brazing Technology Research Group, No. 017-'84, published by the Brazing Technology Research Group).

このように、半田バンプの量の多少が接続の信頼性に影
響するため半田バンプ31のeのコントロールが必要と
されている。
As described above, since the amount of solder bumps affects the reliability of the connection, it is necessary to control e of the solder bumps 31.

■半田バンプ31が半導体素子4の内側に存在すると接
続が良好に行な騙れたか否かの目視検査がむずかしくな
る。
(2) If the solder bumps 31 are present inside the semiconductor element 4, it becomes difficult to visually inspect whether or not the connection has been made well.

■半導体素子の放熱特性が悪い(参考資料;Elect
ronic  Packaging  丁echnol
ogy  1987. 1(Vol。
■Poor heat dissipation characteristics of semiconductor elements (reference material; Elect
ronic Packaging
ogy 1987. 1 (Vol.

3、 No、1) P、68〜71  NIKKEI 
M[RODEVICES。
3, No. 1) P, 68-71 NIKKEI
M [RODEVICES.

1988.5月、 P、97〜108)ため、放熱特性
を良好たらしめるための多大な工夫が必要とされる。
(May 1988, P. 97-108), therefore, great efforts are required to improve heat dissipation characteristics.

■第17図及び第18図に示す技術 ■絶縁膜71の露出面72と金属材70の露出面73、
さらに絶縁膜71’の露出面72°と金属材70′の露
出面73°を平らにしなければならず、そのための工数
が増し、コスト高になる。
■Technique shown in FIGS. 17 and 18■Exposed surface 72 of insulating film 71 and exposed surface 73 of metal material 70,
Furthermore, the exposed surface 72° of the insulating film 71' and the exposed surface 73° of the metal material 70' must be made flat, which increases the number of steps and costs.

■絶縁It!71の露出面72と金属材70の露出面7
3あるいは絶縁11171°の露出面72゛と金属材7
0°の露出面73”に凹凸があると金属材70と金属材
70′とが接続しなくなり、信頼性が低下する。
■Insulation It! Exposed surface 72 of 71 and exposed surface 7 of metal material 70
3 or insulation 11171° exposed surface 72゛ and metal material 7
If there are irregularities on the exposed surface 73'' at 0°, the metal material 70 and the metal material 70' will not be connected, resulting in a decrease in reliability.

■第19図に示す技術 ■位置決め後に、jli続部76と接続部76゛とを加
圧して接続する際に、圧力が一定にはかかりにくいため
、接続状態にバラツキが生じ、その結果、接続部におけ
る接触抵抗値のバラツキが大きくなる。そのため、接続
の信頼性が乏しくなる。
■Technology shown in Figure 19■ After positioning, when applying pressure to connect the connecting part 76 and the connecting part 76', it is difficult to apply constant pressure, resulting in variations in the connection state, and as a result, the connection The variation in contact resistance value between parts becomes large. Therefore, the reliability of the connection becomes poor.

また、多量の電流を流すと1発熱等の現象が生じるので
、多量の電流を流したい場合には不向きである。
In addition, when a large amount of current is passed, phenomena such as heat generation occur, so it is not suitable when a large amount of current is desired to be passed.

■圧力が一定にかけられたとしても、異方性導電膜78
の導電粒子79の配列により抵抗値のバラツキが大きく
なる。そのため、接続の信頼性に乏しくなる。また、大
電流容量が要求される接続には不向きである。
■Even if a constant pressure is applied, the anisotropic conductive film 78
Due to the arrangement of the conductive particles 79, variations in the resistance value become large. Therefore, the reliability of the connection becomes poor. Furthermore, it is not suitable for connections requiring large current capacity.

■隣接する接続部のピッチ(接続部に隣接する接続部中
心間の距#)を狭くすると隣接する接続部の間の抵抗値
が小さくなることから高密度な接続には不向きである。
(2) If the pitch between adjacent connecting parts (distance # between the centers of adjacent connecting parts) is narrowed, the resistance value between adjacent connecting parts will decrease, which is not suitable for high-density connections.

〈ゐ回路基材75 、75 ’の接続部76.76゜の
出っ張りihlのバラツキにより抵抗値が変化するため
、h1バラツキ量を正確に押さえることが必要である。
<ゐSince the resistance value changes due to the variation in the protrusion ihl of the connection portion 76.76° of the circuit substrates 75 and 75', it is necessary to accurately control the amount of variation in h1.

■さらに異方導電膜を、半導体素子と回路基材の接続、
また、第1の半導体素子と第2の半導体素子との接続に
使用した場合、上記■〜■の欠点の他、半導体素子の接
続部にバンブを設けなければならなくなり、コスト高に
なるという欠点が生じる。
■Additionally, anisotropic conductive films can be used to connect semiconductor elements and circuit substrates,
Furthermore, when used to connect the first semiconductor element and the second semiconductor element, in addition to the disadvantages described above (■ to ■), a bump must be provided at the connection part of the semiconductor element, resulting in high cost. occurs.

・珍第20図に示す技術 1)加圧が必要であり、加圧治具が必要となる。・Technology shown in Figure 20 1) Pressure is required, and a pressure jig is required.

■エラスチックコネクタ83の金属線82と第1の回路
基材75の接続部76また。第2の回路基材75°の接
続部76′との接触抵抗は加圧力及び表面状態により変
化するため接続の信頼性は乏しい。
(2) The connection portion 76 between the metal wire 82 of the elastic connector 83 and the first circuit substrate 75. The contact resistance between the second circuit substrate 75° and the connecting portion 76' changes depending on the pressing force and the surface condition, so the reliability of the connection is poor.

■エラスチックコネクタ83の金属&I;I82は剛体
であるため、加圧力が大であるとエラスチックコネクタ
83、第1の回路基材75.第2の回路基材75′の表
面が破損する可能性が大きい、また、加圧力が小である
と、接続の信頼性が乏しくなる。
■Since the metal &I;I82 of the elastic connector 83 is a rigid body, if the pressing force is large, the elastic connector 83 and the first circuit base material 75. If the surface of the second circuit board 75' is likely to be damaged, and if the pressing force is small, the reliability of the connection will be poor.

■さらに、回路基材75 、75 ’の接続部76.7
6′の出っ張り量h2.またエラスチックコネクタ83
の金属線82の出っ張り量h3とそのバラツキが抵抗値
変化及び破損に影響を及ぼすので、バラツキを少なくす
る工夫が必要とされる。
■Furthermore, the connection portions 76.7 of the circuit substrates 75, 75'
6' protrusion amount h2. Also elastic connector 83
Since the protrusion amount h3 of the metal wire 82 and its dispersion affect the change in resistance value and damage, it is necessary to take measures to reduce the dispersion.

■さらに、エラスチックコネクターを半導体素子と回路
基材の接続、また、第1の半導体素子と第2の半導体素
子との接続に使用した場合、■〜■と同様な欠点を生ず
る。
(2) Further, when an elastic connector is used to connect a semiconductor element and a circuit substrate, or to connect a first semiconductor element and a second semiconductor element, the same drawbacks as in (1) to (2) occur.

本発明は、以上のような問題点をことごとく解決し、高
密度で高信頼性でしかも、低コストの新電算回路部材を
提案するものであり、従来の接続方式を置き代え得るこ
とはもちろん、高密度多点接続が得られ、熱等諸特性を
向上させ得るものである。
The present invention solves all of the above-mentioned problems and proposes a new high-density, high-reliability, and low-cost computer circuit component, which can of course replace the conventional connection method. High-density multi-point connections can be obtained and various properties such as heat can be improved.

(以下余白) [問題点を解決するための手段1 本発明は、接続部を有する第1の電気回路部品と、接続
部を有する第2の電気回路部品とを、両電気回路部品を
電気的に接続するための電気的接続部材を両者の間に介
在させて1両電気回路部品の接続部において接続して構
成される電気回路部材において、 該電気的接続部材は、金属または合金よりなる?IhI
数の金属部材を、該金属部材の一端を第1の電気部品側
に露出させて、一方、該金属部材の他端を該第2の電気
回路部品側に露出させて、それぞれの金属部材同士が電
気的に絶縁されるように、絶縁体中に埋設して構成され
ており、かつ、該絶縁体には金属もしくは合金よりなる
粉体又は繊維の一方又は両方が分散しており、 第1の電気回路部品の接続部と第1の電気回路部品側に
露出した金属部材の一端とを合金化することにより接続
し、かつ、第2の電気回路部品の接続部と第2の電気回
路部品側に露出した金属部材の一端とを合金化すること
により接続したことを特徴とする電気回路部材にその要
旨を有する。
(Left below) [Means for Solving Problems 1] The present invention provides a first electrical circuit component having a connecting portion and a second electrical circuit component having a connecting portion, by electrically connecting both electrical circuit components. In an electric circuit member configured by connecting two electric circuit parts at a connecting part with an electric connecting member interposed between the two, the electric connecting member is made of metal or an alloy. IhI
The metal members are connected to each other by exposing one end of the metal member to the first electric component side and exposing the other end of the metal member to the second electric circuit component side. is embedded in an insulator so as to be electrically insulated, and one or both of powder and fibers made of metal or alloy are dispersed in the insulator, and the first The connecting portion of the electric circuit component and one end of the metal member exposed on the side of the first electric circuit component are connected by alloying, and the connecting portion of the second electric circuit component and the second electric circuit component are connected by alloying. The gist lies in an electric circuit member characterized in that it is connected to one end of a metal member exposed on the side by alloying it.

本発明における電気回路部品としては1例えば、半導体
素子、樹脂回路基板、セラミック基板、金属基板等の回
路基板(以下単に回路基板ということがある)、リード
フレーム等があげられる。すなわち、@lの電気回路部
品としてこれらの中のいずれかの部品を用い、第2の電
気回路部品としてこれらの中のいずれかの部品を用いれ
ばよい。
Examples of electric circuit components in the present invention include semiconductor elements, circuit boards such as resin circuit boards, ceramic boards, and metal boards (hereinafter sometimes simply referred to as circuit boards), lead frames, and the like. That is, any one of these components may be used as the electric circuit component of @l, and any one of these components may be used as the second electrical circuit component.

電気回路部品として接続部を有する部品が本発明の対象
となる。接続部の数は問わないが、接続部の数が多けれ
ば多いほど本発明の効果が顕著となる。
The object of the present invention is a component having a connection part as an electric circuit component. Although the number of connection parts does not matter, the greater the number of connection parts, the more remarkable the effects of the present invention will be.

また、接続部の存在位置も問わないが、電気回路部品の
内部に存在するほど本発明の効果が顕著となる。
Further, although the location of the connection portion does not matter, the effect of the present invention becomes more pronounced as the connection portion is located inside the electric circuit component.

本発明では第1の電気回路部品と第2の電気回路部品と
を電気的接続部材を用いて接続する。
In the present invention, a first electrical circuit component and a second electrical circuit component are connected using an electrical connection member.

本発明に係る電気的接続部材は、絶縁体中に複数の金属
部材を埋設して構成されている。金属部材同士はそれぞ
れ絶縁体により絶縁されており。
The electrical connection member according to the present invention is constructed by embedding a plurality of metal members in an insulator. Each metal member is insulated from each other by an insulator.

また、金属部材の一端は第1の電気回路部品側に露出し
ており、他の一端は第2の電気回路部品側に露出してい
る。さらに、該絶縁体には金属もしくは合金よりなる粉
体又はm維の一方又は両方が分散している。
Moreover, one end of the metal member is exposed to the first electric circuit component side, and the other end is exposed to the second electric circuit component side. Furthermore, one or both of powder and m-fibers made of metal or alloy are dispersed in the insulator.

ここで、金属部材の材質としては、金が好ましいが、全
以外の任意の金属あるいは合金を使用することもできる
0例えば、Cu、A文、Sn。
Here, as the material of the metal member, gold is preferable, but any metal or alloy other than gold may also be used.For example, Cu, A metal, and Sn.

Pb−5n等の金属あるいは合金があげられる。Examples include metals or alloys such as Pb-5n.

さらに、金属部材の断面は、円形、四角形その他任意の
形状とすることができる。
Furthermore, the cross section of the metal member can be circular, square, or any other arbitrary shape.

また、金属部材の太さは特に限定されない。電気回路部
品の接続部のピッチを考慮して、例えば20μmΦ以上
あるいは20gmφ以下にしてもよい。
Further, the thickness of the metal member is not particularly limited. In consideration of the pitch of the connecting portions of the electric circuit components, the pitch may be set to, for example, 20 μm or more or 20 gmφ or less.

なお、金属部材の露出部は絶縁体と同一面としてもよい
し、また、絶縁体の面から突出させてもよい、この突出
は片面のみでもよいし両面でもよい、さらに突出させた
場合はバンブ状にしてもよい。
Note that the exposed portion of the metal member may be on the same surface as the insulator, or it may be made to protrude from the surface of the insulator. This protrusion may be on one side or on both sides. It may be made into a shape.

また、金属部材の間隔は、電気回路部品の接続部同士の
間隔と同一間隔としてもよいし、それより狭い間隔とし
てもよい、狭い間隔とした場合には電気回路部品と電気
的接続部材との位置決めを要することなく、電気回路部
品と電気的接続部材とを接続することが可詣となる。
Furthermore, the spacing between the metal members may be the same as the spacing between the connecting parts of the electrical circuit components, or may be narrower than that, and when the spacing is narrower, the spacing between the electrical circuit components and the electrical connecting members may be the same. It becomes possible to connect the electrical circuit component and the electrical connection member without requiring positioning.

また、金属部材は絶縁体中に垂直に配する必要はなく、
第1の電気回路部品側から第2の電気回路部品側に向か
って斜行していてもよい。
Also, metal members do not need to be placed vertically in the insulator;
It may run obliquely from the first electric circuit component side toward the second electric circuit component side.

さらに電気的接続部材は、1層あるいは2層以上の多層
からなるものでもよい。
Furthermore, the electrical connection member may be composed of one layer or multiple layers of two or more layers.

本発明においては、絶縁体には金属もしくは合金よりな
る粉体又はwt雑の一方又は両方が分散してしている。
In the present invention, one or both of powder and wt miscellaneous materials made of metal or alloy are dispersed in the insulator.

ここにおいて、粉体及びmtaは、金属もしくは合金か
らなる。金属としては1例えば、Ag。
Here, the powder and mta are made of metal or alloy. Examples of metals include Ag.

Cu 、 A u 、 A l 、 B e 、 Ca
 、 M g 、 M o 。
Cu, Au, Al, Be, Ca
, M g , M o .

Ni、Si、W等があげられ、また合金としては上記金
属系の合金があげられる。これらの金属もしくは合金よ
りなる粉体又はm雑の1種又は2種以上を使用すればよ
い。また、粉体又はwL維の一方のみを使用してもよい
し、両方を使用してもよい。
Examples include Ni, Si, W, etc., and examples of alloys include alloys of the above metals. One or more of powders or miscellaneous materials made of these metals or alloys may be used. Further, either the powder or the wL fibers may be used, or both may be used.

なお、粉体及び!a雄には、メッキ等の表面処理がなさ
れていてもよいし、なされていなくともよい。
In addition, powder and! The male a may or may not be subjected to surface treatment such as plating.

分散せしめる粉体及び繊維の大きさ、形状、また、絶縁
体中における分散位置、数量は、粉体又は繊維のために
、絶縁体中に埋設されている金属部材同士が接触・短絡
したり、切断したりしない範囲内ならば任意である。た
だ、粉体及び繊維の大きさとしては、隣接する金属部材
間の距離よりも小さいことが好ましい、すなわち、金属
部材同士が、粉体及びta維を介してでも接触しない状
態が好ましい、また、電気回路部品間の所望の電気的接
続がなされるのであれば、粉体、m維は絶縁体の外部に
露出してもよいし、露出しなくともよい、また、粉体、
繊維同士は接触してもよいし、接触していなくともよい
The size and shape of the powder and fibers to be dispersed, as well as the dispersed position and quantity within the insulator, should be determined in such a way that metal members embedded in the insulator may come into contact or short circuit due to the powder or fibers. It is optional as long as it does not cut. However, the size of the powder and fibers is preferably smaller than the distance between adjacent metal members, that is, it is preferable that the metal members do not come into contact with each other even through the powder and TA fibers. Powder and fibers may or may not be exposed to the outside of the insulator, as long as the desired electrical connection between electrical circuit components is achieved.
The fibers may or may not be in contact with each other.

電気的接続部材の絶縁体は絶縁性物質ならば特に限定さ
れない0例えば絶縁性の樹脂を用いればよい、さらに、
樹脂を用いる場合には樹脂の種類も問わない、熱硬化性
樹脂、熱可塑性樹脂のいずれでもよい0例えば、ポリイ
ミド樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、ポリエー
テルサルフォン樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリス
チレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂、ポリジフェニールエーテル樹脂、ポリベン
ジルイミダゾール樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メ
ラミン樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミ
ドイミド樹脂、ポリプロブレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹
脂、ポリスチレン樹脂その他の樹脂を使用することがで
きる。
The insulator of the electrical connection member is not particularly limited as long as it is an insulating material; for example, an insulating resin may be used;
When using a resin, the type of resin does not matter; it may be either a thermosetting resin or a thermoplastic resin. For example, polyimide resin, polyphenylene sulfide resin, polyether sulfone resin, polyetherimide resin, polystyrene resin, silicone. Resin, fluororesin, polycarbonate resin, polydiphenyl ether resin, polybenzylimidazole resin, phenol resin, urea resin, melamine resin, alkyd resin, epoxy resin, polyamideimide resin, polyproblene resin, polyvinyl chloride resin, polystyrene resin, etc. Resin can be used.

絶縁体の材料として上記樹脂を使用する場合、粉体又は
繊維を絶縁体に分散させるには、樹脂中に粉体又は繊維
を添加し、樹脂を撹拌すればよい。もちろん、かかる方
法による。ことなく、他の任意の方法で絶縁体中に粉体
又は繊維を分散せしめてもよい。
When using the above resin as a material for the insulator, in order to disperse the powder or fibers in the insulator, the powder or fibers may be added to the resin and the resin may be stirred. Of course, by such a method. The powder or fibers may be dispersed in the insulation by any other method.

なお、これらの樹Jluの中から、熱伝導性のよい樹脂
を使用すれば、半導体素子が熱を持ってもその熱を樹脂
を介して放熱することができるのでより好ましい、さら
に、樹脂として、回路基板と同じかあるいは同程度の熱
膨張率を有するものを選択すれば、熱膨張・熱収縮に基
づく、装この信頼性の低下を一層防止することが回部と
なる。
It should be noted that it is more preferable to use a resin with good thermal conductivity among these trees, since even if the semiconductor element has heat, the heat can be radiated through the resin.Furthermore, as a resin, If a material having the same or similar coefficient of thermal expansion as the circuit board is selected, it will be possible to further prevent the reliability of the device from decreasing due to thermal expansion/shrinkage.

本発明ではさらに、第1の電気回路部品の接続部と第1
の電気回路部品側に露出した電気接続部材の金属部材の
一端とを合金化することにより接続し、かつ、第2の電
気回路部品の接続部と第2の;[気回路部品側に露出し
た電気接続部材の金属部材の一端とを合金化することに
より接続する。
In the present invention, the connection portion of the first electric circuit component and the first
One end of the metal member of the electrical connection member exposed on the electrical circuit component side is connected by alloying, and the connecting portion of the second electrical circuit component and the second; Connection is made by alloying one end of the metal member of the electrical connection member.

すなわち、本発明では、第1の電気回路部品と第2の電
気回路部品との両方ともに合金化する。
That is, in the present invention, both the first electric circuit component and the second electric circuit component are alloyed.

なお1合金化方法としては、例えば、それぞれ対応する
接続部を接触させた後、適宜の温度において加熱すれば
よい、加熱により、接続部において原子の拡散等が起こ
り、接続部表面に固溶体あるいは全居間化合物よりなる
層が形成され、接続部同士が合金化される。なお、電気
的接続部材の金属部材にAuを使用し、電気回路部品の
接続部にA!;Lを使用した場合には、200〜350
℃の加熱温度が好ましい。
One alloying method is, for example, by bringing the corresponding connection parts into contact and then heating them at an appropriate temperature.Heating causes diffusion of atoms in the connection parts, and forms a solid solution or a total alloy on the surface of the connection parts. A layer of living compound is formed and the connections are alloyed together. In addition, Au is used for the metal member of the electrical connection member, and A! is used for the connection part of the electric circuit component. ; When L is used, 200 to 350
A heating temperature of °C is preferred.

[作用] 本発明では、上述した電気的接続部材を使用しているの
で、電気回路部品の接続部を内部に配置することも可能
となり、接続部の数を増加させることができ、ひいては
高密度化が可能となる。
[Function] Since the present invention uses the above-mentioned electrical connection member, it is also possible to arrange the connection parts of the electric circuit components inside, and the number of connection parts can be increased. It becomes possible to

また、電気的接続部材は薄くすることが可能であり、こ
の面からも薄型化が可ス砒となる。
Further, the electrical connection member can be made thinner, and from this point of view as well, making it thinner makes it easier to maintain the thickness.

さらに、電気的接続部材に使用する金属部材の量は少な
いため、たとえ、高価な金を金属部材として使用したと
してもコストが安いものとなる。
Furthermore, since the amount of metal members used for the electrical connection member is small, the cost is low even if expensive gold is used as the metal member.

本発明では、電気回路部品の両方が、電気接続部材を介
して合金化されており電気回路部品同士が強固(強度的
に強く)かつ確実に接続されるので、機械的に強く、不
良率の極めて低い電気回路部材を得ることができる。
In the present invention, both of the electrical circuit components are alloyed through the electrical connection member, and the electrical circuit components are firmly (strong in terms of strength) and reliably connected to each other. An extremely low cost electric circuit member can be obtained.

また、電気回路部品の両方を、電気的接続部材を介して
合金化するので、電気回路部材の作成工程中及び作成後
において、治具等を使用して電気回路部品を保持する必
要がなく、電気回路部材の作成及び作成後の管理が容易
である。
Furthermore, since both of the electrical circuit components are alloyed via the electrical connection member, there is no need to use a jig or the like to hold the electrical circuit components during and after the production process of the electrical circuit component. It is easy to create electric circuit members and to manage them after they are created.

電気回路部品の両方が、電気的接続部材を介して合金化
されているので、電気回路部品相互の接触抵抗が一方の
みを合金化した場合に比べてより小さくなる。
Since both of the electrical circuit components are alloyed via the electrical connection member, the contact resistance between the electrical circuit components is smaller than when only one of the electrical circuit components is alloyed.

本発明においては、電気的接続部材の絶縁体中に粉体又
は繊維が分散しているので、電気的接続部材の熱伝導性
が良好であり、仮に、:51の電気回路部品として発熱
量の大きな電気回路部品を使用し、第2の電気回路部品
として熱影響の少ない電気回路部品を選択したとすると
、第1の電気口1 路部品から発熱した熱は、電気的接
続部材を介して第2の電気回路部品へと伝導され、この
熱は第2の電気回路部品から放熱される。従って、放熱
特性の良好な電気回路部材を得ることが可能となる。
In the present invention, since the powder or fibers are dispersed in the insulator of the electrical connection member, the electrical connection member has good thermal conductivity. If a large electrical circuit component is used and an electrical circuit component with little heat influence is selected as the second electrical circuit component, the heat generated from the first electrical circuit component will be transferred to the second electrical circuit component via the electrical connection member. The heat is conducted to the second electrical circuit component, and the heat is radiated from the second electrical circuit component. Therefore, it is possible to obtain an electric circuit member with good heat dissipation characteristics.

[実施例] (第1実施例) 本発明の第1実施例を第1図及び第2図に基づいて説明
する。
[Example] (First Example) A first example of the present invention will be described based on FIGS. 1 and 2.

本実施例では、接続部102を有する第1の電気回路部
品である回路基板101と、接続部105を有する第2
の電気回路部品である回路基板104とを、両回路基板
101,104を電気的に接続するための電気的接続部
材125を両者の間に介在させて、両回路基板101.
104の接続部102,105において接続して構成さ
れる電気回路部材において、 該電気的接続部材125は、金属又は合金よりなる複数
の金属部材107を、それぞれの金属部材107同士を
電気的に絶縁し、かつ、該金属部材107の一端を第1
の回路基板101側辷露出させて、一方、該金属部材1
07の他端を該第2の回路部基板104側に露出させて
、絶縁体111中に埋設されて構成されており、かつ、
絶縁体111には複数の金属もしくは合金よりなる粉体
又は繊!!(図示せず)の一方又は両方が分散しており
、 第1の回路基板101の接続部102と第1の回路基板
101側に露出した金属部材107の一端とを合金化す
ることにより接続し、かつ、第2の回路基板104の接
続部105と第2の回路基板104側に露出した金属部
材107の一端とを合金化することにより接続しである
In this embodiment, a circuit board 101, which is a first electric circuit component having a connection part 102, and a second circuit board 101 having a connection part 105 are used.
The circuit board 104, which is an electric circuit component of the circuit board 101., is connected to the circuit board 101.
In the electrical circuit member configured by connecting at the connecting portions 102 and 105 of 104, the electrical connecting member 125 electrically insulates the plurality of metal members 107 made of metal or alloy from each other. and one end of the metal member 107 is connected to the first
The side of the circuit board 101 is exposed, while the metal member 1
07 is embedded in the insulator 111 with the other end exposed to the second circuit board 104 side, and
The insulator 111 is made of powder or fiber made of multiple metals or alloys! ! (not shown) are dispersed, and are connected by alloying the connecting portion 102 of the first circuit board 101 and one end of the metal member 107 exposed on the first circuit board 101 side. , and the connection is made by alloying the connecting portion 105 of the second circuit board 104 and one end of the metal member 107 exposed on the second circuit board 104 side.

以下に本実施例をより詳細に説明する。This example will be explained in more detail below.

まず、電気的接続部材125の一製造例を説明しつつ電
気的!続部材125を説明する。
First, an example of manufacturing the electrical connection member 125 will be explained. The connecting member 125 will be explained.

第2図に一製造例を示す。FIG. 2 shows one manufacturing example.

まず、第2図(a)に示すように、20pmφの金等の
金属あるいは合金よりなる金属線121を、ピッチ40
gmとして棒122に巻き付け。
First, as shown in FIG. 2(a), metal wires 121 made of a metal such as gold or an alloy with a diameter of 20 pm are wired at a pitch of 40.
Wrap it around rod 122 as gm.

巻き付は後、ポリイミド等の樹脂123中に上記金JN
A線121を埋め込む、埋め込み前に樹脂中にA gよ
りなる粉体を配合し、撹拌して樹脂中に粉体を分散させ
る。埋め込み後上記樹脂123を硬化させる。硬化した
樹脂123は絶縁体となる。
After wrapping, the above gold JN is wrapped in resin 123 such as polyimide.
Before embedding the A wire 121, powder made of Ag is blended into the resin and stirred to disperse the powder into the resin. After embedding, the resin 123 is cured. The cured resin 123 becomes an insulator.

その後、点線124の位置でスライス切断し、電気的接
続部材125を作成する。このようにして作成された電
気的接続部材125を第2図(b)、(C)に示す。
Thereafter, it is sliced at the dotted line 124 to create an electrical connection member 125. The electrical connection member 125 created in this way is shown in FIGS. 2(b) and 2(C).

なお1本例では、樹脂を撹拌して粉体な分散せしめたが
、他の方法により粉体な分散せしめてもよい。
In this example, the resin was dispersed in a powder form by stirring, but the resin may be dispersed in a powder form by other methods.

このように作成された電気的接続部材125において、
金属線i21が金属部材107を構成し、樹脂123が
絶縁体111を構成する。
In the electrical connection member 125 created in this way,
The metal wire i21 constitutes the metal member 107, and the resin 123 constitutes the insulator 111.

この電気的接続部材125においては金属部材となる金
属線121同士は樹脂123により電気的に絶縁されて
いる。また、金属線121の一端は回路基板101@に
露出し、他端は回路基板IO4側に露出している。この
露出している部分はそれぞれ回路基板lot 、104
との接続部108.109となる。
In this electrical connection member 125, metal wires 121 serving as metal members are electrically insulated from each other by resin 123. Further, one end of the metal wire 121 is exposed to the circuit board 101@, and the other end is exposed to the circuit board IO4 side. Each of these exposed parts is a circuit board lot, 104
It becomes the connection part 108, 109 with.

次に、第1の回路基板101、電気的接続部材125、
第2の回路基板104を用意する。本例で使用する回路
基板101,104は、第1図に示すように、その内部
に多数の接続部102゜105を有している。
Next, the first circuit board 101, the electrical connection member 125,
A second circuit board 104 is prepared. As shown in FIG. 1, the circuit boards 101 and 104 used in this example have a large number of connection parts 102 and 105 therein.

a オ、 :frJl (7) 回路基板101(7)
接続部102は、第2の回路基板104の接続部105
及び電気的接続部材125の接続部108,109に対
応する位置に金属が露出している。
a o, :frJl (7) Circuit board 101 (7)
The connection portion 102 is connected to the connection portion 105 of the second circuit board 104.
And metal is exposed at positions corresponding to the connection parts 108 and 109 of the electrical connection member 125.

第1の回路基板101の接続部102と、電気的接続部
材125の接続部108とを、又は、第2の回路基板1
04の接続部105と電気的接続部材125の接続部1
09が対応するように位置決めを行ない、位こ決め後1
両方を合金化して接続する。
Connecting portion 102 of first circuit board 101 and connecting portion 108 of electrical connecting member 125, or
Connection part 1 between the connection part 105 of 04 and the electrical connection member 125
Perform positioning so that 09 corresponds, and after positioning 1
Alloy and connect both.

ここで、上記第1の回路基板101、電気的接続部材1
25、第2の回路基板104を接続するには次の3方式
が存在するが、そのいずれの方式によってもよい。
Here, the first circuit board 101, the electrical connection member 1
25. There are the following three methods for connecting the second circuit board 104, and any of these methods may be used.

■第1の回路基板101、電気的接続部材125、第2
の回路基板104を位置決めした後、第1の回路基板1
01の接続部102と電気的接続部材125の接続部1
08とを、及び第2の回路基板104の接続部105と
゛心気的接続部材125の接続部109とを同時に合金
化して接■第1の回路基板101と電気的接続部材12
5とを位置決めし、第1の回路基板101の接続部10
2と電気的接続部材125の接続部108とを合金化し
て接続した後、第2の回路基板104を位置決めし、電
気接続部材125の接続部109と第2の回路基板10
4の接続部105を合金化して接続する方法。
■First circuit board 101, electrical connection member 125, second
After positioning the first circuit board 104, the first circuit board 1
Connection part 1 between the connection part 102 of 01 and the electrical connection member 125
08, and the connecting portion 105 of the second circuit board 104 and the connecting portion 109 of the inspiratory connecting member 125 are simultaneously alloyed to connect the first circuit board 101 and the electrical connecting member 12.
5 and the connecting portion 10 of the first circuit board 101.
2 and the connecting portion 108 of the electrical connecting member 125 are alloyed and connected, the second circuit board 104 is positioned, and the connecting portion 109 of the electrical connecting member 125 and the second circuit board 10 are connected.
A method of alloying and connecting the connecting portion 105 of No. 4.

■第2の回路基板104と電気的接続部材125とを位
置決めし、第2の回路基板104の接続部105と電気
的接続部材125の接続部109とを合金化して接続し
た後、第1の回路基板101を位置決めし、電気的接続
部材125の接続部108と第1の回路基板101の接
続部102を合金化して接続する方法。
■ After positioning the second circuit board 104 and the electrical connection member 125 and alloying and connecting the connection part 105 of the second circuit board 104 and the connection part 109 of the electrical connection member 125, A method of positioning a circuit board 101 and alloying and connecting the connection part 108 of the electrical connection member 125 and the connection part 102 of the first circuit board 101.

以上のようにして作成した電気回路部材につきその接続
部の接続性を調べたところ高い信頼性をもって接続され
ていた。
When the connectivity of the connection portions of the electrical circuit members produced as described above was examined, the connections were found to be highly reliable.

また、放熱特性も良好であった。Furthermore, the heat dissipation properties were also good.

(:52実施例) 第3図に第2実施例を示す。(:52 examples) FIG. 3 shows a second embodiment.

本例は、接続部52を有する第1の電気回路部品として
回路基板51を、第2の電気回路部品として内部に多数
の接続部5を有する半導体素子4を使用した。
In this example, a circuit board 51 is used as a first electric circuit component having a connection part 52, and a semiconductor element 4 having a large number of connection parts 5 therein is used as a second electric circuit component.

合金化は、半導体素子4の接続部5及び回路基板51の
接続部52と、金属もしくは合金よりなる粉体又はm維
の一方又は両方が分散する電気的接続部材125の接続
部54との間で行なった。
Alloying is performed between the connecting portion 5 of the semiconductor element 4 and the connecting portion 52 of the circuit board 51, and the connecting portion 54 of the electrical connecting member 125 in which one or both of powder or m-fiber made of metal or alloy is dispersed. I did it.

なお、金属もしくは合金よりなる粉体又は繊維の一方又
は両方が分散する電気的接続部材125としては半導体
素子4に対応する寸法のものを使用した。
The electrical connection member 125 in which one or both of powder and fiber made of metal or alloy is dispersed had a size corresponding to the semiconductor element 4.

合金化して接続後は回路基板51の下面にリードフレー
ム55を接続した。
After alloying and connecting, a lead frame 55 was connected to the lower surface of the circuit board 51.

他の点は第1実施例と同様である。Other points are similar to the first embodiment.

本例においても接続部は高い信頼性を持って接続されて
いた。
In this example as well, the connection section was connected with high reliability.

また、放熱特性も良好であった・ (第3実施例) 第4図に第3実施例を示す。In addition, the heat dissipation characteristics were also good. (Third example) FIG. 4 shows a third embodiment.

本例は、第1の電気回路部品が半導体素子4であり、第
2の電気回路部品が回路基板51である例である。
In this example, the first electric circuit component is the semiconductor element 4, and the second electric circuit component is the circuit board 51.

なお、接続後は回路基板51の上面にリードフレーム1
を接続し、封止材63により對止した。
Note that after connection, the lead frame 1 is placed on the top surface of the circuit board 51.
were connected and sealed with a sealing material 63.

他の点は第1実施例と同様である。Other points are similar to the first embodiment.

本例においても接続部は高い信頼性を持って接続されて
いた。
In this example as well, the connection section was connected with high reliability.

また、放熱特性も良好であった。Furthermore, the heat dissipation properties were also good.

(第4実施例) 第5図に第4実施例を示す、一 本例は、:51の電気回路部品が半導体素子4゜であり
、第2の電気回路部品が半導体素子4である例であり、
本例では、電気的接続部材として半導体素子4に対応し
た寸法のものを使用し、リードフレーム1を電気的接続
部材125の第1の半導体素子4′側に露出した金属部
材に接続している。
(Fourth Example) The fourth example is shown in FIG. can be,
In this example, a member having a size corresponding to the semiconductor element 4 is used as the electrical connection member, and the lead frame 1 is connected to the metal member exposed on the first semiconductor element 4' side of the electrical connection member 125. .

他は:fS3実施例と同様である。Others: The same as the fS3 embodiment.

本例においても接続部は高い信頼性を持って接続されて
いた。
In this example as well, the connection section was connected with high reliability.

また、放熱特性も良好であった。Furthermore, the heat dissipation properties were also good.

(第5実施例) 第6図に第5実施例を示す。(Fifth example) FIG. 6 shows a fifth embodiment.

第5実施例は、第1の電気回路部品、第2の電気回路部
品として、接続部以外の部分が絶縁膜103.106で
覆われている回路基板101゜104を使用している例
である。
The fifth embodiment is an example in which circuit boards 101 and 104 whose portions other than the connecting portions are covered with insulating films 103 and 106 are used as the first electric circuit component and the second electric circuit component. .

また、電気的接続部材としては@7図に示すものを使用
した。すなわち、第7図に示す絶縁体lll中に金属も
しくは合金よりなる粉体又は繊維の一方又は両方が分散
する電気的接続部材125は、金属部材107の露出し
ている部分が樹脂絶縁体111の面から突出している。
Further, as the electrical connection member, the one shown in Figure @7 was used. That is, in the electrical connection member 125 shown in FIG. protrudes from the surface.

このような電気的接続部材125の作成は、例えば、次
の方法によればよい。
Such electrical connection member 125 may be created, for example, by the following method.

まず、:tSf実施例で述べた方法により、第2図(b
)、(C)に示す電気的接続部材を用意する0次にこの
電気的接続部材の両面を、金属線121が、ポリイミド
樹脂123から10pm程度突出するまでエツチングす
ればよい。
First, by the method described in the :tSf example,
), (C) are prepared. Next, both surfaces of the electrical connection member may be etched until the metal wire 121 protrudes from the polyimide resin 123 by about 10 pm.

なお、本実施例では金属1121の突出量を10J、L
mとしたが、いかなる量でもよい。
In this example, the amount of protrusion of the metal 1121 is 10J, L.
m, but any amount may be used.

また、金Em121を突出させる方法としてはエツチン
グに限らず、他の化学的な方法又は機械的な方法を使用
してもよい。
Furthermore, the method for protruding the gold Em121 is not limited to etching, and other chemical or mechanical methods may be used.

他の点は第1実施例と同様である。Other points are similar to the first embodiment.

なお、突出部を、電気的接続部材125を金属線121
の位tに凹部を持った型に挟み込み、金属線121の突
起126をつぶすことにより第8図に示すようなバンプ
150を形成してもよい。
Note that the protruding portion and the electrical connection member 125 are connected to the metal wire 121.
A bump 150 as shown in FIG. 8 may be formed by inserting it into a mold having a recess at position t and crushing the protrusion 126 of the metal wire 121.

この場合金属線121は絶縁体ttiから脱落しにくく
なる。
In this case, the metal wire 121 becomes difficult to fall off from the insulator tti.

なお、本例でも、金属線121が金属部材107を構成
し、さらに、樹脂123が絶縁体111を構成する。
Note that in this example as well, the metal wire 121 constitutes the metal member 107, and furthermore, the resin 123 constitutes the insulator 111.

なお、バンプを作成するのには突起を熱で溶融させ、バ
ンプを作成してもよいし、他のいかなる方法でもよい。
Note that the bumps may be created by melting the protrusions with heat, or any other method may be used.

木偶においても接続部は高い信頼性を持って接続されて
いた。
Even in wooden figurines, the joints were connected with high reliability.

また、放8#性も良好であった。In addition, the 8# radiation properties were also good.

(第6実施例) 第9図に第6実施例を示す。(6th example) FIG. 9 shows a sixth embodiment.

本例は、第1の電気回路部品として半導体素子4を使用
し、第2の電気部品としてリードフレームlを使用した
例である。
In this example, a semiconductor element 4 is used as the first electrical circuit component, and a lead frame I is used as the second electrical component.

他の点は第5実施例と同様である。Other points are similar to the fifth embodiment.

本例においても接続部は高い信頼性を持って接続されて
いた。
In this example as well, the connection section was connected with high reliability.

また、放熱特性も良好であった。Furthermore, the heat dissipation properties were also good.

(第7実施例) 第10図に第7実施例を示す。(Seventh Example) FIG. 10 shows a seventh embodiment.

本例においては、電気的接続部材125は、第5実施例
に示した電気的接続部材と異なる。すなわち、本例の電
気的接続部材125においては、金属部材同士のピッチ
が第5実施例で示したものよりも狭くなっている。すな
わち、本例では、第1の回路基板接続部の間隔よりも狭
い間隔に金属部材107同士のピッチを設定しである。
In this example, the electrical connection member 125 is different from the electrical connection member shown in the fifth embodiment. That is, in the electrical connection member 125 of this example, the pitch between the metal members is narrower than that shown in the fifth example. That is, in this example, the pitch between the metal members 107 is set to be narrower than the interval between the first circuit board connecting portions.

つまり、第5実施例では、第1の回路基板101と第2
の回路基板104との接続位置に電気的接続部材125
の接続位置を配設したため、電気的接続部材125の位
置決めが必要であったが、本例では、f51の回路基板
101と第2の回路基板104どの位を決めは必要であ
るが、電気的接続部材125との位置決めは不要となる
。そのため、第1の回路基板101と第2の回路基板1
04の接続寸法(dll、pH)と電気的接続部材の接
続寸法(d12.PI3)を適切な値に選ぶことにより
位置決めなしで接続することも可詣である。
That is, in the fifth embodiment, the first circuit board 101 and the second
An electrical connection member 125 is located at the connection position with the circuit board 104.
In this example, although it is necessary to determine the distance between the f51 circuit board 101 and the second circuit board 104, Positioning with the connecting member 125 becomes unnecessary. Therefore, the first circuit board 101 and the second circuit board 1
It is also possible to connect without positioning by selecting appropriate values for the connection dimensions (dll, pH) of 04 and the connection dimensions (d12.PI3) of the electrical connection member.

本例においても接続部は高い信頼性を持って接続されて
いた。
In this example as well, the connection section was connected with high reliability.

また、放熱特性も良好であった。Furthermore, the heat dissipation properties were also good.

(第8実施例) 第11図に第8実施例に使用する電気的接続部材を示す
(Eighth Example) FIG. 11 shows an electrical connection member used in the eighth example.

第11図(a)は電気的接続部材の斜視図、第11図(
b)は上記電気的接続部材の断面図である。
FIG. 11(a) is a perspective view of the electrical connection member, FIG.
b) is a sectional view of the electrical connection member.

かかる電気的接続部材の作成例を次に述べる。An example of making such an electrical connection member will be described next.

まず、第1実施例に示した製法で、絶縁体中に金属もし
くは合金よりなる粉体又は繊維の一方又は両方が分散す
る電気的接続部材128゜129.130を3枚用意す
る。
First, three electrical connection members 128° 129.130 in which one or both of powder and fiber made of metal or alloy are dispersed in an insulator are prepared using the manufacturing method shown in the first embodiment.

1枚目128の金属線121の位置はm行n列目で、m
a、nbだけ中心から変位している。
The position of the metal wire 121 in the first sheet 128 is m row and n column.
It is displaced from the center by a and nb.

2枚目129の金属線121の位置はm行n列目でma
c、nbcだけ中心から変位している。
The position of the metal wire 121 in the second sheet 129 is ma at row m and column n.
It is displaced from the center by c and nbc.

3枚目130の金属線121の位置はm行n列でmad
、nbdだけ中心から変位している。a。
The position of the metal wire 121 in the third sheet 130 is mad in m rows and n columns.
, nbd from the center. a.

b、c、dの値は上下の金属121は導通するが左右に
は互いに電気的に導通しないような値をとる。3枚の電
気的接続部材を位置決めし、熱圧着等の方法を用い積層
し、電気的接続部材125を作成する。
The values of b, c, and d are such that the upper and lower metals 121 are electrically conductive, but the left and right sides are not electrically conductive with each other. The three electrical connection members are positioned and laminated using a method such as thermocompression bonding to create the electrical connection member 125.

なお、本例においては、電気的接続部材の金属の位置を
m行n列というように規則をもった位置を選んだが、上
下の金属が導通し、左右には互いに電気的に導通しない
ようにすればランダムでもよい。
In addition, in this example, the positions of the metals of the electrical connection members were selected according to rules such as m rows and n columns, but the metals on the top and bottom were conductive, and the left and right sides were not electrically conductive with each other. It can be random if you do.

また、本例では3層積層する場合について述べたが、2
枚以上であれば何枚でもよい、また、熱圧着の方法を用
いて積層すると述べたが、圧着、接着等の方法を用いて
もよい、さらに、本例の電気的接続部材を加工して$7
図に示すように突起を設けてもよいし、第8図に示した
ようにバンプ150を設けてもよい。
In addition, although this example describes the case where three layers are laminated, two
Any number of layers may be used as long as the electrical connection member of this example is laminated using a thermocompression bonding method. $7
A protrusion may be provided as shown in the figure, or a bump 150 may be provided as shown in FIG.

本例においても接続部は高い信頼性を持って接続されて
いた。
In this example as well, the connection section was connected with high reliability.

また、放熱特性も良好であった。Furthermore, the heat dissipation properties were also good.

(第9実施例) 第12図に第9実施例に使用する電気的接続部材を示す
6 第12図(a)は電気的接続部材の製造途中の断面図、
第12図(b)は上記電気的接続部材の焉視図、第12
図(c)は上記の断面図である。
(Ninth embodiment) Fig. 12 shows an electrical connection member used in the ninth embodiment 6 Fig. 12(a) is a cross-sectional view of the electrical connection member during manufacture;
FIG. 12(b) is a close-up view of the electrical connection member,
Figure (c) is the above sectional view.

まず、金Ji1線案内板131.132を用意する。そ
して、金属線案内板131.132にあけられている所
望の穴133,134に金属線121を通し、所望の張
力で張る。その後、金属線案内板131,132間に樹
脂123を流し込み、硬化させる。なお、樹脂123を
流し込む前に、予め樹脂123中に粉体又はm!lを添
加し、粉体又はmaiを樹脂中に分散せしめておく。
First, gold Ji1 line guide plates 131 and 132 are prepared. Then, the metal wire 121 is passed through desired holes 133 and 134 made in the metal wire guide plates 131 and 132, and stretched to a desired tension. Thereafter, resin 123 is poured between the metal wire guide plates 131 and 132 and hardened. Note that before pouring the resin 123, powder or m! is added into the resin 123 in advance. 1 to disperse the powder or mai in the resin.

しかる後、案内板を取りはずし、電気的接続部材125
を作成する。
After that, remove the guide plate and connect the electrical connection member 125.
Create.

また、本例の電気的接続部材を加工して、f57図に示
すように突起を設けてもよいし、第8図に示すようにバ
ンプ150を設けてもよい。
Further, the electrical connection member of this example may be processed to provide a protrusion as shown in Figure f57, or a bump 150 as shown in Figure 8.

本実施例の第1の回路部品及び第2の電気回路部品は、
それぞれ、半導体素子、回路基板、リードフレーム等の
回路基材のうちの1つである。
The first circuit component and the second electric circuit component of this example are:
Each of them is one of circuit base materials such as a semiconductor element, a circuit board, and a lead frame.

本例においても接続部は高い信頼性を持って接続されて
いた。
In this example as well, the connection section was connected with high reliability.

また、放熱特性も良好であった。Furthermore, the heat dissipation properties were also good.

[発明の効果1 本発明は以上のように構成したので次の数々の効果が得
られる。
[Effect 1 of the Invention Since the present invention is configured as described above, the following numerous effects can be obtained.

1、半導体素子と回路基板、リードフレーム等の回路基
材の接続に関し、信頼性の高い接続が得られる。従って
、従来用いられてきたワイヤポンディング方式、TAB
方式、CCB方式を置き変えることが可能となる。
1. Highly reliable connections between semiconductor elements and circuit substrates such as circuit boards and lead frames can be obtained. Therefore, the conventionally used wire bonding method, TAB
It becomes possible to replace the CCB method.

2、本発明によると電気回路部品の接続部をいかなる位
置(特に内部)にも配置することができることからワイ
ヤポンディング方式、TAB方式よりもさらに多点接続
が可能となり、多ピン数接続向きの方式となる。
2. According to the present invention, the connection part of the electric circuit component can be placed in any position (especially inside), so it is possible to connect at more points than the wire bonding method or the TAB method, and it is suitable for connection with a large number of pins. This is the method.

さらに電気的接続部材の隣接金属間に絶縁物質が存在す
ることにより隣接金属間の電気的導通しないことよりC
CB方式よりもさらに多点接続が回部となる。
Furthermore, due to the presence of an insulating material between adjacent metals of the electrical connection member, there is no electrical conduction between the adjacent metals.
Even more multi-point connections than in the CB system are required.

3、電気的接続部材において使用される金属部材の量は
従来に比べ微量であるため、仮に金属部材に金等の高価
な全屈を使用しても従来より安価となる。
3. Since the amount of metal members used in the electrical connection member is small compared to the conventional one, even if an expensive metal material such as gold is used for the metal member, it will be cheaper than the conventional one.

4、高密度の半導体装置等が得られる。4. High-density semiconductor devices and the like can be obtained.

5.7tL気回路部品の両方が、電気接続部材を介して
合金化されており電気回路部品同士が強固(強度的に強
く)かつ確実に接続されるので、機械的に強く、不良率
の極めて低い電気回路部材を得ることができる。
Both of the 5.7tL air circuit components are alloyed via electrical connection members, and the electrical circuit components are firmly (strong in terms of strength) and reliably connected to each other, so they are mechanically strong and have a very low defect rate. A low cost electric circuit member can be obtained.

6、電気回路部品の両方を、電気的接続部材を介して合
金化するので、電気回路部材の作成工程中及び作成後に
おいて、治具等を使用して電気回路部品を保持する必要
がなく、電気回路部材の作成及び作成後の管理が容易で
ある。
6. Since both the electrical circuit components are alloyed via the electrical connection member, there is no need to use a jig or the like to hold the electrical circuit components during and after the production process of the electrical circuit components. It is easy to create electric circuit members and to manage them after they are created.

7、Ti、気回路部品の両方が、TrL気的接続部材を
介して合金化されているので、電気回路部品相互の接触
抵抗が一方のみを合金化した場合に比べてより小さくな
る。
7. Since both the Ti and the electrical circuit components are alloyed via the TrL electrical connection member, the contact resistance between the electrical circuit components is smaller than when only one is alloyed.

8、電気的接続部材の電気的絶縁物質として熱伝導性の
良い材料を選択することにより、電気回路部品からの放
熱性が良好となり、放熱性が良い半導体装置が得られる
8. By selecting a material with good thermal conductivity as the electrical insulating material of the electrical connection member, heat dissipation from the electric circuit components becomes good, and a semiconductor device with good heat dissipation can be obtained.

9、電気的接続部材の絶縁体中には粉体又は繊維が分散
しているので、第1の電気回路部品又は第2の電気回路
部品に熱が発生しても電気的接続部材を介してその熱は
外部に放熱される。従って、放熱性の良好な電気回路部
材を得ることができる。
9. Since powder or fibers are dispersed in the insulator of the electrical connection member, even if heat is generated in the first electrical circuit component or the second electrical circuit component, it will not be absorbed through the electrical connection member. The heat is radiated to the outside. Therefore, an electric circuit member with good heat dissipation properties can be obtained.

もちろん、電気的接続部材の電気的絶縁物質として半導
体素子及び回路基材と同じかあるいは同程度の熱膨張率
を持つ材料を選択することにより信頼性の良い半導体装
置が得られる。
Of course, a highly reliable semiconductor device can be obtained by selecting a material having the same or similar coefficient of thermal expansion as the semiconductor element and the circuit substrate as the electrically insulating material of the electrical connection member.

なお、電気的接続部材の絶縁体中に他の物質を埋めこん
だり、端層することにより、放熱性の良い、低応力でし
かもシールド効率が得られる電気回路部材が得られる。
By embedding another substance in the insulator of the electrical connection member or forming an end layer, it is possible to obtain an electrical circuit member with good heat dissipation, low stress, and shielding efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は第1実施例を示す断面図である。第1図(a)
は接続前の状態を示し、第2図(b)は接続後の状態を
示す、第2図は第1実施例に使用する電気的接続部材の
一製造方法例を説明するための図であり、第2図(a)
は断面図、第2図(b)は斜視図、第2図(c)は断面
図である。 第3図は第2実施例を示し、m3図(a)は斜視図、第
351Cb)は断面図である。第4図は第3実施例を示
す断面図である。:f55図は第4実施例を示す断面図
である。第6図は第5実施例を示し、第6図(a)は接
続前の状態を示す断面図であり第6図(b)は接続後の
状態を示す断面図である。第7図及び第8図も第5実施
例を示し、第7図(a)及び第8図(a)は斜視図であ
り、第7図(b)及び第8図(b)は断面図である。第
9図は第6実施例を示し、第9図(a)は接続前の状f
mを示す斜視図であり、第9図(b)は接続後の状態を
示す断面図である。第1O図は第7実tktMル;士部
面1’g1* Ll  憤1 n M/ a )+−)
積結前の状態を示し、第1O図(b)は接続後の状態を
示す、第11図は第8実施例に係る電気的接続部材を示
し、第11図(L)は斜視図であり、第11図(b)は
断面図である。第12図は第9実施例に係る電気的接続
部材の一製造例を示し、第12図(a)、(c)は断面
図であり、第12図(b)は斜視図である。第13図か
ら第20図までは従来例を示し、第14図を除き断面図
であり、第14図は平面透視図である。 l#−リードフレーム、2・・リードフレームの素子搭
載部、3・・銀ペースト、4.4”・・半導体素子、5
.5′・・半導体素子の接続部、6・・リードフレーム
の接続部、7・・極細金属線、8・・樹脂、9・・半導
体装置、10・・半導体素子の外周縁部、11・・リー
ドフレームの素子搭載部の外周縁部、16・・キャリア
フィルム基板、17轡・キャリアフィルム基板のインナ
ーリード部、2011・樹脂、21°・・樹脂、31・
・半田バンブ、32・・基板、33・・基板の4a続部
、51・・回路基板、52・・回路基板の接続部、54
・・電気的接続部材の接続部、55・・リードフレーム
、63・・封止材、70゜70°・参金属材、71.7
1’  ・・絶縁膜、72.72°・・絶縁膜の露出面
、73 、73 ’・・金属材の露出面、75.75’
  ・・回路基材、76.76’  ・・回路基材の接
続部、77・・異方性導電膜の絶縁物質、78・・異方
性導電膜、79・・導電粒子、81・・エラスチックコ
ネクタの絶縁物質、82・・エラスチックコネクタの金
Em、83・・エラスチックコネクタ、101−一回路
基板、102・・接続部、103・・絶縁膜、106・
・絶縁膜、104・・回路基板、105・・接続部、1
07金屈部材、108・・接続部、109・・接続部、
111・・絶縁体、121・・金属線、122・・棒、
123−争樹脂、124・・点線、125−・電気的接
続部材、−126・・突起、128゜129.130・
・電気的接続部材、13i 。 132Φ・金属線案内板、150・・バンブ。 第1図(aン 第1図(b) 第2図(a) 第2図(b)    第2図忙) 第3図(a) 第3図(b) 第4図 第5図 第6図(a) 第6図(b) 第9図(a) 第10図(a) 第10図(b) 第11図(a) 第11図(b) 第12図(a) 第12図(b) 第12図(c) 第13図 第14図 第15図 第16図 第17図 第18図 第19図 第20図
FIG. 1 is a sectional view showing a first embodiment. Figure 1(a)
2 shows the state before connection, and FIG. 2(b) shows the state after connection. FIG. 2 is a diagram for explaining an example of a manufacturing method of the electrical connection member used in the first embodiment. , Figure 2(a)
2(b) is a perspective view, and FIG. 2(c) is a sectional view. FIG. 3 shows a second embodiment, where FIG. 3(a) is a perspective view and FIG. 351Cb) is a sectional view. FIG. 4 is a sectional view showing the third embodiment. :f55 is a sectional view showing the fourth embodiment. 6 shows a fifth embodiment, FIG. 6(a) is a sectional view showing the state before connection, and FIG. 6(b) is a sectional view showing the state after connection. FIGS. 7 and 8 also show the fifth embodiment, with FIGS. 7(a) and 8(a) being perspective views, and FIGS. 7(b) and 8(b) being sectional views. It is. FIG. 9 shows the sixth embodiment, and FIG. 9(a) shows the state f before connection.
FIG. 9(b) is a sectional view showing the state after connection. Figure 1O is the 7th actual tktM le;
FIG. 10(b) shows the state before connection, FIG. 11 shows the electrical connection member according to the eighth embodiment, and FIG. 11(L) is a perspective view. , FIG. 11(b) is a sectional view. FIG. 12 shows an example of manufacturing an electrical connection member according to the ninth embodiment, FIGS. 12(a) and 12(c) are sectional views, and FIG. 12(b) is a perspective view. 13 to 20 show conventional examples, except for FIG. 14, which is a sectional view, and FIG. 14 is a plan perspective view. l#-Lead frame, 2...Element mounting part of lead frame, 3...Silver paste, 4.4"...Semiconductor element, 5
.. 5'... Connecting part of semiconductor element, 6... Connecting part of lead frame, 7... Ultrafine metal wire, 8... Resin, 9... Semiconductor device, 10... Outer periphery of semiconductor element, 11... Outer periphery of element mounting part of lead frame, 16...Carrier film board, 17 - Inner lead part of carrier film board, 2011.Resin, 21°...Resin, 31.
・Solder bump, 32... Board, 33... 4a connection part of board, 51... Circuit board, 52... Connection part of circuit board, 54
... Connecting portion of electrical connection member, 55 ... Lead frame, 63 ... Sealing material, 70° 70° - Participating metal material, 71.7
1'...Insulating film, 72.72°...Exposed surface of insulating film, 73, 73'...Exposed surface of metal material, 75.75'
・・Circuit base material, 76.76' ・・Connection part of circuit base material, 77・・Insulating material of anisotropic conductive film, 78・・Anisotropic conductive film, 79・・Conductive particles, 81・・・Elastic Insulating material of connector, 82... Gold Em of elastic connector, 83... Elastic connector, 101--circuit board, 102... Connection portion, 103... Insulating film, 106...
・Insulating film, 104...Circuit board, 105...Connection part, 1
07 Kinku member, 108...Connection part, 109...Connection part,
111...Insulator, 121...Metal wire, 122...Bar,
123-Structural resin, 124--Dotted line, 125--Electrical connection member, -126--Protrusion, 128° 129.130-
- Electrical connection member, 13i. 132Φ・Metal wire guide plate, 150・・Banbu. Figure 1 (a) Figure 1 (b) Figure 2 (a) Figure 2 (b) Figure 2 (b) Figure 3 (a) Figure 3 (b) Figure 4 Figure 5 Figure 6 (a) Figure 6 (b) Figure 9 (a) Figure 10 (a) Figure 10 (b) Figure 11 (a) Figure 11 (b) Figure 12 (a) Figure 12 (b) ) Figure 12 (c) Figure 13 Figure 14 Figure 15 Figure 16 Figure 17 Figure 18 Figure 19 Figure 20

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、接続部を有する第1の電気回路部品と、接続部を有
する第2の電気回路部品とを、両電気回路部品を電気的
に接続するための電気的接続部材を両者の間に介在させ
て、両電気回路部品の接続部において接続して構成され
る電気回路部材において、 該電気的接続部材は、金属または合金よりなる複数の金
属部材を、該金属部材の一端を第1の電気部品側に露出
させて、一方、該金属部材の他端を該第2の電気回路部
品側に露出させて、それぞれの金属部材同士が電気的に
絶縁されるように、絶縁体中に埋設して構成されており
、かつ、該絶縁体には、金属もしくは合金よりなる粉体
又は繊維の一方又は両方が分散しており、 第1の電気回路部品の接続部と第1の電気回路部品側に
露出した金属部材の一端とを合金化することにより接続
し、かつ、第2の電気回路部品の接続部と第2の電気回
路部品側に露出した金属部材の一端とを合金化すること
により接続したことを特徴とする電気回路部材。 2、第1の電気回路部品及び第2の電気回路部品は、そ
れぞれ半導体素子、回路基板やリードフレーム等の回路
基材のうち1つである特許請求範囲第1項記載の電気回
路部材。
[Claims] 1. An electrical connection member for electrically connecting a first electrical circuit component having a connecting portion and a second electrical circuit component having a connecting portion; In an electric circuit member that is interposed between the two and connected at a connecting portion of both electric circuit components, the electric connection member connects a plurality of metal members made of metal or an alloy to one end of the metal member. is exposed to the first electric component side, and the other end of the metal member is exposed to the second electric circuit component side, so that the respective metal members are electrically insulated from each other. The insulator is configured to be embedded in the body, and one or both of powder and fiber made of metal or alloy is dispersed in the insulator, and the connection part of the first electric circuit component and the first one end of the metal member exposed on the side of the electric circuit component is connected by alloying, and the connecting portion of the second electric circuit component and the end of the metal member exposed on the side of the second electric circuit component are connected by alloying. An electric circuit member characterized by being connected by alloying. 2. The electric circuit member according to claim 1, wherein the first electric circuit component and the second electric circuit component are each one of a semiconductor element, a circuit substrate such as a circuit board, or a lead frame.
JP62065208A 1987-03-04 1987-03-19 Electric circuit member Pending JPS63239787A (en)

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