JPS63238988A - ミクロビームレーザ機械 - Google Patents

ミクロビームレーザ機械

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Publication number
JPS63238988A
JPS63238988A JP62326626A JP32662687A JPS63238988A JP S63238988 A JPS63238988 A JP S63238988A JP 62326626 A JP62326626 A JP 62326626A JP 32662687 A JP32662687 A JP 32662687A JP S63238988 A JPS63238988 A JP S63238988A
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JP
Japan
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laser
platen
optical
microscope
path
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Application number
JP62326626A
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English (en)
Inventor
ジェオフロイ・オーヴェル
クロード・ジョルジェ
イヴ・ゲルン
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CENTRE NAT ETD TELECOMM
CENTRE NATL ETUD TELECOMMUN PTT
Original Assignee
CENTRE NAT ETD TELECOMM
CENTRE NATL ETUD TELECOMMUN PTT
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Publication date
Application filed by CENTRE NAT ETD TELECOMM, CENTRE NATL ETUD TELECOMMUN PTT filed Critical CENTRE NAT ETD TELECOMM
Publication of JPS63238988A publication Critical patent/JPS63238988A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/08Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/02Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/08Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
    • B23K26/082Scanning systems, i.e. devices involving movement of the laser beam relative to the laser head

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は1例えば切断するため、薄い材料層を有する目
的物に作用するミクロ電子ビームレーザ機械に関する。
(ロ)従来の技術 この型式の機械は既に公知であり、一般にパルスレーザ
を使用する。こうした機械は、レーザパルス間の時間間
隔により作用せんとする材料層が冷却し、従って、切断
に有利な速度を提供し、または精密に切断することがで
きないため、例えばビデオレコーダまたはコンピュータ
ディスクドライブの磁気ヘッドに形成した磁気層のよう
な薄い層および集積回路に作用させることが難しい。
(ハ)発明が解決しようとする問題点 処理せんとする目的物の表面に約1μmの径に集光させ
る顕微鏡を備える光学回路に結合させたアルゴンレーザ
を使用する型式の連続レーザ機械が既に提案されている
。しかし、これは、適めで細かい、微妙な調節を必要と
する研究室内で使用する機械であり、産業用には利用す
ることができない。
本発明は、薄い材料層を有する目的物に作用するミクロ
ビームレーザ機械であって、自動化させることができ、
処理せんとする目的物上におけるミクロビームの作用を
正確に観察し得る産業用に適したレーザ機械を提供する
ことを目的とする。
本発明は、また1例えば微小な欠陥を修復するために集
積回路に正確に作用するのみならず1例えば、マイクロ
1子工学の分野にて使用される薄い材料層を有する集積
回路、およびその他各種の目的物の微量分析、修理およ
び構成変更も行ない得る上記型式のレーザ機械を提供す
ることを目的とする。
に)問題点を解決するための手段 上記目的を達成するため1本発明は1例えば、切断する
ため、薄い材料層を有する目的物に作用するミクロビー
ムレーザ機械であって、目的物の特定箇所にレーザビー
ムを集光させ、その目的物上におけるレーザビームの衝
突点を観察する顕微鏡に結合された連続的なレーザを備
え、さらに。
剛性で変形せず、振動にも影響されないプラテンを備え
るレーザ機械を提供する。上記プラテンは、レーザから
の出口に位置決めされており、少なくとも1つの顕微量
の対物レンズと、および独立した調節手段を有する相互
に独立した3つの光学通路を画成する光学素子とを取外
し可能なように固着させている。上記3つの光学通路は
、目的物に達し、レーザビームを顕微鏡の対物レンズま
で伝送する通路、照射ビームを顕微鏡の対物レンズ方向
に伝送する通路、および顕微鏡の対物レンズを電子工学
手段に接続し、処理せんとする目的物の領域を、この領
域にあたるレーザビームの衝突点と共に表示する表示通
路を備えている。
上記3つの独立した光学通路およびそれらの調節手段に
より目的物の表面上の直径が1μm程度のレーザビーム
により、その目的物の薄い材料層を処理すると同時に1
作用領域全体に亘るレーザビームの変位を案内する目的
のため、危険を伴わずに、処理中の目的物の表面上にお
けるレーザビームの作用を連続的に観察することが可能
となる。
本発明の別の特徴に依れば、上記プラテンは、光学要素
を正確に位置決めし、光学的調節を変更することなく、
これら要素を取外し、変換し得るようにする機械的手段
を備えている。
かくて、時間を無駄にすることなく、極めて容易に上記
レーザ機械を特定の作業に適用することが可能となる。
本発明のさらに別の特徴に依ると、プラテンの観察路は
、出力をプラテンから独立した表示スクリーンに接続し
、レーザビームの衝撃点の像を減衰させるフィルタを介
して、さらに、像を拡大する光学手段を介して入口を顕
微鏡の対物レンズに接続するCCD型式のマトリックス
カメラを備えている。
かくて1人は、処理中の目的物およびレーザビームの真
の衝突を連続的に観察することができる。
さらに、レーザビームは処理せんとする目的物上に約0
.2μmの精度にて位置決めすることができる。
本発明のさらに別の特徴に依ると、レーザビーム伝送路
は、レーザビームを拡大させる焦点距離無限の光学装置
が続く第1反射鏡と、レーザビーム伝送路を照射路およ
び観察路から分離させる作用をする、レーザビームが透
過する二色性板と。
および顕微鏡の対物レンズに達する反射鏡とを備えてい
る。
第1反射器は、顕微鏡の対物レンズの入射ひと°みと共
役関係にある。従って、この第1反射器を調節しても、
ひとみの中心に対するレーザビームの位置には影響なく
、処理せんとする目的物上に集光させたレーザビームの
衝突点の位置だけが影響を受ける。
例えば、目的物の表面全体に亘るレーザビームの衝突点
を走査し得るようにするため、第1ミラーはモータ駆動
式にすると有利である。
本発明の別の特徴に依ると、プラテン全体にレーザビー
ムを伝送させる上記伝送路は、別の反射器および光学絶
縁体を介してレーザ出口に接続し、レーザビームが再び
レーザ出口に逆に射出されないようにしである。
処理せんとする目的物の表面は1例えば、アルミニラム
の如き、極めて反射率の高い層を備えることができる。
従って1反射されたレーザビームが再び射出されるのを
防止する光学絶縁体は、レーザが安定性を失うのを阻止
する。
光学絶縁体と関係する反射鏡は、目的物の目標領域と光
学的な共役関係にあり、レーザビームの衝突点を顕微鏡
の入射ひとみの中心に調節することができる。
かくて、目的物の表面におけるレーザビームの衝突点の
調節、および顕微鏡の対物レンズの入射ひとみ上におけ
るレーザビームの衝突点の調節は、相互に独立的に行う
ことができる。
本発明のさらに別の特徴に依ると、プラテン照射路は、
プラテン外にある光源に接続した1端を有し、他端は顕
微鏡の対物レンズの入射ひとみと光学的な共役関係とし
た光ファイバ束と、および光ファイバから出た光ビーム
を二色板に向けて反射させ、この二色板をレーザビーム
が透過するようにした半透明の板とを備えている。
かくて、し二ザビームが透過し、照射光ビームは反射さ
せる作用のレーザビーム伝送路内の二色板は、レーザビ
ーム伝送路と照射路間の境界として作用する。
上記半透明板は、観察路への入口に位置決めし。
目的物から反射されたレーザビームを観察カメラのCC
Dマトリックスカメラ方向に伝送することが望ましい。
本発明は、また、相互に垂直な3つの方向(内2つの方
向はプラテンに対し平行である)に変位する手段と関係
する支持体上に処理せんとする目的物を取付けるもので
あり、この目的物の支持体は、プラテンに対し鉛直の変
位軸を中心として回転し得る。
本発明の好適実施態様において、目的物の支持体は、ス
テッピングビ気モータによりプラテンに対し平行な2つ
の方向に変位される一方、支持本を第3方向に変位させ
る手段は、処理せんとする目的物の位置を微調整するた
めの圧電モータと共に、手動の調整手段を備えている。
これら各種の駆動手段は、同一目的物に反復作業を行う
場合には、マイクロプロセッサによって自動的に制御す
ることができる。
(ホ)実施例 添付図面に関する以下の詳細な説明から本発明は一層良
く理解でき、その他の詳細、特徴および利点も理解でき
よう。
第1図に線図で示すように1本発明に依る機械は、処理
せんとする目的物1例えば、集積回路の支持体10と、
目的物の方を向いた顕微鏡の対物レンズ12と、剛性で
変形せず、且つ振動の影響を受けず1例えば水平方向に
配設された。上記レンズを支持するプラテン14と、上
記プラテンを支持する金属フレーム16と、プラテン1
4によって支持された観察路から出口に接続された表示
スクリーン18と、処理せんとする目的物上に集光する
レーザビームを調節し、且つ目的物の支持体の変位を制
御する制御盤加と、および各種の制御子役並びにレーザ
調節手段を有する制御盤nとを備えている。
第2図および第3図には一部のみ図示したレーザUは、
数ワットの多重ラインの光学出力、および450 nm
乃至525nmのスペクトル帯域を有する連続アルゴン
レーザである。
放出されたレーザビームは、第1反射鏡%に当たり、こ
の反射鏡26によってレーザビームは、光学絶縁体路に
向けて直角に反射される。この光学絶縁体路は、偏光キ
エープ(9)、および四分の一波長板32を備えている
。この四分の一波長体32は。
レーザビームの衝突点が処理せんとする目的物の極めて
反射率の高い部分、例えばアルミニウム部分に動くとき
、レーザエネルギがレーザ冴から放出キャビティ内に再
射出されるのを防止する。
光学絶縁体路からの出口にて、レーザビームは。
別の固定反射鏡調に当たり、この反射鏡讃によって、レ
ーザビームは、直角に反射鏡36に向けて反射される。
この反射鏡36は、並進してレーザビームを集光させる
入口レンズ40.および出口レンズ42を有する焦点距
離無限の拡大装置あに向けてレーザ光線を直角に反射さ
せる。この拡大装置38は。
例えば、顕微鏡の対物レンズ120入射ひとみに適合す
る。約3の線形拡大率にてレーザビームな拡大させる。
かくて、レーザビームは、装置あの出力における径が対
物レンズ12の入射ひとみに略相当し、よって、レーザ
ビームは、レンズ12によって遮へいされたり、顕微鏡
の入射ひとみの小さい部分に集光されることはない。レ
ンズ12によって遮へいされればエネルギの損失となり
、また、顕微鏡の入射ひとみの小さい部分に集光された
ならば、顕微鏡内のレンズを損傷させる虞れがある。
さらに、この焦点距離無限の拡大装置あは、また、レー
ザビームの拡がりを補正し、平行光線として作用させる
こともできる。
装置間から出た平行なレーザビームは、反射鏡48も取
付けられているブロック46に取付けた45゜の角度の
二色板44を通る。上記反射鏡48は、処理せんとする
目的物を支持する支持体10の方向を向く顕微鏡の対物
レンズ12の入射ひとみに向けてレーザビームを反射さ
せる。顕微鏡レンズ12は1倍率の異なる複数のレンズ
を有する回転ターレット父上に取付けられている。
上述のように1反射鏡26は、処理せんとする目的物の
部分表光学的に共役関係にあり、2つの角度内にて回転
することによりレーザビームを復帰させ、顕微鏡レンズ
12の入射ひとみの中心に対するレーザビームの衝突の
調整を可能とする。一方。
反射鏡36は、装置間を介して、顕微鏡レンズ12の入
射ひとみと光学的共役関係にあり、反射鏡36を調節し
ても、レンズ120入射ひとみの中心に対するレーザビ
ームの衝突位置は変わらず、集光させたレーザビームが
処理せんとする目的物の衝突点の位置だけが変わる。か
くて、これら2つの調節は、相互に独立的に行なうこと
ができる。さらに。
処理せんとする目的物の表面に亘ってレーザビームの衝
突点を走査する必要があるならば、反射鏡36は、駆動
手段と関係させることができる。
第1反射鏡26および光学絶縁本田は、プラテン14に
固定されていない板52上に取付けることが望ましい。
このプラテン14は1反射鏡詞、36.焦点距離無限の
装置38%および顕微鏡レンズを支持するターレット刃
を取付けたブロック46に支持している。かくて、顕微
鏡は、レーザに対して可動となる。プラテン14は1例
えば、レーザ24の水冷回路に起因する振動のようなプ
ラテンに伝達される可能性のあるあらゆる振動をろ波す
る衝撃吸収装置と関係する。
上述した各種の光学手段は、プラテンに亘ってレーザビ
ームを伝送させる通路を構成する。
プラテンは、また、1端を例えばプラテン14および板
14外部の白熱灯のような適当な任意の照射源に接続し
、他端がプラテン14上に取付けた装置56に接続され
た光ファイバ束54を備えている。この装置間は、中央
穴を有する板58.および処理せんとする目的物の表面
に光学的に共役関係にある視界ダイヤフラムωを備えて
いる。光ファ・イバヌから出た光線は上記中央穴を通り
、よって、干渉光を制限する。
装置56から出る絞られた光線は、先ず、上記ブロック
46上に支持した光学ダブレッド62を−通り、次いで
、二色板44に向けて直角に半透明板64上に反射され
、最終的に上記板44によって上記反射鏡48に反射さ
れる。
光ファイバ詞束の端部、装置56.ダブレット62゜半
透明板64.二色板44.および顕微鏡の対物レンズ1
2と関係する反射鏡48は、共に、処理せんとする目的
物を照射する通路を構成する。
上記2つの通路から独立した観察路がプラテン14上に
設けられており、顕微鏡の対物レンズ12に加えて1反
射鏡48.二色板44.光線が通過する半i明板を備え
ている。コンパクトなテレオブジェクトは、収束レンズ
66、ブロックによって支持した反射鏡68.および別
のブロック74によって支持された発散レンズ72を備
えている。この発散レンズ72は、別のブロック74に
よって支持されており。
CCDマトリックスカメラ76(即ち電荷転送素子)の
方を向いている。このカメラ76は、プラテン14上に
固定されており、その出口は1表示スクリーン18に接
続されている。
光ファイバ東80.82は、カメラ76の入口とテレオ
ブジェクティブの出口間に介在させてあり、処理せんと
する目的物に対するレーザビームの衝突像を減衰させ、
カメラ76およびス久’I−/18が処理せんとする目
的物の表面、および上記表面に対するレーザの衝突の双
方を表示することができる。
光ファイバ18とテレオブジェクティブの出口間にてプ
ラテン14の表示路にはプリズムを位置決めし、表示ス
クリーン18上における像の変位方向を変化させること
ができる。
プラテン14上に取付けた各種の光学要素は、ねじによ
って取外し可能なように取付けられており、例えば、プ
ラテン14で支持し、光学要素の支持体のキャビティ内
に嵌入させた市めくぎのような極めて正確な物理的な位
置決め手段と関係し、よらて、光学要素は、新たな光学
上の調節をすることなく、取外し、交換することができ
る。プラテン14の照射路は、所要スペースが小さく済
むという利点がある。照射光の光源は、プラテン14の
外部にあるため、プラテン14に取付けた光学要素に対
し何ら熱的影響を及ぼすことはない。また、新たな光学
的調整を行わずに交換することができる。
かくて、処理せんとする目的物の表面上の観察視野全体
は、均一に照射される。
処理せんとする目的物を支持する支持体10は。
吸引力によ゛って処理せんとする目的物を支持する。
頂部板84を備えている。
この頂部板部は、垂直立上り部分86によって底部根羽
に接続されている。この底部根羽は、圧電モータと関係
させ、頂部板温と底部板88を垂直方向に変位させるこ
とにより、例えば100μmの行程に亘り、0.1μm
の精度まで焦点の微調整を行うことができる。
頂部板84および底部板88は1手動またはモータ制御
下にて垂直軸線を中心として回転し、鉛直水平変位の2
つの軸心に対して処理せんとする目的物の表面を配向さ
せ得る回転テーブル9(12)によって支持されている
。この回転テーブル90自木は、ステッピング電気モー
タによって第1水平軸に沿って可動の第1線形変位テー
ブル92上に支持されている。上記第1テーブル92自
体は、別のステッピング電気モータによって第1軸に鉛
直の水平軸に沿って並進し変位可能な第2線形変位テー
ブル94によって支持されている。これら2つのモニタ
は。
例えば、最小変位0.1μmで100 mmまたは15
0順の行程を有している。
上記第1および第2テーブル92.94は1手動制御に
より垂直方向に変位可能で約12襲乃至15電の行程に
て1μmの精度の粗な焦点調整をし得る柱状体96上に
支持されている。
テーブル92.94を変位させるステッピング電気モー
タは、例えば、テーブル92.94が変位可能な方向に
対応する2つの鉛直方向に変位可能な操作レバー98に
よって制御盤加から制御することができる(第1図参照
)。制御盤加は、また、処理せんとする目的物の表面上
における点の上記2つの軸に沿って座標を変位させる手
段+00と、および圧電モータの焦点微調整を制御する
回転ノブ102とを備えている。
本発明に依る機械は次のように作用する。
処理せんとする目的物を支持体10の頂部板84上に載
せ、吸引力によって適宜位置に保持し、特に。
薄層支持体の平面度の欠陥を少なくとも部分的に修復す
ることが可能となる。ターレット50を回転させ、適当
なレンズ12を選択することにより、所期の目的に適し
た倍率を選ぶ。
処理すべき目的物の表面の特定領域を表示スクリーン1
8にて探し、照射路および観察路の双方を作用させる。
顕微鏡レンズ12が倍率間の場合、処理せんとする目的
物表面上の観察視野の斜線は135ワツトとなり1表示
スクリーン18上の像の倍率は2,000倍となる。
照射路には、若干焦点外れの位置にてクロスワイヤー銀
を設け、クロスワイヤーの後(14)に1何があるかを
見ることができる一方、光軸な像に表わすことができる
。光軸が例えば切断しようとする薄層の端縁といった処
理すべき目的物の表面上に適切に位置決めされたならば
、レーザ冴を励起させて1例えば約1秒に制限した持続
時間中、比較的高出力(1〜2ワツト)のレーザビーム
を発生すせ、切断せんとする薄層とその下側の層間に熱
化学反応を開始させる。次いで、レーザビームの出力を
小さくシ、電気モータを適当に制御して、テーブル92
.94の何れか1方を変位させることによリ、レーザビ
ームの衝突点を動かし、希望の切断を行う。
処理すべき目的物の表面上におけるレーザビームの衝突
点の直径は、倍率間の対物レンズを使用Cす゛る・舅合
、約1μm以上とならない。視界深さは。
約0.5μmであり、顕微鏡の対物レンズ12の端部と
処理すべき目的物の表面間の隙間は、約8mmとなる。
また、より大きい倍率1例えば倍率100の顕微鏡対物
レンズを使用することも可能である。この場合、集光す
るレーザビームの直径は1μm以下、視界深さは±0.
2μm、およびレンズ端部と処理すべき端部と処理すべ
き目的物の表面間の作用隙間は約0.3 myaとなる
。表示スクリーン18上の像の倍率は約4,000とな
る。
このように、本発明に依る機械は、集積回路の接続部の
微細切断を行ない、例えば、微小欠陥または短絡を修復
することができる。また、接触穴周囲の金属処理層を切
断し、さらに、回路をレーザビームで走査することによ
り限界電圧近くの出力を受ける回路の鋭感な箇所を検出
するためにも使用することができる。回路内の臨界箇所
を励起させることにより、検出可能な論理誤差が生じ、
よりて、上記鋭感な箇所を検出することができる。
この機械は、また、レーザビームが誘引する局部的反応
により、ミクロ化学作用にも使用することができる。
上述の例において、機械の光学要素の主要部分を支持す
るプラテン14は、固定する一方、処理せんとする目的
物の支持体は動くようにする。しかしながら、希望する
ならば、プラテンは可動プラテンとしてもよい。
反復的に作用させる場合には、マイクロプロセッサを機
械に接続し、所定の順序に従って選択した顕微鏡レンズ
に対する処理せんとする目的物の変位を自動的に制御し
、また、レーザの出力レベルを調節することもできる。
さらに、従来型式の自動集光装置を使用し、処理せんと
する目的物の表面上に集光されるレーザビームを連続的
に調節し、よって1例えば、処理すべき目的物の動き。
目的物表面の平面度の欠陥等に起因する集光上の欠陥を
修復することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は1本発明に依る機械の線図、 第2図は、該機械の線図的な部分斜視図。 第3図は、該機械の光学プラテンの平面図、および。 第4図は、第3図の線11/−F/に関する線図的な部
分断面図である。 (主要符号の説明) 12・・・対物レンズ    14・・・プラテン18
・・・表示スクリーン  U・・・レーザ%・・・反射
@       2B・・・光学絶縁体36・・・第1
反射鏡    関・・・光学装置44・・・二色板  
    シ・・・光ファイバ束(外4名) FIG、1

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、例えば、切断するため、薄い材料層を有する目的物
    に作用するミクロビームレーザ機械であって、顕微鏡に
    結合され、目的物の特定箇所にビームレーザを集光させ
    ると共に、目的物上におけるビームレーザの衝突点を観
    察する連続レーザを備えるレーザ機械において、 少なくとも1つの顕微鏡の対物レンズ(12)とおよび
    相互に独立し、独立の調整手段を有する3つの光学路を
    形成する光学要素とを取外し可能なように固定し、レー
    ザ(24)の出口に位置決めされた剛性で、変形せず且
    つ振動に影響されないプラテン(14)を備え、 前記3つの光学路が目的物に達し、ビームレーザを顕微
    鏡の対物レンズ(12)に伝送する通路と、顕微鏡の対
    物レンズ(12)に向けて照射ビームを伝送する通路と
    、および処理せんとする目的物の領域並びに前記領域上
    におけるビームレーザの衝突点を表示するため、顕微鏡
    の対物レンズ(12)を電子手段(76、18)に接続
    する表示路とを備えることを特徴とするミクロビームレ
    ーザ機械。 2、プラテン(14)が光学要素を正確に位置決めし、
    光学的調整を変更することなく光学要素を取外し、交換
    し得るようにする機械的手段を備えることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項に記載した機械。 3、プラテン(14)の観察路が、出口をプラテン(1
    4)から独立した表示スクリーン(18)に接続し、入
    口をビームレーザの衝突点の像を減衰させるフィルタ(
    80、82)および像を拡大する光学手段(66、72
    )を介して顕微鏡の対物レンズ(12)に接続したCC
    D型式のマトリックスカメラ(76)を備えることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項または第2項に記載した
    機械。 4、ビームレーザの伝送路が、ビームレーザを拡大する
    焦点距離無限の光学装置(38)の後続する第1反射鏡
    と、ビームレーザが通過し、ビームレーザ伝送路を照射
    路および観察路から分離させる作用をする二色板(44
    )と、および顕微鏡の対物レンズ(12)に達する反射
    鏡(48)とを備えることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項乃至第4項の何れかの項に記載した機械。 5、第1反射鏡(36)を顕微鏡の対物レンズ(12)
    の入射ひとみと光学的共役関係にすることを特徴とする
    特許請求の範囲第4項に記載した機械。 6、例えば、目的物におけるビームレーザの衝突点を走
    査するため、第1反射鏡(36)をモータ駆動すること
    を特徴とする第4項または第5項に記載した機械。 7、伝送路を別の反射鏡(26)、およびビームレーザ
    がレーザ内に逆に再射出されるのを防止する光学隔離器
    によってレーザの出口に接続することを特徴とする特許
    請求の範囲第4項乃至第6項の何れかの項に記載した機
    械。 8、前記別の反射鏡(26)を目的物の目標領域と光学
    的共役関係とし、よって、ビームレーザの衝突点を顕微
    鏡の入射ひとみの中心に調整し得るようにしたことを特
    徴とする特許請求の範囲第7項に記載した機械。 9、前記別の反射鏡(26)および光学絶縁体(28)
    を前記プラテン(14)に固定していない板の上に取付
    けることを特徴とする特許請求の範囲第7項または第8
    項に記載した機械。 10、プラテン(14)の照射路が1端をプラテン外部
    の光源に接続し、他端を顕微鏡の対物レンズ(12)の
    入射ひとみと光学的共役関係にさせた光ファイバ束(5
    4)と、および光ファイバから出る光線をビームレーザ
    が通過する二色板(44)に向けて反射させる作用をす
    る半透明板(64)とを備え、ビームレーザが前記二色
    板(44)を通ることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項乃至第9項の何れかの項に記載した機械。 11、半透明板(64)が観察路の入口に位置決めされ
    、且つ反射された光線を通し、CCDマトリックスカメ
    ラ(76)に向けることを特徴とする特許請求の範囲第
    10項に記載した機械。 12、3つの鉛直方向に変位する手段を備える支持体(
    10)上に目的物を取付け、前記3つの鉛直方向の2つ
    がプラテン(14)に対し平行であることを特徴とする
    特許請求の範囲第1項乃至第11項の何れかの項に記載
    した機械。 13、目的物の支持体(10)がプラテン(14)に対
    し鉛直な変位軸を中心として回転可能であることを特徴
    とする特許請求の範囲第12項に記載した機械。 14、ステッピング電気モータを使用して目的物支持体
    をプラテン(14)に対し平行な2つの方向に変位させ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第12項または第1
    3項に記載した機械。 15、目的物の支持体をプラテンに対し鉛直な方向に変
    位させる手段が位置の微調整を行なう手動の調整手段(
    96)および圧電モータを備えることを特徴とする特許
    請求の範囲第12項または第13項に記載した機械。 16、処理せんとする目的物の変位の制御、制御された
    変位の表示、およびレーザ作用の制御を行なう盤(20
    、22)を備えることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項乃至第15項の何れかの項に記載した機械。
JP62326626A 1986-12-23 1987-12-23 ミクロビームレーザ機械 Pending JPS63238988A (ja)

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US4825034A (en) 1989-04-25
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IL84897A0 (en) 1988-06-30
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