JPS63229412A - Correcting device for optical path position - Google Patents
Correcting device for optical path positionInfo
- Publication number
- JPS63229412A JPS63229412A JP6243687A JP6243687A JPS63229412A JP S63229412 A JPS63229412 A JP S63229412A JP 6243687 A JP6243687 A JP 6243687A JP 6243687 A JP6243687 A JP 6243687A JP S63229412 A JPS63229412 A JP S63229412A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical path
- path position
- shift
- deviation
- mirror
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 71
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 2
- 238000005224 laser annealing Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 3
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
光路位置補正装置であって、ミラー系と照射系との間の
光路上に配設され光ビームの一部を抽出して所定の方向
に反射させるビーム抽出手段と、該反射された光ビーム
の一部を受け、該光ビームの進行方向に直交する面内に
おける第1および第2の方向の所定光路位置からのずれ
を検出する手段とを有し、該検出されたずれに基づき該
ずれが相殺されるように該ミラー系の姿勢制御を行うこ
とにより、煩雑な調整作業を不要にし、予測出来ない光
学系の光路位置ずれに対しても対処可能とするものであ
る。[Detailed Description of the Invention] [Summary] An optical path position correction device, which is a beam extractor disposed on an optical path between a mirror system and an irradiation system to extract a part of a light beam and reflect it in a predetermined direction. and means for receiving a portion of the reflected light beam and detecting deviation from a predetermined optical path position in the first and second directions in a plane perpendicular to the traveling direction of the light beam, By controlling the attitude of the mirror system based on the detected deviation so that the deviation is canceled out, complicated adjustment work is unnecessary and it is possible to deal with unpredictable deviations in the optical path position of the optical system. It is something to do.
本発明は、光路位置補正装置に関し、より詳細には光学
系を用いた装置、例えば半導体の処理に用いられるレー
ザ・アニール装置、において光路位置のずれを自動的に
補正する装置に関する。The present invention relates to an optical path position correction device, and more particularly to a device that automatically corrects a deviation in the optical path position in a device using an optical system, such as a laser annealing device used in semiconductor processing.
第3図には従来形の一例としてのレーザ・アニール装置
の構成が模式的に示される。この装置では、レーザ発振
器31から発振されたレーザ・ビームLBをミラー32
および33で反射させた後、照射系34内のミラー35
で反射させて試料、すなわちステージ36上のウェハ3
7、に照射し、該ウェハの所定の部分の再結晶化を行う
ようにしている。この場合、この所定の部分は極めて微
細かつ小さな領域であるので、レーザ・ビームの照射に
際してはその光路、すなわちレーザ発振器31の出力端
から照射系34の入力端に至る光路は、予め所定の光路
位置を通過するように正確に維持される必要がある。FIG. 3 schematically shows the configuration of a laser annealing apparatus as an example of a conventional type. In this device, a laser beam LB oscillated from a laser oscillator 31 is transmitted to a mirror 32.
and 33, the mirror 35 in the irradiation system 34
The sample, i.e., the wafer 3 on the stage 36, is
7, to recrystallize a predetermined portion of the wafer. In this case, since this predetermined portion is an extremely fine and small area, when irradiating the laser beam, the optical path, that is, the optical path from the output end of the laser oscillator 31 to the input end of the irradiation system 34, is set in advance to a predetermined optical path. Must be maintained accurately to pass position.
しかしながら、装置の使用中に光路が変動してレーザ・
ビームの位置がずれる場合がある。この光路の変動によ
るずれの原因としては、■熱、電源電圧の変動、装置自
体の振動等に起因して生じるレーザ発振器31内の発振
ミラーのずれ、■装置自体の振動に起因して生じるミラ
ー32.33の位置のずれ、が考えられる。However, during use of the device, the optical path changes and the laser
The beam position may shift. The causes of deviation due to fluctuations in the optical path include: (1) deviation of the oscillation mirror in the laser oscillator 31 caused by heat, fluctuations in power supply voltage, vibration of the device itself, etc.; (2) deviation of the mirror caused by vibration of the device itself. 32.33 positional deviations are considered.
従来は、光路位置がずれた場合、ミラー32および33
を微妙に動かして感を頼りに調整するか、あるいはレー
ザ・ビームがピンホールを通過するように目視で調整す
ることにより、光路位置の補正を行なっていた。このよ
うに、装置自体の振動に起因して生じるずれに対しては
、調整作業は極めて煩雑ではあるが、一応、光路位置補
正は可能である。しかしながら、熱、電圧変動等に起因
して生じるレーザ発振器自体によるずれに対しては対応
が困難である。また、レーザ・アニール装置で用いられ
るレーザ・ビームは極めて強度が大きいので、目に対す
る危険性もある。Conventionally, when the optical path position shifts, the mirrors 32 and 33
The optical path position was corrected by either slightly moving the pinhole and adjusting it by feel, or by visually adjusting the laser beam so that it passed through the pinhole. As described above, it is possible to correct the optical path position for deviations caused by vibrations of the apparatus itself, although the adjustment work is extremely complicated. However, it is difficult to deal with deviations caused by the laser oscillator itself due to heat, voltage fluctuations, etc. Additionally, the laser beams used in laser annealing equipment are extremely intense and can be dangerous to the eyes.
以上、レーザ・アニール装置を例にとって説明したが、
一般に光学系を用いた装置では、装置自体の振動に起因
する光路位置のずれの他に、手動調整では充分に対応出
来ない、光源自体に起因する光路位置のずれが伴う。The above was explained using a laser annealing device as an example.
Generally, in a device using an optical system, in addition to deviations in the optical path position caused by vibrations of the device itself, there are also deviations in the optical path position caused by the light source itself, which cannot be adequately addressed by manual adjustment.
本発明は、上述した従来技術における問題点に鑑み創作
されたもので、煩雑な調整作業を不要にして光路位置の
ずれを自動的に補正することができる光路位置補正装置
を提供することを目的としている。The present invention was created in view of the problems in the prior art described above, and an object of the present invention is to provide an optical path position correction device that can automatically correct deviations in optical path position without requiring complicated adjustment work. It is said that
上述した従来技術における問題点は、光路上に配設され
たミラー系と、該ミラー系により反射された光ビームを
対象物に照射する照射系と、該ミラー系と該照射系の間
の光路上に配設され、該光ビームをほとんど通過させる
一方で、該光ビームの一部を抽出して所定の方向に反射
させるビーム抽出手段と、該ビーム抽出手段により反射
された光ビームの一部を受け、該光ビームの進行方向に
直交する面内における第1の方向および第2の方向の所
定光路位置からのずれをそれぞれ検出する手段と、該検
出されたずれに基づき該ずれが相殺されるように該ミラ
ー系の姿勢制御を行なって光路位置のずれを補正する手
段と、を備えてなる光路位置補正装置を提供することに
より、解決される。The problems with the above-mentioned conventional technology are that the mirror system disposed on the optical path, the irradiation system that irradiates the object with the light beam reflected by the mirror system, and the light beam between the mirror system and the irradiation system. a beam extractor disposed on a road, which allows most of the light beam to pass through while extracting a part of the light beam and reflecting it in a predetermined direction; and a part of the light beam reflected by the beam extractor. means for detecting deviations from a predetermined optical path position in a first direction and a second direction in a plane perpendicular to the traveling direction of the light beam, and canceling the deviations based on the detected deviations; The problem is solved by providing an optical path position correcting device comprising means for controlling the attitude of the mirror system so as to correct the deviation of the optical path position.
上述した構成によれば、光路上に配設されたビーム抽出
手段が光ビームの通過を妨害することなく該光ビームの
一部を抽出し、検出手段がこの抽出された光ビームの一
部に基づき、該光ビームの進行方向に直交する面内にお
ける所定光路位置からのずれを検出する。このずれは、
該直交する面内において第1の方向(例えば水平方向)
と第2の方向(例えば垂直方向)に対して検出される。According to the above-described configuration, the beam extraction means disposed on the optical path extracts a part of the light beam without interfering with the passage of the light beam, and the detection means extracts a part of the extracted light beam. Based on this, a deviation from a predetermined optical path position in a plane perpendicular to the traveling direction of the light beam is detected. This deviation is
a first direction (for example, horizontal direction) within the orthogonal plane;
and a second direction (for example, vertical direction).
そして、この検出されたずれに基づいて8亥ずれが相殺
されるようにミラー系が姿勢制御される。Then, based on this detected deviation, the mirror system is attitude controlled so that the 8° deviation is canceled out.
このように、本発明の装置は煩雑な調整作業を不要にし
て自動的に光路位置ずれを補正するものであり、また予
測出来ない光学系の光路位置ずれに対しても十分に対処
可能とするものである。In this way, the device of the present invention eliminates the need for complicated adjustment work and automatically corrects optical path position deviations, and can also adequately deal with unpredictable optical path position deviations in the optical system. It is something.
第1図には本発明の一実施例としての光路位置補正装置
の構成が示される。同図において、1はレーザ発振器、
2はレーザ発振器1から出射されたレーザ・ビームLB
を所定方向に反射させるミラー、3はミラー2により反
射されたレーザ・ビームLBを所定方向に反射させるミ
ラー、4は照射系を示す。この照射系4はミラー5を有
し、ミラー3により反射されたレーザ・ビームLBの大
部分LBIをミラー5で反射させてステージ6上のウェ
ハ7に照射する機能を有している。また、ミラー2およ
び3はそれぞれ、レーザ・ビームの進行方向に直交する
面内でレーザ・ビームを水平方向に走査し得るように垂
直方向の軸の周りに回動自在に配設され、同時にレーザ
・ビームの進行方向に直交する面内でレーザ・ビームを
垂直方向に走査し得るように水平方向の軸の周りに回動
自在に配設されている。FIG. 1 shows the configuration of an optical path position correction device as an embodiment of the present invention. In the figure, 1 is a laser oscillator;
2 is the laser beam LB emitted from the laser oscillator 1
3 is a mirror that reflects the laser beam LB reflected by the mirror 2 in a predetermined direction, and 4 is an irradiation system. The irradiation system 4 has a mirror 5 and has a function of causing most of the laser beam LB reflected by the mirror 3 to be reflected by the mirror 5 and irradiated onto the wafer 7 on the stage 6 . Furthermore, the mirrors 2 and 3 are each disposed rotatably around a vertical axis so that the laser beam can be scanned horizontally in a plane perpendicular to the direction in which the laser beam travels, and at the same time, the mirrors 2 and 3 are - It is rotatably arranged around a horizontal axis so that the laser beam can be scanned vertically within a plane perpendicular to the direction of beam travel.
ミラー3と照射系4の間の光路上には4個のビーム抽出
器11〜14が配設されており、該ビーム抽出器はそれ
ぞれ、レーザ・ビームの通過を妨害することなく該レー
ザ・ビームの一部(全体のビーム量の2〜3%程度、以
下LB2で表わす)を所定の方向に反射させる機能を有
している。この場合、ビーム抽出器11および13は、
レーザ・ビームの進行方向に直交する面内において水平
方向に該レーザ・ビームの一部を反射させるよう配置さ
れる。Four beam extractors 11 to 14 are arranged on the optical path between the mirror 3 and the irradiation system 4, and each beam extractor extracts the laser beam without interfering with the passage of the laser beam. It has a function of reflecting a part of the beam (approximately 2 to 3% of the total beam amount, hereinafter referred to as LB2) in a predetermined direction. In this case, the beam extractors 11 and 13 are
It is arranged so as to reflect a portion of the laser beam horizontally in a plane perpendicular to the direction in which the laser beam travels.
同様に、ビーム抽出器12および14は、レーザ・ビー
ムの進行方向に直交する面内において垂直方向に該レー
ザ・ビームの一部を反射させるよう配置される。15は
水平方向ずれ検出器であって、所定の間隔で格子状に設
けられたピンホール群(図示せず)を有し、ビーム抽出
器11および13により反射されたレーザ・ビームの一
部LB2が該ピンホール群のいずれの部分を通過したか
を検出し、それによって、所定光路位置からのレーザ・
ビームの水平方向のずれを検出して該検出量に対応する
電気信号を出力する機能を有している。16は垂直方向
ずれ検出器であって、同様に、所定の間隔で格子状に設
けられたピンホール群(図示せず)を有し、ビーム抽出
器12および14により反射されたレーザ・ビームの一
部LB2が該ピンホール群のいずれの部分を通過したか
を検出し、それによって、所定光路位置からのレーザ・
ビームの垂直方向のずれを検出して該検出量に対応する
電気信号を出力する機能を有している。Similarly, beam extractors 12 and 14 are arranged to reflect a portion of the laser beam vertically in a plane orthogonal to the direction of travel of the laser beam. Reference numeral 15 denotes a horizontal displacement detector, which has a group of pinholes (not shown) provided in a grid pattern at predetermined intervals, and detects a portion of the laser beam LB2 reflected by the beam extractors 11 and 13. detects which part of the pinhole group the laser beam has passed through, and thereby detects the laser beam from a predetermined optical path position.
It has a function of detecting the horizontal deviation of the beam and outputting an electrical signal corresponding to the detected amount. Reference numeral 16 denotes a vertical displacement detector, which similarly has a group of pinholes (not shown) provided in a grid pattern at predetermined intervals, and detects the laser beam reflected by the beam extractors 12 and 14. It detects which part of the pinhole group the part LB2 has passed through, and thereby the laser beam from a predetermined optical path position is detected.
It has a function of detecting the vertical deviation of the beam and outputting an electrical signal corresponding to the detected amount.
17は制御系であって、水平方向ずれ検出器15および
垂直方向ずれ検出器16によりそれぞれ検出されたレー
ザ・ビームの光路位置ずれに対応する電気信号に基づき
、該ずれを打ち消すために必要な制御量を演算し、制御
信号として出力する機能を有している。18は駆動系で
あって、前述したミラー2および3のそれぞれの水平方
向の主軸および垂直方向の主軸にそれぞれ結合された4
個のモータ(図示せず)を有しており、制御系17から
の制御信号に応答して光路位置ずれが相殺されるように
ミラー2および3の姿勢制御を行う機能を有している。Reference numeral 17 denotes a control system, which performs control necessary to cancel the deviation based on electrical signals corresponding to deviations in the optical path position of the laser beam detected by the horizontal deviation detector 15 and the vertical deviation detector 16, respectively. It has the function of calculating the amount and outputting it as a control signal. Reference numeral 18 denotes a drive system, which is connected to the horizontal and vertical main axes of the mirrors 2 and 3, respectively.
It has a function of controlling the attitude of the mirrors 2 and 3 in response to a control signal from the control system 17 so that the optical path position shift is offset.
次に、第2図を参照しながら第1図の装置による光路位
置補正方法の一例を説明する。第2図の例示は、垂直方
向の光路位置ずれを補正する場合を示す。図中、P、は
ビーム抽出器12により抽出されたレーザ・ビームの一
部LB2に基づき垂直方向ずれ検出器16において検出
された光路位置、同様に22はビーム抽出器I4により
抽出されたレーザ・ビームの一部LB2に基づき垂直方
向ずれ検出器16において検出された光路位置、実線Q
oは正規の光路を示す。今仮に、何らかの原因で垂直方
向にレーザ・ビームの位置ずれが生じて図中破線Q、で
示されるように光路が変化したものとする。Next, an example of the optical path position correction method using the apparatus shown in FIG. 1 will be explained with reference to FIG. The example shown in FIG. 2 shows a case where a vertical optical path position shift is corrected. In the figure, P is the optical path position detected by the vertical shift detector 16 based on the part LB2 of the laser beam extracted by the beam extractor 12, and 22 is the laser beam position extracted by the beam extractor I4. The optical path position detected by the vertical deviation detector 16 based on the beam portion LB2, solid line Q
o indicates a regular optical path. Assume now that for some reason a positional shift of the laser beam occurs in the vertical direction and the optical path changes as shown by a broken line Q in the figure.
この場合、光路位置P1の正規の光路からのずれの大き
さをΔP l 、光路位置P2の正規の光路からのずれ
の大きさをΔP2とする。垂直方向ずれ検出器16にお
いてΔP1およびΔP2のずれが検出されると、制御系
17では先ず一ΔP1に相当する制御量が演算され、駆
動系18はこの制御量に基づきΔP、のずれがゼロにな
るようミラー3を姿勢制御する。この場合、ミラー3は
水平方向の主軸の周りに回動制御される。これによって
、光路位置が図中破線Q2で示されるように修正される
。In this case, the magnitude of the deviation of the optical path position P1 from the normal optical path is ΔP l , and the magnitude of the deviation of the optical path position P2 from the normal optical path is ΔP2. When the vertical deviation detector 16 detects the deviations of ΔP1 and ΔP2, the control system 17 first calculates a control amount corresponding to one ΔP1, and the drive system 18 adjusts the deviation of ΔP to zero based on this control amount. The posture of the mirror 3 is controlled so that the In this case, the mirror 3 is controlled to rotate around the main axis in the horizontal direction. As a result, the optical path position is corrected as shown by the broken line Q2 in the figure.
次いで制御系17は−(ΔP2−Δp+)に相当する制
御量を演算し、駆動系18はこの制′a量に基づき(Δ
P2−ΔP+)がゼロになるようミラー2を姿勢制御す
る。この場合、ミラー2は水平方向の主軸の周りに回動
制御される。これによって、光路位置が図中実線Q。で
示されるように修正される。しかしながら、実際には光
路値l P 1に多少のずれが生じるので、駆動系18
はさらにこのずれがゼロになるようミラーを姿勢制御し
、以降、ずれた光路が完全に本来の光路Qoに一敗する
までミラー3および2の姿勢制御が繰り返される。Next, the control system 17 calculates a control amount corresponding to -(ΔP2-Δp+), and the drive system 18 calculates (ΔP2-Δp+) based on this control amount.
The mirror 2 is attitude controlled so that P2-ΔP+) becomes zero. In this case, the mirror 2 is controlled to rotate around the main axis in the horizontal direction. As a result, the optical path position is set to the solid line Q in the figure. amended as shown. However, in reality, some deviation occurs in the optical path value l P 1, so the drive system 18
further controls the attitude of the mirrors so that this deviation becomes zero, and thereafter the attitude control of mirrors 3 and 2 is repeated until the deviated optical path is completely defeated by the original optical path Qo.
上述した補正方法は、水平方向の光路位置ずれの補正に
対しても同様に適用され得る。ただしこの場合には、ミ
ラー2および3はそれぞれ、垂直方向の主軸の周りに回
動制御される。The above-described correction method can be similarly applied to correction of optical path position shift in the horizontal direction. However, in this case, mirrors 2 and 3 are each controlled to rotate around a vertical main axis.
このように、垂直方向の光路位置ずれの補正と水平方向
の光路位置ずれの補正は互いに干渉することなく独立に
行われ得るので、特に相対位置がずれては困るツイン・
ビーム・アニール装置に対しては極めて有効である。In this way, the correction of the vertical optical path position deviation and the correction of the horizontal optical path position deviation can be performed independently without interfering with each other.
It is extremely effective for beam annealing equipment.
以上説明したように本発明の光路位置補正装置によれば
、煩雑な調整作業を不要にして光路位置のずれを自動的
に補正することができると共に、予測出来ない光学系の
光路位置ずれに対しても充分に対処可能となる。As explained above, according to the optical path position correction device of the present invention, it is possible to automatically correct deviations in the optical path position without the need for complicated adjustment work, and it is also possible to correct deviations in the optical path position that cannot be predicted in the optical system. However, it can be dealt with adequately.
第1図は本発明の一実施例としての光路位置補正装置の
構成を示す図、
第2図は第1図装置による補正方法の一例を説明するた
めの図、
第3図は従来形の一例としてのレーザ・アニール装置の
模式的な構成図、
である。
(符号の説明)
1・・・レーザ発振器、2.3・・・ミラー、4・・・
照射系、 5・・・ミラー、6・・・ステージ、
7・・・ウェハ、11.12.13.14・・・ビ
ーム抽出器、15・・・水平方向ずれ検出器、
16・・・垂直方向ずれ検出器、
17・・・制御系、 18・・・駆動系。
第2図
従来形の−911としてのレーザ・
アニール装置の模式的な構成図
34・・・照射系
36・・・ステージ
37・・・ウェハ
LB・・・レーザ・ビームFIG. 1 is a diagram showing the configuration of an optical path position correction device as an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram for explaining an example of a correction method using the device shown in FIG. 1, and FIG. 3 is an example of a conventional type. This is a schematic diagram of a laser annealing device as shown in FIG. (Explanation of symbols) 1...Laser oscillator, 2.3...Mirror, 4...
Irradiation system, 5...mirror, 6...stage,
7... Wafer, 11.12.13.14... Beam extractor, 15... Horizontal direction shift detector, 16... Vertical direction shift detector, 17... Control system, 18...・Drive system. Fig. 2 Schematic diagram of a conventional -911 laser annealing apparatus 34... Irradiation system 36... Stage 37... Wafer LB... Laser beam
Claims (1)
により反射された光ビームを対象物(7)に照射する照
射系(4)と、 該ミラー系と該照射系の間の光路上に配設され、該光ビ
ームをほとんど通過させる一方で、該光ビームの一部を
抽出して所定の方向に反射させるビーム抽出手段(11
、12、13、14)と、該ビーム抽出手段により反射
された光ビームの一部を受け、該光ビームの進行方向に
直交する面内における第1の方向および第2の方向の所
定光路位置からのずれをそれぞれ検出する手段(15、
16)と、 該検出されたずれに基づき該ずれが相殺されるように該
ミラー系の姿勢制御を行なって光路位置のずれを補正す
る手段(17、18)と、 を備えてなる光路位置補正装置。[Scope of Claims] A mirror system (2, 3) disposed on an optical path, an irradiation system (4) that irradiates a target object (7) with a light beam reflected by the mirror system, and the mirror system. and the irradiation system, and allows most of the light beam to pass through, while extracting a part of the light beam and reflecting it in a predetermined direction.
, 12, 13, 14), and predetermined optical path positions in a first direction and a second direction in a plane that receives a portion of the light beam reflected by the beam extraction means and is orthogonal to the traveling direction of the light beam. means (15,
16); and means (17, 18) for correcting a deviation in the optical path position by controlling the attitude of the mirror system so that the deviation is offset based on the detected deviation. Device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6243687A JPS63229412A (en) | 1987-03-19 | 1987-03-19 | Correcting device for optical path position |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6243687A JPS63229412A (en) | 1987-03-19 | 1987-03-19 | Correcting device for optical path position |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63229412A true JPS63229412A (en) | 1988-09-26 |
Family
ID=13200137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6243687A Pending JPS63229412A (en) | 1987-03-19 | 1987-03-19 | Correcting device for optical path position |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63229412A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7119895B2 (en) | 2000-11-28 | 2006-10-10 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Method of and apparatus for adjusting optical component, and optical unit |
JP2007263818A (en) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Jfe Steel Kk | Adjusting method for thickness measuring instrument, and device therefor |
-
1987
- 1987-03-19 JP JP6243687A patent/JPS63229412A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7119895B2 (en) | 2000-11-28 | 2006-10-10 | Honda Giken Kogyo Kabushiki Kaisha | Method of and apparatus for adjusting optical component, and optical unit |
JP2007263818A (en) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Jfe Steel Kk | Adjusting method for thickness measuring instrument, and device therefor |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10875122B2 (en) | Scanner controller, robot controller, and remote laser welding robot system | |
US4144505A (en) | Autoalignment system for laser with unstable resonator | |
JPS63229412A (en) | Correcting device for optical path position | |
JPH02192885A (en) | Laser beam processor | |
JP6975198B2 (en) | Laser machining system | |
JP2638017B2 (en) | Laser beam scanner | |
US5103082A (en) | Automatic laser beam expander-pinhole alignment system | |
JPH10261587A (en) | Method and equipment for following up dual stages | |
CN114728373A (en) | Laser processing system and laser processing method | |
JP4467333B2 (en) | Laser processing apparatus and processing method | |
JPH09248687A (en) | Laser beam machining robot | |
JP2526891B2 (en) | Laser Beam Skiana | |
JPH01278987A (en) | Adjusting device for optical axis | |
JPH11277274A (en) | Temperature compensating device and method for laser beam machining | |
JP2760622B2 (en) | Laser processing equipment | |
KR102421631B1 (en) | Laser beam path compensation automatic adjustment system for large area processing | |
US11154947B2 (en) | Laser processing system | |
JPS61210318A (en) | Laser beam scanner | |
JPH04184988A (en) | Method for automatically aligning laser oscillation | |
JPS62270291A (en) | Real time control device in laser beam machine | |
JPS61175610A (en) | Automatic adjusting device for guide mirror | |
JPH06152036A (en) | Apparatus and method for laser treatment | |
JPS632581A (en) | Laser beam adjusting device | |
JPS63220520A (en) | Alignment device | |
JP2002118077A (en) | Laser-annealing apparatus |