JPS63227638A - 微多孔膜の製造法 - Google Patents

微多孔膜の製造法

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JPS63227638A
JPS63227638A JP6305587A JP6305587A JPS63227638A JP S63227638 A JPS63227638 A JP S63227638A JP 6305587 A JP6305587 A JP 6305587A JP 6305587 A JP6305587 A JP 6305587A JP S63227638 A JPS63227638 A JP S63227638A
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JP
Japan
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film
solvent
resin
organic liquid
electron
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JP6305587A
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Isanori Kobayashi
小林 功典
Yukio Tsushimo
由紀男 津下
Haruo Iizuka
治雄 飯塚
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Mitsubishi Kasei Corp
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/67Unsaturated compounds having active hydrogen
    • C08G18/671Unsaturated compounds having only one group containing active hydrogen
    • C08G18/672Esters of acrylic or alkyl acrylic acid having only one group containing active hydrogen

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  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Manufacture Of Porous Articles, And Recovery And Treatment Of Waste Products (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は微多孔有機高分子膜の製造法に関する。詳しく
はθ、θ/−10μの空孔を有する、電子線あるいは紫
外線照射によって三次元架橋した膜厚20θμ以下の微
多孔有機高分子膜の製造方法に関するものである。
このようにして製造された膜は衣料用、包装用、医療用
、濾過材用等の物質分離機能膜として好適であシ、また
一方、気体、液体の分離機能を有する薄膜の支持膜など
への利用も考えられ、応用分野は極めて広い。
〔従来の技術〕
従来より、海水の淡水化、排水処理、食品工業、人工臓
器、有機液体混合物等の種々分離プロセスに孔径の異な
る多孔質膜が精密濾過膜、限外濾過膜、逆浸透膜、溶液
透過膜などと呼ばれて用いられてきておシ、特にアセチ
ルセルロースなどのセルロース膜が多く用いられている
多孔性膜の製造方法としては、つぎのグつの主要な方法
がある。
(1)  粒子を化学的または熱的忙結合させる方法で
あシ、焼結法と呼ばれる方法。
O) 空孔となる部分に予め水や溶剤に可溶な無機ある
いは有機物質を充填した状態で成形し、その成形後、充
填物を溶出することによシ多孔体を得る方法。
(110高分子フィルムを延伸することによシ機械的に
孔をあげる方法。
(lv)  樹脂を水に可溶な有機溶剤に溶解した溶液
でもって塗膜形成を行い、水中に於いて溶液の凝固と有
機溶媒の抽出を行なう方法であり、湿式成膜法と呼ばれ
る方法。
しかし、これらの多孔質膜の物質透過性ないしは選択透
過性の制御は膜材質、製膜条件により孔径、穴形状等を
コントロールすることによって達成されるものである。
そして主として製膜条件によ多孔径の調節を行うために
製膜条件の微妙なコントロールが要求され、工程も複雑
なものとな9、相当の熟練と技術がなげれば同一性能の
多孔膜を製造することは出来ない。
また、膜素材として、アセチルセルロース、ポリスルホ
ン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリエステル、ポ
リプロピレン等が用いられてきたが、これらはいずれも
線状構造をもった樹脂であるため耐薬品性、耐溶剤性、
耐熱性が必ずしも充分ではなく、使用範囲、使用条件に
大幅な制約があった。
そのためには、これまで膜素材として用いられていた線
状構造樹脂に代えて三次元架橋樹脂を素材とすることが
もっとも理想的ではあるが、三次元架橋樹脂は不溶、不
融性であシ、これまで公知の製膜方法によシ適当な孔径
をもった多孔質膜を製造することは不可能であった。
また特開昭!?−t−2tiitr号公報には電子ビー
ムまたは紫外線を照射して三次元架橋した微多孔膜を得
る方法が述べられているが、照射によ多重合する化合物
が有機単量体、有機オリゴマーおよびそれらの混合物か
らなる群から選ばれる低分子量樹脂であるため、照射に
よって硬化しても機械的強度が低いのである。
また、この製造法は有機単量体、有機オリゴマーおよび
それらの群から選ばれる物質を液体ビヒクルに溶かした
溶液の薄層を、紫外線ま九は電子ビームにあてて瞬間的
に液体ビヒクルに不溶な固体重合体を重合した後、直ち
に液体ビヒクルから該固体重合体を凝離することによシ
膜を多孔化するものである。このように、ドープ溶液状
態では液体ビヒクルに可溶性で、重合後に不溶化するも
のであるため、有機単量体、有機オリゴマーおよびそれ
らの混合物、さらにそれらの重合体と液体ビヒクルとの
相溶性が重要であ夛その選択中が限られる。例えば電子
ビームMML、、て有機オリゴマーが三次元硬化しても
液体ビヒクルと相溶性があると凝離が不充分となシ、液
体ビヒクルが除去できなかったシ多孔化しない場合が多
いのである。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明の目的は従来多孔膜の欠点を改良した孔径のコン
トロールされた三次元架橋構造を有する耐溶剤性、耐薬
品性および機械的強度に優れた微多孔膜の製造法を提供
することにある。
 4一 本発明者らは、かかる本発明の目的は (C)) 電子線または紫外線によって架橋可能な数平
均分子量5oθθ以上の樹脂、 (6)電子線または紫外線に対して非反応性で、上記樹
脂囚)とは相分離する有機液状体および(C)  上記
(A) (B)を均一に溶解する溶剤からなる組成物を
製膜し、次いで浴剤(C)を除去して上記樹脂(B)と
有機液状体但〕を相分離させ、さらに電子線または紫外
線を照射した後有機液状体@)を除去することを特徴と
する微多孔膜の製造法によシ運成出来ることを見出した
〔問題点を解決するための手段〕
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明で用いる放射線硬化樹脂(4)としては、電子線
又は紫外線によって架橋可能な、数平均分子量(Mn)
が5ooo以上の樹脂であれば何でも使用できる。好ま
しくは、数平均分子量(Mn)がよ000以上、重量平
均分子量(Mw )が/ j O,0θ0以下であって
、7分子中にアクリル基又はメタクリル基を2個以上含
有した樹脂でありて、具体的にはポリウレタンアクリレ
ート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレー
ト、ならびにポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、塩化ビ
ニル系樹脂、セルロース系樹脂等にアクリル基又はメタ
クリル基を導入した樹脂が挙げられる。また、ここで述
べている平均分子量は、それぞれepc分析によ)分子
量既知の単分散ポリスチレンのキャリプレーシロンカー
ブから求めた値を示している。
放射線硬化樹脂(4)の数平均分子量(n)が↓Oθ0
よシ小さいと三次元架橋した多孔膜の機械的物性、すな
わち、引張シ破断強度、破断伸びが低くなシ好ましくな
い。また、重量平均分子量(W)が/jQ、0θOよ)
大きいと有機液状体の)および溶剤(C)に対する溶解
性が悪くなシすぎ、また組成物の粘度も高くなるので好
ましくない。
1分子中にアクリル基塘たはメタクリル基を7t個以上
含有させることは製造上および貯蔵安定性の上から困難
であるので好ましくない。
また、−個未満では架橋密度が低くなシ、耐溶剤性、耐
薬品性の点から好ましくない。
また、有機液状体@)としては、放射線硬化樹脂(A)
と適度に相溶して混シ合うことが必要であるため、溶解
度パラメーター(SP値)がt〜l!の範囲である必要
がある。そのような有機液状体としては7タル酸ジメチ
ル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸−
ジーーーエチルヘギシル、アジピン酸ジメチル、アジピ
ン酸ジブチル、アジピン酸−ジー2−エチルへ中シル、
セバシン酸ジメチル、セバシン酸ジエチル、セバシン酸
−ジーーーエチルヘキシル、リン酸トリブチル、トリメ
リット酸トリオクチル、オレイン酸フチル、エチレング
リコール、プロピレングリコール、グリセリン、ポリエ
チレングリコール、ポリプロピレングリコール等が挙げ
られる。
放射線硬化樹脂(A)と有機液状体の)の混合物を均一
に溶解する溶剤(C)としてはアセトン、メチルエチル
ケトン、メチルインブチルケトン、シ夕日ヘキサノン、
テトラヒドロフラン、酢酸エル チル、酢酸必−ブチル、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、トルエン、ジメチルスルホキシド、N
−メチルピロリドン、ジオ中サン、ピリジン、クロロホ
ルム、塩化メチレン等を用いることが出来る。この溶剤
は前もって放射線硬化樹脂囚に添加していてもよく、ま
た組成物調製時に添加してもよい。
放射線硬化樹脂囚、有機液状体の)及び溶剤(C)から
なる組成物の配合割合は、囚lθO重量部に対して、の
)−20x /θ重量部、(C)70〜100重量部が
好ましい。
く 03)が20重量部未満の場合は多孔化率が低Vなりす
ぎて好ましくない。♂O重量部をこえると微多孔膜の機
械的物性が低くなシ好ましくない。
(0が10重量部未満では組成物が均一な溶液にならず
好ましくない。200重量部をこえると溶剤を揮散させ
るのに長時間豊し、また組成物の粘度が低くなシすぎる
ため好ましくない。
さらに1本発明においては、微多孔膜の架橋密度の調整
、機械的物性の改良、フィルムの表面性改質等のために
、に)、@)および(C)からなる組成物に、電子線ま
たは紫外線によって架橋可能なモノマーあるいはオリゴ
マーの)を添加してもよい。このようなモノマーあるい
はオリゴマー■)としては、例えば、λ−エチルへキシ
ルアクリレート、コーヒドロキシエチルアクリレート、
コーヒドロ中ジエチルメタクリレート、N−ビニルピロ
リドン、テトラヒドロフルフリルアクリレート、/、6
−へΦサンジオールジアクリレート、/、4t−ブタン
ジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ
アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタ
エリスリトールへキサアクリレート、トリス(,2−ア
クリロキシ)インシアヌレートおよびカルボ中シル基、
スルホン酸基、グリシジル基、アミノ基、フッ素、リン
等の官能基を有するアクリル酸、メタクリル酸、アクリ
ルアミドーコーメチルスルホン酸、クリシジルアクリレ
ート、グリシジルメタクリレート、ジメチルアミノエチ
ルメタクリレート、メタクリロキシエチルホスフェート
、トリフルオロエチルアクリレート、(6)はθ〜!θ
M量部添加するのが好ましい。
本発明の微多孔膜の製造方法について説明する。
まず、放射線硬化樹脂(B)、有機液状体(6)および
溶剤(C)を混合して均一な液状の組成物を生成し、該
組成物を製膜する。
H膜方法としてぽ特に限定されず、ポリエチレンテレフ
タレートフィルム上やガラス板上に該溶液組成物をキャ
スティングする方法等公知の方法によって行うことがで
きる。また、適当特休としては膜に対する透過ガスの通
過を阻止せず、かつ膜成分、溶剤等に侵されないような
任意の多孔質材料を用いることができる。
次いで、製膜をしながらまたは製膜後、室温〜/jfO
℃に加熱して溶剤(C)を蒸発除去し、放射線硬化樹脂
(4)と有機液状体(B)を相分離させる。
そして、溶媒(C)を除去したのちに電子線または紫外
線を照射して放射線硬化樹脂(4)を三次元架橋するこ
とによシ膜を硬化する。
電子線照射装置としては、膜厚が薄いので非走査低出力
リニアーフィラメントタイプの装置が好ましい。電子線
硬化は不活性ガス気流中で加速電圧l!θ〜3θθKV
 、吸収a景θ、t〜λθMradの条件で電子線照射
することが好ましい。
紫外線照射装置の光源としては低圧水銀灯、高圧水銀灯
、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンラン
プ等を用いることが出来るが、紫外線強度、効率の点で
高圧水銀灯が好ましい。
紫外線を用いて照射する場合は該組成物にベンゾフェノ
ン、ベンジル、ベンゾインアルキルエーテル類、アセト
フェノン類、ミヒラーケトン類、チオ中サントン類等の
市販の光重合開始剤を/、3重量%添加しておく必要が
ある。
さらに、硬化した膜は溶剤中に浸漬して有機液状体(B
)を抽出除去する。有機液状体(B)の抽出溶剤として
は、生成した膜を溶解あるいは膨潤させないものならば
何でも使用できる。例えば、n−ヘキサン、n−へブタ
ン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、メチルスルホン
酸 られる。
また、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチ
レンフィルム、テフロンフィルム、ガラス板上等にキャ
スティングして製膜したものは、硬化後剥離した後、抽
出溶剤に浸漬する。
ポリエチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポ
リイミドフィルム等の多孔質支持体上にキャスティング
して製膜したものは、硬化後その゛まま浸漬する。
有機液状体(B)を抽出除去し、膜を取シ出した後、通
常の公知の方法によ)加熱、乾燥して抽出溶剤を除去し
、本発明の微多孔膜を得る。
得られる微多孔膜は、θ、θノ〜70μの空孔を有し、
膜厚は一θθμ以下であるものが好ましい。
本発明の微多孔膜の孔径は放射線硬化樹脂(至)と有機
液状体の)の相分縫状態によって決まるので、(A)と
の)の組合せおよび(B)と[F])の混合比率を変え
ることによシ容易に制御出来、また、多孔化率は(B)
とO:1)の混合比率により容易に制御出来る。従って
、凝固液中での樹脂の凝固、溶媒の拡散条件等の徽妙な
製膜条件の制御によって製造する湿式凝固膜や粉末粒子
を化学的あるいは熱的に結合させる焼結法膜にくらべて
本発明の方法は大部分は塗布液の組成によって制御でき
るので熟練した複雑な工程を必要とせず、容易に孔径等
の再現性のある膜が迅速に得られる。
又本発明の方法は紫外線または電線によ)三次元架橋さ
せた膜であるため耐溶剤性、耐薬品件に優れた多孔膜で
あるという特徴も有する。
さらに、本発明に用いる放射線硬化樹脂(4)の数平均
分子量はJ−000以上であるため、微多孔膜の機械的
物性すなわち破断伸び、強度、柔軟性にも優れている。
又、高分子量であるため、ハードセグメントの導入等、
樹脂設計上中があシ、低分子量有機オリゴマーに較べて
、有機液状体の〕の選択中が広く、相溶性のコントロー
ルされたものも合成しやすい。その結果、孔径コントロ
ールしゃすく微多孔膜製造上有利である。
又、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルホルムアミド等樹脂をよく溶解する溶剤(C)を用い
るので高分子量樹脂やノ・−ドセグメントの多い高弾性
率樹脂を用いても均一溶液に出来るため機械的強度の強
い膜が出来るという特徴も有する。
〔実施例〕
次に本発明を実施例によ)更に具体的に説明するが、本
発明はその要旨を越えない限υ以下の実施例に限定され
るものではない。
なお、本発明の参考例、実施例に示されている諸物性は
次の測定方法によった。
(11重量平均分子量、数平均分子量 GPC測定装置:東洋ソーダー製 HLC−♂oaUR カラム:東洋ソーダ TSKケル ()4tθθoH≦、G3θθ0H乙、 G、20θo
Ht。
G2θθoHご 溶剤:テトラヒドロフラン 測定温度: 4tO℃ 分子量算出:標準ポリスチレンを用いたGPC較正曲線
によシ分子量を算出 (2)  平均孔径CIA) 走査型電子顕微鏡で観察された微多孔膜の表面および裏
面の開孔部!θ個の直径を平均して求めた。
(3)  透湿度(,9/−・=4thr)J Is 
Z、2117/−ツタ7g に準じ、温度グθ℃?θ%
RHの条件下で測定した。
(4)耐水圧(samH,O) 、Tl8−L/θ9−2B法(高水圧法−静水圧法)に
準じて23℃、6J%RHの条件下で測定した。
(5)  透水速度(27m”・hr atm)アミコ
ンto!θセルを用い有効濾過面積i3.4tcils
差圧4’#I/cr1.温度、2J”Cの条件で測定し
た。
(6) PSラテックス粒子の排除率 ダウケミカル社の均一ポリスチレンラテックス粒子の水
溶液をアミコン♂0!0七ルを用いて差圧4tkli/
cdの条件での濾過し、透過液の吸光度測定によ多粒子
の排除率を求めた。
(力 有機液状体抽出率 膜厚約jOμの電子線照射を行った重量約1gの膜をn
−へΦサンコθ0rnlの溶媒に2分間浸漬し有機液状
体を抽出し、さらに、膜を取出しグθ℃の乾燥炉でn−
ヘキサンを除去した後、膜の重量を測定し次式に従って
抽出率を算出した。
al   all 有機液状体抽出率== −X / 00a、:(塗布に
使用したドープ重量)−(ドープ中の溶剤重量) (J
i) a、:有機液状体抽出、n−へキサン除去後−の微多孔
膜重量(9) b:ドープ中の可塑剤重量(J) (8)破断強度(kl/cril )、破断伸び(X)
テンシロン引張試験機によシ測定 測定条件 試料形状:短冊状長さ/ −i cit、巾/ffi、
厚さ!θμ チャック間長さ:!m 引張シ速度:jcm1分 測定 温度、湿度=23℃b ” X RH(9)耐溶
剤性(ゲル分率) 微多孔膜約/gを溶媒!θgの中に4t/時間浸漬し、
浸漬前後の膜室量を測定し下式に従って算出した。
S蔦 ゲル分率C!A’) = −X /θOO 80:溶剤浸漬前の膜室量 し) Sl:溶剤浸漬後の乾燥膜の重量 (9)参考例/(放
射線硬化樹脂の合成) 四ツ目フラスコにジフェニルメタンジインシアネート−
2t−2,!Jl、’/クロヘキt / ン41 / 
、2I、メチルインブチルケトン41129を仕込み内
温乙θ℃にした後、分子量♂!θのカプロラクトングリ
コールj/ O9と/、&−ブタンジオール2777の
混合溶液を滴下した。滴下終了後♂0℃で5時間反応を
行ない、引続きハイド口中ノンモノメチルエーテル0.
/ t Jiを添加し、コーヒドロキシエチルアクリレ
ート/ 7.4t I を滴下した。滴下終了後?θ℃
、3時間反応を続はアクリル基とインシアネート基を有
する変性インシアネートを得た。さらにこの反応物にト
リメチロールプロパン7.419とジブチルチンジラウ
レートθ、、2sgを一度に添加した後、20℃で3時
間反応を続はアクリル基を含有する放射線硬化樹脂を得
た。
得られた樹脂をGPC分析した結果、数平均分子量は/
Zθ00重量平均分子量はj Q、 00θであった。
参考例2(放射線硬化樹脂の合成) 四ツ目フラスコに2.4を一トリレンジインシアネー)
、2g(<J、シクロへdFfノン30θ11メチルイ
ンブチルケトン3o0pを仕込み内温をto℃にした後
、分子量!!θのカプロラクトングリコール33077
と/、41−ブタンジオールおりの混合溶液を滴下した
。滴下終了後!θ℃で5時間反応を行ない引続きハイド
ロキノンモノメチルエーテルθ、/ & jjを添加し
、コーヒドロをジエチルアクリレート、z:z、xiを
滴下した。滴下終了後L!″θ℃、3時間反応を続け、
アクリル基とインシアネート基を有する変性インシアネ
ートを得た。次に、ジペンタエリスリトール1モルにカ
プロラクト73モルを付加しタポリエステルボリオール
g7.p、シクロヘキサノン!θIおよびメチルイソブ
チルケトンよθIの混合溶液に上記変性インシアネート
を滴下した。滴下終了後更に♂0℃で3時間反応を続け
、アクリル基含有放射線硬化樹脂を得た。
得られた樹脂の数平均分子量は/ p、 0θ0、重量
平均分子量は4を乞0θθであった。
参考例3(放射線硬化樹脂の合成) 四ツ目フラスコにエポキシ当x’i、toのビスフェノ
ールA系エポキシ樹脂(エピコート10θ11シエル化
学社製)3にo7;1.アジピン酸1す、メチルエチル
ケトン、2♂OIおよびジメチルベンジルアミン7.3
gを仕込み、内温9θ℃にして3時間攪拌を行い、アジ
ピン酸で延長された両端にグリシジル基を有するエポキ
シ樹脂を得た。引続きこの内にハイドロキノンモノメチ
ルエーテルθ、θtry、アクリルM/J−1を添加し
更に90℃、7時間反応を続はアクリル基を含有する放
射線硬化樹脂を得た。
得られた樹脂の数平均分子量は、42θ0、重量平均分
子量はとコθθであった。
参考例グ(放射線硬化樹脂の合成) 四ツ目フラスコにエポキシ当量’1t−toのビスフェ
ノールA系エポキシ樹脂(エピコート100/、シェル
化学針M)りθθJ1アクリル酸71す、ジメチルベン
ジルアミンL’g、メチルハイドロキノンo、、zg、
メチルエチルケトン乙?にIを仕込み、内温り0℃にし
て攪拌しながら7時間反応を行い、アクリル基を含有す
る放射線硬化樹脂を得た。
得られた樹脂の数平均分子量はt−220、重量平均分
子量は2ノ/θであった。
実施例1 参考例1で合成した放射線硬化樹脂10θ11電子線ま
たは紫外線に対して非反応性である有機液状体としてセ
バシン酸ジブチルjθyおよび溶剤としてテトラヒドロ
フランjθyをfM合して均一で透明なドープ液を調製
した。このドープ液を厚さ3!μのPETフィルム上に
溶剤揮発後の膜厚が!θμになるように塗布し、グθ℃
の乾燥炉で溶剤を除去した。樹脂及び可塑剤に対する溶
解性が良好である溶剤が揮発したため、樹脂と可塑剤が
相分離し、膜が白化した。溶剤除去後、直ちに窒素気流
中で、加速電圧/7/;’KVの条件で/JMrad電
子線を照射し、膜を硬化させた。硬化した膜をPETフ
ィルムから剥し、n−ヘキサン溶剤中に1分間浸漬して
セバシン酸ジブチルを完全に抽出除去し、膜を取出した
後引続きグθ℃の乾燥炉でn−ヘキサンを除去して白色
の微多孔膜を得た。
得られた微多孔膜の物性を表/に示した。
実施例コ 参考例1で合成しfc81脂/ 20 M、セバシン酸
ジプチルグθlおよびテトラヒドロフラン!θlを混合
して均一で透明なドープ液を調製した。このドープ液を
用いて実施例7と同様にして微白色微多孔膜を得た。
得られた微多孔膜の物性を表7に示した。
実施例3 参考例=で合成した樹脂100Ji、テトラオキシエチ
レングリコールのジアクリレート化物log、アジピン
酸ジブチルグOgおよびテトラヒドロフランsoyを混
合して均一なドープ液を調製した。このドープ液を用い
て実施例7と同様にして微白色微多孔膜を得た。
得られた微多孔膜の物性を表/に示した。
実施例グ 参考例3で合成した樹脂/θθ11セバシン酸ジブチル
グθgおよびテトラヒドロフラン6077を混合して均
一で透明なドープ液を調製した。このドープ液を用いて
実施例1と同様にして微白色微多孔膜を得た。
得られた微多孔膜の物性を表/に示した。
比較例/ 参考例グで合成した樹脂ioog、セバシン酸ジブチル
<tog、テトラヒドロフラン!θμを混合して均一で
透明なドープ液を調製した。
このドープ液を用いて実施例1と同様にして白色微多孔
膜を得た。
得られた微多孔膜の物性を表/に示した。
比較例コ 参考例りで合成した樹脂/θθ11フタル酸  ・ジメ
チルグθ11テトラヒドロフラン!OJl′f:混合し
て均一で透明なドープ液を調製した。このドープ液を用
いて実施例1と同様にして膜を作成したが、白色にはな
らず透明膜であった。
得られた膜の物性を表7に示した。  ゛〔発明の効果
〕 本発明によって得られる微多孔膜は孔径コントロールが
出来、三次元架橋構造を有し、耐溶剤性、機械的物性に
優れた膜であシ、衣料、医療、包装、濾過材等の用途に
好適な材料である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(A)電子線または紫外線によって架橋可能な数
    平均分子量5,000以上の樹脂、 (B)電子線または紫外線に対して非反応性で、上記樹
    脂(A)とは相分離する有機液状体および (C)上記(A)および(B)を均一に溶解する溶剤か
    らなる組成物を製膜し、次いで溶剤(C)を除去して上
    記樹脂(A)と有機液状体(B)を相分離させ、さらに
    電子線または紫外線を照射した後有機液状体(B)を除
    去することを特徴とする微多孔膜の製造法。
  2. (2)有機液状体(B)を有機溶剤あるいは水によって
    抽出除去することを特徴とする特許請求の範囲第1項記
    載の製造法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2020537013A (ja) * 2017-10-10 2020-12-17 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se 弾性膜
US20220204660A1 (en) * 2019-09-19 2022-06-30 Henkel Ag & Co. Kgaa Photocurable (meth)acrylate compositions

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