JPS6322598A - ゴナトリエン誘導体およびその製造法 - Google Patents

ゴナトリエン誘導体およびその製造法

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JPS6322598A
JPS6322598A JP61165235A JP16523586A JPS6322598A JP S6322598 A JPS6322598 A JP S6322598A JP 61165235 A JP61165235 A JP 61165235A JP 16523586 A JP16523586 A JP 16523586A JP S6322598 A JPS6322598 A JP S6322598A
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Kazumasa Nitta
新田 一誠
Hiroaki Ueno
裕明 上野
Norio Hirabayashi
平林 紀雄
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、下垂体性ゴナドトロピン(F8H。
LH)の産生と放出を抑制し、子宮内膜症の治療薬とし
て有用な新規ゴナトリエン誘導体およびその製造法に関
する。
〔従来の技術〕
従来、下垂体性ゴナドトロピンの産生と放出を抑制する
薬剤としてはダナゾール(DanaZOl )が挙げら
れ、子宮内膜症の治療薬として極めて有効であることが
示されているが、更に活性の高い子宮内膜症治療薬につ
いて鋭意研究した結果、ダナゾールよυ更に強力にゴナ
ドトロピンの産生と放出を抑制し、従ってよシ少用量で
子宮内膜症を治療することのできる化合物を見い出し本
発明に到達した。
〔発明の要旨〕
本発明の要旨は、下記一般式(1) 〔式中、RはC8〜C1のアルキル基、又は−8OR’
または一8ONを表わし、R1はC2〜C1のアルキル
基を表わす。〕で示されるゴナトリエン誘導体およびそ
の製造法に存する。
〔発明の構成〕 上記一般式(I)において、Rは、メチル、エチル、プ
ロピルおよびイングロビル基の炭素数/〜3のアルキル
基を示すが、メチル基およびエチル基が好ましい。又は
、−8OR’またはSONを示シ、R”はC1〜C1の
アルキル基を示すが、−80C!H,が好ましい。
本発明化合物の具体例としては、例えば、次のものが挙
げられる。
17α−メチルスルフィニルメチル−77β−ヒドロキ
シ−73β−メチルーゴナーダ、9.//−トリエンー
3−オン 17α−メチルスルフィニルメチル−/りβ−ヒドロキ
シ−/3β−エチルーゴナーダ、9.//−トリエン−
3−オン /7α−メチルスルフィニルメチル−17β−ヒドロキ
シー/3β−プロビルーゴf−II、?、// −トリ
エン−3−オン/7α−チオシアナートメチル−/りβ
−ヒドロキシ−/3β−メチルーゴナーダ、9.// 
−トリエン−3−オン /7α−チオシアナートメチルー/りβ−ヒドロキシ−
73β−エチルーゴナーダ、9.// −トリエン−3
−オン /7α−チオシアナートメチルー77β−ヒドロキシ−
/Jβ−プロピルーゴナー9,9.//−トリエン−3
−オン 次に、本発明化合物の製造法について説明する0 本発明の一般式(1)で示されるゴナトリエン誘導体は
下記一般式(lI)で示されるそれ自体公知(フランス
特許第13コロ96コ号(/9Aざ年)およびフランス
特許第1!2494/号(iqt、を年))のジケトン
類から次のルートに従って製造される。
↓             ↓ (1)              (Vl)〔式中、
Rおよび又は一般式(1)で定義したとおりであり、x
lはSR’を表わし、R1はC0〜C1のアルキル基を
表わし、Yはエチレン基、トリメチレン基またはコ、コ
ージメチルトリメチレン基を表わす。〕 一般式(n)のジケトンは3位カルボニル基が選択的に
保護される。通常、一般式(II)のジケトンにエチレ
ンクリコール、トリメチレングリコール、コ、コージメ
チルトリメチレングリコールを酸性条件下に作用させて
一般式(III)のアセタールを得る。この際、脱水剤
としてオルトギ酸メチル、オルトギ酸エチルなどのオル
トエステル類を共存させると良い。又、オルトエステル
類を使用しない場合には、ベンゼン、トルエンなどの水
と共沸する溶媒を使用して生成する水を共沸脱水しなが
ら行うこともできる。
一般式(m)のアセタールは、沃化トリメチルスルホニ
ウム、沃化トリメチルスルホキソニウム、塩化トリメチ
ルスルホキソニウムなどのトリメチルスルホニウム、ト
リメチルスルホキンニウム類にカリウムt−ブトキシド
、水素化ナトリウムなどの塩基性物質を作用させて発生
させたジメチルスルホニウムメチリドあるいはジメチル
オキソスルホニウムメチリドを反応させて一般式(IV
)のエポキシトリエンにすることができる。この場合、
トリメチルスルホニウム1トリメチルスルホキソニウム
類はアセタール(ill)の等モル以上、好−ましくは
/、2〜3倍モル、カリウムt−ブトキシド、水素化ナ
トリウムはトリメチルスルホニウムあるいはトリメチル
スルホキンニウム類の等モル以上、好ましくはへl〜/
、j倍モル使用される。溶媒はジメチルスルホキシド、
ジメチルホルムアルデヒド、ジメチルアセトアミド、N
−メチルピロリドンなどの極性の高い非プロトン性溶媒
が好適に使用される。反応温度は一り0℃〜!θ℃、好
ましくはO℃〜30℃である。
一般式(V)のアルキルチオメチルトリエンは一般式(
IV)のエポキシトリエンにメチルメルカプタン、エチ
ルメルカプタン又はプロピルメルカプタンのナトリウム
塩を反応させることによって得られる。この場合、アル
キルメルカプタンのナトリウム塩はエポキシトリエン(
IV)の等モル以上、好ましくは2〜3倍モルを使用す
る。
溶媒ハエグーレンゲリコール、メタノール、エタ)−に
又nプロパツールなどのアルコール類が好ましい。反応
温度は室温以上30〜り0℃が好ましい。
一般式(Vl)のアルキルチオメチルトリエンは一般式
(V)のアルキルチオメチルトリエンを酸性条件下でア
セタール基を分解して、3位カルボニル基を再生させる
ことによって得ることができる。この工程は公知のアセ
タール脱保腰法なら如何なる方法も採用できるが、アセ
トンおよびメチルエチルケトンなどのケトン類を溶媒と
し、触媒量のp−)ルエンスルホ/酸、硫酸又は硝酸な
どの酸性化合物を添加して行なうのが好ましい。
一般式(1)のアルキルスルフィニルメチルトリエンは
一般式(Vl)のアルキルチオメチル)IJエンを過酸
で酸化することによって得ることができる。この場合、
過酸は過ヨウ素酸カリウム又は過ヨウ素酸ナトリウムが
好ましく、溶媒は水トメタノールあるいはエタノールと
の混合溶媒が好ましく、反応温度は10〜30℃が好ま
しい。
一方、一般式(I)のチオシアナートメチルトリエンは
一般式(■)のエポキシメチルトリエンにチオシアン酸
ナトリウムの水溶液と酢酸を反応させることによって得
られる。この場合、チオシアン醒ナトリウムはエポキシ
トリエン(IV)の等モル以上、好ましくは10−20
倍を使用し、酢酸はエポキシトリエン(IV)の等モル
以上、好ましくは3〜10倍使用する。溶媒はメタノー
ル、エタノール又はプロパツールなどのアルコール類が
好ましく、反応温度は室温以上30〜70℃が好ましい
本発明の一般式CI)のゴナトリエン騎導体は、次のル
ートに従って一般式(■)のゴナジエン類からも製造で
きる。
(■)         ”   (IX)〔式中、R
およびXは一般式(1)で定義したとオリでh !+ 
、RIおよびR2はC1〜C4のアルキル基を示し、R
1とR2が一緒になって −(CH,)n−(nは一〜
qの整数)を表わしてもよい。〕一般式(■)のゴナジ
エン類の製造法はArZn−eimitt61f−Or
schung7 Drug Res 、 (アルツナイ
ミツテルフオルクユンク/ドラッグ リサーチ)2ダ 
(/9りII)194−900頁に記述された方法で製
造できる。
一般式(Vll)のゴナジエンはジメチルアミン、ジエ
チルアミン、ピロリジンなどのアミン類(直を反応させ
一般式(1)00エナミンを製造する。
一般式(■)中、R,およびR8は炭素数l−ダのアル
キル基であり、R1とR2が一緒になって−(OH2)
。−(nは一〜ダの整数)を形成していても良い。通常
、ピロリジンが好適に使用できる。
アミン類(■)の使用量はゴナジエン(■)の等モル以
上、通常7.5〜3倍モルが使用される。溶媒はメタノ
ール、エタノール、プロパツールなどの低級アルコール
類が使用される。反応温度は一/θ〜70℃、通常/Q
−ダO℃で実施される。
一般式(IX)のエナミンは酢酸、プロピオン酸、酪酸
などの低級脂肪酸と処理すると一般式(X)のジエンを
与える。この際、低級脂肪酸類は溶媒蓋使用してよく、
また水が共存してもよい。
低級脂肪酸に対する水の量は0./〜O,S倍容量が好
適である。反応温度は−10℃〜50℃、好ましくは一
λ〜10℃である。
一般式(X)のジエンをDDQ (ジシアノジクロロベ
ンゾキノン)で脱水素すると所望のゴナトリエン(1)
が得られる。DDQの使用量はジエン(X)の等モル以
上、好ましくは八り〜3倍モル使用される。溶媒は非プ
ロトン性溶媒が好ましく、通常ジオキサン、テトラヒド
ロフランなど環状エーテル類が使用される。反応温度は
10−タO℃、通常室温でちる。
〔発明の効果〕
本発明化合物(1)は、強い抗ゴナドトロピン作用を有
し、子宮内膜症の治療薬として有用である。
〔実施例〕
以下、実施例によυ、本発明を更に砕細に説明するが、
本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定
されない。
実施例/: /3β−エチルー/7β−ヒドロキシ−/
7α−メテルテオメテルーゴナーダ、9.//−トリエ
ン−J−オン 工HA:  /Jl’−エチルー3−エチレンジオキシ
ーゴナーダ、q、/ / −)リエンー/7−オン 6.00 、!? (2八2 !; mmol )の1
3β−エテルーゴナーダ、?、/ / −トリエン−3
,17−ジオンを、yistntのテトラヒドロフラン
に浴解し、/帽コーのエチレングリコール、次いで触媒
量(200■)のp−トルエンスルホンy’t 加、t
、全体を水浴中で0℃に冷却した02g、3mlのオル
トギ酸エチルを加え、窒素気流下、0℃にて3時間攪拌
した後、j++Jのトリエチルアミンを加え反応を中止
した。反応液を、300−の酢酸エチルで希釈し、炭酸
水素ナトリウム飽和水溶液、飽和食塩水で洗浄した。洗
浄した水層をII O0nlの塩化メチレンで抽出し、
有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下に蒸発乾
固した後、?、j f gの粗生成物を黄色の油状物と
して得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで処理し、n−ヘキサン−酢酸エチルの混
合溶媒にて溶出し、1.2 ? 、9(収率90.6チ
)の/3β−エチルー3−エチレンジオキシーゴナーダ
、デ、//−)IJエン−/り一オンを黄白色の結晶と
して得た。
工程B: /3β−エチルー3−エチレンジオキシ−ゴ
ナー弘、?、/ / −)リエンー/7β−スピロ−t
1.2′−オキシラン 上記工程Aで得られたA、29g (/ 9.コクmm
ol )  の/3β−エチルー3−エチレンジオキシ
ーゴナーダ、9./ / −)ジエン−lクーオンを6
0−のジメチルホルムアミドに溶解し、り、t A I
Iの沃化トリメチルスルホニウムを加え、窒素気流下、
室温にて3分間攪拌した。次いでIQ / gのカリウ
ムt−ブトキシドを加え、2素気流下、室温にてさらに
aS分間攪拌した。
反応液を!r00mlの酢酸エチルで希釈し、塩化アン
モニウム飽和水溶液、飽和食塩水で洗浄した。洗浄した
水層を300 areの酢酸エチルで抽出し、有機層を
無水硫酸マグネシウムで乾燥し減圧下に蒸発乾固した後
、L/ ? #の粗生成物を褐色の油状物として得た。
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで処理し、n−ヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒にて
溶出し、z、b 31 (ざま、t%)の/3β−エチ
ルー3−エチレンジオキシーゴf −!、?、/ / 
−トリエン−17β−スピロ−八−′−オキシランをア
モルファス状の固形物として得た。
工iC:  /3β−エチルー3−エチレンジオキシ−
/7β−ヒドロキシー/7α−メチルチオメチル−ゴナ
−Q、?、/ / −) +7エン上記工程Bで得られ
た3、3g& (/ OJ mmol )の/Jβ−エ
チルー3−エチレンジオキシーゴナーダ、?、/ / 
−)リエンー/7β−スピロ−/’、2’−オキシ2ン
を/jO−のエチレングリコールに溶解した。次いで/
2dの75%メチルメルカプタンナトリウム水溶液を加
え、窒素気流下、60℃において3時間攪拌した。反応
液を室温に冷却し1.500m1の酢酸エチルで希釈し
、水、飽和食塩水で洗浄し、洗浄した水増をコ00−の
酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、減圧下に蒸留乾固した後、?、? 
0.9の粗生成物を褐色の油状物として得、このものを
精製することなく次の工程で使用した。
工程T):  /、lβ−エチル−lりβ−ヒドロキシ
−/りα−メチルチオメチル−ゴナー弘、?、/ /−
)リエンー3−オン 上記工程Cで得られた?、70.9の13β−エチル−
3−エチレンジオキン−/7β−ヒドロキシー/7α−
メチルチオメチル−ゴナー弘、9゜//−トリエンの粗
生成物を7jTO−のアセトンに浴解し、30wdの水
を加え、次いで触媒量<ioomy)のp−1ルエンス
ルホン酸を加えた。室温にて70分間攪拌した後に10
m1の炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて反応を中止し
た。反応液を300−の酢酸エチルで希釈し、水、飽和
食塩水で洗浄し、洗浄した水層をis。
−の酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせ無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、減圧下に蒸留乾固した後、S、ダ
vyの粗生成物を褐色の油状物として得た。得られた粗
生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで処理し、n−
ヘキサン−酢酸エチルの混合溶媒で溶出し、ユ、コ9g
(収率ダコ%)の/3β−エチル−7りα−ヒドロキシ
−/りβ−メチルチオメチル−ゴナーQ、9.//−ト
リエン−3−オンをアモルファス状の固形物として得た
工程F、:  /3β−エチルー/7β−ヒドロキシ−
/7α−メチルースルフイニルメチルーゴナーダ、’p
、ii−トリエンー3−オン上記工程りで得られたLA
 / I (11,47nonol)の/3β−エテル
ー/7β−ヒドロキシ−/7α−メチルチオメチルーゴ
ナー+、q、/ / −トリエン−3−オンを、300
−のメタノールに溶解し、次いで八j / I (ij
 II mmol)の過ヨウ素を300−の水に溶解し
た水溶液を加え、窒素気流下、室温においてλ日間攪拌
した。反応液を300m1のクロロホルムで抽出し、水
および飽和食塩水で洗浄し、洗浄した水層を200td
のクロロホルムにて抽出した。有機層を合わせ、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に蒸留乾固した後、/
、/ 09の粗生成物を黄色の油状物として得た。得ら
れた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで処理し
、クロロホルム−メタノールの混合溶媒で溶出し、酢酸
エチル−n−ヘキサンの混合溶媒より再結晶させ、o、
gsg(収率tI7%)の/Jp−エチル−/7β−ヒ
ドロキシー/7α−メチルスルフイニルメテルーゴナー
ダ、9./ / −トリエン−3−オンを白色の結晶と
して得た。(融点iqy〜/??℃)NMR(CDC1
,、90MHz ) δ : 1.0 タ   (3H,t、、T= 7.s
 H2)コ、Aj   (,7H,日) コ、9 A  (lH,d、J=/JJH2)j、/ 
!  (lH,d、J=/、7JHz)!;、IO(l
H,brs) lj O(lH,d、、r=9H2) b、b tr  (lH,a、J=9az)工R(KB
r)   3 ’I j O、/ A !r 06B−
’実施例、2:  /3β−エチルー17β−ヒドロキ
シ−77α−チオシアナートーメチルーゴナーダ、?、
/ /−トリエン−3−オン実施例/の工程AおよびB
と同様の操作で得られた/、ざ21 (ij !; m
mol )  の13β−エチル−3−エチレンジオキ
シ−ゴナ−!、?、/ /−トリエン−/7β−スピロ
ー/’、2’−オキシランを200−のメタノールに溶
解した。次いでLA 71 (/ 07 mmol )
  のチオシアン酸ナトリウムを30−の水に溶解した
水溶液と2.jadの氷酢酸を加え、窒素気流下、35
℃において3日間攪拌した。反応液を室温に冷却し1.
300−のクロロホルムで希釈し、水および飽和食塩水
で洗浄し、洗浄した水層を/θOmlのクロロホルムで
抽出した。有機層を合わせ、無水硫酸マグネシウムで乾
燥し、減圧下に蒸留乾固した後、ハ9弘lの粗生成物を
黄褐色のアモルファス状の固体として得た。得られた粗
生成物をシリカゲルクロマトグラフィーで処理し、酢酸
エチル−n−ヘキサンの混合溶媒で溶出し、酢酸エチル
−n−へキサンの混合溶媒より再結晶させ0.7 & 
# (収率J9%)の73μmエチル−/りβ−ヒドロ
キシ−/7α−チオシアナートメチル−ゴナ−y、q、
// −) !jエンー3−オンを白色の結晶として得
た。(融点/92〜/qlI℃)NMR(ODC/!、
、  、  タOMHz)δ: /、o r  <3H
,t、J=q、raz’)3.07  (lH,d、、
T=/コHz)、7J ?  (lH,d、、r=/、
2H2)!;、t 3  (lH,brs ) A、J9  (lH,d、、T=10.jHz)149
  (lH,d、、T=/θ、hHz)工R(KBr)
   Jダso、2210./4110.−’出 願 
人  三菱化成工業株式会社 代 理 人 弁理士長香川  − ほか1名

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下記一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、RはC_1〜C_3のアルキル基、Xは−SO
    R^1または−SCNを表わし、R^1はC_1〜C_
    3のアルキル基を示す。〕で示されるゴナトリエン誘導
    体。
  2. (2)下記一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、RはC_1〜C_3のアルキル基、Xは−SO
    R^1または−SONを表わし、R^1はC_1〜C_
    3のアルキル基を表わす。〕で示されるゴナトリエン誘
    導体を製造する方法において、下記一般式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 〔式中、RはC_1〜C_3のアルキル基を表わす。〕
    の化合物にエチレングリコール、トリメチレングリコー
    ルまたは2,2−ジメチルトリメチレングリコールを酸
    性条件下に反応させて下記一般式(III): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 〔式中、Rは一般式( I )で定義したとおりであり、
    Yはエチレン基、トリメチレン基、 2,2−ジメチルトリメチレン基を表わす。〕の中間生
    成物を生成させ、次いで生成した一般式(III)の化合
    物にジメチルスルホニウムメチリドまたはジメチルオキ
    ソスルホニウムメチリドを反応させて下記一般式(IV)
    : ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) 〔式中、RおよびYは一般式( I )および(III)で定
    義したとおりである。〕 の中間生成物を生成させ、この一般式(IV)の化合物に
    金属アルキルスルフイドを反応させて下記一般式(V)
    : ▲数式、化学式、表等があります▼(V) 〔式中、X’は−SR^1を表わし、R^1はC_1〜
    C_3のアルキル基を表わし、RおよびYは一般式(
    I )および(III)で定義したとおりである。〕の中間
    生成物を生成させ、さらに酸で処理して3−アセタール
    保護基を脱離することにより、下記一般式(VI) ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) 〔式中、RおよびX’は一般式(V)で定義したとおり
    である。〕の中間生成物を生成させ、さらに酸化剤でア
    ルキルスルフイドをアルキルスルホキシドに酸化させる
    ことにより、一般式( I )中、Rが−SOR^1で表
    わされるアルキルスルフイニルメチルトリエン誘導体を
    製造するか、あるいは、中間生成物(VI)にチオシアン
    酸の金属塩と酸とを作用させて直接一般式( I )中R
    が−SCNで表わされるチオジアナートメチルトリエン
    誘導体を製造することを特徴とする一般式( I )のゴ
    ナトリエン誘導体の製造法。
  3. (3)下記一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、RはC_1〜C_3のアルキル基、Xは−SO
    R^1または−SCNを表わし、R^1はC_1〜C_
    3のアルキル基を表わす。〕で示されるゴナトリエン誘
    導体を製造する方法において、下記一般式(VII): ▲数式、化学式、表等があります▼(VII) 〔式中、RおよびXは一般式( I )で定義したとおり
    である。〕 に下記一般式(VIII) ▲数式、化学式、表等があります▼(VIII) 〔式中、R_1、およびR_2、はC_1〜C_4、の
    アルキル基を表わし、R_1とR_2が一緒になつて−
    (CH_2)n−(nは2〜4の整数)を表わしてもよ
    い。〕で示されるアミン類を反応させ、下記一般式(I
    X): ▲数式、化学式、表等があります▼(IX) 〔式中、RおよびXは一般式( I )で定義したとおり
    であり、R_1およびR_2は一般式(VIII)で定義し
    たとおりである。〕 の中間生成物を生成させ、次いで酸で処理して下記一般
    式(X): ▲数式、化学式、表等があります▼(X) 〔式中、RおよびXは一般式( I )で定義したとおり
    である。〕 の中間生成物を生成させ、これにジクロロジシアノベン
    ゾキノン(DDQ)を反応させて一般式( I )のゴナ
    トリエンを製造することを特徴とするゴナトリエン誘導
    体の製造法。
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JPS5312849A (en) * 1976-06-14 1978-02-04 Ienafuarumu Veb Production of novel gonaa4*9 *10**diene

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