JPS63213116A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS63213116A JPS63213116A JP62045471A JP4547187A JPS63213116A JP S63213116 A JPS63213116 A JP S63213116A JP 62045471 A JP62045471 A JP 62045471A JP 4547187 A JP4547187 A JP 4547187A JP S63213116 A JPS63213116 A JP S63213116A
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Classifications
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/12—Organic material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G—PHYSICS
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B5/8408—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers protecting the magnetic layer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気記録媒体の製造方法に関し、特に磁気記
録媒体の保護膜上に被着される潤滑層の被着方法に関す
るものである。
録媒体の保護膜上に被着される潤滑層の被着方法に関す
るものである。
近年、電子計算機の利用が質、量ともに進展しているた
め、外部記憶装置に対する記録容量増加も日に日に強ま
っている。この要求に対応するため、磁気ディスク装置
においては、停止時には、磁気ヘッドが磁気記録媒体表
面のランディングゾーンに当接し、磁気ディスク装置駆
動時には、磁気記録媒体の回転(回転数二数子rpm)
による風圧で磁気ヘッドが浮上する、いわゆるコンタク
トスタートストップ型(以下、rC5S型」という。)
が普及してきた。
め、外部記憶装置に対する記録容量増加も日に日に強ま
っている。この要求に対応するため、磁気ディスク装置
においては、停止時には、磁気ヘッドが磁気記録媒体表
面のランディングゾーンに当接し、磁気ディスク装置駆
動時には、磁気記録媒体の回転(回転数二数子rpm)
による風圧で磁気ヘッドが浮上する、いわゆるコンタク
トスタートストップ型(以下、rC5S型」という。)
が普及してきた。
そして、このC8S型の磁気ディスク装置に適し、かつ
磁気ヘッドの浮上量が0.2μm以下であっても対応で
きる磁気記録媒体として、次のようなものが必る。すな
わち、アルミニウム等からなる非磁性基体上に、真空蒸
着法等によりCo−Ni等からなる磁性薄膜及び炭素(
C)等からなる保護膜を設け、さらにこの保護膜上に潤
滑層を被着したものである。この保護膜上に潤滑層を被
着する理由は、CSS型磁気ディスク装置においては、
磁気ヘッドと磁気記録媒体とが、磁気記録媒体の回転開
始及び回転停止により摩擦が生じて損傷することを防止
するためである。
磁気ヘッドの浮上量が0.2μm以下であっても対応で
きる磁気記録媒体として、次のようなものが必る。すな
わち、アルミニウム等からなる非磁性基体上に、真空蒸
着法等によりCo−Ni等からなる磁性薄膜及び炭素(
C)等からなる保護膜を設け、さらにこの保護膜上に潤
滑層を被着したものである。この保護膜上に潤滑層を被
着する理由は、CSS型磁気ディスク装置においては、
磁気ヘッドと磁気記録媒体とが、磁気記録媒体の回転開
始及び回転停止により摩擦が生じて損傷することを防止
するためである。
前述した潤滑層の被着方法としては、従来、特開昭61
−133029号公報に記載された方法や特開昭61−
214132号公報に記載された方法があった。すなわ
ち、特開昭61−133029号公報に記載された方法
は、非磁性基体上に磁性薄膜及び保護膜を順次設けた後
真空下で加熱し、自然冷却し、その後保護膜上に液体の
潤滑剤を滴下し、スピンコード法により潤滑層を被着し
た。また、特開昭61−214132号公報に記載され
た方法は、非磁性基体上に磁性薄膜及び保護膜を順次設
けた後50’C以上の温度で加熱し、潤滑剤をペーパー
デポジション法により蒸発させ保護膜上に潤滑層を被着
した。
−133029号公報に記載された方法や特開昭61−
214132号公報に記載された方法があった。すなわ
ち、特開昭61−133029号公報に記載された方法
は、非磁性基体上に磁性薄膜及び保護膜を順次設けた後
真空下で加熱し、自然冷却し、その後保護膜上に液体の
潤滑剤を滴下し、スピンコード法により潤滑層を被着し
た。また、特開昭61−214132号公報に記載され
た方法は、非磁性基体上に磁性薄膜及び保護膜を順次設
けた後50’C以上の温度で加熱し、潤滑剤をペーパー
デポジション法により蒸発させ保護膜上に潤滑層を被着
した。
しかしながら、従来の何れの方法においても、潤滑層を
被着するとき、非磁性基体の周囲の温度、すなわち保護
膜上に潤滑層を被着する作業空間の温度を均一に制御し
ていないことから、以下の問題点がおる。
被着するとき、非磁性基体の周囲の温度、すなわち保護
膜上に潤滑層を被着する作業空間の温度を均一に制御し
ていないことから、以下の問題点がおる。
先ず、特開昭131−133029@公報の方法では、
潤滑剤は溶媒で希釈して用いられるので、その溶媒の蒸
発速度が均一でなく、そのために一つの磁気記録媒体の
潤滑層の膜厚が不均一となるばかりでなく、複数の磁気
記録媒体間においても膜厚がばらついてしまう。
潤滑剤は溶媒で希釈して用いられるので、その溶媒の蒸
発速度が均一でなく、そのために一つの磁気記録媒体の
潤滑層の膜厚が不均一となるばかりでなく、複数の磁気
記録媒体間においても膜厚がばらついてしまう。
また、特開昭61−214132号公報の方法では、非
層した保護膜の温度を、潤滑層の被着中、一定の温度に
保持することは非常に困難であり、そのため前述した方
法と同様に膜厚が不均一となったり、ばらついてしまう
。
層した保護膜の温度を、潤滑層の被着中、一定の温度に
保持することは非常に困難であり、そのため前述した方
法と同様に膜厚が不均一となったり、ばらついてしまう
。
したがって、潤滑層の膜厚が不均一となったり、またば
らつきが生じると、特にランディングゾーンの潤滑層の
膜厚が所望の膜厚よりも厚くなると、磁気ヘッドがラン
ディングゾーンに当接しているとき、すなわち、磁気記
録媒体が回転していないとき、磁気ヘッドの当接面が潤
滑層内に埋没してしまい、磁気記録媒体が回転するとき
、回転不能となったり円滑に磁気ヘッドが浮上しない問
題点がある。
らつきが生じると、特にランディングゾーンの潤滑層の
膜厚が所望の膜厚よりも厚くなると、磁気ヘッドがラン
ディングゾーンに当接しているとき、すなわち、磁気記
録媒体が回転していないとき、磁気ヘッドの当接面が潤
滑層内に埋没してしまい、磁気記録媒体が回転するとき
、回転不能となったり円滑に磁気ヘッドが浮上しない問
題点がある。
本発明は、前述した問題点を除去するためになされたも
ので、その特徴は、非磁性基体上に、磁性薄膜と保護膜
とを順次設け、前記保護膜上に潤滑層を被着する磁気記
録媒体の製造方法において、密閉され、かつ実質的に均
一な温度分布を有する雰囲気中に、前記磁性薄膜と前記
保護膜とを設けた前記非磁性基体と、前記潤滑層を形成
する潤滑剤とを配置し、さらに前記潤滑剤を加熱し、蒸
発させ、前記保護膜上に前記潤滑層を被着する磁気記録
媒体の製造方法でおる。
ので、その特徴は、非磁性基体上に、磁性薄膜と保護膜
とを順次設け、前記保護膜上に潤滑層を被着する磁気記
録媒体の製造方法において、密閉され、かつ実質的に均
一な温度分布を有する雰囲気中に、前記磁性薄膜と前記
保護膜とを設けた前記非磁性基体と、前記潤滑層を形成
する潤滑剤とを配置し、さらに前記潤滑剤を加熱し、蒸
発させ、前記保護膜上に前記潤滑層を被着する磁気記録
媒体の製造方法でおる。
なお、本発明の望ましい態様として、前記雰囲気が大気
圧であること、また前記雰囲気が恒温槽で形成されるこ
と、また前記潤滑剤が液体であることで必る。
圧であること、また前記雰囲気が恒温槽で形成されるこ
と、また前記潤滑剤が液体であることで必る。
本発明の一実施例を第1図〜第4図に基づき以下に詳述
する。
する。
先ず、第3図及び第4図に示すように、直径が130m
で、内径(穴径)が40arsで、厚さが1,9簡のア
ルミニウム合金からなる非磁性基体1の両生表面上に、
ニッケルソンからなるメッキ層2(膜厚:10μ)を積
層し、次にこのメッキ層2上に、マグネトロンスパッタ
リング法により、クロムからなる下地層3(膜厚: 2
000人)とCoN i Cr合金からなる強磁性の磁
性薄膜4(膜厚ニア00人)とCからなる保護膜5(膜
厚:400人)を順次積層し、保護膜付基体6を製造す
る。なお、中心に穴6aがある。
で、内径(穴径)が40arsで、厚さが1,9簡のア
ルミニウム合金からなる非磁性基体1の両生表面上に、
ニッケルソンからなるメッキ層2(膜厚:10μ)を積
層し、次にこのメッキ層2上に、マグネトロンスパッタ
リング法により、クロムからなる下地層3(膜厚: 2
000人)とCoN i Cr合金からなる強磁性の磁
性薄膜4(膜厚ニア00人)とCからなる保護膜5(膜
厚:400人)を順次積層し、保護膜付基体6を製造す
る。なお、中心に穴6aがある。
次に、前述の保護膜付基体6の保護膜5上に■滑層を被
着する装置について説明する。この潤滑層被着装置は第
1図及び第2図に示すように、密閉された空間を形成す
るための恒温槽10と保護膜付基体6を恒温槽10中に
配置するための基体ホルダー11とを備えている。この
恒温槽10には、基体ホルダー11と液体の潤滑剤13
を収納する、一方が開口している潤滑剤用容器12(材
質は石英ガラスである。)を載置するための網目状の載
置板10aと、恒温槽10内の雰囲気を加熱するための
ヒータ10bとを内在しており、さらにヒータ10bに
電圧を印加する交流電源10Cがヒータ10bに連結さ
れている。また、この恒温槽10の対向する側面10d
1.10d2の一方の側面10d 1の一部10d 1
1は開閉自在となっており、この側面10d lから基
体ホルダ11や潤滑剤用容器12を搬入、搬出する。
着する装置について説明する。この潤滑層被着装置は第
1図及び第2図に示すように、密閉された空間を形成す
るための恒温槽10と保護膜付基体6を恒温槽10中に
配置するための基体ホルダー11とを備えている。この
恒温槽10には、基体ホルダー11と液体の潤滑剤13
を収納する、一方が開口している潤滑剤用容器12(材
質は石英ガラスである。)を載置するための網目状の載
置板10aと、恒温槽10内の雰囲気を加熱するための
ヒータ10bとを内在しており、さらにヒータ10bに
電圧を印加する交流電源10Cがヒータ10bに連結さ
れている。また、この恒温槽10の対向する側面10d
1.10d2の一方の側面10d 1の一部10d 1
1は開閉自在となっており、この側面10d lから基
体ホルダ11や潤滑剤用容器12を搬入、搬出する。
また、恒温槽10内には温度センサ10eが内在し、さ
らに交流電源10Cと温度センサ10eとの間に恒温槽
10内の雰囲気を所望する温度に維持するための制御装
置10fが設けられている。一方、基体ホルダ11は、
4本の脚11aと、この脚11aの上端に固着された口
字状の枠11bと、枠11bの長手方向る円柱状の支持
棒11Gとからなるものでおる。さらに短枠部11b1
の支持棒11Cが当接するところは、半円柱状の凹部1
1dが形成され、この凹部11dに支持棒11cが嵌合
している。
らに交流電源10Cと温度センサ10eとの間に恒温槽
10内の雰囲気を所望する温度に維持するための制御装
置10fが設けられている。一方、基体ホルダ11は、
4本の脚11aと、この脚11aの上端に固着された口
字状の枠11bと、枠11bの長手方向る円柱状の支持
棒11Gとからなるものでおる。さらに短枠部11b1
の支持棒11Cが当接するところは、半円柱状の凹部1
1dが形成され、この凹部11dに支持棒11cが嵌合
している。
々
次に、潤滑層被着装置により、保護膜付基板6の保護膜
5上に潤滑層を被着する方法を述べる。
5上に潤滑層を被着する方法を述べる。
先ず、保護膜付基体6を支持棒11cに通しで支持した
基体ホルダ11と、原液のままのフルオロカーTOrr
である。)を収納した潤滑剤用容器12とを、恒温槽1
0の側面10d1の一部10d11を開けて、この一部
d11から搬入してそれぞれ載置板10a上に載置し、
側面10d1の一部10d11を閉じて密閉した空間を
形成する(空間内の圧力は大気圧である。)次に、交流
電源10Cと温度センサ10eとの間に設けられた制御
装置10fにより恒温槽10内の雰囲気の温度を150
℃に設定し、交流電源10CをONにし、ヒータ10b
により恒温槽10内の雰囲気を約り0℃/分の速度で昇
温し、室温から150℃まで上昇させ、さらに60分間
150℃±2℃で保持し、その後、保護膜付基体6を恒
温槽10から搬出する。
基体ホルダ11と、原液のままのフルオロカーTOrr
である。)を収納した潤滑剤用容器12とを、恒温槽1
0の側面10d1の一部10d11を開けて、この一部
d11から搬入してそれぞれ載置板10a上に載置し、
側面10d1の一部10d11を閉じて密閉した空間を
形成する(空間内の圧力は大気圧である。)次に、交流
電源10Cと温度センサ10eとの間に設けられた制御
装置10fにより恒温槽10内の雰囲気の温度を150
℃に設定し、交流電源10CをONにし、ヒータ10b
により恒温槽10内の雰囲気を約り0℃/分の速度で昇
温し、室温から150℃まで上昇させ、さらに60分間
150℃±2℃で保持し、その後、保護膜付基体6を恒
温槽10から搬出する。
この150℃に保持した工程で潤滑剤13は気化し、ま
た保護膜付基板6の保護膜5も加熱され、さらに実質的
に均一な温度で恒温槽10内の雰囲気が維持されている
ことから保護膜5の温度も実質的に一定に維持でき、保
護膜5上に均一な膜厚30人士5人の潤滑層が被着され
磁気記録媒体を製造した。
た保護膜付基板6の保護膜5も加熱され、さらに実質的
に均一な温度で恒温槽10内の雰囲気が維持されている
ことから保護膜5の温度も実質的に一定に維持でき、保
護膜5上に均一な膜厚30人士5人の潤滑層が被着され
磁気記録媒体を製造した。
以上本例によれば、恒温槽10内の雰囲気の温度を実質
的に均一な温度にして潤滑層を被着していることから、
溶媒の蒸発速度を均一にすることができ、さらに保護膜
5の温度を実質的に一定に保持することができ、これら
により潤滑層の膜厚を均一にすることができた。また、
恒温槽10内の雰囲気の設定温度、保持時間を実質的に
同一にしておけば、保護膜付基体6間の潤滑層の膜厚の
ばらつきも防止することができる。したがって、磁気潤
滑層の膜厚が厚くなることを防止でき、回転時において
磁気ヘッドを円滑に浮上させることができる。また、前
述した設定温度(150℃)に雰囲気を保持しておくこ
とから、保護膜5もそれに伴って高温に保持され、仮に
潤滑層の厚い部分ができても、その部分の余分な潤滑剤
は再び蒸発し、実質的に均一な膜厚の潤滑層を被着でき
る。これは、保護膜5と潤滑剤との結合力が、潤滑剤間
の結合力よりも大きいことから、保護膜5表面と強く結
合した潤滑層分景悸は、保護膜5の温度によって決定さ
れる膜厚を超えては被着しずらく、その決定される膜厚
を超えた膜厚部分に対応する潤滑剤は再び蒸発してしま
うからである。また、本例においては、保護膜付基体6
を立てて支持したことから、両生表面に設けられた保護
膜5上に同時に潤滑層を被着することができ、製造コス
トを低減することができる。また、大気圧の雰囲気中で
潤滑層を被着したので、従来の方法(特開昭61−21
4132@公報に記載された方法)のように真空ポンプ
等の真空系を必要とせず、経済的効果は大である。さら
に、本例においては、一つのヒータ10bによって、保
護膜付基体6と潤滑剤13を共に加熱できるので、装置
を簡素化できる。
的に均一な温度にして潤滑層を被着していることから、
溶媒の蒸発速度を均一にすることができ、さらに保護膜
5の温度を実質的に一定に保持することができ、これら
により潤滑層の膜厚を均一にすることができた。また、
恒温槽10内の雰囲気の設定温度、保持時間を実質的に
同一にしておけば、保護膜付基体6間の潤滑層の膜厚の
ばらつきも防止することができる。したがって、磁気潤
滑層の膜厚が厚くなることを防止でき、回転時において
磁気ヘッドを円滑に浮上させることができる。また、前
述した設定温度(150℃)に雰囲気を保持しておくこ
とから、保護膜5もそれに伴って高温に保持され、仮に
潤滑層の厚い部分ができても、その部分の余分な潤滑剤
は再び蒸発し、実質的に均一な膜厚の潤滑層を被着でき
る。これは、保護膜5と潤滑剤との結合力が、潤滑剤間
の結合力よりも大きいことから、保護膜5表面と強く結
合した潤滑層分景悸は、保護膜5の温度によって決定さ
れる膜厚を超えては被着しずらく、その決定される膜厚
を超えた膜厚部分に対応する潤滑剤は再び蒸発してしま
うからである。また、本例においては、保護膜付基体6
を立てて支持したことから、両生表面に設けられた保護
膜5上に同時に潤滑層を被着することができ、製造コス
トを低減することができる。また、大気圧の雰囲気中で
潤滑層を被着したので、従来の方法(特開昭61−21
4132@公報に記載された方法)のように真空ポンプ
等の真空系を必要とせず、経済的効果は大である。さら
に、本例においては、一つのヒータ10bによって、保
護膜付基体6と潤滑剤13を共に加熱できるので、装置
を簡素化できる。
本発明は前記実施例に限らず下記のものであってもよい
。
。
先ず、潤滑剤としては、Krytox(Du Pont
社製商品名) 、Fluorad(スリーエム社製商品
名)、Demnum(ダイキン工業社製商品名)等のフ
ッ素化オイルや熱安定性が高く潤滑性の大きいバルミチ
ン酸、オレイン酸等の脂肪酸やシリコンオイル等の室温
での蒸気圧が10−9〜1o−2rorrの範囲のもの
が望ましい。すなわち蒸気圧がto−2rorrを超え
るものは、粘性が低くなるため、磁気記録媒体を磁気デ
ィスク装置に装着し、磁気記録媒体を回転すると、潤滑
層が磁気記録媒体の外周方向に移動したり、蒸発するこ
とがおることから、経時変化が生じてしまう。一方、蒸
気圧が10−9未満では非常に被着時間が長くなること
から、作業性が低下してしまう。また、前記実施例では
、潤滑剤用容器12の下方に配設されたヒータ10bに
より潤滑剤を気化していたが、このヒータ10bと、潤
滑剤13中に埋没した別のヒータとの両者によって潤滑
剤を気化してもよい。この別のヒータを用いると、特に
室温での蒸気圧が10’Torr以下の潤滑剤に対して
被着時間の短縮に効果がある。また、雰囲気の昇温速度
及び設定温度の保持時間は潤滑剤及び保護膜のそれぞれ
の材質に適して決定すればよい。
社製商品名) 、Fluorad(スリーエム社製商品
名)、Demnum(ダイキン工業社製商品名)等のフ
ッ素化オイルや熱安定性が高く潤滑性の大きいバルミチ
ン酸、オレイン酸等の脂肪酸やシリコンオイル等の室温
での蒸気圧が10−9〜1o−2rorrの範囲のもの
が望ましい。すなわち蒸気圧がto−2rorrを超え
るものは、粘性が低くなるため、磁気記録媒体を磁気デ
ィスク装置に装着し、磁気記録媒体を回転すると、潤滑
層が磁気記録媒体の外周方向に移動したり、蒸発するこ
とがおることから、経時変化が生じてしまう。一方、蒸
気圧が10−9未満では非常に被着時間が長くなること
から、作業性が低下してしまう。また、前記実施例では
、潤滑剤用容器12の下方に配設されたヒータ10bに
より潤滑剤を気化していたが、このヒータ10bと、潤
滑剤13中に埋没した別のヒータとの両者によって潤滑
剤を気化してもよい。この別のヒータを用いると、特に
室温での蒸気圧が10’Torr以下の潤滑剤に対して
被着時間の短縮に効果がある。また、雰囲気の昇温速度
及び設定温度の保持時間は潤滑剤及び保護膜のそれぞれ
の材質に適して決定すればよい。
また、恒温槽内の雰囲気の温度、すなわち密閉された雰
囲気の温度は150’Cに限らず、100℃〜300℃
の範囲が望ましい。なぜなら、100℃未満であると保
護膜表面に吸着している水分や他の有機系の分子を熱脱
離させることができず潤滑剤によっては付着が低下し、
また300℃を超えると磁気特性が変化したり、潤滑剤
によっては熱分解や酸化が生じてしまう。また、前記実
施例では密閉した雰囲気が大気圧であったが真空にして
もよい。
囲気の温度は150’Cに限らず、100℃〜300℃
の範囲が望ましい。なぜなら、100℃未満であると保
護膜表面に吸着している水分や他の有機系の分子を熱脱
離させることができず潤滑剤によっては付着が低下し、
また300℃を超えると磁気特性が変化したり、潤滑剤
によっては熱分解や酸化が生じてしまう。また、前記実
施例では密閉した雰囲気が大気圧であったが真空にして
もよい。
また、前記実施例では、密閉した雰囲気の温度を±2°
Cの範囲で制御したが、±10℃でおってもよい。また
、前記実施例では、保護膜付基体と潤滑剤の両者を恒温
槽内に搬入した後、所望の温度(150℃)まで昇温さ
せたがこれに限らず、先ず恒温槽内の雰囲気の温度を所
望の温度まで昇温したのち、保護膜付基体と潤滑剤を搬
入してもよい。
Cの範囲で制御したが、±10℃でおってもよい。また
、前記実施例では、保護膜付基体と潤滑剤の両者を恒温
槽内に搬入した後、所望の温度(150℃)まで昇温さ
せたがこれに限らず、先ず恒温槽内の雰囲気の温度を所
望の温度まで昇温したのち、保護膜付基体と潤滑剤を搬
入してもよい。
さらに、非磁性基体とじ℃は、ガラス基板、セラミック
基板、熱安定性の高い有機樹脂基板等でもよく、保護膜
としては、SiO2膜、 Si3 N4膜。
基板、熱安定性の高い有機樹脂基板等でもよく、保護膜
としては、SiO2膜、 Si3 N4膜。
Cr膜とC膜との積層膜等の公知の膜であってもよく、
また非磁性基体と磁性薄膜との間の下地層がなくてもよ
い。
また非磁性基体と磁性薄膜との間の下地層がなくてもよ
い。
(発明の効果)
以上のとおり本発明によれば、保護膜付基体を均一な温
度分布を有する雰囲気中に配置して潤滑層を被着するこ
とから、被着した潤滑層の膜厚が均一となり、また、潤
滑層を形成する潤滑剤も前述した雰囲気中に配置され、
保護膜付基体と共に加熱されることから製造装置を簡素
にすることができる。
度分布を有する雰囲気中に配置して潤滑層を被着するこ
とから、被着した潤滑層の膜厚が均一となり、また、潤
滑層を形成する潤滑剤も前述した雰囲気中に配置され、
保護膜付基体と共に加熱されることから製造装置を簡素
にすることができる。
第1図〜第4図は本発明の一実施例を示す図で、第1図
は潤滑層被着装置の概略図であり、第2図は基体ホルダ
を示す斜視図でおり、第3図は保護膜付基体を示す部分
断面図であり、第4図は保護膜付基体を示す平面図であ
る。 1・・・非磁性基体、2・・・メッキ層、3・・・下地
層、4・・・磁性薄膜、5・・・保護膜、6・・・保護
膜付基体、7・・・ランディングゾーン、10・・・恒
温槽、10b・・・ヒータ、11・・・基体ホルダ、1
2・・・潤滑剤用容器、13・・・潤滑剤
は潤滑層被着装置の概略図であり、第2図は基体ホルダ
を示す斜視図でおり、第3図は保護膜付基体を示す部分
断面図であり、第4図は保護膜付基体を示す平面図であ
る。 1・・・非磁性基体、2・・・メッキ層、3・・・下地
層、4・・・磁性薄膜、5・・・保護膜、6・・・保護
膜付基体、7・・・ランディングゾーン、10・・・恒
温槽、10b・・・ヒータ、11・・・基体ホルダ、1
2・・・潤滑剤用容器、13・・・潤滑剤
Claims (4)
- (1)非磁性基体上に、磁性薄膜と保護膜とを順次設け
、前記保護膜上に潤滑層を被着する磁気記録媒体の製造
方法において、密閉され、かつ実質的に均一な温度分布
を有する雰囲気中に、前記磁性薄膜と前記保護膜とを設
けた前記非磁性基体と、前記潤滑層を形成する潤滑剤と
を配置し、さらに前記潤滑剤を加熱し、蒸発させ、前記
保護膜上に前記潤滑層を被着することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。 - (2)特許請求の範囲第(1)項において、前記雰囲気
が大気圧であることを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法。 - (3)特許請求の範囲第(1)項又は第(2)項におい
て、前記雰囲気が恒温槽で形成されていることを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法。 - (4)特許請求の範囲第(1)項、第(2)項又は第(
3)項において、前記潤滑剤が液体であることを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62045471A JPS63213116A (ja) | 1987-02-28 | 1987-02-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
US07/162,023 US4882197A (en) | 1987-02-28 | 1988-02-29 | Method for depositing a lubricant layer to manufacture a magnetic recording medium |
US07/402,364 US4920919A (en) | 1987-02-27 | 1989-09-05 | Method and device for depositing a lubricant layer to manufacture a magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62045471A JPS63213116A (ja) | 1987-02-28 | 1987-02-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63213116A true JPS63213116A (ja) | 1988-09-06 |
Family
ID=12720302
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62045471A Pending JPS63213116A (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4882197A (ja) |
JP (1) | JPS63213116A (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5736020A (en) * | 1995-04-24 | 1998-04-07 | Hmt Technology Corporation | Target assembly for use in forming an overcoat in a magnetic recording medium |
US5520981A (en) * | 1995-04-24 | 1996-05-28 | Hmt Technology Corporation | Magnetic recording disk with overcoat thickness gradient between a data zone and a landing zone |
US5650900A (en) * | 1996-02-05 | 1997-07-22 | Seagate Technology, Inc. | Magnetic disc with zoned lubricant thickness |
US6517691B1 (en) * | 1998-08-20 | 2003-02-11 | Intevac, Inc. | Substrate processing system |
US6183831B1 (en) * | 1998-08-20 | 2001-02-06 | Intevac, Inc. | Hard disk vapor lube |
US6355300B1 (en) | 1998-12-07 | 2002-03-12 | Seagate Technology Llc | Disc lubrication for the load/unload head disc interface |
US6627302B1 (en) | 2001-03-27 | 2003-09-30 | Seagate Technology Llc | Lubricant overcoat for recording media and a process for making the same |
US6602911B2 (en) * | 2001-11-05 | 2003-08-05 | Cypress Bioscience, Inc. | Methods of treating fibromyalgia |
US7247397B2 (en) * | 2003-12-09 | 2007-07-24 | Imation Corp. | Thermally stable perfluoropolyether lubricant for recording media |
US20080241367A1 (en) * | 2007-03-29 | 2008-10-02 | Intevac Corporation | Apparatus for and method of applying lubricant coatings to magnetic disks via a vapor flow path including a selectively opened and closed shutter |
US20090047417A1 (en) * | 2007-03-30 | 2009-02-19 | Barnes Michael S | Method and system for vapor phase application of lubricant in disk media manufacturing process |
US8585912B2 (en) * | 2008-07-23 | 2013-11-19 | HGST Netherlands B.V. | System, method and apparatus for batch vapor deposition of adhesion promoter for manufacturing discrete track media and bit-patterned media, and mono-molecular layer lubricant on magnetic recording media |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3466156A (en) * | 1966-12-01 | 1969-09-09 | Ncr Co | Magnetic record members |
US3619283A (en) * | 1968-09-27 | 1971-11-09 | Ibm | Method for epitaxially growing thin films |
US3719525A (en) * | 1969-01-09 | 1973-03-06 | Control Data Corp | Magnetic record members having a protective recording surface and method of making |
US3634040A (en) * | 1970-05-27 | 1972-01-11 | Us Air Force | Metal explosion apparatus |
US4171388A (en) * | 1971-09-02 | 1979-10-16 | Corning Glass Works | Magnetic recording and storage device having high abrasion resistance and method |
JPS5255603A (en) * | 1975-10-31 | 1977-05-07 | Nec Corp | Magnetic memory element and production of same |
DE3024918A1 (de) * | 1979-07-02 | 1981-01-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetisches aufzeichnungsmaterial und verfahren zu dessen herstellung |
-
1987
- 1987-02-28 JP JP62045471A patent/JPS63213116A/ja active Pending
-
1988
- 1988-02-29 US US07/162,023 patent/US4882197A/en not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-09-05 US US07/402,364 patent/US4920919A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4882197A (en) | 1989-11-21 |
US4920919A (en) | 1990-05-01 |
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