JPS6319571U - - Google Patents

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JPS6319571U
JPS6319571U JP11373686U JP11373686U JPS6319571U JP S6319571 U JPS6319571 U JP S6319571U JP 11373686 U JP11373686 U JP 11373686U JP 11373686 U JP11373686 U JP 11373686U JP S6319571 U JPS6319571 U JP S6319571U
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JP
Japan
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raw material
material gas
injector
discharge port
disperses
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JP11373686U
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【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の一実施例の正面から見たイン
ジエクタ断面概略図、第２図は本考案の一実施例
の側面から見たイナジエクタ断面概略図、第３図
は従来のインジエクタ正面から見たインジエクタ
断面概略図、第４図は従来のインジエクタ側面か
ら見たインジエクタ断面概略図である。 １……原料ガス導入口、２……仕切板、３……
仕切板、４……仕切板、５……通気口、６……通
気口、７……通気口、８……第１分散室、９……
第２分散室、１０……第３分散室、１１……吐出
口、１２……原料ガス導入口、１３……拡散室、
１４……吐出口。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 上部の一箇所に原料ガスを導入するパイプ状の
    導入口と原料ガスを偶数倍に分散せしめる多段の
    仕切板を有する分散室と分散された原料ガスを噴
    出せしめるスリツト状の吐出口とで構成された連
    続常圧ＣＶＤ装置用インジエクタ。
JP11373686U 1986-07-23 1986-07-23 Pending JPS6319571U (ja)

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JP11373686U JPS6319571U (ja) 1986-07-23 1986-07-23

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JP11373686U JPS6319571U (ja) 1986-07-23 1986-07-23

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JPS6319571U true JPS6319571U (ja) 1988-02-09

Family

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Family Applications (1)

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JP11373686U Pending JPS6319571U (ja) 1986-07-23 1986-07-23

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JP (1) JPS6319571U (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004127853A (ja) * 2002-10-07 2004-04-22 Sekisui Chem Co Ltd プラズマ表面処理装置の電極構造
JP2012031490A (ja) * 2010-08-02 2012-02-16 Ulvac Japan Ltd プラズマ処理装置及び前処理方法
JP2012084238A (ja) * 2010-10-06 2012-04-26 Ulvac Japan Ltd プラズマ処理装置及び前処理方法
JP2016008348A (ja) * 2014-06-26 2016-01-18 住友金属鉱山株式会社 ガス放出ユニット及びこれを具備する成膜装置

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JP2012084238A (ja) * 2010-10-06 2012-04-26 Ulvac Japan Ltd プラズマ処理装置及び前処理方法
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