JPS63191948A - Through hole inspection device - Google Patents
Through hole inspection deviceInfo
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- G01N21/956—Inspecting patterns on the surface of objects
- G01N21/95692—Patterns showing hole parts, e.g. honeycomb filtering structures
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は例えばプリント板におけるスルーホール内面に
施されているメッキ層に存在する断線。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention is directed to, for example, a disconnection that exists in a plating layer applied to the inner surface of a through hole in a printed board.
ピンホール等の欠陥を光学的に検出するスルーホール検
査装置に係り、とくに安価で信頼性の向上に好適なスル
ーホール検査装置に関する。The present invention relates to a through-hole inspection device that optically detects defects such as pinholes, and particularly relates to a through-hole inspection device that is inexpensive and suitable for improving reliability.
従来、電子部品を搭載する両面プリント板や多層プリン
ト板には、それらの基板に形成されている表裏プリント
配線間や各層プリント配線間の電気的接続のために、ス
ルーホールが形成されている。Conventionally, through-holes have been formed in double-sided printed boards and multilayer printed boards on which electronic components are mounted for electrical connection between front and back printed wiring formed on these boards and between printed wiring in each layer.
上記スルーホールは、基板の両面に例えば銅箔からなる
配線パターンを形成したのち、スルーホール内壁に無電
界メッキ法により例えば銅等の層を形成し、この上に更
に電界メッキ法により例えば半田層を積層して完成され
る。The above-mentioned through hole is formed by forming a wiring pattern made of, for example, copper foil on both sides of the board, then forming a layer of, for example, copper on the inner wall of the through hole by electroless plating, and then layering, for example, a solder layer by electroplating. are completed by laminating them.
しかるに、スルーホール径が微細化するに従い、内壁へ
のメッキ層の形成が困難となって、導通不良が生じる原
因となりやすい。また、メッキの不完全さにより、部分
的にピンホールやクラ・ツク等が発生し、部品が搭載さ
れて稼働開始後に導通不良が生じる場合がある。このよ
うな不良は当初発見し難く、実稼動中において装置の傷
害として現れるために、極めて重大な事故につながる場
合が少なくない。これを防止するには、あらかじめこの
ような潜在的な不良を検出して排除することが重要であ
る。However, as the diameter of the through hole becomes smaller, it becomes difficult to form a plating layer on the inner wall, which tends to cause poor conduction. In addition, due to incomplete plating, pinholes, cracks, etc. may occur in some parts, and poor conductivity may occur after parts are mounted and operation begins. Such defects are difficult to detect at the beginning and appear as damage to the device during actual operation, often leading to extremely serious accidents. To prevent this, it is important to detect and eliminate such potential defects in advance.
従来、上記のようなスルーホール内壁における断線や切
れかかり等の微小欠陥を検出する方法としては、例えば
第10図に示すような方法が用いられていた。すなわち
同図に示すようにスルーホール2が形成されているプリ
ント板1の表面に対して平行光線束3が投射され、被検
対象となるスルーホール2上には、直接に平行光線束3
が投射されないようにするため、遮光ローラ4が設けら
れている。プリント板1に投射された平行光線束3は、
プリント板1の内部に侵入し、散乱しながら拡散する。Conventionally, a method as shown in FIG. 10, for example, has been used as a method for detecting minute defects such as wire breaks and cuts on the inner wall of a through hole as described above. That is, as shown in the figure, a parallel light beam 3 is projected onto the surface of the printed circuit board 1 on which the through hole 2 is formed, and the parallel light beam 3 is directly projected onto the through hole 2 to be inspected.
A light shielding roller 4 is provided to prevent the image from being projected. The parallel light beam 3 projected onto the printed board 1 is
It invades the inside of the printed board 1 and spreads while scattering.
遮光ローラ4によって遮光されているスルーホール2の
内部を、レンズ5及びラインセンサ6から成る検出光学
系により観測すると、スルーホール2の内壁に形成され
ているメッキ層2aに前記欠陥2bが存在しない場合に
は、暗い状態、即ち光が検出されない状態であるが、メ
ッキ層2aに欠陥2bが存在する場合は、プリント板1
の内部を拡散した光が欠陥2bからスルーホール2内に
漏洩し、その結果、スルーホール2の内部は、明るい状
態、即ち光が検出される状態となる。このようにして、
遮光ローラ4とレンズ5及びラインセンサ6から成る検
出光学系との間をすべての被検対象スルーホールが通過
するようにプリント板1を移動させ、その間に各スルー
ホール2内への漏れ光の有無を検出して前記欠陥2bの
存在を探知する。なお、この種の装置として関連するも
のには、例えば特開昭61−75241号および電子材
料1985年10月号127頁乃至130頁に紹介され
ている。When the inside of the through hole 2, which is shielded from light by the light shielding roller 4, is observed by a detection optical system consisting of a lens 5 and a line sensor 6, it is found that the defect 2b does not exist in the plating layer 2a formed on the inner wall of the through hole 2. If the plating layer 2a has a defect 2b, the printed board 1 is in a dark state, that is, no light is detected.
The light diffused inside the through hole 2 leaks from the defect 2b into the through hole 2, and as a result, the inside of the through hole 2 becomes a bright state, that is, a state where light can be detected. In this way,
The printed circuit board 1 is moved so that all the through holes to be inspected pass between the light shielding roller 4 and a detection optical system consisting of a lens 5 and a line sensor 6, and during this time, the leakage light into each through hole 2 is detected. The presence of the defect 2b is detected by detecting its presence or absence. Incidentally, related devices of this type are introduced, for example, in Japanese Patent Application Laid-open No. 75241/1983 and in the October 1985 issue of Electronic Materials, pages 127 to 130.
前記の従来技術にはつぎのような問題点がある。 The above-mentioned conventional technology has the following problems.
すなわち
(1)第1の問題点
第11図(a)に示すようにスルーホール2の内壁メッ
キN2 aの膜厚が甚しく減少したりあるいは表面アラ
サが悪いといった欠陥が発生した場合、スルーホール2
内への漏れ光では全く検出できないため、見逃してしま
うことがある。In other words, (1) First problem: As shown in FIG. 11(a), if defects such as a severe decrease in the thickness of the inner wall plating N2a of the through hole 2 or poor surface roughness occur, the through hole 2
The light leaking inward cannot be detected at all, so it may be overlooked.
(2)第2の問題点
第11図(b)に示すように多層プリント板1の各層の
配線パターン1bによりプリント板1内部での光の進行
を妨げられるため、スルーホール2内への漏れ光が極め
て微弱になる。(2) Second problem As shown in FIG. 11(b), the wiring pattern 1b of each layer of the multilayer printed board 1 obstructs the progress of light inside the printed board 1, causing leakage into the through hole 2. The light becomes extremely weak.
また多層プリント板工の層数が増加した場合にもスルー
ホール2内への漏れ光が極めて微弱になる。Furthermore, even when the number of layers in a multilayer printed board increases, the light leaking into the through hole 2 becomes extremely weak.
その結果、検査速度が低下する問題がある。As a result, there is a problem that the inspection speed decreases.
(3)第3の問題点
透光性を有するプリント板を対象としているので透光性
をもたない被検対象物には適用できないため適用範囲が
限定される。(3) Third problem: Since the test target is a printed board that has translucency, it cannot be applied to an object to be inspected that does not have translucency, so the scope of application is limited.
(4)第4の問題点
プリント板の品種の変更によってスルーホールの間隔が
変化した場合、その都度遅延速度を変えなければならな
いため、等間隔もしくはスルーホールの間隔の整数倍に
ならない不規則な位置に形成されたスルーホールに対し
ては、遅延量を設定することが困難である。(4) Fourth problem: If the through-hole spacing changes due to a change in the type of printed circuit board, the delay speed must be changed each time. It is difficult to set a delay amount for a through hole formed at a certain position.
またプリント板を移動させる速度が変化した場合には、
高信頼性を保持した状態でスルーホールの位置を検出す
ることが困難である。Also, if the speed at which the printed board is moved changes,
It is difficult to detect the position of the through hole while maintaining high reliability.
(5)第5の問題点
プリント板にそり、うねりなどがある場合、ラインセン
サが焦点はずれの影響を受けることがあり、かつスルー
ホールの一端部を遮光する遮光ローラがプリント板に正
確に密着しないためスルーホール内に光が入って誤判定
を引き起こすことがある。(5) Fifth problem: If the printed board has warps or undulations, the line sensor may be affected by defocusing, and the light-shielding roller that blocks light from one end of the through-hole will not come into close contact with the printed board accurately. As a result, light may enter the through hole and cause erroneous judgments.
これを防止するには、焦点はずれ検出機構を新たに設け
る必要がある。To prevent this, it is necessary to newly provide a defocus detection mechanism.
しかるに、従来の装置では欠陥判定機構とは全く別の独
立した光学系を有する焦点はずれ検出機構が必要となる
ため、装置全体の形状が大きくなるなどの問題がある。However, the conventional apparatus requires a defocus detection mechanism having an optical system completely separate from the defect determination mechanism, which causes problems such as an increase in the size of the entire apparatus.
本発明の目的は上記従来技術の問題点を解消し、簡単な
構成にて高速でかつ高信頼性の下で自動的に検出可能な
スルーホール検査装置を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art and to provide a through-hole inspection device that has a simple configuration, is capable of automatically detecting through-holes at high speed, and with high reliability.
上記第1乃至第3の問題点はスルーホール内にその一端
部斜方向から照明する照明手段と、スルーホール内他端
部からの散乱光を斜方向に検出する散乱光検出手段と、
この散乱光検出手段からの散乱光強度に基いてスルーホ
ール内の欠陥を検出する欠陥検出手段とを設けることに
よって達成され、上記第4の問題点は上記照明手段から
の照明光が上記スルーホールの内壁一端部に入射したと
き、1回だけ反射して直接上記スルーホール内を透過し
て他端部から外方に出た透過光の強度に基いて上記スル
ーホールの位置を検出する位置検出手段を設けることに
よって達成され、上記第5の問題点は上記照明光が上記
スルーホールを有する部材にスポットする位置に基いて
焦点ずれを検出する焦点ずれ検出手段を設けることによ
って達成される。The first to third problems mentioned above are the illumination means that illuminates the inside of the through hole from an oblique direction at one end thereof, the scattered light detection means that detects the scattered light from the other end of the through hole in an oblique direction,
This is achieved by providing a defect detection means for detecting a defect in the through-hole based on the intensity of the scattered light from the scattered light detection means. position detection for detecting the position of the through hole based on the intensity of transmitted light that, when incident on one end of the inner wall of the through hole, is reflected only once, directly passes through the through hole, and exits from the other end; The fifth problem is achieved by providing a defocus detecting means for detecting defocus based on the position where the illumination light spots on the member having the through hole.
本発明によるスルーホール検査装置は、その原理を第8
図に示すように、スルーホール2内一端部に該スルーホ
ール2の軸心方向に対して角度θだけ斜方向に配置され
た照明手段(図示せず)から照明光7を入射すると、照
明光7は、上記スルーホール2の内壁メッキ層2aで反
射を繰返しながらスルーホール2の内壁を伝播して他端
部に達する。The through-hole inspection device according to the present invention has the principle of
As shown in the figure, when illumination light 7 is incident on one end of the through hole 2 from an illumination means (not shown) disposed obliquely at an angle θ with respect to the axial direction of the through hole 2, the illumination light 7 propagates along the inner wall of the through hole 2 while repeatedly reflecting on the inner wall plating layer 2a of the through hole 2 and reaches the other end.
もし、上記スルーホール2の内壁途中に断線。If the wire breaks in the middle of the inner wall of through hole 2 above.
ピンホールなどの欠陥2bがある場合には、気泡などに
よってメッキ層2aが形成されていないかあるいはメッ
キ層2aの膜厚が甚しく薄いかのため、散乱光8が弱く
なって散乱光80強度は小さくなる。If there is a defect 2b such as a pinhole, the plating layer 2a is not formed due to air bubbles or the like, or the thickness of the plating layer 2a is extremely thin, so the scattered light 8 becomes weaker and the intensity of the scattered light 80 decreases. becomes smaller.
したがって上記スルーホール2の内壁他端部からの散乱
光の強度を検出すれば、その強弱によって上記スルーホ
ール2の内壁の欠陥2bの有無を検出することができる
。Therefore, by detecting the intensity of the scattered light from the other end of the inner wall of the through hole 2, the presence or absence of the defect 2b on the inner wall of the through hole 2 can be detected based on its strength.
また上記照明手段からの照明光7がスルーホール2の内
壁一端部に入射して1回だけ反射してスルーホール2内
を透過して他端部より出た透過光9aを検出することに
より上記スルーホール2の位置を検出することができる
。これと同時に上記スルーホール2があればその他端部
からの透過光9aは大きくなり、上記スルーホール2が
なければ透過光9aは他端部より出ないので、このスル
ーホール2の位置情報により、上記散乱光8が上記スル
ーホール2の内壁を伝播してきたのか、それ以外を通過
してきたものかを弁別することができる。In addition, the illumination light 7 from the illumination means enters one end of the inner wall of the through hole 2, is reflected only once, passes through the through hole 2, and detects the transmitted light 9a emerging from the other end. The position of the through hole 2 can be detected. At the same time, if the through hole 2 is present, the transmitted light 9a from the other end will be large, and if the through hole 2 is not present, the transmitted light 9a will not come out from the other end, so based on the position information of the through hole 2, It can be determined whether the scattered light 8 has propagated through the inner wall of the through hole 2 or has passed through other areas.
さらに上記照明手段からの照明光7がスリット光あるい
はスポット光であり、上記スルーホール2の内壁一端部
に入射したとき、上記プリント板1にそり、うねりなど
がある場合には、第4図(blに示すように上記プリン
ト板1の表面1aの上下方向の移動量ΔZ対応する量Δ
lだけ上記照明スリット光7のスポットする位置が変化
するので、この照明スリット光7のスポット位置を検出
することによって上記プリント板1の上下量ΔZ検出す
ることができるとともに上記照明スリット光の移動量Δ
iに応じて上記プリント板1を上下動させることにより
常に照明手段、散乱光検出手段、および位置検出手段と
プリント板1との位置関係を一定に保持することができ
る。Further, when the illumination light 7 from the illumination means is a slit light or a spot light and enters one end of the inner wall of the through hole 2, if the printed board 1 has warpage or undulation, the illumination light 7 shown in FIG. As shown in bl, the vertical movement amount ΔZ of the surface 1a of the printed board 1 corresponds to the amount Δ
The spot position of the illumination slit light 7 changes by l, so by detecting the spot position of the illumination slit light 7, the vertical amount ΔZ of the printed board 1 can be detected, and the amount of movement of the illumination slit light 7 can be detected. Δ
By moving the printed board 1 up and down in accordance with i, the positional relationship between the illumination means, the scattered light detection means, the position detection means, and the printed board 1 can always be maintained constant.
したがって、本発明によるスルーホール検査装置は、1
つの照明手段を共通に使用することによって欠陥検査、
スルーホールの位置検出、焦点ずれ検出を行うことがで
きるので、構成が簡単になりで装置全体の形状を小形化
し低価格をはかることができるとともに、従来のように
スルーホール不
の一端部を遮光する機構が%要となるので、プリント板
との接触信頼性の低下を防止することができる。Therefore, the through-hole inspection device according to the present invention has 1
Defect inspection by common use of two illumination means,
Since the position of the through-hole and the defocus can be detected, the configuration is simple, the overall shape of the device can be made smaller, and the cost can be lowered.In addition, one end of the through-hole can be shielded from light as in the conventional method. Since a mechanism to do this is required, it is possible to prevent a decrease in the reliability of contact with the printed board.
つぎに本発明によるスルーホール検査装置の共通部分で
ある照明手段、散乱光検出手段および欠陥検出手段の基
本構成すなわち1個のスルーホールに対して1個の上記
手段を設置した場合について第9図により説明する。Next, FIG. 9 shows the basic configuration of the illumination means, scattered light detection means, and defect detection means, which are common parts of the through-hole inspection apparatus according to the present invention, that is, the case where one of the above means is installed for one through-hole. This is explained by:
第9図に示すように、照明手段則は半導体レーザ101
と、コルメータレンズ102と、フォーカスレンズ10
3とから構成され、直径数μm乃至数十μmに絞ったレ
ーザスポット7をプリント板1のスルーホール2の内壁
メッキ層2aの一端部に向って上記スルーホール2の軸
心方向に対し角度θ傾斜して照射している。なお、上記
レーザスポット7のスルーホール2への入射角θはメッ
キ層2aにレーザスポット7が照射されるようにθ〉j
an””(アスペクト比)であれば任意の角度θを選定
することが可能である。ただし上記アスペクト比はスル
ーホール2の径/プリント板1の厚さである。As shown in FIG. 9, the illumination means rule is that the semiconductor laser 101
, colmeter lens 102 , and focus lens 10
A laser spot 7 focused to a diameter of several μm to several tens of μm is directed toward one end of the inner wall plating layer 2a of the through hole 2 of the printed board 1 at an angle θ with respect to the axial direction of the through hole 2. It is irradiated at an angle. Incidentally, the incident angle θ of the laser spot 7 on the through hole 2 is set such that the laser spot 7 is irradiated onto the plating layer 2a.
An”” (aspect ratio), it is possible to select any angle θ. However, the above aspect ratio is the diameter of the through hole 2/thickness of the printed board 1.
散乱光検出手段旦は対物レンズ111と、フォトダイオ
ード112とから構成され、上記スルーホール2の内壁
メッキ層2aの一端部に入射し上記メッキ層2aで反射
した結果得られる散乱光8を上記スルーホール2の内壁
メッキ層2aの他端部に向ってスルーホール2の軸心方
向に対し角度ψ傾斜する上記フォトダイオード112が
その強度を検出している。すなわち上記スルーホール2
の内壁メッキ層2aに欠陥2bがある場合には散乱光8
の強度が弱くなるので、この散乱光8の強度を検出する
ことによってスルーホール2が欠陥が正常であるかを弁
別することができる。なお、上記散乱光検出角度ψは上
記メッキ層2aに1回のみ反射して直接スルーホール2
内壁他端部に出る通過光(図示せず)を検出しないよう
にψ< tan”’ (アスペクト比)であることが必
要である。また上記散乱光検出手段旦は紙面に平行な位
置だけでなく、紙面に垂直な位置でも良く、上記スルー
ホール2を見込む位置であればどこの位置においても良
い。何故ならば、上記スルーホール2からの散乱光8は
上記プリント板1の法線方向、該スルーホール2の軸心
に対して対称となるからである。The scattered light detection means is composed of an objective lens 111 and a photodiode 112, and detects the scattered light 8 obtained as a result of being incident on one end of the inner wall plated layer 2a of the through hole 2 and reflected by the plated layer 2a. The photodiode 112, which is inclined at an angle ψ with respect to the axial direction of the through hole 2 toward the other end of the inner wall plated layer 2a of the hole 2, detects the intensity. In other words, the through hole 2
If there is a defect 2b in the inner wall plating layer 2a, scattered light 8
Since the intensity of the scattered light 8 becomes weak, by detecting the intensity of the scattered light 8, it can be determined whether the through hole 2 is defective or normal. Note that the scattered light detection angle ψ is reflected only once on the plated layer 2a and directly passes through the through hole 2.
It is necessary that ψ<tan"' (aspect ratio) so as not to detect the passing light (not shown) exiting from the other end of the inner wall. Also, the scattered light detecting means must be located only at a position parallel to the plane of the paper. The position may be perpendicular to the plane of the paper, or any position that looks into the through hole 2. This is because the scattered light 8 from the through hole 2 is directed in the normal direction of the printed board 1. This is because it is symmetrical with respect to the axis of the through hole 2.
上記プリント板1の位置決めは、たとえばスルーホール
2の径がφ350μm、θ−ψ=45°の場合、±12
0μm(350μm4)で良いので、充分実現できる値
である。For example, when the diameter of the through hole 2 is φ350 μm and θ−ψ=45°, the positioning of the printed board 1 is ±12
0 μm (350 μm4) is sufficient, which is a sufficiently achievable value.
欠陥検出手段■は詳細な構成については後述するが、上
記散乱光検出角度肥のフォトダイオード112からの出
力信号に基いて欠陥スルーホールと、正常スルーホール
とを弁別している。The defect detection means (2), whose detailed structure will be described later, discriminates between defective through holes and normal through holes based on the output signal from the photodiode 112 of the scattered light detection angle.
なお、上記第9図においては照明に半導体レーザ101
を用いた場合を示しているが、これに限定されるもので
なく、たとえばHe−Neレーザなど照明光源として使
用するものであればよい。Note that in FIG. 9 above, a semiconductor laser 101 is used for illumination.
Although a case is shown in which the illumination light source is used, the present invention is not limited thereto, and any light source that can be used as an illumination light source, such as a He-Ne laser, may be used.
また散乱光検出手段旦にフォトダイオード112を用い
た場合を示しているが、これに限定されるものでなくた
とえばフォトマルチプライアなどのスポット形検出器で
あればよい。Further, although a case is shown in which a photodiode 112 is used as the scattered light detection means, the present invention is not limited to this, and any spot type detector such as a photomultiplier may be used.
以下、本発明の一実施例を示す第1図乃至第6図につい
て説明する。1 to 6 showing one embodiment of the present invention will be described below.
第1図において、烈は照明手段、旦は散乱光検出手段、
肥は欠陥検出手段、Uは位置検出手段、貝は焦点ずれ検
出手段である。In FIG. 1, Retsu is an illumination means, Dan is a scattered light detection means,
Hi is a defect detection means, U is a position detection means, and shell is a defocus detection means.
上記照明手段用は半導体レーザ101および3個のシリ
ンドリカルレンズ104.105.106から構成され
、かつその光軸線はスルーホール2の軸心方向に対して
角度θだけ傾斜し、例えばスリット長40mm、スリッ
ト幅50μmのレーザスリット光7をプリント板1に形
成された多数個のスルーホール2の内壁一端部に同時に
照射している。The illumination means is composed of a semiconductor laser 101 and three cylindrical lenses 104, 105, and 106, and its optical axis is inclined at an angle θ with respect to the axial direction of the through hole 2. For example, the slit length is 40 mm, the slit is Laser slit light 7 having a width of 50 μm is simultaneously irradiated onto one end of the inner wall of a large number of through holes 2 formed in a printed board 1.
また第2図に示すように上記半導体レーザ101側の上
記シリンドリカルレンズ104は、上記半導体レーザ1
01からの照明レーザ光7のスポットを一方向に広げ、
中央に位置する上記シリンドリカルレンズ105は照明
レーザ光7を平行光束にし、上記プリント板1側に位置
する上記シリンドリカルレンズ106は照明レーザ光7
をスリット状に集光し同時に複数個のスルーホール2を
照射するように形成されている。なお、上記照明レーザ
光7の光軸線の傾斜角度θは該照明レーザ光7が上記ス
ルーホール2の内壁メッキ層2aに照射されるようにθ
> tan−’ Cアスペクト比(スルーホール径/プ
リント板の厚さ)〕の範囲内にあれば、任意の角度に選
定可能である。Further, as shown in FIG. 2, the cylindrical lens 104 on the semiconductor laser 101 side is connected to the semiconductor laser 1
The spot of the illumination laser beam 7 from 01 is spread in one direction,
The cylindrical lens 105 located in the center converts the illumination laser beam 7 into a parallel beam, and the cylindrical lens 106 located on the printed board 1 side converts the illumination laser beam 7 into a parallel beam.
It is formed so that the light is condensed into a slit shape and simultaneously irradiates a plurality of through holes 2. Incidentally, the inclination angle θ of the optical axis of the illumination laser beam 7 is set such that the illumination laser beam 7 is irradiated onto the inner wall plating layer 2a of the through hole 2.
>tan-'C aspect ratio (through-hole diameter/thickness of printed board)], any angle can be selected.
上記散乱光検出手段旦は対物レンズ111、リニアイメ
ージセンサ112から構成され、かつ光軸線はスルーホ
ール2の軸心方向に対して角度ψだけ傾斜し、上記照明
手段側から多数個のスルーホール2の内壁一端部に同時
に入射した照明レーザ光7がそれぞれ上記スルーホール
2の内壁メッキ層2aで反射しつつ散乱光8となって他
端部まで移動し、上記対物レンズ111を介してリニア
イメージセンサ112に入射したとき、リニアイメージ
センサ112が多数個のスルーホール2内からの散乱光
8の強度と同時に検出する。すなわち、上記スルーホー
ル2の内壁メッキ層2aに欠陥2bである場合には上記
スルーホールの内壁メッキ層2aで反射した入射光7が
欠陥2bにより反射しないので、上記スルーホール2の
内壁他端部から対物レンズ111に入射する散乱光8の
強度は弱くなる。The scattered light detection means is composed of an objective lens 111 and a linear image sensor 112, and the optical axis is inclined by an angle ψ with respect to the axial direction of the through hole 2. The illumination laser beams 7 simultaneously incident on one end of the inner wall of the through-hole 2 are reflected by the inner wall plating layer 2a of the through-hole 2, become scattered light 8, and move to the other end of the linear image sensor via the objective lens 111. 112 , the linear image sensor 112 simultaneously detects the intensity of the scattered light 8 from within the multiple through holes 2 . That is, if there is a defect 2b in the inner wall plating layer 2a of the through hole 2, the incident light 7 reflected on the inner wall plating layer 2a of the through hole is not reflected by the defect 2b, so that the other end of the inner wall of the through hole 2 The intensity of the scattered light 8 that enters the objective lens 111 becomes weaker.
したがってリニアイメージセンサ112にて散乱光8の
強度を検出することにより多数個のスルーホール2の内
壁メッキ層2aに欠陥2bがあるか否かを同時に検出す
ることができる。Therefore, by detecting the intensity of the scattered light 8 with the linear image sensor 112, it is possible to simultaneously detect whether or not there is a defect 2b in the inner wall plating layer 2a of a large number of through holes 2.
なお、上記光軸線の傾斜角度ψは上記スルーホール2の
内壁メッキ層2bから反射したレーザ光のうち散乱する
ことなく直接スルーホール2内を透過して他端部から出
る透過光9aを検出しないようにするためのψ> ja
n−’(アスペクト比)であることが必要である。Incidentally, the inclination angle ψ of the optical axis line is such that out of the laser light reflected from the inner wall plating layer 2b of the through hole 2, the transmitted light 9a that directly passes through the through hole 2 without being scattered and exits from the other end is not detected. ψ> ja to make it
It is necessary that the aspect ratio is n-' (aspect ratio).
上記位置検出手段Uは対物レンズ131 と、リニアイ
メージセンサ132とから構成され、かつその光軸線は
上記スルーホール2の軸心方向に対して角度ψだけ傾斜
し、上記スルーホール2の内壁一端部に入射し内壁メッ
キ層2aで1回だけ入射したレーザ光のうち、直接スル
ーホールを透過して他端部から出た透過光9aの強度を
対物レンズ131を介してリニアイメージセンサ−32
で検出して位置データを上記欠陥検出手段肥の2値化回
路121に出力するようにしている。The position detecting means U is composed of an objective lens 131 and a linear image sensor 132, and its optical axis is inclined by an angle ψ with respect to the axial direction of the through hole 2, and one end of the inner wall of the through hole 2 Of the laser light that has entered the inner wall plating layer 2a only once, the intensity of the transmitted light 9a that directly passes through the through-hole and exits from the other end is measured through the objective lens 131 to the linear image sensor 32.
The position data is detected and outputted to the binarization circuit 121 of the defect detection means.
なお、上記対物レンズ131およびリニアイメージセン
サ−32の傾斜角度ηは上記スルーホール2内からの透
過光9aのみを直接検出するため、ηニー tan−
’(アスペクト比)としている。Incidentally, the inclination angle η of the objective lens 131 and the linear image sensor 32 is set at η knee tan- because only the transmitted light 9a from inside the through hole 2 is directly detected.
' (aspect ratio).
ま
ただし、上記傾斜角度ηとOくη< tari−’(ア
スペクト比)である。Furthermore, the above-mentioned inclination angle η and O η<tari-' (aspect ratio).
上記欠陥検出手段兵は、第3図fa) (b)に示すよ
うに上記位置検出手段朦のリニアイメージ132からの
出力を2値化回路121により2値化する。すなわち、
上記2値化回路121は上記リニアイメージセンサ−3
2からの出力があらかじめ設定した値以上の場合のみ出
力ありとするもので、これによってスルーホール2の位
置を知ることができる。このようにして得られた上記ス
ルーホール2の位置データに基いて最大検出領域発生回
路122により上記散乱光検出手段共のリニアイメージ
112の出力から最大値を求める領域を発生させ、この
タンミングを用いて最大検出回路123により上記散乱
光検出手段共のリニアイメージセンサ112の出力の最
大値を求めたのち、2値化回路124により上記リニア
イメージセンサ112の出力の最大値を2値化して欠陥
出力を得ることによってスルーホール2内の欠陥2bを
検出する。The defect detection means binarizes the output from the linear image 132 of the position detection means by a binarization circuit 121, as shown in FIG. 3(b). That is,
The binarization circuit 121 is the linear image sensor 3.
There is an output only when the output from the through hole 2 is equal to or higher than a preset value, and this allows the position of the through hole 2 to be known. Based on the positional data of the through hole 2 obtained in this way, the maximum detection area generation circuit 122 generates an area where the maximum value is to be obtained from the output of the linear image 112 of the scattered light detection means, and using this tanning, After that, the maximum value of the output of the linear image sensor 112, which is also the scattered light detection means, is determined by the maximum detection circuit 123, and then the maximum value of the output of the linear image sensor 112 is binarized by the binarization circuit 124 to output a defect. The defect 2b in the through-hole 2 is detected by obtaining the value.
上記焦点ずれ検出手段■は、対物レンズ141.シリン
ドリカルレンズ142.リニアイメージセンサ143゜
焦点ずれ検出回路144およびプリント板Z制御回路1
45とから構成され、かつその光軸線は上記スルーホー
ル2の内壁他端部側に上記スルーホール2の軸心方向に
対して上記照明手段用の傾斜角度θと等しい角度δで傾
斜し、上記照明手段刊からのスリット状の照明レーザ光
7がプリント板1に入射して反射する反射光9bの位置
を対物レンズ141、シリンドリカルレンズ142.お
よびリニアイメージセンサ143を介して上記焦点ずれ
検出回路144が検出するとともに上記プリント板Z制
御回路145が焦点ずれ量(移動量)Δβに応じて上記
プリント板1を上下Z方向に移動させる。すなわち第4
図(a) (b)に示すように上記プリント板1の表面
1aには配線パターン(図示せず)があるので、これの
エツジ等による乱反射成分等の影響を受けないようにす
るため、上記シリンドリカルレンズ142で反射するス
リット状のレーザ光を1点に集光し、上記リニアイメー
ジセンサ143上で結像する。このとき上記プリント板
1の表面1aがそり。The focus shift detection means (2) includes the objective lens 141. Cylindrical lens 142. Linear image sensor 143° focus shift detection circuit 144 and printed board Z control circuit 1
45, and its optical axis is inclined at an angle δ equal to the inclination angle θ for the illumination means with respect to the axial direction of the through hole 2 on the other end side of the inner wall of the through hole 2, and The slit-shaped illumination laser beam 7 from the illumination means is incident on the printed board 1 and the position of the reflected light 9b is determined by the objective lens 141, the cylindrical lens 142. The defocus detection circuit 144 detects the defocus through the linear image sensor 143, and the printed board Z control circuit 145 moves the printed board 1 in the vertical Z direction according to the defocus amount (movement amount) Δβ. That is, the fourth
As shown in Figures (a) and (b), there is a wiring pattern (not shown) on the surface 1a of the printed board 1, so in order to avoid being affected by diffused reflection components due to the edges of the wiring pattern, the above-mentioned The slit-shaped laser beam reflected by the cylindrical lens 142 is focused on one point, and an image is formed on the linear image sensor 143. At this time, the surface 1a of the printed board 1 is warped.
うねりなどによってΔZだけ上下動したとき、上記リニ
アイメージセンサ143上で上記照明手段主からの照明
レーザ光が上記プリント板1の上記スルーホール2の内
壁一端部に入射すべきスポット位lがΔl=ΔZ/co
sθだけ移動する。この移動量Δβに応じて上記プリン
ト板1を図示しない装置によって上下動させることによ
り上記照明手段測散乱光検出手段旦1位置検出手段■と
上記プリント板1との位置関係を一定に保持することが
できるとともに高精度の検出ができる。なお、光軸線の
傾斜角度δは上記照明手段■の傾斜角度θと等しくする
と述べたが、プリント板1の表裏面の配線パターン1b
の反射率が下地と著しく異なる場合にはψ≠θとしても
よい。また上記対物レンズ27は倍率が等倍(IX)の
ものを使用している。さらに上記プリント板1の位置決
めは、例えば、上記スルーホール2の径がφ350μm
、照明手段迎の傾斜角度θおよび該位置検出手段旦の傾
斜角度ψがともに45°の場合には±120μm (3
50μm/4)で良いので、十分に実現することができ
る。When the linear image sensor 143 moves up and down by ΔZ due to waviness or the like, the spot position 1 at which the illumination laser beam from the illumination means is incident on one end of the inner wall of the through hole 2 of the printed board 1 is Δl= ΔZ/co
Move by sθ. By moving the printed board 1 up and down by a device (not shown) according to the amount of movement Δβ, the positional relationship between the illuminating means measuring scattered light detecting means 1 and the printed board 1 is maintained constant. and highly accurate detection. Although it has been stated that the inclination angle δ of the optical axis line is equal to the inclination angle θ of the illumination means (3), the wiring pattern 1b on the front and back surfaces of the printed board 1
If the reflectance of the substrate is significantly different from that of the base, ψ≠θ may be used. Further, the objective lens 27 used has a magnification of equal magnification (IX). Furthermore, for positioning the printed board 1, for example, the diameter of the through hole 2 is φ350 μm.
, ±120 μm (3
50 μm/4), which can be sufficiently realized.
つぎに照明手段の他の一実施例を示す第5図について説
明する。Next, FIG. 5 showing another embodiment of the illumination means will be described.
第5図においては照明手段10aは半導体レーザ101
、ビームエキスパンダ107.ポリコンミラー108、
fθレンズ109およびシリンドリカルレンズ110か
ら構成され、レーザスポットOをスキャニングにしてプ
リント板1に多数個形成されたスルーホール2の内壁一
端部に同時に照射するように構成されている。In FIG. 5, the illumination means 10a is a semiconductor laser 101.
, beam expander 107. polycon mirror 108,
It is composed of an fθ lens 109 and a cylindrical lens 110, and is configured to scan a laser spot O and simultaneously irradiate one end of the inner wall of a plurality of through holes 2 formed on the printed board 1.
なお、上記シリンドリカルレンズ110はポリゴンミラ
ー108のミラー面の倒れを補正するものであり、上記
ポリゴンミラー108とプリントvi1の結像画1aと
はシリンドリカルレンズ110に関し結像関係にある。The cylindrical lens 110 is used to correct the inclination of the mirror surface of the polygon mirror 108, and the polygon mirror 108 and the image 1a of the print vi1 are in an imaging relationship with respect to the cylindrical lens 110.
また上記散乱光検出手段11aのリニアイメージセンサ
112および位置検出手段13aのリニアイメージセン
サ132にCCDを用いた場合、上記CCDの自己走査
と、上記ポリコンミラー108によるレーザスキャンを
同期させる必要があるので、ナイフェツジ113.ミラ
ー114.フォトディテクタ115を用いてレーザ光が
ナイフェツジ113で遮断されるタンミングを検出し、
かつ上記タンミングを上記CODのスタートパルスとし
て与えて上記CCDを駆動する。Furthermore, when CCDs are used for the linear image sensor 112 of the scattered light detection means 11a and the linear image sensor 132 of the position detection means 13a, it is necessary to synchronize the self-scanning of the CCD with the laser scanning by the polycon mirror 108. , Naifetuji 113. Mirror 114. A photodetector 115 is used to detect tamping in which the laser beam is blocked by the knife 113;
The above-described timing is applied as a start pulse to the above-mentioned COD to drive the above-mentioned CCD.
したがって本実施例によれば、むらのない−棟な照度の
照明を行なうことができ、これによって散乱光検出手段
11aが散乱光を高精度に検出することができる。Therefore, according to this embodiment, illumination with uniform illuminance can be performed, and thereby the scattered light detection means 11a can detect scattered light with high precision.
なお本実施例においては、ポリゴンミラー108でレー
ザビームをプリント板1の結像面la上にスキャニング
するように形成されているが、これに限定されるもので
なく、たとえばミラー面が1個のガルバノメータを使用
してスキャンすることも可能である。In this embodiment, the polygon mirror 108 is formed to scan the laser beam onto the imaging surface la of the printed board 1, but the invention is not limited to this. It is also possible to scan using a galvanometer.
また第2図に示したシリンドリカルレンズ104゜10
5、106の組合せによる方法と同じように機械的な駆
動部のない方法として、光偏向素子を使用することも可
能である。この場合、光偏向素子は、たとえば二酸化テ
ルル(TeOz)単結晶の異方ブラック回折現象を用い
たもので、レーザビームを回折させ、レーザビームのス
キャニングができる。Also, the cylindrical lens 104°10 shown in Figure 2
It is also possible to use a light deflection element as a method without a mechanical drive unit, similar to the method using the combination of Nos. 5 and 106. In this case, the optical deflection element uses the anisotropic black diffraction phenomenon of a single crystal of tellurium dioxide (TeOz), for example, and can diffract the laser beam and scan the laser beam.
つぎに照明手段の他の一実施例を示す第6図(alCb
)について説明する。Next, FIG. 6 (alCb
) will be explained.
第6図(a) (blにおいては特開昭59−9329
3号にて詳細に述べた方法で、スルーホール検査用照明
としても適用可能である。すなわち第6図においては発
光ダイオード116には赤外発光の高出力タイプを使用
している。通常リニアイメージセンサの最大感度波長は
800nm付近であるので、この波長の発光ダイオード
を使用すれば検出感度を最大にすることができる。また
発光ダイオード116は複数個のシリンドリカルレンズ
117の長手方向に一致させて一列に並置している。第
6図(a)に示すように発光ダイオード116とスリッ
ト118とはシリンドリカルレンズ119に関して結像
関係にあり、かつ結像画1aの位置はプリント板1のス
ルーホール(図示せず)の位置に設定し、スリット11
8と結像レンズ119に関して結像関係にある。Fig. 6(a) (In BL, Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-9329
The method described in detail in No. 3 can also be applied as lighting for through-hole inspection. That is, in FIG. 6, the light emitting diode 116 is of a high output type that emits infrared light. Since the maximum sensitivity wavelength of a linear image sensor is usually around 800 nm, detection sensitivity can be maximized by using a light emitting diode of this wavelength. Further, the light emitting diodes 116 are aligned in a line along the longitudinal direction of the plurality of cylindrical lenses 117. As shown in FIG. 6(a), the light emitting diode 116 and the slit 118 are in an imaging relationship with respect to the cylindrical lens 119, and the position of the image 1a is at the position of a through hole (not shown) in the printed board 1. Set and slit 11
8 and the imaging lens 119 are in an imaging relationship.
したがって、本実施例においては、発光ダイオード11
6から発光される光120を効率良く集光してスリット
を形成することができる。なお、このスリ・ノド光は前
記第2図に示すようにプリント板1の結像面1aに対し
て斜方向に照射している。Therefore, in this embodiment, the light emitting diode 11
The light 120 emitted from 6 can be efficiently focused to form a slit. Note that this pickpocket light is irradiated obliquely to the imaging surface 1a of the printed board 1, as shown in FIG.
つぎに照明手段のさらに他の一実施例を示す第7図につ
いて説明する。Next, FIG. 7 showing still another embodiment of the illumination means will be described.
第7図においては、発光ダイオード116をスリット1
18にそって複数個配置し、スリット118と結像面1
aとは結像レンズ119に関して結像関係にある。また
シリンドリカルレンズ117はスリット光120が結像
画la上でむらにならないように結像レンズ119とス
リット118との間に挿入されている。In FIG. 7, the light emitting diode 116 is connected to the slit 1.
A plurality of slits are arranged along the slit 118 and the imaging surface 1.
a has an imaging relationship with respect to the imaging lens 119. Further, the cylindrical lens 117 is inserted between the imaging lens 119 and the slit 118 so that the slit light 120 does not become uneven on the image la.
したがって本実施例においては光軸方向の長さを短くす
ることができる。Therefore, in this embodiment, the length in the optical axis direction can be shortened.
本発明によればプリント板に設けられたスルーホールの
内壁の断線および切れかかり等の欠陥、スルーホールの
位置およびプリント板の上下方向の位置を1個の照明手
段からの照明光により自動的に検出することができるの
で、構成が簡単になって装置全体の形状を小形化し、低
価格をはかることができるとともに自動化および高速化
をはかることができる。According to the present invention, defects such as disconnections and cuts in the inner wall of a through hole provided in a printed board, the position of the through hole, and the vertical position of the printed board are automatically detected using illumination light from a single illumination means. Since it can be detected, the configuration can be simplified, the overall size of the device can be made smaller, the cost can be lowered, and automation and higher speed can be achieved.
また従来のようにスルーホールの一端部を遮光する機構
が不要となるので、プリント板との接触信頼性の低下を
防止することができる。Further, unlike the conventional structure, there is no need for a mechanism for shielding one end of the through hole from light, so that it is possible to prevent a decrease in the reliability of contact with the printed board.
第1図は本発明の一実施例であるスルーホール検査装置
を示す図、第2図は第1図の照明手段1敗乱光検出手段
および欠陥検出手段の拡大図、第3図は第1図で示す欠
陥検出手段の説明図であって、(a)は回路構成図、(
b)は欠陥検出方法を示す説明図、第4図は第1図に示
す焦点ずれ検出手段の説明図であって、(a)は斜視図
、(b)は平面図、第5図は照明手段の他の一実施例を
示す図、第6図は照明手段の他の一実施例を示す図であ
って、fa)は平面図。
(b)は正面図、第7図はさらに照明手段の他の一実施
例を示す図であって、(a)は平面図、(b)は正面図
、第8図は本発明の詳細な説明するための図、第9図は
本発明の照明手段および散乱光検出手段の原理を説明す
るための図、第10図は従来のスルーホール検査装置の
問題点説明図、第11図は問題点説明図であって(a)
は内壁メッキ層の欠陥を、(′b)は積層パターンで光
が弱まることを、それぞれ説明するための図である。
1・・・プリント板、2・・・スルーホール、7・・・
照明スリット光、8・・・散乱光、9a・・・透過光、
9b・・・反射光、■=−・照明手段、旦・・・散乱検
出手段、肥・・・欠陥検出手段、■・・・位置検出手段
、■・・・焦点ずれ検出手段。
代理人 弁理士 秋 本 正 実
第1図
り照明+投
コ雅五象出手役
14億点不れ糠出手投
第 2 図
1 70リン←わi
2 スルー庫−ル
〕(ン y¥、D月手郭と
U数匁泥痒出手投
迄π1検出手段
第3図
12ケ怖猥比手段
2つ26 リニアイナージ[ンブ
121 24νひ回テ)
122畢大傷穿妃β令駄工鼓奄住C路
123Lプこイbスitlム凹f字μ
m24 z偵イ乙ロト
箔4 図
(cl)
(b)
7 月仏明スソヅI−也
9b 反身むし
14 焦g、す・れ:#:出手役
141 文1#レンス
142 シリ汁ソ力ルトンス
143 リニ了イメーンでンプ
第5図
に食照明手段
U做乱范検出今段
丁酉イ立1検出+設
第 6図
(a>
(bン
d
電 銘像兎
116 φ−児ターイ才二ト
117 シ1jシ←゛1〕力ルレンス・118 ス゛)
・ノド
ア19 岳名イ象しし入゛
120 弛
第7図
(a)
(b)
1q 蓬儂面
116 企励巳1′イオート。
118 ヌ、す・ノド
119 桑1傳し“ノヌ、゛
120 スソ・ソl−イL
1 フ・リント駒え 9 逓ia光。
2スルーホール 10 只す月手役7叩明尤
11 憎活ム光オ衾出季罐8J&、舌り妃
12 欠J西才?出手ぢど第10図
第11図FIG. 1 is a diagram showing a through-hole inspection device as an embodiment of the present invention, FIG. 2 is an enlarged view of the illumination means 1, scattered light detection means, and defect detection means in FIG. 1, and FIG. FIG. 3 is an explanatory diagram of the defect detection means shown in the figure, in which (a) is a circuit configuration diagram; (a) is a circuit configuration diagram;
b) is an explanatory diagram showing the defect detection method, FIG. 4 is an explanatory diagram of the defocus detection means shown in FIG. 1, where (a) is a perspective view, (b) is a plan view, and FIG. 5 is an illumination FIG. 6 is a diagram showing another embodiment of the illumination means, and fa) is a plan view. (b) is a front view, FIG. 7 is a diagram showing another embodiment of the illumination means, (a) is a plan view, (b) is a front view, and FIG. 8 is a detailed view of the present invention. Figure 9 is a diagram for explaining the principle of the illumination means and scattered light detection means of the present invention, Figure 10 is a diagram explaining the problems of the conventional through-hole inspection device, and Figure 11 is the problem. Point explanatory diagram (a)
FIG. 5 is a diagram for explaining a defect in the inner wall plating layer, and FIG. 2('b) is a diagram for explaining that light is weakened by a laminated pattern. 1...Printed board, 2...Through hole, 7...
Illumination slit light, 8...scattered light, 9a...transmitted light,
9b...Reflected light, ■=--Illuminating means, D...Scattering detection means, Fertilizer...Defect detection means, ■...Position detection means, ■...Focal shift detection means. Agent Patent Attorney Tadashi Akimoto Real 1st figure illumination + 1,400,000,000 points failure of 1,400,000 points Figure 1 70 rin ← Wa i 2 through storage] Hand cuff and U number of momme muddy itching out hand throw π1 detection means Fig. 3 12ke ratio means two 123L pukoi b switch concave f-shape μ m24 z detective i otorotohaku 4 Figure (cl) (b) 7 month butsumei susozu I-ya 9b anti-mimushi 14 kog, su・re: #: Dete-yaku 141 Sentence 1 # Lens 142 Siri Soru Tonsu 143 Linyi completed image in Figure 5 Eclipse illumination means U 做RAN范Detection now Ding roi I standing 1 detection + setting Figure 6 (a> (bund electronic name) Image rabbit 116
・Nodoor 19 Gakuname Izoishishi 120 Relaxation Figure 7 (a) (b) 1q Hōmenmen 116 Keikishi 1' Ioto. 118 Nu, Su, Nodo 119 Mulberry 1 Denshi “Nonu, ゛120 Suso Sol-i L 1 Flint piece 9 Transmission light. 2 Through hole 10 Tadashi Tsutsute role 7 Praise Meiyu
11 Hatred Mukoo School Dekikan 8J & Tongue Princess
12 Missing J Saisai? Figure 10 Figure 11
Claims (1)
明手段と、この照明手段からの照明光が上記スルーホー
ルの内壁を反射しつつ他端部から斜外方向に反射した散
乱光の強度を検出する散乱光検出手段と、この散乱光検
出手段からの散乱光強度に基いて上記スルーホール内の
欠陥を検出する欠陥検出手段とを設けたことを特徴とす
るスルーホール検査装置。 2、スルーホール内にその一端部斜方向から照明する照
明手段と、この照明手段からの照明光が上記スルホール
の内壁を反射しつつ他端部から斜外方向に反射した散乱
光の強度を検出する散乱光検出手段と、この散乱光検出
手段からの散乱光強度に基いて上記スルーホール内の欠
陥を検出する欠陥検出手段と、上記照明手段からの照明
光が上記スルーホールの内壁一端部に入射したとき、1
回反射したのち直接スルーホール内を透過して他端部か
ら外方に出た透過光の強度に基いて上記スルーホール位
置を検出する位置検出手段とを設けたことを特徴とする
スルーホール検査装置。 3、スルーホール内にその一端部斜方向から照明する照
明手段と、この照明手段からの照明光が上記スルーホー
ルの内壁を反射しつつ他端部から斜外方向に反射した散
乱光の強度を検出する散乱光検出手段と、この散乱光検
出手段からの散乱光強度に基いて上記スルホール内の欠
陥を検出する欠陥検出手段と、上記照明手段からの照明
光が上記スルーホールを有する部材に入射する位置から
焦点ずれを検出する焦点ずれ検出手段とを設けたことを
特徴とするスルーホール検査装置。 4、上記照明手段からの照明光をスポット状に集光して
照明するように構成したことを特徴とする特許請求の範
囲第1項、第2項もしくは第3項記載のスルーホール検
査装置。 5、上記照明手段からの照明光をスリット状に集光して
照明するように構成したことを特徴とする特許請求の範
囲第1項、第2項もしくは第3項記載のスルーホール検
査装置。 6、上記照明手段からの照明光を1方向にスキャンしス
リット状に照明するように構成したことを特徴とする特
許請求の範囲第1項、第2項もしくは第3項記載のスル
ーホール検査装置。[Scope of Claims] 1. Illumination means for illuminating the inside of the through hole from an oblique direction at one end thereof, and the illumination light from this illumination means is reflected from the other end in an oblique outward direction while reflecting on the inner wall of the through hole. A through hole characterized in that it is provided with a scattered light detecting means for detecting the intensity of the scattered light, and a defect detecting means for detecting a defect in the through hole based on the intensity of the scattered light from the scattered light detecting means. Inspection equipment. 2. An illumination means for illuminating the inside of the through hole from an oblique direction at one end thereof, and detecting the intensity of the scattered light that is reflected from the other end in an oblique outward direction while the illumination light from this illumination means is reflected on the inner wall of the through hole. a scattered light detection means for detecting a defect in the through hole based on the intensity of the scattered light from the scattered light detection means; and a defect detection means for detecting a defect in the through hole based on the intensity of the scattered light from the scattered light detection means; When it is incident, 1
A through-hole inspection characterized in that it is provided with a position detection means for detecting the position of the through-hole based on the intensity of the transmitted light that is directly reflected inside the through-hole and exits outside from the other end after being reflected twice. Device. 3. An illumination means for illuminating the inside of the through hole from an oblique direction at one end thereof, and the intensity of the scattered light reflected from the other end in an oblique outward direction from the other end while the illumination light from this illumination means is reflected on the inner wall of the through hole. a scattered light detection means for detecting; a defect detection means for detecting a defect in the through hole based on the intensity of the scattered light from the scattered light detection means; and illumination light from the illumination means entering the member having the through hole. 1. A through-hole inspection device comprising: a defocus detection means for detecting defocus from a position where the defocus is detected. 4. The through-hole inspection device according to claim 1, 2, or 3, characterized in that the illumination light from the illumination means is configured to be condensed into a spot for illumination. 5. The through-hole inspection device according to claim 1, 2, or 3, characterized in that the illumination light from the illumination means is configured to be condensed into a slit shape for illumination. 6. The through-hole inspection device according to claim 1, 2, or 3, characterized in that the illumination light from the illumination means is configured to scan in one direction and illuminate in a slit shape. .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2362387A JPS63191948A (en) | 1987-02-05 | 1987-02-05 | Through hole inspection device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2362387A JPS63191948A (en) | 1987-02-05 | 1987-02-05 | Through hole inspection device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63191948A true JPS63191948A (en) | 1988-08-09 |
Family
ID=12115726
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2362387A Pending JPS63191948A (en) | 1987-02-05 | 1987-02-05 | Through hole inspection device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63191948A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112387604A (en) * | 2021-01-04 | 2021-02-23 | 深圳和美精艺半导体科技股份有限公司 | Method for detecting packaging substrate through AVI (automatic voltage indicator) detector and automatic point finder in networking mode |
-
1987
- 1987-02-05 JP JP2362387A patent/JPS63191948A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112387604A (en) * | 2021-01-04 | 2021-02-23 | 深圳和美精艺半导体科技股份有限公司 | Method for detecting packaging substrate through AVI (automatic voltage indicator) detector and automatic point finder in networking mode |
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