JPS63171285A - レーザープロセス処理用出力センタ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

３、８の−　な昔日 〔発明の背景１ 本発明はレーザープロセス処理用システムに関し、詳し
くはプロセス処理用のレーザービームを複数の別々の専
用作業ステーションに配分する為のシステムに関する。 様々な機械装置に於て金属切削の為のレーザービームの
使用が為されて来た。米国特許第３．９８６．７６７号
には、レーザー源からのレーザービームをレーザービー
ム集中ヘッドへと差し向ける為のビーム転向用システム
が記載され、該ヘッドがレーザービーム集中用の鏡に周
知のα及びθ駆動ユニットによってそれ以上の回転が提
供されるよう３軸運動する為に支持されたビーム転向用
システムを含む、そうした装置が示される。 米国特許第４，４６１，９４７号にはレーザービーム及
びガス流れの両方を加工物上へと差向ける装置が記載さ
れる。光学系及びノズルが同期して回転されそれが溶接
及び切削の如き材料プロセス処理用途に於てレーザース
ポットをして加工物上に円を描かせしめる。米国特許第
４，２０１゜９０５号には、工作機械でのレーザーユニ
ットの使用が示され、前記工作機械はレーザー源からの
レーザービームを、専用の機械作業を実施する為に縦方
向に調節自在に支持されているレーザー切削用ヘッドア
センブリへと転向する為のチューブ状の管を含んでいる
。 更には、ビーム配分用システムがレーザー源からのレー
ザービームを複数の作業ステーションに差向は得る事が
知られている。然し乍ら、そうしたシステムは作業ステ
ーシランでのレーザービームと光学的床中装置とを正確
に整列する必要があり、然も複数の作業ステーションに
おける正確なプロセス処理を保証する為に、システムの
鏡部品の位置を常に同調する必要がある。

【ｔｌｌ明の概要】

本発明に従うレーザープロセス処理用システムは、複数
の別々の作業ステーションを含み、各作業ステーション
は興なる加工部分をレーザー回転子に関して移動する為
の搬送手段を具備し、レーザー回転子は正確な端部形状
を形成する為に加工部分を切削するべく、加工部分に対
してレーザービームな集中する。レーザービーム出力は
一連の鏡によって各切削用ノズルに案内される。最初の
鏡は各作業ステーションのレーザービーム回転子内部に
しっかりと固定される。ビーム配分用のプラットホーム
上には複数の調節自在の鏡が具備される。プラットホー
ムはステップモータ駆動手段によって複数の割出し角度
位置の一つに選択的に位置決めされ、その位置で調節自
在の鏡の一つがレーザー発生器からのレーザーを受け、
そして管を通してそれをレーザービーム回転子の一つへ
と差向ける。ビーム配分用のプラットホーム及びその駆
動体はレーザー出力だけが単一の作業ステーションに差
向けられる事を保証する為に設計された。集中されたビ
ームはレーザービーム回転子を貫通し、そこで要求され
たガスがガスノズルに導入されそして作業ステーション
に差向けられる。 ビーム配分用のプラットホームの割出しによって選択さ
れた作業ステーションでの装置の切削速度を増大する為
の空気或は酸素の付加が、適宜選択される０本システム
の全ての光学素子は、ビーム配分用のプラットホームか
或はレーザービーム回転子かの外側から容易に接近可能
である。ｔｌｌはシステムの光学系を再整合する必要な
く取り外し、清掃しそして回置可能である。 システム全体は、異物及び作業環境の汚染の侵入を防ぐ
為にシールされる。 ビーム送達系の最終繰出の長さは、異なる寸法形状の部
品に順応する為に調節自在である。 本発明によれば、ビーム配分用のプラットホームは単一
のレーザー源をして、複数の作業プラットホームを供給
する為及びビームが複数の作業ステーションの任意の１
つに差向けられる場合に同調する必要の無い、調節自在
に配分し得るレーザービームシステムを画成する為に使
用可能ならしめる。 従って本発明の目的は、単一のレーザービームを複数の
作業ステーションの一つに差向ける為の改良されたレー
ザービーム配分システムにして、複数のビーム転向用の
鏡の１つを、レーザービームな受けそして加工物の切削
作業を実施する為にそれを作業ステーションに差向ける
為の位置に割出す為の手段を具備するレーザービーム配
分システムを提供する事にある。 本発明の他の目的は、角度的に偏倚され、ビーム受取り
位置に各々選択的に割出され、そして切削用ノズル手段
を通してレーザービーム出力を提供する為に管分与系を
通してビームを差向ける為のビーム差向は関係に予備設
定される、複数の調節自在の鏡アセンブリをそこに具備
して成る回転自在のビーム配分用のプラットホーム、に
よる改良されたレーザービーム配分システムを提供する
事にある。 本発明の他の目的は、前述の目的の何れかに於て説明さ
れた形式のレーザープロセス処理用のシステムであって
、ビーム配分用のプラットホームが１等しい角度に偏倚
された３つのビーム転向用の管と、縦方向に配向された
単一のビーム受は取り用の入力管とを具備し、調節自在
の鏡が入力管からビームを選択的に受取りそしてビーム
がステーションの１つの加工物だけに集中される様それ
を複数の分与管の１つだけを通して差向け、そして、加
工物が予備選択されコントロールされたシーケンスに従
うプロセス処理の為に搬送された作業ステーションへの
レーザービーム送達を制御する為に駆動モータ割出し手
段によってビーム配分用のプラットホームが位置決めさ
れる、レーザープロセス処理用のシステムを提供する事
にある。 本発明の他の目的は、選択的に起動されるギアモータ駆
動体を具備する改良されたビーム配分用システムであっ
て、ギアモータ駆動体が駆動輪に結合された出力軸を具
備し、駆動輪が、そこに回転自在に結合されたカム従属
子にして、被駆動輪からの出力軸を正確に割出し位置決
めする為に被駆動輪のカム従属子に選択的に係合するカ
ム従属子を具備するビーム配分用システムを提供する事
にある。 本発明の他の目的は、そうしたビーム配分用のプラット
ホームを駆動してレーザーユニットからの入力管と整列
する角度位置に正確に位置付け、それによってビーム配
分用のプラットホームに於て調節自在に位置決めされた
鏡がレーザーユニットの出力をして多くのステーション
システムの作業期間中に、鏡部品を調節すること無しに
、出力管の１つを通して正確に差向けせしめる為の、改
良された割出し自在の高精度モータ駆動体を提供する事
にある。 本発明の他の目的は、しっかりと固定された鏡アセンブ
リを具備し、外側から接近自在の改良されたレーザービ
ーム回転子であって、ビーム集中用のレンズを加工物に
正確な端部な切削する為のレーザー切削用のビームを形
成する、３６ｏ°回転される出力ノズルへと回転する為
のウオームギアにその出力が結合された第１のモータ駆
動体を具備するレーザービーム回転子を提供する事にあ
る。 ここに特定的に述べられたこれら及び他の目的は、フレ
ーム枠体に支持された高架のｃｏ２レーザー源を含むレ
ーザープロセス処理用システムによって達成される。フ
レーム枠体は、入力管及び等しい角度に位置付けられた
３つの出力管を具備するビームスプリッタ包納体を有す
る光学素子ベンチを支持する。ビームスプリッタ包納体
は、角度的に離間された複数の調節自在の鏡アセンブリ
を具備するビーム配分用のプラットホームをその内部に
具備する。ビーム配分用のプラットホームは、入力管か
らのレーザービームを前記出力管の１つだけを通して差
向ける為に調節自在の鏡の各々を選択的に位置決めする
ギア駆動モータ及び割出し手段によって角度選択的に位
置決めされる。 出力管はビームを、オフセットされたレーザービーム出
力ノズルへとビームを差向は且つ外側から接近し得るレ
ンズ手段をそこに有する複数のビーム回転子の１つへと
ビームを転向する光学素子ベンチへと差向ける。各回転
子ユニットは各作業ステーションでコンベヤ手段の出力
ノズルに関して前進された加工物を正確に仕上げる為の
出力ノズルのレーザー切削用ビームを画成する為に、３
６０″に渡って回転自在に駆動される。 〔実施例の説明］ 第１図を参照するに、レーザープロセス処理用システム
２０が例示される。該システムは、ビームスプリッタ包
納体２８の入力管２６に関して入れ子式とされた出力管
２４を通してそこから出力ビームを差向ける工業レーザ
ーユニット２２を具備する。ビームスプリッタ包納体２
８は３つの別々の出力管３０，３２．及び３４を具備す
る。各出力管はビーム回転子３８の入力管３６に結合さ
れる。ビーム回転子は、空気圧オシレータ４８を具備す
る搬送系あるいはコンベヤ４４上に担持された加工物４
２と整列されている出力ノズル４０を具備する。空気圧
オシレータ４８及びビーム配分用のプラットホーム５２
の為の駆動モータ５０の各々は、レーザーユニット２２
からのレーザーをただ１つの回転子だけに差向ける為に
作動自在の、予備プログラムし得るコンピュータ制御体
４６の制御下にあり、それによって出力ノズル４０から
のレーザービームは、コンピュータ制御体４６の制御下
に回転子３８に関して駆動される加工物４２との作動関
係状態に於て差向けられる。 次に、第７．８図及び第１２図から１６図を参照するに
、ビームスプリット用の包納体２８を含むビーム配分用
システム５５が例示されている。 ビームスプリット用の包納体２８は、角度的に偏倚され
た３つの鏡アセンブリ５４．５６．５８を担持するビー
ム配分用のプラットホーム５２を格納し、鏡アセンブリ
５４から５８の各々は、縦軸６２を中心として回転自在
の、第１３図に示される台座６ｏを具備する。鏡アセン
ブリ５４から５８の各々は、鏡ハウジング６８が水平軸
７０上で回転する為に支持されているクレビス状の支持
体６６を更に具備する０台座６０は、縦軸６２を中心と
して調節自在に位置決めされモしてねじ７６によって然
るべく固定された円形クランプ７２によって、ビーム配
分用のプラットホームに関して所定の角度関係に固定さ
れる。クレビス状の支持体６６に関する鏡ハウジング６
８の調節自在の位置決めは、ねじ８２によってクレビス
状の支持体６６の離間したアームの上端に釈放自在に固
定された一対の離間したクランププレート７８．８０に
よって達成される。クランププレート７８．８０はそれ
によって鏡ハウジング６８の何れかの側の離間したトラ
ニオン継手８４．８６に対してクランプする為に配列さ
れる。 結局、鏡アセンブリ５４から５８の各々は、ビーム配分
用のプラットホーム５２に関し、ビームスプリット用の
包納体２８に関するビーム配分用のプラットホーム５２
の位置決め用の割出しに従い、それらがレーザーユニッ
ト２２からのレーザービーム出力がビームスプリット用
の包納体２８の入力管２６を貫くに際し、出力管３０，
３２゜３４の選択された１つへと正確な関係に於て選択
的に差向けるよう、ビーム配分用のプラットホーム５２
に関して角度的に予備設定され得る。 ビーム配分用のプラットホーム５２の割出しは第９図か
ら１１図に示され、ギアボックス９０に担持されたＡ、
Ｃモータ８８を含むギア駆動モータアセンブリ８５によ
って達成される。ギアボックス９０は結局、ビームスプ
リット用の包納体２８の下方に第８図に最もよく示され
る様に支持された案内支承体ハウジング９２によって支
持される。案内支承体ハウジング９２は、レーザービー
ムプロセス処理用機械２０の為の枠システムに関してビ
ームスプリット用の包納体２８を調節自在に位置決めす
る為に、案内走路９６上に摺動自在に位置決めされた摺
動部材９４に結合される。 ギアボックス９０は一対の割出し用ギア９８゜１００を
格納する０割出し用ギア９８はねじ１０４によって駆動
モータ８８の出力軸１０２にキー、　　止めされる０割
出し用ギア９８は、該割出し用ギア９８に回転自在に固
定されたカム従属子１０６を有する。カム従属子１０６
は、ビーム配分用のプラットホーム５２がビームスプリ
ット用の包納体２８に関する休止位置に割出された場合
に、角度的に調節され且つ予備設定された鏡アセンブリ
５４が入力管の下方に正確に位置付けられることを保証
する為に、割出し用ギア１００の複数の角度位置の１つ
への選択的なステップ移動を創出するべく、割出し用ギ
ア１００のインボリュート形状部分１０８に関して選択
的に回転される。 割出しギア１００は、割出し用ギア１００の端部に螺着
されたナツト１１０によって軸１０９の端部に保持され
る。ナツト１１０は、ローラ支承体アセンブリ１１６に
よって回転自在に支持されたプラットホーム駆動体１１
４に関して割出し用ギア１００を固定する。プラットホ
ーム駆動体１１４は、適宜の手段によってプラットホー
ム５２に結合される。ローラ支承体アセンブリ１１６の
外側レースは、案内支承体ハウジング９２の端部１２２
にねじ受けされたナツト１２０によって然るべく保持さ
れる。 前述の配列構成により、プラットホーム５２とその上の
鏡５４，５６．５８とは、レーザービーム出力がビーム
回転子３８の１つに差向けられる様、角度的に正確に配
置される。ビーム回転子の各々は第３図から第６図にか
けてもっと詳しく例示され、それらはプレート１３０に
よって摺動路１３６上に摺動自在に支持されたハウジン
グ１３４の上端キャップ１３２に固定された入力管３６
を具備している。摺動路１３６は、各回転子３８が異な
る寸法形状の部品に対して順応する為に高さ調節し得る
様、適宜の枠体（図示せず）上に支持される。ハウジン
グ１３４は駆動管１４２を回転自在に支持する一対のロ
ーラ支承体ユニット１３８．１４０を含む、駆動管はシ
ールアセンブリ１４４によってシールされ、そしてそれ
が回転自在の鏡ベンチ１４６に結合される。鏡ベンチは
、出力されたレーザービームな受け、それがノズル４０
を具備する水平方向に調節自在の出カニニット１６０内
部へと差向けられるように、オフセット管１５６、そし
て従属管１５８を通して差向ける。更に詳しくは、駆動
管１４２はハウジング１３４の内部で、その上端に固定
されローラ支承体ユニット１３８の内側レース１６４に
係合する一対のナツト１６２によって縦方向に支持され
る。 ローラ支承体ユニット１３８の外側レース１６６は第３
図に最も良く示される様にハウジング１３４の肩によっ
て支持される。スペーサ部材１６８が、内側レースを駆
動管１４２に固定されたベリカルギア１７０に関して位
置付けする。第２の下方のスペーサユニット１７２が、
下方のローラ支承体ユニット１４０の内側レース１７４
に関してギア１７０を位置付けする。ローラ支承体ユニ
ット１４０の外側レースはシールハウジング部材１７８
によってハウジング１３４に関して位置付けられ且つ保
持される。シールハウジング部材１７８は、回転する鏡
ベンチ１４６内部に冷却液を差向ける為に加圧流体源に
結合される様になっている圧力フィッティング１８０を
具備する。圧力ゲージ１８２が、０−リング１８６によ
ってキャップ１８８に関してシールされた第２のシール
ハウジング１８４上に支持され、キャップ１８８はねじ
９０の様な適宜の締め具手段によって回転自在の鏡ベン
チ１４６に結合される。オフセット管１５６は、そこを
通して配向された孔１９２にして鏡アセンブリ１４８の
鏡表面１９４及び鏡アセンブリ１５０の鏡表面１９６と
整列状態の孔１９２を具備する。オフセット管１５６は
、第４図に示される様に側方プレート２０８，２１０に
よって閉成された通路２００，２０４．２０６をも画成
する０通路２００，２０４は、水冷却用の小孔２１２へ
の供給及び戻り通路を鏡へウジング２１４内に画成する
。鏡ハウジング２１４は、鏡アセンブリをオフセットさ
れたビーム回転子３８の外側位置から取り外し得る様、
回転自在の鏡ベンチ１４６に固定される。 同様に、第５図に示される様に、従属管１５８は、鏡ア
センブリ１５２の為の水冷却用の入口２２０及び出口２
２２を供給する通路２１６．２１８を具備し、鏡アセン
ブリ１５２もまた、その外側から接近し得る様、鏡ベン
チ１４６に取外し自在に結合される。鏡アセンブリ１５
２はそこに鏡表面２２４を具備し、鏡表面２２４は出力
管２２６を通してレーザービームを差向ける為の鏡表面
１９６の下方に位置付けられている。出力管２２６は第
３図に示される様゛に、従属管１５８の端部の孔２２８
に摺動自在に支持される。出力管２２６は、従属管１５
８の端部上でオフセットされた延長部２３８の離間した
耳２３４．２３６に位置付けられた２つの離間したロッ
ド２３０，２３２上を往復されることによって、鏡ベン
チ１４６に関して摺動自在に位置決めされる。オフセッ
トされた延長部２３８は、側方プレート２４６，２４８
によって閉成された通路２４０，２４２．２４４をも具
備する０通路２４０，２４２，２４４は先に定義された
通路と共同して鏡アセンブリ１５２の為の冷却用流路を
画成する。 ビーム回転子３８を３６０°完全に駆動する為に、ビー
ム回転子は第６図に最も良く示される様な駆動モータ２
５０を有し、駆動モータ２５０はキーエレメント２５６
によって被駆動のへりカルギア１７０と駆動係合する駆
動ギア２５４に結合される出力軸２５２を具備している
。摺動路１３６は与えられた作業ステーションでの加工
物に関する出力ノズル１６０の半径方向配向を確立する
為の近接スイッチ２５９を具備する。更に、案内ロッド
２３０，２３２は、調節ねじ２６０をねじ１６４を含む
適宜の手段によって従属管１５８に固定された螺刻ブロ
ック２６２に関して位置付けする為に、交差バー２５８
によって結合される。 作動に際し、複数の異なる或は同寸法形状の加工物４２
はコンベヤ４４上に担持され且つ予備プログラムし得る
コンピュータ制御体４６の制御の下に、第３図に示され
る様にノズル４０に関して選択的に前進される。レーザ
ーユニット２２が起動され、それによって鏡アセンブリ
５４の１つをビームスプリット用の包納体２８の入力管
２６と縦に整列して位置付ける為のビーム配分用プラッ
トホームの予備決定された割出しが為される。結局、レ
ーザーユニット２２からの全出力が包納体２８から、出
力管３０から３４の１つを介して回転子３８の１つへと
差向けられる０回転子は、その駆動モータが出力ノズル
４０からのレーザービームをして水平面上の加工物を切
削せしめるべく管１４２及び鏡ベンチ１４６を駆動する
様にも又調節される。自動車に使用する為の排気管の端
部表面を正確且つ高精度に成形する為の使用が取分は適
切な事が分かった０本装置は、自動車の排気管に対する
特定の用途が見出される一方、その他の加工物に対する
高精度のプロセス処理の為にも等しく適切である。更に
、本発明の方法は、排気管の端部表面を画成する為の加
工物の完全切削を含むものとして例示されたが、回転す
る出力ノズル４０に関して運動する加工物に対する溶接
作業及びその化プロセス処理を実施する為に等しく適切
である。第１２図から第１６図に示される独立調節可能
な鏡は鏡ハウジング６８の各々の孔２６６．２６８で個
々の水冷却用システムにも又結合される。鏡それ自身は
、ハウジング６８と鏡との間に押し込まれたＯ−リング
２７０によって鏡ハウジングに関してシールされる。 以上本発明を具体例を参照して説明したが、本発明の内
で多くの変更を為し得ることを銘記されたい。 ４、　　　　の　　　を雷 第１図は本発明に従うレーザープロセス処理用システム
の該略図である。 第２図は、第１図の作業ステーションの各々におけるレ
ーザービーム回転子の断面図である。 第３図は、第２図を線３−３で切断し矢印方向から見た
部分拡大図である。 第４図は、第３図を線４−４で切断し矢印方向から見た
部分断面図である。 第５図は、第３図を線５−５で切断し矢印方向から見た
部分断面図である。 第６図は、第３図を線６−６で切断し矢印方向から見た
部分断面図である。 第７図は、ビームスプリット用の包納体の平面図である
。 第８図は、第７図を線８−８で切断した部分断面図であ
る。 第９図は、本発明のモータ駆動体の側面図である。 第１０図は、第９図を線１０−１０で切断し矢印方向か
ら見た部分断面図である。 第１１図は、第９図を線１１−１１で切断し矢印方向か
ら見た部分断面図である。 第１２図は、ビーム配分用プラットホームの平面図であ
る。 第１３図は、第１２図を矢印１３の方向から見た部分破
除した断面図である。 第１４図は、第１２図のビーム配分用プラット、ホーム
の鏡ユニットの１つの部分側面図である。 第１５図は、鏡が完全に組立てられた状態を示す第１４
図を矢印１５の方向から見た側面図である。 第１６図は、鏡が部分的に組立てられた状態を示す第１
４図を矢印１６の方向から見た側面図である。 尚、図中主な部分の名称は以下の通りである。 ２４：出力管 ２６：入力管 ２８；ビームスプリット用の包納体 ３０：出力管 ３２；出力管 ３４；出力管 ３８：ビーム回転子 ４０；出力ノズル ４２；加工物 ４４；コンベヤ ４６；コンピュータ制御体 ４８；空気圧オシレータ ５０；駆動モータ ５２；ビーム配分用のプラットホーム ５４；鏡アセンブリ ５５；ビーム配分用システム ５６；鏡アセンブリ ５８；鏡アセンブリ ６０；台座 ６２；縦軸 ６６；支持体 ６８：鏡ハウジング ７８：クランププレート ８０；クランププレート ８４：トラニオン ８５：ギア駆動モータアセンブリ ８６；トラニオン ８８；Ａ、Ｃモータ ９０；ギアボックス ９２：案内支承体ハウジング ９６：案内走路 ９８：割出し用ギア ｉｏｏ、割出し用ギア １０６；カム従属子 １１０：ナツト １１４、プラットホーム駆動体 １１６；ローラ支承体アセンブリ １３６；摺動路 １３８；ローラ支承体ユニット １４０：ローラ支承体ユニット １４４；シールアセンブリ １４６：鏡ベンチ １４８；駆動管 １５６二オフセツト管 １５８；従属管 １６８ニスペ一サ部材 １７０；ヘリカルギア １７２ニスペーサユニツト １７８；シールハウジング部材 １８０；圧力フィッティング １８２；圧力ゲージ １８４；第２のシールハウジング １８６．０−リング １８８；キャップ １９６；鏡表面 ２０２；通路 ２ｏ４：通路 ２０６；通路 ２０８；鏡表面 ２１０；鏡表面 ２１４；鏡ハウジング ２１６；通路 ２１８；通路 ２２４；鏡表面 ２２６；出力管 ２３０；案内ロッド ２３２；案内ロッド ２３４；耳 ２３６：耳 ２３８；延長部 ２４０；通路 ２４２；通路 ２４４；通路 ２５０：駆動モータ ２５２；出力軸 ２５６；キーエレメント ２５８；交差バー ２５９；近接スイッチ ２６０；調節ねじ ２６２：螺刻ブロック 第１図 どコυ 第７図 第９図 第１０図 第１５図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、入力管及び複数の出力管を有するビームスプリット
   用の包納体であって、 前記包納体内部に支持された回転自在のプラットホーム
   と、 該回転自在のプラットホーム上の所定の円周方向点に位
   置付けられた個別に角度調節自在の複数の鏡アセンブリ
   と、 入力管からのレーザービームをそこから１つだけの出力
   管に差向ける為にレーザービームを受ける為の地点に、
   前記調節自在の鏡アセンブリを選択的に位置決めするよ
   う前記プラットホームを割出し駆動する為の手段と、そ
   して、 前記レーザービームを受けるビーム回転子手段にして、
   該ビーム回転子手段に関して運動する加工物にレーザー
   ビームを適用する為のビーム回転子手段と、によって成
   り立つビームスプリット用の包納体。 ２、単一のレーザー源と、 複数の個々に角度調節自在の鏡をそこに具備する回転自
   在のプラットホーム及び単一のレーザー源からの出力を
   複数の作業ステーションの１つに差向ける為に前記個々
   に角度調節自在の鏡を位置決めする為の割出し駆動手段
   を含むビーム配分手段と、 前記各作業ステーションに位置付けられ、ビーム配分手
   段からのレーザービームを配向する為に作動自在の回転
   子手段と、 から成り立つレーザービームプロセス処理用システムで
   あって、 前記プラットホームがレーザービームを１つだけの作業
   ステーションに選択的に差向ける様調節自在に位置決め
   され、それによってプロセス処理シーケンス期間中に単
   一のレーザー源からの全エネルギーが選択された１つの
   作業ステーションに差向けられる事を特長とするレーザ
   ービームプロセス処理用システム。 ３、回転自在のプラットホームを有するレーザービーム
   配分用システムであって、 一対の割出しギヤ及びレーザー源に関する前記プラット
   ホームを角度的に正確に位置付けする為に作動自在の回
   転式のユニオン継手と、 単一のレーザー源からの全てのレーザービーム出力を複
   数の作業ステーションの１つだけに選択的に差向ける為
   のプラットホームの割出しによって位置決めされた、前
   記プラットホーム上の複数の、等距離に位置決めされた
   調節自在の鏡アセンブリと、を包含するレーザービーム
   配分用システム。 ４、角度調節自在の鏡アセンブリは縦軸に関して回転自
   在に運動可能な台座を具備し、 鏡ハウジング支持体は、縦軸に対して鏡を直角に回転す
   る為の水平軸を画成する手段をそこに具備し、 鏡アセンブリは、単一のレーザー源からの全てのレーザ
   ービーム出力を受け、そしてそれを予め決定された水平
   通路を通してそこから離間した地点の作業ステーション
   へと差向ける為に位置決めされる様、鏡ハウジングにし
   っかりと且つ密封状態で結合されている特許請求の範囲
   第３項記載のレーザービーム配分用システム。 ５、作業ステーションに位置決めされたビーム回転子手
   段が、 入力管と、 水平通路内のレーザービームをビーム回転子手段に差向
   ける為の手段と、を具備し、 前記ビーム回転子手段が、 ビームスプリット用の鏡アセンブリからのレーザービー
   ムを加工物に差向ける為のオフセットされたレーザー流
   路を画成する固定された鏡作業台と、 ビーム回転子手段に関して直線運動する加工物にレーザ
   ービームの完全な３６０°露呈を創出する為に出力ノズ
   ル手段を回転する為の手段と、を含んでいる特許請求の
   範囲第４項記載のレーザービーム配分用システム。 ６、レーザープロセス処理用システムの為のビーム配分
   装置であって、 ビームスプリット用の包納体と、 角度的に離間された複数のレーザービーム反射用の鏡を
   具備し駆動軸が結合されているビーム配分用プラットホ
   ームと、 前記ビームスプリット用の包納体上に支持され前記軸を
   前記包納体に関して回転自在に支持する為の支承体手段
   をその内部に具備する支承体ハウジングと、 前記軸の延長体と、 前記プラットホームの回転期間中に前記軸を横方向に安
   定化する為の、前記延長体における回転式のユニオン継
   手手段と、 前記支承体ハウジング内に結合され駆動ギヤ及び被駆動
   ギヤを含む割出しギヤハウジングと、より成り立ち、 前記駆動ギヤはそこに支持された回転自在のカムを含み
   、前記被駆動ギヤは、駆動モータの選択された起動期間
   中及びそれに応答してビームスプリット用の包納体に関
   する軸の複数の別個の角度位置の１つを選択的に確立す
   るべく駆動ギヤの回転自在のカムと係合するインボリュ
   ート形状表面をそこに具備しているレーザープロセス処
   理用システムの為のビーム配分装置。 ７、レーザープロセス処理用システムであって、炭酸ガ
   スレーザー源と、 前記炭酸ガスレーザー源を高架位置に位置付ける為の枠
   体支持手段と、 炭酸ガスレーザー源からの出力を配向する為の入力管を
   具備するビームスプリット用の包納体にして等しい角度
   に位置付けられ前記ビームスプリット用の包納体への入
   力管と交差する水平線に沿って且つ前記水平線に関して
   １２０°オフセットされた角度位置に配置された３つの
   出力管を有するビームスプリット用の包納体を具備する
   固定式の光学素子ベンチと、 前記ビームスプリット用の包納体内部に回転自在に支持
   されたビーム配分用のプラットホームと前記プラットホ
   ームを複数の割出し位置の１つへと駆動する為に、前記
   ビームスプリット用の包納体を占める前記出力管と同一
   の角度関係で前記プラットホーム上に位置付けられた一
   対の近接スイッチを含む手段と、 高架位置から前記出力管の１つへと炭酸ガスレーザーを
   差向ける為に位置決めされた、前記プラットホーム上の
   鏡手段と、そして、 複数の回転自在の鏡ベンチにして、前記鏡手段からのレ
   ーザービームを受けそれを１つの作業ステーションだけ
   の、そこに支持された加工物へと差向ける為に複数の作
   業ステーションの各々に位置付けられた複数の回転自在
   の鏡ベンチを具備する手段と、を包含し、前記各回転自
   在の鏡ベンチは、各作業ステーションの加工物に対して
   レーザービーム及び切削用ガスを集中し且つ差向ける為
   の出力ノズルを具備しているレーザープロセス処理用シ
   ステム。 ８、選択された各作業位置でプロセス処理された加工物
   の物理的寸法形状に従って各作業ステーションにおける
   出力ノズルの位置を調節する為に、縦方向に回転自在の
   ビーム配分用のプラットホームを炭酸ガスレーザーの為
   の枠体に関して担持する為の、縦方向に調節自在の摺動
   手段と、 前記１つだけの前記ステーションに於てプロセス処理さ
   れている加工物に合うレーザービームプロセス処理を創
   出する為に、ビーム配分用のプラットホーム及び前記回
   転自在の鏡ベンチの１つを選択的に駆動する為の手段と
   、を含む特許請求の範囲第７項記載のレーザープロセス
   処理用システム。 ９、入力管を有する第１のハウジング手段と、前記入力
   管から９０°オフセットして位置付けられた出力ノズル
   と、 前記入力管から前記出力ノズルへとレーザービームを差
   向ける為のレーザービームをそらせる通路を画成するし
   っかりと固定された鏡アセンブリを具備する第２のハウ
   ジング手段と、そして、切削平面を通してレーザービー
   ムを差向ける為の前記第１のハウジング手段上の出力ノ
   ズルを回転する為の手段と、より成るレーザービーム回
   転アセンブリ。 １０、鏡アセンブリの各々は、 台座と、 第２のハウジング手段の外側から前記鏡アセンブリの各
   々を交換する為に、各台座を前記第２のハウジング手段
   に固定する為の手段と、を含む特許請求の範囲第９記載
   のレーザービーム回転アセンブリ。