JPS63169655A - Photosensitive body - Google Patents

Photosensitive body

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JPS63169655A
JPS63169655A JP251387A JP251387A JPS63169655A JP S63169655 A JPS63169655 A JP S63169655A JP 251387 A JP251387 A JP 251387A JP 251387 A JP251387 A JP 251387A JP S63169655 A JPS63169655 A JP S63169655A
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JP
Japan
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photoreceptor
layer
transfer layer
charge transfer
charge
Prior art date
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Pending
Application number
JP251387A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yumiko Taketomi
武富 由美子
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
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Publication date
Application filed by Minolta Co Ltd filed Critical Minolta Co Ltd
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Publication of JPS63169655A publication Critical patent/JPS63169655A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/08Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic
    • G03G5/082Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being inorganic and not being incorporated in a bonding material, e.g. vacuum deposited
    • G03G5/08285Carbon-based

Abstract

PURPOSE:To improve the electric chargeability of an electric charge transfer layer and to stabilize the charge transferability thereof for a long period of time by using an amorphous solid which is formed by subjecting a hydrocarbon to a plasma polymn. in a vapor phase then to an acid treatment as the charge transfer layer. CONSTITUTION:The amorphous solid which is formed by subjecting the hydrocarbon to the plasma polymn. in the vapor phase then to the acid treatment and contains C and H as constituting atoms, is used as the charge transfer layer of a separated- function type photosensitive body. The charge transfer layer is formed by the following method. The inside of a reaction chamber 733 of a glow discharge device is first evacuated to a high vacuum, and the gaseous hydrogen from a 1st tank 701, the gaseous ethylene from the 2nd tank 702 and the styrene from a 1st vessel 719 are so set as to attain a prescribed flow rate and are admitted via a mixer 731 into the chamber 733. Electric power of a prescribed frequency is then impressed to an electric power impressing electrode 736 to execute the plasma polymn. so that the film of a desired thickness is deposited on an Al substrate 752. The above-mentioned film is then taken out of the chamber 733 and is subjected to the acid treatment to form the charge transfer layer. An electric charge generating layer is thereafter formed on the charge transfer layer.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、非晶質炭素源を電荷輸送層とした感光体に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a photoreceptor having a charge transport layer made of an amorphous carbon source.

従来技術 カールソン法の発明以来、電子写真の応用分野は著しい
発展を続け、感光体にも様々な材料が開発され実用化さ
れてきた。
BACKGROUND OF THE INVENTION Since the invention of the Carlson method, the field of application of electrophotography has continued to make remarkable progress, and various materials have been developed and put into practical use for photoreceptors.

従来用いられて来た感光体材料の主なもめとしては、非
晶質セレン、セレン砒素、セレンテルル、硫化カドミウ
ム、酸化亜鉛、アモルファスシリコン等の無機物質、ポ
リビニルカルバゾール、金属フタロシアニン、ジスアゾ
顔料、トリスアゾ顔料、ペリレン顔料、トリフェニルメ
タン化合物、トリフェニルアミン化合物、ヒドラゾン化
合物、スチリル化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾー
ル化合物、オキサジアゾール化合物、等の有機物質が挙
げられる。また、その構成形態としては、これらの物質
を単体で用いる単層型構成、結着材中に分散きせて用い
るバインダー型構成、機能別に電荷発生層と電荷輸送層
とを設ける積層型構成等が挙げられる。
The main problems with conventional photoreceptor materials include inorganic substances such as amorphous selenium, selenium arsenide, selenium tellurium, cadmium sulfide, zinc oxide, and amorphous silicon, polyvinyl carbazole, metal phthalocyanine, disazo pigments, and trisazo pigments. , perylene pigments, triphenylmethane compounds, triphenylamine compounds, hydrazone compounds, styryl compounds, pyrazoline compounds, oxazole compounds, and oxadiazole compounds. In addition, the configurations include a single-layer structure in which these substances are used alone, a binder-type structure in which they are dispersed in a binding material, and a laminated structure in which a charge generation layer and a charge transport layer are provided for each function. Can be mentioned.

しかしながら、面来用いられて来た感光体材料にはそれ
ぞれ欠点があった。その一つとして人体への有害性が挙
げられるが、前述したアモルファスシリコンを除く無機
物質においては、何れも好ましくない性質を持つもので
あった。また、感光体が実際に複写機内で用いられるた
めには、帯電、露光、現像、転写、除電、清掃等の苛酷
な環境条件に曝された場合においても、常に安定な性能
を維持している必要があるが、前述した有1幾物質にお
いては、何れも耐久性に乏しく、性能面での不安定要素
が多かった。
However, each of the photoreceptor materials that have been used for some time has drawbacks. One of these is their toxicity to the human body, and all inorganic substances, except for the amorphous silicon mentioned above, have unfavorable properties. In addition, in order for a photoconductor to be actually used in a copying machine, it must always maintain stable performance even when exposed to harsh environmental conditions such as charging, exposure, development, transfer, neutralization, and cleaning. However, all of the above-mentioned materials had poor durability and many unstable factors in terms of performance.

このような欠点を解消すべく、近年、有害性を改善し耐
久性に富んだ材料として、グロー放電法により生成きれ
るアモルファスシリコンの感光体への応用が進んで来て
いる。しかし、アモルファスシリコンは、原料として発
火性の強いシランガスを必要とするため、製造上の危険
性が高い。また、シランガスを多量に必要とする反面、
高価なガスであることから、出来上がった電子写真感光
体も、従来の感光体に比べ大幅に高価なものとなる。ま
た、成膜速度が遅く、成膜時に爆発性を有する多量のシ
ラン未分解生成物を粉塵状に発生する等、生産上の不都
合も多い。この粉塵が製造時に感光層中に混入した場合
には、画像品質に著しく悪影響を及ぼす。また、アモル
ファスシリコンは、元来、比誘電率が高いため帯電性能
が低く、複写機内で所定の表面電位に帯電するためには
、帯電器に高出力が要求される。
In order to eliminate these drawbacks, in recent years, amorphous silicon, which can be produced by a glow discharge method, has been increasingly applied to photoreceptors as a material with improved toxicity and high durability. However, since amorphous silicon requires highly ignitable silane gas as a raw material, it is highly dangerous to manufacture. Also, while it requires a large amount of silane gas,
Since the gas is expensive, the resulting electrophotographic photoreceptor is also significantly more expensive than conventional photoreceptors. In addition, there are many inconveniences in production, such as the slow film formation rate and the generation of a large amount of explosive undecomposed silane products in the form of dust. If this dust gets mixed into the photosensitive layer during manufacturing, it will significantly adversely affect image quality. Furthermore, since amorphous silicon originally has a high dielectric constant, its charging performance is low, and in order to charge it to a predetermined surface potential in a copying machine, a high output power is required from a charger.

また一方、近年ではプラズマ有機重合膜を感光体に用い
ることが提案されている。
On the other hand, in recent years, it has been proposed to use a plasma organic polymer film as a photoreceptor.

プラズマ有機重合膜自体は古くより知られており、例え
ばジエン()LShen)及びベル(A、T、Be1l
)らにより、1973年のジャーナル・オブ・アプライ
ド・ポリマー・サイエンス(Jounal of Ap
pliedPolymer 5ience)第17巻の
885〜892頁において、あらゆる有機化合物のガス
から作製されうろことが、また、同著者により、197
9年のアメリカンケミカルソサエティー(Americ
an Chemical 5ociety)発行による
プラズマポリマライゼーション(Plasma pol
ymerization)の中でもその成膜性が論じら
れている。
Plasma organic polymerized films themselves have been known for a long time, such as diene ()LShen) and bell (A, T, Be1l).
) et al., Journal of Applied Polymer Science (1973)
plied Polymer 5ience) Vol.
American Chemical Society (America)
Plasma pol.
ymerization), its film formability has been discussed.

例えば、特開昭59−28161号公報には、基板上に
ブロッキング層及び接着層としてプラズマ重合された綱
目構造を有する高分子層を設け、その上にアモルファス
シリコン層を設けた感光体が開示されている。特開昭6
0−63541号公報には、アルミ基板とその上に設け
たアモルファスシリコン層との接着性を改善するために
、接着層として200人〜2μmのダイヤモンド状炭素
模を中間に設けた感光体が開示きれ、残留電荷の面から
膜厚は2μm以下が好ましいとされている。
For example, JP-A-59-28161 discloses a photoreceptor in which a plasma-polymerized polymer layer having a mesh structure is provided on a substrate as a blocking layer and an adhesive layer, and an amorphous silicon layer is provided thereon. ing. Tokukai Showa 6
Publication No. 0-63541 discloses a photoreceptor in which a diamond-like carbon pattern of 200 to 2 μm is provided in the middle as an adhesive layer in order to improve the adhesion between an aluminum substrate and an amorphous silicon layer provided thereon. It is said that the film thickness is preferably 2 .mu.m or less in terms of resistance to cracking and residual charge.

発明が解′、シようとする問題点 上述のように、従来の方法で作製したプラズマ有機重合
膜は絶縁性を前提とした用途に限って用いられ、即ちそ
れらの膜は通常のポリエチレン膜の如く1016Ωcm
程度の比抵抗を有する絶縁膜と考えられ、或は、少なく
ともそのような膜であるとの認識のもとに用いられてい
た。実際に電子写真感光体への用途にしても同様の認識
から、保護層、接着層、ブロッキング層もしくは絶縁層
に限られており、所謂アンダーコート層もしくはオーバ
ーコート層としてしか用いられていなかった。従ってそ
の膜厚も高々5μm程度の極めて薄い膜としてしか用い
られず、キャリアはトンネル効果で膜中を通過するか、
トンネル効果が期待できない場合には、実用上の残留電
位としては問題にならずに済む程度の薄い膜でしか用い
られていない。
Problems to be Solved and Solved by the Invention As mentioned above, plasma organic polymer films produced by conventional methods are used only for applications assuming insulation properties, that is, they are inferior to ordinary polyethylene films. Gotoku 1016Ωcm
It was considered to be an insulating film having a certain specific resistance, or at least was used with the recognition that it was such a film. Due to the same recognition, its actual use in electrophotographic photoreceptors has been limited to protective layers, adhesive layers, blocking layers, or insulating layers, and has only been used as so-called undercoat layers or overcoat layers. Therefore, it can only be used as an extremely thin film with a thickness of about 5 μm at most, and carriers either pass through the film by tunnel effect or
When a tunneling effect cannot be expected, only a thin film that does not pose a problem as a residual potential in practical use is used.

銭能分Sll型感光体においては、電荷↑fl送層はキ
ャリア輸送性に優れている必要があり、キャリア易動度
として少なくとも10”’ [cm2/V/s eC]
以上の値が必要である。また、電子写真システムの中で
好適に使用するために帯電性能に優れている必要があり
、少なくとも10[V/μm]以上の耐圧が要求され、
ざらに帯電器の負荷を抑えるために比誘電率εにして6
以下の値を有することが好ましい。
In the SLL type photoreceptor, the charge↑fl layer transport must have excellent carrier transport properties, and the carrier mobility must be at least 10'' [cm2/V/s eC].
The above value is required. In addition, in order to suitably use it in an electrophotographic system, it must have excellent charging performance, and a withstand voltage of at least 10 [V/μm] or more is required.
In order to roughly reduce the load on the charger, the relative dielectric constant ε is set to 6.
It is preferable to have the following values.

問題点を解決するための手段 本発明は、電荷発生層と電荷輸送層とを有する機能分離
型感光体において、当該電荷輸送層が炭化水素を気相状
態でプラズマ重合後、酸処理して形成される、炭素と水
素を構成原子としてなる非晶質固体であることを特徴と
する機能分離型感光体に関する。該電荷輸送層は、可視
光もしくは半導体レーザー光付近の波長の光に対しては
、明確なる光導電性は有しないが好適な電荷輸送性を長
期にわたり安定に提供し、ざらに、帯電能、耐久性、耐
候性、耐環境汚染等の感光体性能に優れ、しかも透光性
にも優れるため、特に機能分離型感光体としての積層構
造を形成する場合においても(否めて高い自由度が得ら
れるものである。
Means for Solving the Problems The present invention provides a functionally separated photoreceptor having a charge generation layer and a charge transport layer, in which the charge transport layer is formed by plasma polymerizing hydrocarbons in a gas phase and then acid treatment. The present invention relates to a functionally separated photoreceptor characterized by being an amorphous solid consisting of carbon and hydrogen as constituent atoms. Although the charge transport layer does not have clear photoconductivity with respect to visible light or light with a wavelength near semiconductor laser light, it stably provides suitable charge transport properties over a long period of time, and generally has charging ability, Because it has excellent photoreceptor performance such as durability, weather resistance, and environmental pollution resistance, and is also excellent in light transmission, it can be used especially when forming a laminated structure as a function-separated photoreceptor (indeed, it provides a high degree of freedom). It is something that can be done.

本発明者らは、プラズマ有機重合膜の感光体への応用を
検討しているうちに、本来絶縁性であると考えられてい
た有機重合膜が、炭化水素を気相状態でプラズマ重合し
た後、酸処理して形成された炭素原子と水素原子からな
る非晶質炭素膜においては、比抵抗が低く、容易に電荷
輸送性が得られることを見出した。その理論的解釈には
本発明者においても不明確点が多く詳細にわたり言及は
できないが、この上うにして得られた電荷発生層中には
、比較的不安定なエネルギー状態の電子、例えばπ電子
、不対電子、残存フリーラジカル等が、構造中に多く存
在し、電荷輸送性に効果的に寄与しているものと推定さ
れる。ざらに、単にプラズマ重合しただけの膜では構造
的に不安定であり、静電特性上経時劣化を発生しやすい
が、酸処理を加える事により、経時劣化を無くし、長期
にわたり安定したIrl電特性が確保されることを見出
した(以下、本発明による電荷!5+送層をa −C膜
と称す)。
While considering the application of plasma organic polymer films to photoreceptors, the present inventors found that organic polymer films, which were originally thought to be insulating, were found to be difficult to apply after plasma polymerization of hydrocarbons in the gas phase. found that an amorphous carbon film made of carbon and hydrogen atoms formed by acid treatment has a low resistivity and can easily provide charge transport properties. There are many unclear points in the theoretical interpretation, and it is not possible for the present inventor to comment on it in detail. It is presumed that many electrons, unpaired electrons, residual free radicals, etc. exist in the structure and effectively contribute to charge transport properties. Generally speaking, a film that is simply plasma-polymerized is structurally unstable and prone to deterioration over time due to its electrostatic properties, but by adding acid treatment, this deterioration over time is eliminated and Irl electrical properties are stable over a long period of time. (Hereinafter, the charge !5+ layer transport layer according to the present invention will be referred to as an a-C film).

本発明においては、a−C膜を形成するための有機気体
として少なくとも一種類の炭化水素が用いられる。該炭
化水素における相状態は常温常圧において必ずしも気相
である必要はなく、加熱或は減圧等により溶融、蒸発、
昇華等を経て気化しうるものであれば、液相でも固相で
も使用可能である。該炭化水素としては、飽和炭化水素
、不飽和炭化水素、脂環式炭化水素、及び芳香族炭化水
素、が用いられる。
In the present invention, at least one type of hydrocarbon is used as an organic gas for forming the a-C film. The phase state of the hydrocarbon does not necessarily have to be a gas phase at normal temperature and pressure, but can be melted, evaporated, or evaporated by heating or reduced pressure.
As long as it can be vaporized through sublimation or the like, either liquid phase or solid phase can be used. As the hydrocarbons, saturated hydrocarbons, unsaturated hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons are used.

使用可能な炭化尿素には種類が多いが、飽和炭化水素と
しては、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デ
カン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカ
ン、ペンタデカン、ヘキサデカン、ヘプタデカン、オク
タデカン、ノナデカン、エイコサン、ヘンエイコサン、
トコサン、トリコサン、テトラコサン、ペンタコサン、
ノーキサコサン、ペンタコサン、オクタコサン、ノナコ
サン、トリアコンタン、トドリアコンクン、ペンタトリ
アコンタン、等のノルマルパラフィン並びに、イソブタ
ン、イソペンタン、ネオペンタン、イソヘキサン、ネオ
ヘキサン、2,3−ジメチルブタン、2−メチルヘキサ
ン、3−エチルペンクン、2,2−ジメチルペンタン、
2.4−ジメチルペンタン、3,3−ジメチルペンタン
、トリブタン、2−メチルへブタン、3−メチルへブタ
ン、2,2−ジメチルヘキサン、2,2.5−ジメチル
ヘキサン、2,2.3−)ジメチルペンタン、2,2.
4−トリメチルペンタン、2゜3.3−トリメチルペン
タン、2,3.4−トリメチルペンタン、イソナノン、
等のイソパラフィン、等が用いられる。
There are many types of hydrocarbon urea that can be used, but examples of saturated hydrocarbons include methane, ethane, propane, butane,
Pentane, hexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, tridecane, tetradecane, pentadecane, hexadecane, heptadecane, octadecane, nonadecane, eicosane, heneicosane,
tocosan, tricosane, tetracosan, pentacosan,
Normal paraffins such as noxacosane, pentacosane, octacosane, nonacosane, triacontane, todoriacontane, pentatriacontane, etc., as well as isobutane, isopentane, neopentane, isohexane, neohexane, 2,3-dimethylbutane, 2-methylhexane, 3-ethylpencune, 2,2-dimethylpentane,
2,4-dimethylpentane, 3,3-dimethylpentane, tributane, 2-methylhebutane, 3-methylhebutane, 2,2-dimethylhexane, 2,2.5-dimethylhexane, 2,2.3- ) dimethylpentane, 2,2.
4-trimethylpentane, 2゜3.3-trimethylpentane, 2,3.4-trimethylpentane, isonanone,
and other isoparaffins, etc. are used.

不飽和炭化水素としては、例えば、エチレン、プロピレ
ン、イソブチレン、1−ブテン、a−ブテン、1−ペン
テン、2−ペンテン、2−メチル−1−ブテン、3−メ
チル−1−ブテン、2−メチル−2−ブテン、1−ヘキ
セン、テトラメチルエチレン、1−ヘプテン、1−オク
テン、1−ノネン、1−デセン、等のオレフィン、並び
に、アレン、メチルアレン、ブタジェン、ペンタジェン
、ヘキサジエン、シクロブタジエン、等のジオレフィン
、並びに、オシメン、アロオシメン、ミルセン、ヘキサ
トリエン、等のトリオレフイン、並びに、アセチレン、
メチルアセチレン、1−ブチン、2−ブチン、1−ペン
チン、1−ヘキシン、1−ヘプチン、1−オクチン、1
−ノニン、1−デシン、等が用いられる。
Examples of unsaturated hydrocarbons include ethylene, propylene, isobutylene, 1-butene, a-butene, 1-pentene, 2-pentene, 2-methyl-1-butene, 3-methyl-1-butene, and 2-methyl. -Olefins such as 2-butene, 1-hexene, tetramethylethylene, 1-heptene, 1-octene, 1-nonene, 1-decene, and allene, methylalene, butadiene, pentadiene, hexadiene, cyclobutadiene, etc. diolefins, and triolefins such as ocimene, allocimene, myrcene, hexatriene, and acetylene,
Methylacetylene, 1-butyne, 2-butyne, 1-pentyne, 1-hexyne, 1-heptyne, 1-octyne, 1
-nonine, 1-decyne, etc. are used.

脂環式炭化水素としては、例えば、シクロプロパン、シ
クロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロ
へブタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカ
ン、シクロブンテ゛カン、シクロドデカン、シクロトリ
デカン、シクロテトラデカン、シクロペンタデカン、シ
クロヘキサデカン、等のシクロパラフィン並びに、シク
ロプロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘ
キセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネ
ン、シクロデセン、等のジクロオレフィン並びに、リモ
ネン、テルビルン、フエランドレン、シルベストレン、
ツエン、カレン、ピネン、ボルニリン、カンフエン、フ
エンヂエン、シクロフェンチェン、トリシクレン、ピサ
ボリン、ジンギベリン、クルクメン、フムレン、カジネ
ンセスキベニヘン、セリネン、カリオフィレン、サンタ
レン、セドレン、カンホリン、フィロクラテン、ポドカ
ルプレン、ミリン、等のテルペン並びに、ステロイド等
が用いられる。
Examples of alicyclic hydrocarbons include cyclopropane, cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane, cyclohebutane, cyclooctane, cyclononane, cyclodecane, cyclobuntecane, cyclododecane, cyclotridecane, cyclotetradecane, cyclopentadecane, and cyclohexadecane. , cycloparaffins such as cyclopropene, cyclobutene, cyclopentene, cyclohexene, cycloheptene, cyclooctene, cyclononene, cyclodecene, etc., as well as dichloroolefins such as limonene, tervirune, phelandrene, silvestrene,
Tsuen, caren, pinene, borniline, kanghuen, fuendien, cyclofenchen, tricyclene, pisabolin, zingiberine, curcumene, humulene, kajinensesesquivenichen, selinene, caryophyllene, santarene, cedrene, kamphorin, phylloclatene, podocarprene, mirin, etc. Terpenes, steroids, etc. are used.

芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼン、トルエン
、キシレン、ヘミメリテン、プソイドクメン、メシチレ
ン、プレニテン、イソジュレン、ジュレン、ペンタメチ
ルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、エチルベンゼン、
プロピルベンゼン、クメン、スチレン、ビフェニル、テ
ルフェニル、ジフェニルメタン、トリフェニルメタン、
ジベンジル、スチルベン、インデン、ナフタリン、テト
ラリン、アントラセン、フェナントレン、等が用いられ
る。
Examples of aromatic hydrocarbons include benzene, toluene, xylene, hemimelithene, pseudocumene, mesitylene, prenitene, isodurene, durene, pentamethylbenzene, hexamethylbenzene, ethylbenzene,
Propylbenzene, cumene, styrene, biphenyl, terphenyl, diphenylmethane, triphenylmethane,
Dibenzyl, stilbene, indene, naphthalene, tetralin, anthracene, phenanthrene, etc. are used.

本発明におけるa −C膜は炭素原子と水素原子をその
11市成原子とするが、含まれる水素原子の量は、炭素
原子と水素原子の総量に対してo、1乃至67原子%、
好適には30乃至60原子%である。水素原子の量が0
.1原子%より低い場合には、輸送性能が低下し好適な
光感度が得られない。水素原子の量が67原子%より高
い場合には、帯電能の低下と成膜性の劣化を招く。
The a-C film in the present invention has carbon atoms and hydrogen atoms as its 11 constituent atoms, and the amount of hydrogen atoms contained is o, 1 to 67 at%, based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms.
It is preferably 30 to 60 atomic %. The amount of hydrogen atoms is 0
.. If it is less than 1 atomic %, the transport performance deteriorates and suitable photosensitivity cannot be obtained. If the amount of hydrogen atoms is higher than 67 atomic %, the charging ability will be lowered and the film forming properties will be deteriorated.

本発明におけるa −C膜中に含まれる水素原子の量は
、成膜装置の形態並びに成膜時の条件により変化させる
ことか可能であり、水素量を低くするには、例えば、基
板温度を高くする、圧力を低くする、原料炭化水素ガス
の希釈率を低くする、印加電力を高くする、交番電界の
周波数を低くする、交番電界に重畳せしめた直流電界強
度を高くする、等の手段により制御することが可能であ
る。
The amount of hydrogen atoms contained in the a-C film in the present invention can be changed depending on the form of the film forming apparatus and the conditions during film forming.In order to lower the hydrogen amount, for example, the substrate temperature can be changed. By increasing the pressure, lowering the pressure, lowering the dilution rate of the raw material hydrocarbon gas, increasing the applied power, lowering the frequency of the alternating electric field, increasing the strength of the DC electric field superimposed on the alternating electric field, etc. It is possible to control.

本発明における電荷輸送層としてのa −C膜の膜厚は
、通常の電子写真プロセスで用いるのであればば、5乃
至50μm1特に7乃至20μmが適当であり、5μm
より薄いと、帯電電位が低いt:の充分な複写画像)4
度を得ることが出来ないう士た、50μmより厚いと、
生産性の面で好ましくない。このa−C膜は、高透光性
、高暗抵抗を有するとともに電荷輸送性に富み、膜厚を
上記の様に5μm以上としてもキャリアはトラップされ
ること無く輸送され明減衰に寄与することが可能である
The thickness of the a-C film as a charge transport layer in the present invention is suitably 5 to 50 μm, particularly 7 to 20 μm, and 5 μm if used in a normal electrophotographic process.
If it is thinner, the charging potential will be lower (t: sufficient copy image) 4
If it is thicker than 50 μm, it is impossible to obtain a
Unfavorable in terms of productivity. This a-C film has high light transmittance, high dark resistance, and is rich in charge transport properties, and even if the film thickness is 5 μm or more as mentioned above, carriers are transported without being trapped and contribute to bright attenuation. is possible.

本発明における原料気体からa −C膜を形成する過程
としては、原料気体が、直流、低周波、高周波、或はマ
イクロ波等を用いたプラズマ法により生成されるプラズ
マ状態を経て形成される方法が最も好ましいが、その他
にも、イオン化蒸着法、或はイオンビーム蒸着法等によ
り生成されるイオン状態を経て形成されてもよいし、真
空蒸着法、或はスパッタリング法等により生成される中
性粒子から形成されてもよいし、更には、これらの組み
合わせにより形成されてもよい。また、該a−C膜の酸
処理に用いられる酸としては、例えば、硫酸、塩酸、硝
酸、リン酸、臭酸、硼酸等が挙げられる。用いる酸の種
類によっても異なるが、酸処理方法としては、例えば、
およそ0.01N乃至1ON水溶液を50℃乃至150
℃程度の飽和蒸気圧状態に保ち、その雰囲気中に該a 
−〇膜を5分乃至3時間程度放置すればよい。または、
およそO,OIN乃至1ON水溶液を5℃乃至35℃程
度に保ち、1秒乃至1時間程度浸漬すればよい。
The process of forming an a-C film from a raw material gas in the present invention is a method in which the raw material gas is formed through a plasma state generated by a plasma method using direct current, low frequency, high frequency, microwave, etc. is the most preferable, but it may also be formed through an ionic state generated by ionization vapor deposition method, ion beam vapor deposition method, etc., or neutral state produced by vacuum vapor deposition method, sputtering method, etc. It may be formed from particles or a combination thereof. Furthermore, examples of acids used in the acid treatment of the a-C film include sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, phosphoric acid, hydrochloric acid, and boric acid. Although it varies depending on the type of acid used, examples of acid treatment methods include:
Approximately 0.01N to 1ON aqueous solution at 50℃ to 150℃
Maintain the saturated vapor pressure state at around ℃, and add the a
-〇 The membrane may be left for about 5 minutes to 3 hours. or
It is sufficient to keep an aqueous solution of O, OIN to 1ON at a temperature of about 5° C. to 35° C. and immerse it for about 1 second to 1 hour.

本発明による感光体に用いる電荷発生層は特に限定的で
はなく、例えば、非晶質セレン、セレン砒素、セレンテ
ルル、硫化カドミウム、酸化亜鉛、特性を変えるため場
合により異種元素(例えば、水素、硼素、炭素、窒素、
酸素、弗素、燐、硫黄、塩素、臭素、ゲルマニウム、等
)を含有せしめたアモルファスシリコン、等の無機物質
、ポリビニルカルバゾール、シアニン系化合物、金属フ
タロシアニン系化合物、アゾ系化合物、ペリレン系化合
物、トリアリールメタン系化合物、トリフェニルメタン
系化合物、トリフェニルアミン系化合物、ヒドラゾン系
化合物、スチリル系化合物、ピラゾリン系化合物、オキ
サゾール系化合物、オキサジン系化合物、オキサジアゾ
ール系化合物、チアジン系化合物、キサンチン系化合物
、ピリリウム系化合物、キナクリドン系化合物、インジ
ゴ系化合物、多環キノン系化合物、ジスベンズイミダゾ
ール系化合物、インダスロン系化合物、スクアリリウム
系化合物、等の有(実物質を用いることが可能である。
The charge generating layer used in the photoreceptor according to the present invention is not particularly limited and includes, for example, amorphous selenium, selenium arsenide, selenium tellurium, cadmium sulfide, zinc oxide, and optionally different elements (for example, hydrogen, boron, carbon, nitrogen,
Inorganic substances such as amorphous silicon containing oxygen, fluorine, phosphorus, sulfur, chlorine, bromine, germanium, etc.), polyvinyl carbazole, cyanine compounds, metal phthalocyanine compounds, azo compounds, perylene compounds, triaryl Methane compounds, triphenylmethane compounds, triphenylamine compounds, hydrazone compounds, styryl compounds, pyrazoline compounds, oxazole compounds, oxazine compounds, oxadiazole compounds, thiazine compounds, xanthine compounds, Pyrylium compounds, quinacridone compounds, indigo compounds, polycyclic quinone compounds, disbenzimidazole compounds, induthrone compounds, squarylium compounds, etc. (real substances can be used).

これ以外にも、照射光により効率よく光励起キャリアを
発生し、そのキャリアを電荷輸送層中に効率よく注入し
うる材料であれば、いずれの材料であっても使用するこ
とができる。
In addition to this, any material can be used as long as it can efficiently generate photo-excited carriers by irradiation light and can efficiently inject the carriers into the charge transport layer.

また、該電荷発生層は製造方法においても制限を受ける
ことはなく、例えば、本発明における電荷輸送層(a−
C膜)と同様の製造方法によってもよいし、液相中での
電着法、スプレー或はディッピング等による塗布法、等
によって形成してもよい。中でも、本発明における電荷
輸送層と同様の製造方法にり成膜した場合には、製造装
置コスト、工程の省力化にもつながり好ましい。
Furthermore, the charge generation layer is not subject to any limitations in the manufacturing method; for example, the charge transport layer (a-
It may be formed by the same manufacturing method as for C film), or by electrodeposition in a liquid phase, coating by spraying or dipping, or the like. Among these, it is preferable to form the film by the same manufacturing method as that for the charge transport layer in the present invention, as this leads to reductions in manufacturing equipment costs and process labor.

また、該電荷発生層が影響を受けないものであれば、本
発明による酸処理は、電荷発生mを設けた状態で行なっ
てもよい。
Further, as long as the charge generation layer is not affected, the acid treatment according to the present invention may be performed with the charge generation m provided.

本発明における感光体は、電荷発生層と電荷輸送層から
なる槻能分離型感光体であり、該電荷発生層と該電荷輸
送層の積層構成は、必要に応じて適宜選択することが可
能である。
The photoreceptor in the present invention is a separable photoreceptor consisting of a charge generation layer and a charge transport layer, and the laminated structure of the charge generation layer and the charge transport layer can be selected as appropriate. be.

第1図は、その一形態として、導電性基板(1)上に電
荷輸送層(2)と電荷発生層(3)を順次積層してなる
構成を示したものである。第2図は、別の一形態として
、導電性基板(1)上に電荷発生層(3)と電荷輸送層
(2)を順次積層してなる構成を示したものである。第
3図は、別の一形態として、導電性基板(1)上に、電
荷輸送層(2)と電荷発生層(3)と電荷輸送層(2)
を順次積層してなる構成を示したものである。
FIG. 1 shows, as one embodiment, a structure in which a charge transport layer (2) and a charge generation layer (3) are sequentially laminated on a conductive substrate (1). FIG. 2 shows, as another embodiment, a structure in which a charge generation layer (3) and a charge transport layer (2) are sequentially laminated on a conductive substrate (1). FIG. 3 shows, as another embodiment, a charge transport layer (2), a charge generation layer (3), and a charge transport layer (2) on a conductive substrate (1).
This figure shows a structure in which these are sequentially laminated.

感光体表面を、例えばコロナ帯電器等により正帯電した
後、画像露光して使用する場合においては、第1図では
電荷発生層(3)で発生した正孔が電荷輸送層(2)中
を導電性基板(1)に向は走行し、第2図では電荷発生
層(3)で発生しt二電子が電荷ネil送層(2)中を
感光体表面に向は走行し、第3図では電荷発生層(3)
で発生した正孔が導電性基板側の電荷輸送層(2)中を
導電性基板(1)に向は走行すると共に、同時に電荷発
生層(3)で発生した電子が表面側の電荷輸送層(2)
中を感光体表面に向は走行し、好適な明減衰に保証され
た静電潜像の形成が行なわれる。反対に感光体表面を負
帯電した後、画像露光して使用する場合においては、電
子と正孔の挙動を入れ代えて、キャリアーの走行性を解
すればよい。第2図及び第3図では、画像露光用の照射
光が電荷輸送層(2)中を通過することになるが、本発
明による電荷輸送層は透光性に優れることから、好適な
潜像形成を行なうことが可能である。
When the surface of the photoreceptor is positively charged using a corona charger or the like and then used for image exposure, in FIG. 1, holes generated in the charge generation layer (3) pass through the charge transport layer (2). In FIG. 2, two electrons generated in the charge generation layer (3) travel to the photoreceptor surface in the charge transport layer (2), and in the third In the figure, the charge generation layer (3)
The holes generated in the charge transport layer (2) on the conductive substrate side travel toward the conductive substrate (1), and at the same time, the electrons generated in the charge generation layer (3) travel through the charge transport layer (2) on the surface side. (2)
The light travels through the photoreceptor surface to form an electrostatic latent image with proper brightness attenuation. On the other hand, when the surface of the photoreceptor is negatively charged and then used for image exposure, the behavior of electrons and holes can be exchanged to understand the mobility of carriers. In FIGS. 2 and 3, the irradiation light for image exposure passes through the charge transport layer (2), but since the charge transport layer according to the present invention has excellent translucency, it is possible to form a suitable latent image. It is possible to carry out formation.

第4図は、ざらなる一形態として、導電性基板(1)上
に電荷輸送層(2)と電荷発声層(3)と表面保護層(
4)を順次積層してなる構成を示したものである。即ち
第1図の形態に表面保護層を設けた形態に相当するが、
第1図の形態では、最表面が本発明においては特に限定
を受けない電荷発生層で有ることから、多くの場合実用
上の耐久性を確保するために表面保護層を設けることが
好ましい。第2図及び第3図の構成の場合、最表面が耐
久性に優れた本発明による電荷輸送層であるため、表面
保Wk層を設けなくてもよいが、例えば現像剤の付着に
よる感光体表面の汚れを防止するような、複写機内の各
種エレメントに対する整合性を調整する目的から、表面
保護層を設けることもざらなる一形態となりうる。
FIG. 4 shows a conductive substrate (1), a charge transport layer (2), a charge generation layer (3) and a surface protection layer (3) as a rough form.
4) is shown in a structure formed by sequentially stacking them. In other words, it corresponds to the form shown in Fig. 1 with a surface protective layer provided, but
In the embodiment shown in FIG. 1, since the outermost surface is a charge generation layer which is not particularly limited in the present invention, in many cases it is preferable to provide a surface protective layer in order to ensure practical durability. In the case of the configurations shown in FIGS. 2 and 3, since the outermost surface is the highly durable charge transport layer according to the present invention, there is no need to provide a surface retaining Wk layer, but for example, when the photoreceptor is A surface protective layer may also be provided for the purpose of adjusting the integrity of various elements within the copying machine, such as preventing surface contamination.

第5図は、ざらなる一形態として、導電性基板(1)上
に中間層(5)と電荷発生層(3)と電荷輸送層(2)
を順次積層してなる構成を示したものである。即ち第2
図の形態に中間層を設けた形態に相当するが、第2図の
形態では、導電性基板との接合面が本発明においては特
に限定を受けない電荷発生層で有ることから、多くの場
合接着性及び注入阻止効果を確保するために中間層を設
けることが好ましい。第1図及び第3図の構成の場合、
導電性基板との接合面が、接着性及び注入阻止効果に優
れた、本発明による電荷G1送層であるため、中間層を
設けなくてもよいが、例えば導電性基板の前処理方法の
ような、感光層形成以前の製造工程との整合性を調整す
る目的から、中間層を設けることもざらなる一形態とな
りうる。
FIG. 5 shows an intermediate layer (5), a charge generation layer (3), and a charge transport layer (2) on a conductive substrate (1) as a rough form.
This figure shows a structure in which these are sequentially laminated. That is, the second
This corresponds to the form shown in the figure with an intermediate layer provided, but in the form shown in Fig. 2, the bonding surface with the conductive substrate is a charge generation layer which is not particularly limited in the present invention, so in many cases It is preferred to provide an intermediate layer to ensure adhesion and injection blocking effect. In the case of the configurations shown in Figures 1 and 3,
Since the bonding surface with the conductive substrate is the charge G1 transport layer according to the present invention, which has excellent adhesiveness and injection blocking effect, there is no need to provide an intermediate layer. Note that an intermediate layer may be provided for the purpose of adjusting compatibility with the manufacturing process before the formation of the photosensitive layer.

第6図は、ざらなる一形態として、導電性基板(1)上
に中間層(5)と電荷輸送層(2)と電荷発生層(3)
と表面保護層(4)を順次積層してなる構成を示したも
のである。即ち第1図の形態に中間層と表面保護層を設
けた形態に相当する。中間層と表面保護層の設置理由は
前述と同様であり、従って第2図及び第3図の構成にお
いて中間層と表面保:jimを設けることもざらなる一
形態となりうる。
FIG. 6 shows, as a rough form, an intermediate layer (5), a charge transport layer (2), and a charge generation layer (3) on a conductive substrate (1).
This figure shows a structure in which a surface protection layer (4) and a surface protection layer (4) are sequentially laminated. That is, it corresponds to the form shown in FIG. 1 with an intermediate layer and a surface protective layer provided. The reason for providing the intermediate layer and the surface protective layer is the same as described above, and therefore, providing an intermediate layer and a surface protective layer in the configurations shown in FIGS. 2 and 3 can be an alternative form.

本発明において中間層と表面保護層は、材料的にも、製
法的にも、特に限定を受けるものではなく所定の目的が
達せられるものであれば、適宜選択することが可能であ
る。本発明によるa−C膜を用いてもよい。但し、用い
る材料が、例え゛ば従来例で述べた如き絶縁性材料であ
る場合には、残留電位発生の防止のためnλJ5は5μ
m以下に留める必要がある。
In the present invention, the intermediate layer and the surface protective layer are not particularly limited in terms of material or manufacturing method, and can be appropriately selected as long as a predetermined purpose can be achieved. An a-C film according to the invention may also be used. However, if the material used is, for example, an insulating material as described in the conventional example, nλJ5 should be 5μ to prevent residual potential from occurring.
It is necessary to keep it below m.

本発明による感光体の電荷輸送層は、気相状態の分子を
減圧下で放電分解し、発生したプラズマ雰囲気中に含ま
れる活性中性種あるいは荷電種を基板上に拡散、電気力
、あるいは磁気力等により誘導し、基板上での再結合反
応により固相として堆積させる、所謂プラズマ重合反応
から生成される。
The charge transport layer of the photoreceptor according to the present invention decomposes molecules in a gas phase by discharge decomposition under reduced pressure, and diffuses active neutral species or charged species contained in the generated plasma atmosphere onto the substrate, using electric force or magnetic force. It is generated by a so-called plasma polymerization reaction, which is induced by force or the like and deposited as a solid phase by a recombination reaction on a substrate.

第7図は本発明に係わる感光体の製造装置を示し、図中
(701)〜(706)は常温において気相状態にある
原料化合物及びキャリアガスを密封した第1乃至第dタ
ンクで、各々のタンクは第1乃至第6調節弁(707)
〜(712)と第1乃至第6流量制御器(713)〜(
718)に接続されている。図中(719)〜(721
)は常温において液相または同相状態にある原料化合物
を封入した第1乃至第3容器で、各々の容器は気化のた
め第1乃至第3加熱器(722)〜(724)により与
熱可能であり、ざらに各々の容器は第7乃至第9調節弁
(725)〜(727)と第7乃至第9流量制御器(7
28)〜(730)に接続されている。これらのガスは
混合器(731)で混合された後、主管(732)を介
して反応室(733)に送り込まれる。途中の配管は、
常温において液相または同相状態にあった原料化合物が
気化したガスが、途中で凝結しないように、適宜配置さ
れた配管加熱器(734)により、与熱可能とされてい
る。反応室内には接地型tffl(735)と電力印加
電極(736)が対向して設置され、各々の電極は電極
加熱器(737)により与熱可能とされている。電力印
加電極(736)には、高周波電力用整合器(738)
を介して高周波電源(739L低周波電力用整合器(7
40)を介して低周波電源(741)、ローパスフィル
タ(742)を介して直流電源(743)が接続されて
おり、接続選択スイッチ(744)により周波数の異な
る電力が印加可能とされている。反応室(733)内の
圧力は圧力制御1弁(745)により調整可能であり、
反応室(733)内の減圧は、排気系彦択弁(746)
を介して、拡11々ポンプ(747) 、油回転ポンプ
(748)、或は、冷却除外装置(749)、メカニカ
ルブースターポンプ(750)、油回転ポンプ(748
)により行なわれる。排ガスについては、更に適当な除
外装置(753)により安全無害化した後、大気中に排
気される。これら排気系配管についても、常温において
液相または固相状態にあった原料化合物が気化したガス
が、途中で凝結しないように、4宜配置きれた配管加熱
器(734)により、与熱可能とされている。反応室(
733)も同様の理由から反応室加熱器(751)によ
り与熱可能とされ、内部に配された電極上に導電性基板
(752)が設置される。図7おいて導電性基板(75
2)は接地電極(735)に固定して配されているが、
電力印加電極(736)に固定して配されてもよく、更
に双方に配されてもよい。
FIG. 7 shows a photoconductor manufacturing apparatus according to the present invention, and in the figure (701) to (706) are first to d tanks in which the raw material compound and carrier gas, which are in a gas phase at room temperature, are sealed, respectively. The tanks are the first to sixth control valves (707)
〜(712) and the first to sixth flow rate controllers (713)〜(
718). (719) to (721) in the figure
) are first to third containers containing raw material compounds that are in a liquid phase or in-phase state at room temperature, and each container can be heated by first to third heaters (722) to (724) for vaporization. Roughly speaking, each container has seventh to ninth control valves (725) to (727) and seventh to ninth flow rate controllers (725) to (727).
28) to (730). These gases are mixed in a mixer (731) and then sent into a reaction chamber (733) via a main pipe (732). The pipes along the way are
Heat can be applied to the gas obtained by vaporizing the raw material compound, which is in a liquid phase or the same phase state at room temperature, by an appropriately arranged pipe heater (734) so as not to condense on the way. A grounded tffl (735) and a power application electrode (736) are installed facing each other in the reaction chamber, and each electrode can be heated by an electrode heater (737). A high frequency power matching device (738) is connected to the power application electrode (736).
high frequency power supply (739L low frequency power matching box (7
A low frequency power source (741) is connected through a low-frequency power source (741) and a DC power source (743) is connected through a low-pass filter (742), and power with different frequencies can be applied by a connection selection switch (744). The pressure in the reaction chamber (733) can be adjusted by a pressure control valve 1 (745),
The pressure inside the reaction chamber (733) is reduced using the exhaust system Hiko selection valve (746).
via the expansion 11 pump (747), oil rotary pump (748), cooling exclusion device (749), mechanical booster pump (750), oil rotary pump (748)
) is carried out. The exhaust gas is further rendered safe and harmless by an appropriate exclusion device (753) before being exhausted into the atmosphere. These exhaust system piping can also be heated by appropriately placed piping heaters (734) to prevent the vaporized gas from the raw material compound, which is in a liquid or solid phase at room temperature, from condensing on the way. has been done. reaction chamber (
733) can also be heated by the reaction chamber heater (751) for the same reason, and a conductive substrate (752) is installed on the electrode arranged inside. In FIG. 7, a conductive substrate (75
2) is fixed to the ground electrode (735),
It may be fixedly disposed on the power application electrode (736) or may be disposed on both sides.

第8図は本発明に係わる感光体の製造装置の別の一形態
を示し、反応室(733)内部の形態以外は、第7図に
示した本発明に係わる感光体の製造装置と同様である。
FIG. 8 shows another embodiment of the photoconductor manufacturing apparatus according to the present invention, which is similar to the photoconductor manufacturing apparatus according to the present invention shown in FIG. 7 except for the internal configuration of the reaction chamber (733). be.

第8図において、反応室(733)内部には、第7図に
おける接地電極(735)を兼ねた円筒形の導電性基板
(752)が設置され、内側には電極加熱器(737)
が配されている。導電性基板(7’S 2)周囲には同
じく円筒形状をした電力中加電ti(736)が配され
、外側には電極加熱器(737)が配されている。導電
性基板(752)は、外部より駆動モータ(754)を
用いて自転可能となっている。
In FIG. 8, a cylindrical conductive substrate (752) that also serves as the ground electrode (735) in FIG. 7 is installed inside the reaction chamber (733), and an electrode heater (737) is installed inside the reaction chamber (733).
are arranged. Around the conductive substrate (7'S2), a similarly cylindrical power source ti (736) is arranged, and an electrode heater (737) is arranged outside. The conductive substrate (752) is rotatable using an external drive motor (754).

感光体製造に供する反応室は、拡散ポンプにより予め1
0−4乃至1’O”’Torr程度にまで減圧し、真空
度の確認と装置内部に吸着したガスの脱着を行なう。同
時に電極加熱器により、電極並びに電極に固定して配さ
れた導電性基板を所定の温度まで昇温する。導電性基板
には、前述の如き感光体構成の中から所望の構成を得る
ために、必要であれば、予めアンダーコート層或は電荷
莞生層を設けて置いてもよい。アンダーコート層或は電
荷発生層の設置には、水装置仝用いてもよいし別装置を
用いてもよい。次いで、第1乃至第6タンク及び第1乃
至第3容器から適宜炭化水素よりなる原註ガスを第1乃
至第9流量制御器を用いて定流量化しながら反応室内に
導入し、圧力調節弁により反応室内を一定の減圧状態に
保つ。ガス流量が安定化した後、接続選択スイッチによ
り、例えば高周波電源を選択し、電力印加電極に高周波
電力を投入する。両電極間には放電が開始され、時間と
共に基板上に固相の膜が形成される。反応時間により膜
厚を制御し、所定の膜厚に達したところで放電を停止し
、次いで、第1乃至第9調節弁を閉じ、反応室内を充分
に排気する。ここで所望の感光体構成が得られる場合に
は、該感光体を取り出し酸処理を行なう。更に所望の感
光体構成において、電荷発生層或はオーバーコート層が
必要とされる場合には、一旦取り出して同様に酸処理を
行ない、もう−反応装置を用いるか、或は別装置に移し
てこれらの層を設け、本発明による感光体を得る。この
場合の酸処理は、電荷発生層或はオーバーコート層を設
けた後、施してもよい。
The reaction chamber used for photoreceptor production is preliminarily heated by a diffusion pump.
The pressure is reduced to about 0-4 to 1'O"' Torr, and the degree of vacuum is checked and the gas adsorbed inside the device is desorbed. At the same time, an electrode heater is used to heat the electrode and the conductive material fixed to the electrode. The substrate is heated to a predetermined temperature.If necessary, an undercoat layer or charge generation layer is provided on the conductive substrate in advance in order to obtain a desired photoreceptor structure from among the above-mentioned photoreceptor structures. The undercoat layer or the charge generation layer may be placed using the water device or a separate device.Then, the first to sixth tanks and the first to third containers may be placed. A suitable gas consisting of hydrocarbons is introduced into the reaction chamber at a constant flow rate using the first to ninth flow rate controllers, and the inside of the reaction chamber is maintained at a constant reduced pressure state by the pressure control valve.The gas flow rate is stabilized. After that, select, for example, a high-frequency power supply using a connection selection switch and apply high-frequency power to the power application electrode.Discharge starts between both electrodes, and a solid phase film is formed on the substrate over time.Reaction The film thickness is controlled by time, and the discharge is stopped when a predetermined film thickness is reached.Then, the first to ninth control valves are closed and the reaction chamber is sufficiently evacuated.At this point, the desired photoreceptor configuration is obtained. If a charge generation layer or an overcoat layer is required in the desired photoreceptor configuration, the photoreceptor is taken out and treated with an acid in the same manner. A photoreceptor according to the present invention is obtained by applying these layers using another reactor or by transferring them to a separate apparatus.In this case, the acid treatment is carried out after the charge generation layer or overcoat layer is provided. It's okay.

以下実施例を挙げながら、本発明を説明する。The present invention will be described below with reference to Examples.

X施撚よ 本発明に系わる製造装置を用いて、第1図に述べた如き
、導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設け
た感光体を作製した。
X-twisting Using a manufacturing apparatus according to the present invention, a photoreceptor was produced in which a conductive substrate, a charge transport layer, and a charge generation layer were provided in this order, as shown in FIG.

電荷輸送層形成工程(CT L工程):第7図に示すグ
ロー放電分解装置において、まず、反応装置(733)
の内部を10−6To r r程度の高真空にした後、
第1、及び第2調節弁(707、及び708)を解放し
、第1タンク(701)より水素ガス、及び第2タンク
(702)よりエチレンガスを各々出力圧1.0Kg/
Cm2の下で第11及び第2流量制御器(713、及び
714)内へ、同時に、第7調節弁(725)を解放し
、第1容器(719)よりスチレンを第1加熱器(72
2)1度25℃の下で気化して、第7流量制御器(72
8)内へ流入させた。
Charge transport layer forming step (CTL step): In the glow discharge decomposition device shown in FIG. 7, first, the reaction device (733)
After creating a high vacuum of about 10-6 Torr inside the
The first and second control valves (707 and 708) are released, and hydrogen gas is supplied from the first tank (701) and ethylene gas is supplied from the second tank (702) at an output pressure of 1.0 kg/
Cm2 into the eleventh and second flow rate controllers (713 and 714), and at the same time, the seventh control valve (725) is released and the styrene is transferred from the first container (719) into the first heater (72).
2) Once vaporized at 25°C, the seventh flow controller (72
8) It was allowed to flow into the interior.

そして各流量制御器の目盛を調整して、水氷−ガスの流
量を40secm、エチレンガスの流量な3Osccm
、及びスチレンガスの流量を18scamとなるように
設定しモ、途中混合器(731)を介して、主管(73
2)より反応室、(733)内へ流・入した。各々の流
量が安定した後に、反応室(733)内の圧力が0.5
Torrとなるように圧力調節弁(745)を調整した
。一方、導電性基板(752)としては、150X横5
0×厚3mmのアルミニウム基板を用いて、予め100
℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で
、予め接続選択スイッチ(744)により接続しておい
た低周波電源(741)を投入し、電力印加電極(73
6)に100Wa11の電力を周波薮30KHzの下で
印加して約30分プラズマ重合反応を行ない、導電性基
板(752)上に厚;:10umのa −C膜を電荷輸
送層として形成した。成膜完了後は、電力印加を停止し
、調節弁を閉じ、反応室(733)内を充分に排気した
Then, adjust the scale of each flow rate controller to set the water ice-gas flow rate to 40 sec, and the ethylene gas flow rate to 30 sccm.
, and the flow rate of styrene gas is set to 18scam, and the main pipe (73
2) into the reaction chamber (733). After each flow rate stabilizes, the pressure in the reaction chamber (733) is 0.5
The pressure control valve (745) was adjusted so that the pressure was Torr. On the other hand, the conductive substrate (752) is 150X horizontal 5
Using an aluminum substrate with a thickness of 0 x 3 mm, 100
℃, and with the gas flow rate and pressure stable, turn on the low frequency power supply (741) that was previously connected using the connection selection switch (744), and connect the power application electrode (73).
In step 6), a power of 100 Wa 11 was applied under a frequency range of 30 KHz to carry out a plasma polymerization reaction for about 30 minutes, and a 10 um thick a-C film was formed as a charge transport layer on the conductive substrate (752). After the film formation was completed, power application was stopped, the control valve was closed, and the inside of the reaction chamber (733) was sufficiently evacuated.

以上のようにして得られたa−C膜につき”CHN定量
分析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素
原子ど水素原子の総置にりJして48原子%であっt;
When CHN quantitative analysis was performed on the a-C film obtained as described above, the amount of hydrogen atoms contained was 48 atomic % based on the total position of carbon atoms and hydrogen atoms.
.

酸処理工程: 該amC膜を反応室から取り出し0.IN希塩酸の飽和
蒸気圧状態が100℃に保たれた密閉容器内に30分間
放置した。このようにして酸処理した後、再び反応室に
戻した。
Acid treatment step: The amC film was taken out from the reaction chamber and treated with 0. The mixture was left for 30 minutes in a closed container in which the saturated vapor pressure of IN diluted hydrochloric acid was maintained at 100°C. After the acid treatment in this manner, it was returned to the reaction chamber.

電荷発生層形成工程(CGL工程): 次いで、第1調節弁(707) 、及び第6調節弁(7
12)を解放し、第1タンク(701)から水素ガス、
及び第6タンク(706)からシランガスを、出力圧I
Kg/am2の下で第1、第5、及び第6流量fI71
I御器(713,717及び718)内へ流入させた。
Charge generation layer forming step (CGL step): Next, the first control valve (707) and the sixth control valve (707) are formed.
12) and hydrogen gas from the first tank (701),
and silane gas from the sixth tank (706) at an output pressure of I
1st, 5th and 6th flow rate fI71 under Kg/am2
It was made to flow into the I controllers (713, 717 and 718).

各流量制御器の目盛を調整して水素ガスの流量を210
secm、及びシランガスをの流量を90 s c a
mに設定し、反応室(733)内に流入させな。各々の
流量が安定した後に、反応室(733)内の圧力が1.
0Torrとなるように圧力調節弁(745)を調整し
た。一方、a−C膜が形成されている導電性基板(75
2)は、100℃に加熱しておき、ガス流量及び圧ノj
が安定した状態で、高周波江原(739)より周波数1
3.56MHzの下で電力印加電41(736)に50
Wattの電力を印加し、グロー放電を発生させた。こ
の放電を15分間行ない、厚ざ0.3μmのa−3i:
H電荷発生層を形成した。
Adjust the scale of each flow rate controller to set the hydrogen gas flow rate to 210.
secm, and the flow rate of silane gas to 90 sca
m, and do not allow it to flow into the reaction chamber (733). After each flow rate stabilizes, the pressure in the reaction chamber (733) decreases to 1.
The pressure control valve (745) was adjusted so that the pressure was 0 Torr. On the other hand, a conductive substrate (75
2) is heated to 100℃, and the gas flow rate and pressure are adjusted.
is stable, frequency 1 from high frequency Ehara (739)
Power applied under 3.56MHz 41 (736) to 50
Watt power was applied to generate glow discharge. This discharge was performed for 15 minutes, and a-3i with a thickness of 0.3 μm:
A H charge generation layer was formed.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で用い
たところ最高帯電電位は一1000V程度で有り、即ち
、全感光体膜厚が10.3μmであることから1μm当
りの帯電能は約100Vと極めて高く、このことから充
分な帯電性能を有することが確認された。また、暗中に
て一600■から一550Vにまで暗減衰するのに要し
た時間は約35秒であり、このことから充分な電荷保持
性能を有することが確認された。また、−500Vに初
期帯電した後、白色光を用いて一150Vまで明減衰さ
せたところ必要とされた光量は約2.1ルツクス・秒で
あり、このことから充分な光感度性能を有することが確
認された。また、本感光体を作製より3力月後に、同(
子にして白色光感度測定を行なったところ、約2.3ル
ツクス・秒で殆ど経時劣化を生じていないことが確認き
れた。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used in a commonly used Carlson process, the highest charging potential was about -1000 V. That is, since the total photoreceptor film thickness was 10.3 μm, the charging ability per 1 μm was approximately The voltage was extremely high at 100V, which confirmed that it had sufficient charging performance. Further, the time required for the dark decay from 1,600 V to 1,550 V in the dark was about 35 seconds, which confirmed that it had sufficient charge retention performance. In addition, after initial charging to -500V, the brightness was attenuated to -150V using white light, and the amount of light required was approximately 2.1 lux seconds, which indicates that it has sufficient photosensitivity performance. was confirmed. In addition, 3 months after the production of this photoreceptor, the same (
When the white light sensitivity was measured as a child, it was confirmed that there was almost no deterioration over time at approximately 2.3 lux·sec.

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を安定に有するものである。また、こ
の感光体に対して常用のカールソンプロセスの中で、作
像して転写したところ、鮮明な画像が得られた。
From the above, the photoreceptor according to the present invention shown in this example stably exhibits excellent performance as a photoreceptor. Further, when an image was formed and transferred to this photoreceptor using the commonly used Carlson process, a clear image was obtained.

大旋健旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第2図に述べた如き
、導電性基板、電荷発生層、電荷輸送層をこの順に設け
た感光体を作製した。
Kendan Daisen Using the manufacturing apparatus according to the present invention, a photoreceptor was manufactured in which a conductive substrate, a charge generation layer, and a charge transport layer were provided in this order, as shown in FIG.

CGL、CTL工程: 実施例1におけるCGL工程とCTL工程とをこの順番
に行なった。
CGL, CTL process: The CGL process and CTL process in Example 1 were performed in this order.

酸処理工程: 電荷発生層と電荷輸送層が形成された後、0゜IN希硫
酸の飽和蒸気圧状態が100℃に保たれt:密閉容器内
に30分間放置して酸処理をした。
Acid treatment step: After the charge generation layer and charge transport layer were formed, the saturated vapor pressure of 0°IN diluted sulfuric acid was maintained at 100°C, and the sample was left in a closed container for 30 minutes for acid treatment.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で用い
たところ最高帯電電位は一1o○OV程度で有り、即ち
、全感光体膜厚が10.3μmであることから1μm当
りの帯電能は約100Vと極めて高く、このことから充
分な帯電性能を有することが確認された。また、暗中に
て一600Vから一550Vにまで暗減衰するのに要し
た時間は約40秒であり、このことから充分な電荷保持
性能を有することが確認された。また、−5oOVに初
期帯電した後、白色光を用いて一150Vまで明減衰さ
せたとこる必要とされた光量は約4.6ルツクス・秒で
あり、このことから充分な光感度性能を有することが確
認された。また、本感光体を作製より3力月後に、同様
にして白色光感度測定を行なったところ、約4.フルッ
クス・秒で殆ど経時劣化を生じていないことが確認され
た。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used in a commonly used Carlson process, the highest charging potential was about -100V, that is, since the total photoreceptor film thickness was 10.3 μm, the charging ability per 1 μm was was extremely high at about 100 V, which confirmed that it had sufficient charging performance. Further, the time required for dark decay from -600V to -550V in the dark was about 40 seconds, which confirmed that it had sufficient charge retention performance. In addition, after initial charging to -5oOV, the amount of light required to attenuate to -150V using white light was approximately 4.6 lux seconds, which indicates that it has sufficient photosensitivity performance. This was confirmed. In addition, when the white light sensitivity was measured in the same manner 3 months after the photoconductor was prepared, the sensitivity was about 4. It was confirmed that there was almost no deterioration over time using flux seconds.

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
どして優れた性能を安定に有するものである)また、こ
の感光体に対して常用のカールソンプロセスの中で、作
像して転写したところ、鮮明な画像が得られた。
From the above, the photoreceptor according to the present invention shown in this example stably exhibits excellent performance as a photoreceptor. When the image was transferred, a clear image was obtained.

叉施桝旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第1図に述べた如き
、導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設け
た感光体を作製した。
Using the manufacturing apparatus according to the present invention, a photoreceptor was produced in which a conductive substrate, a charge transport layer, and a charge generation layer were provided in this order, as shown in FIG.

CTL工程: 第7図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置(733)の内部を10”6To r r程度の高
真空にした後、第1、及び第2調節弁(707、及び7
68)を解放し、第1タンク(701)より水素ガス、
及び第2タンク(702)よりプロパンガスを各々出力
圧1.0Kg/cm2の下で第1、及び第2流量制御器
(713、及び714)内へ、同時に、第7調節弁(7
25)を解放し、第1容器(′719)よりベンゼンを
第1加熱器(722)温度60℃の下で気化して、第7
流量制御器(728)内へ流入きせた。
CTL process: In the glow discharge decomposition apparatus shown in FIG.
68), hydrogen gas is released from the first tank (701),
Propane gas is supplied from the second tank (702) into the first and second flow rate controllers (713 and 714) under an output pressure of 1.0 Kg/cm2, and simultaneously into the seventh control valve (714).
25) and vaporizes benzene from the first container ('719) at the temperature of the first heater (722) at 60°C.
The liquid was allowed to flow into the flow rate controller (728).

そして各流量制御器の目盛を調整して、水素ガスの流量
を40secm、プロパンガスの流量を50secms
及びベンゼンガスのンm’FAを20secmとなるよ
うに設定して、途中混合器(731)を介して、主管(
732)より反応室(733)内へ流入した。各々の流
量が安定した後に、反応室(733)内の圧力が0.7
Torrとなるように圧力調節弁(745)を調整した
。一方、導電性基板(752)としては、樅50×横5
0×厚3mmのアルミニウム基板を用いて、予め100
℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で
、予め接続選択スイッチ(744)により接続しておい
た低周波電源(741)を投入し、電力印加電極(73
6)に100Wa11の電りを周波数30KHzの下で
印加して約30分プラズマ重合反応を行ない、導電性基
板(752)上に厚き15μmのa −C膜を電荷輸送
層として形成した。成膜完了後は、電力印加を停止し、
調節弁を閉じ、反応室(733)内を充分に排気した。
Then, adjust the scales of each flow rate controller to set the hydrogen gas flow rate to 40 seconds and the propane gas flow rate to 50 seconds.
And the m'FA of benzene gas is set to 20 sec, and the main pipe (
732) into the reaction chamber (733). After each flow rate stabilizes, the pressure inside the reaction chamber (733) is 0.7
The pressure control valve (745) was adjusted so that the pressure was Torr. On the other hand, as a conductive substrate (752), 50 fir x 5 horizontal
Using an aluminum substrate with a thickness of 0 x 3 mm, 100
℃, and with the gas flow rate and pressure stable, turn on the low frequency power supply (741) that was previously connected using the connection selection switch (744), and connect the power application electrode (73).
6), a plasma polymerization reaction was carried out for about 30 minutes by applying electricity of 100 Wa 11 at a frequency of 30 KHz, and a 15 μm thick a-C film was formed as a charge transport layer on the conductive substrate (752). After completing the film formation, stop applying power and
The control valve was closed and the inside of the reaction chamber (733) was sufficiently evacuated.

以上のようにして得られたa−C膜につキCHN定量分
析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原
子と水素原子の総量に対して40原子%であった。
When CHN quantitative analysis was performed on the a-C film obtained as described above, the amount of hydrogen atoms contained was 40 at % based on the total amount of carbon atoms and hydrogen atoms.

酸処理工程: 次いで、真空を破り、試料を取り出して、0゜2N希硝
酸を30℃に保ち、2秒間浸漬して酸処理をした。
Acid treatment step: Next, the vacuum was broken, the sample was taken out, and the sample was immersed in 0°2N diluted nitric acid at 30°C for 2 seconds for acid treatment.

CGL工程: 次いで試料を別の真空蒸着器に移し、抵抗加熱法により
A s 2 S e 3を1μm電荷発生層として設け
た。
CGL process: Next, the sample was transferred to another vacuum evaporator, and A s 2 S e 3 was applied as a 1 μm charge generation layer by a resistance heating method.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で用い
たところ最高帯電電位は一1000Vを越え、充分な帯
電性能を有することが確認された。また、暗中にて一6
00■から一550Vに、  まで暗減衰するのに要し
た時間は約25秒であり、このことから充分な電荷保持
性能を有することが確認された。また、−500Vに初
期帯電したiな、白色光を用いて一150Vまで明減衰
させt:ところ必要とされた光量は約1.8ルツクス・
秒であり、このことから充分な光感度性能を有すること
が確認された。また、本感光体を作製より3力月後に、
同様にして白色光感度測定を行なったところ、約1.8
ルツクス・秒で全く経時劣化を生じていないことが確認
きれた。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used in a commonly used Carlson process, the maximum charging potential exceeded -1,000 V, and it was confirmed that it had sufficient charging performance. Also, in the dark
The time required for dark decay from 00V to -550V was approximately 25 seconds, which confirmed that it had sufficient charge retention performance. In addition, using white light initially charged to -500V, the brightness was attenuated to -150V. However, the amount of light required was approximately 1.8 lux.
seconds, and from this, it was confirmed that the film had sufficient photosensitivity performance. In addition, 3 months after the production of this photoreceptor,
When white light sensitivity was measured in the same way, the result was approximately 1.8.
It was confirmed that there was no deterioration over time at all in Lux/second.

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を安定に有するものである。また、こ
の感光体に対して常用のカールソンプロセスの中で、作
像して転写したところ、鮮明な画像が得られた。
From the above, the photoreceptor according to the present invention shown in this example stably exhibits excellent performance as a photoreceptor. Further, when an image was formed and transferred to this photoreceptor using the commonly used Carlson process, a clear image was obtained.

坦帥l  ゛ 実施例1において、酸処理工程を省略する以外は、実施
例1と同様にして感光体作製を行なった。
Carrier l A photoreceptor was produced in the same manner as in Example 1 except that the acid treatment step was omitted.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で用い
たところ最高帯電電位は一1000V程度で有り、即ち
、全感光体膜厚が10.3μmであることから1μm当
りの帯電能は約1oovと(近めて高く、このことから
充分な(1f電性能を有することが確認された。また、
暗中にて一600Vから一550Vに士で暗減衰するの
に要した時間は約35秒であり、このことから充分な電
荷保持性能を有することが確認きれた。また、−500
Vに初期帯電した後、白色光を用いて一150■まで明
減衰させたとこる必要とされた光量は約1.9ルツクス
・秒であり、このことから充分な光感度性能を有するこ
とが確認された。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used in a commonly used Carlson process, the highest charging potential was about -1000 V. That is, since the total photoreceptor film thickness was 10.3 μm, the charging ability per 1 μm was approximately 1oov (approximately high), which confirms that it has sufficient (1f) electric performance.
The time required for dark decay from 1,600 V to 1,550 V in the dark was about 35 seconds, and this confirmed that it had sufficient charge retention performance. Also, -500
After initial charging to V, the light intensity required to attenuate to -150 cm using white light was approximately 1.9 lux·sec, which indicates that it has sufficient photosensitivity performance. confirmed.

しかし、本感光体を作製より3力月後に、同様にして白
色光感度測定を行なったところ、約60ルツクス・秒の
光電が必要とされ、極めて激しい経時劣化を生じている
ことが確認きれた。
However, when we similarly measured the white light sensitivity of this photoreceptor three months after its manufacture, we found that approximately 60 lux·sec of photoelectricity was required, confirming that extremely severe deterioration over time had occurred. .

本比較例により、本発明により作製された酸処理工程を
経た感光体は、感光体として優れた性能を安定に有する
ものであることが確認された。
This comparative example confirmed that the photoreceptor produced according to the present invention and subjected to the acid treatment step stably exhibits excellent performance as a photoreceptor.

比較例2 実施例3において、酸処理工程を省略する゛以外は、実
施例3と同様にして感光体作製を行なった。
Comparative Example 2 A photoreceptor was produced in the same manner as in Example 3, except that the acid treatment step was omitted.

特性: 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で用い
t:ところ最高帯電電位は一1000Vを越え、このこ
とから充分な帯電性能を有することが確認された。また
、暗中にて一600Vから一550Vにまで暗減衰する
のに要した時間は約30秒であり、このことから充分な
電荷保持性能を有することが確認された。また、−50
0Vに初期帯電した後、白色光を用いて一150■まで
明減衰させたとこる必要とされた光量は約1.6ルツク
ス・秒であり、このことから充分な光感度性能を有する
ことが一認された。
Characteristics: When the obtained photoreceptor was used in a conventional Carlson process, the highest charging potential exceeded -1,000 V, which confirmed that it had sufficient charging performance. Further, the time required for dark decay from -600V to -550V in the dark was about 30 seconds, which confirmed that it had sufficient charge retention performance. Also, -50
After initial charging to 0V, the light intensity was attenuated to -150μ using white light, and the amount of light required was approximately 1.6 lux·sec, which indicates that it has sufficient photosensitivity performance. It was approved.

しかし、本感光体を作製より3力月後に、同様にして白
色光感度測定を行なったところ、約73ルツクス・秒の
光量が必要ときれ、極めて激しい経時劣化を生じて要る
ことが確認された。
However, when we similarly measured the white light sensitivity of this photoreceptor three months after its manufacture, we found that a light intensity of approximately 73 lux·sec was required, which confirmed that extremely severe deterioration occurred over time. Ta.

本比較例により、本発明により作製された酸処理工程を
経た感光体は、感光体として優れた性能を安定に有する
ものであることが確認きれた。
From this comparative example, it was confirmed that the photoreceptor produced according to the present invention and subjected to the acid treatment step stably exhibits excellent performance as a photoreceptor.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

出願人 ミノルタカメラ株式会社 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図  第6図 Applicant: Minolta Camera Co., Ltd. Figure 1 Figure 2 Figure 3 Figure 4 Figure 5 Figure 6

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 電荷発生層と電荷輸送層とを有する機能分離型感光体に
おいて、当該電荷輸送層が炭化水素を気相状態でプラズ
マ重合後、酸処理して形成される、炭素と水素を構成原
子としてなる非晶質固体であることを特徴とする感光体
In a functionally separated photoreceptor having a charge generation layer and a charge transport layer, the charge transport layer is formed by plasma polymerizing hydrocarbons in a gas phase and then treating them with an acid. A photoreceptor characterized by being a crystalline solid.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2011024173A3 (en) * 2009-08-27 2011-11-10 Landa Laboratories Ltd. Method and device for generating electricity and method of fabrication thereof
CN110226106A (en) * 2016-07-17 2019-09-10 本-古里安大学B.G.内盖夫技术和应用公司 Upper converting system for being imaged and communicating

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