JPS63166895A - ハロゲン化ホスホノ燐酸エステルの製造法 - Google Patents
ハロゲン化ホスホノ燐酸エステルの製造法Info
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- JPS63166895A JPS63166895A JP62315413A JP31541387A JPS63166895A JP S63166895 A JPS63166895 A JP S63166895A JP 62315413 A JP62315413 A JP 62315413A JP 31541387 A JP31541387 A JP 31541387A JP S63166895 A JPS63166895 A JP S63166895A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
- C08K5/51—Phosphorus bound to oxygen
- C08K5/53—Phosphorus bound to oxygen bound to oxygen and to carbon only
- C08K5/5317—Phosphonic compounds, e.g. R—P(:O)(OR')2
- C08K5/5333—Esters of phosphonic acids
- C08K5/5337—Esters of phosphonic acids containing also halogens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/38—Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
- C07F9/40—Esters thereof
- C07F9/4003—Esters thereof the acid moiety containing a substituent or a structure which is considered as characteristic
- C07F9/4006—Esters of acyclic acids which can have further substituents on alkyl
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07F9/4015—Esters of acyclic unsaturated acids
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
肱桑上の利用分野
本発明は、ハロダン化ホスホノ燐酸エステルの製造法に
関する。
関する。
従来の技術
周知のように、亜燐酸トリアルキルエステルとα−ハロ
rンカルポニル化合物トは、ハロダン化アルキルの脱離
下に反応してβ−オクソーアルカンホスホン酸ジアルキ
ルエステル金生成しうる〔ミバエリス・アルデソフ(M
工CHAELis−ARBU80W )転位〕。
rンカルポニル化合物トは、ハロダン化アルキルの脱離
下に反応してβ−オクソーアルカンホスホン酸ジアルキ
ルエステル金生成しうる〔ミバエリス・アルデソフ(M
工CHAELis−ARBU80W )転位〕。
R’−C−CH2−Ha1+ (RO)5P −一→R
Hal 同様に公知の燐酸ジアルキルビニルエステルの生成は競
争反応とみなされる〔パーコツ(PERKOW )反応
〕。
Hal 同様に公知の燐酸ジアルキルビニルエステルの生成は競
争反応とみなされる〔パーコツ(PERKOW )反応
〕。
そこで、亜燐酸トリアルキルエステルとα−ハロゲンア
シルハロrニドとの反応を実施すれハ、ミバエリス・ア
ルデソフ転位とパーコア反応とを組合せることによシホ
スホノビニル燐酸エステルが得られる〔ナツセ(K、
8asse ) 。
シルハロrニドとの反応を実施すれハ、ミバエリス・ア
ルデソフ転位とパーコア反応とを組合せることによシホ
スホノビニル燐酸エステルが得られる〔ナツセ(K、
8asse ) 。
“メ)−テンーデル嚇オルガニツシエン・ヒエミー(M
ethoden der Organjschen C
hemle ) ”(HOUBIN−WEYL )、第
Xll/2−11 第352頁参照〕。
ethoden der Organjschen C
hemle ) ”(HOUBIN−WEYL )、第
Xll/2−11 第352頁参照〕。
j[[に、米国特許第2934469号FJA細書から
、ホスホノビニル燐酸エステルは亜燐酸トリアルキルエ
ステル2モルとα−へロrンアシルハロrニド1モルと
から簡単な反応で製造できかつこの化合物は農薬として
使用することができること扛既に公知である。
、ホスホノビニル燐酸エステルは亜燐酸トリアルキルエ
ステル2モルとα−へロrンアシルハロrニド1モルと
から簡単な反応で製造できかつこの化合物は農薬として
使用することができること扛既に公知である。
発明を達成するための手段
ところで意外にも、一般式:
%式%)
〔式中X−ハロrン、R’−C原子数1〜4のフルキレ
ン基、A w >c m CRs”’または>C−CB
5///RIV を表わし、ピー炭素原子数1〜4のアルキル基、ハロゲ
ノまたは水素からの同じかまたは異なる基を表わし、R
IV−ハロゲノま九は水素を表わす〕で示されるハロダ
ン化ホスホノ燐酸エステルの製造法において、g4成分
として亜燐酸トリエステルの代りに、塩化@(1)から
出発していわゆるワン・ポット法で、トリエステルの後
処理およびMJIi!工程を中間に接続せずに作業する
ことができ、これは装置費およびエネルギー節約の著し
い利点を伴なうことが判明した。
ン基、A w >c m CRs”’または>C−CB
5///RIV を表わし、ピー炭素原子数1〜4のアルキル基、ハロゲ
ノまたは水素からの同じかまたは異なる基を表わし、R
IV−ハロゲノま九は水素を表わす〕で示されるハロダ
ン化ホスホノ燐酸エステルの製造法において、g4成分
として亜燐酸トリエステルの代りに、塩化@(1)から
出発していわゆるワン・ポット法で、トリエステルの後
処理およびMJIi!工程を中間に接続せずに作業する
ことができ、これは装置費およびエネルギー節約の著し
い利点を伴なうことが判明した。
殊に、所望の最終生成物は良好な収率でかつ本発明によ
り過当な洗浄工程を後接すれは、物殊な使用目的に供給
するのに十分な純度で生じる。
り過当な洗浄工程を後接すれは、物殊な使用目的に供給
するのに十分な純度で生じる。
本発明方法は、第1工程で塩化燐(1)t−触媒の存在
でアルキレンオキシドと反応させ、次いで過剰のアルキ
レンオキシド會除去し、得られる大体において亜燐酸ト
リアルキルエステルからなる反応生成物音、後処理する
ことなく、第2工程で当該ハロゲンアシルハロrニドと
2:1〜1.50モル比で反応させ、それからホスホノ
燐酸エステルを水および/またはアンモニアの水浴液で
数回洗浄した後に単離するかまたはこれtさらに後処理
することなく第6エ程でUVM媒作用下にハロゲン化し
、次いでホスホノ燐酸エステルを水および/またはアン
モニアの水浴液で数回洗浄した後にはじめて単離するこ
とを食上とする。
でアルキレンオキシドと反応させ、次いで過剰のアルキ
レンオキシド會除去し、得られる大体において亜燐酸ト
リアルキルエステルからなる反応生成物音、後処理する
ことなく、第2工程で当該ハロゲンアシルハロrニドと
2:1〜1.50モル比で反応させ、それからホスホノ
燐酸エステルを水および/またはアンモニアの水浴液で
数回洗浄した後に単離するかまたはこれtさらに後処理
することなく第6エ程でUVM媒作用下にハロゲン化し
、次いでホスホノ燐酸エステルを水および/またはアン
モニアの水浴液で数回洗浄した後にはじめて単離するこ
とを食上とする。
詳細にはそのつど有利に、
a)アルキレンオキシドとしてエチレンオキシドを使用
することができ; b)概念1ハロrン”は塩素またはA素′It表わし: C) ハロrンアシルハロr二)’として”/’D酸
クロリド全使用することができ、その際一般式: %式%(20 で示される燐酸ビス−(2−クロルエチル)−1−(ビ
ス−(2−クロルエチル)−ホスホノコ−ビニルエステ
ルが得られる; d)第2工程で亜燐7酸トリアルキルエステル対ハロr
ンアシルハロrニドの2 : 1.1のモル比を維持す
ることができ: e)第1工程で一り0℃〜+20001とくに0°C〜
10℃の温度および0.5〜5時間、とくに2〜6時間
の反応時間を維持することができ;最後に f) 第2工程および場合によっては第6エ程で0〜1
00°C1とくにく60℃の温度および0.5〜5時間
、とくに1〜2時間の反応時間を維持することがでさる
、 本発明による後接された洗浄工程は、殊に水または七の
代りに約10%の水酸化アンモニウム浴液を用いて実施
し、その後得られたハロゲン化ホスホノ燐酸エステルは
難燃剤ないしは難燃剤成分として適当である。
することができ; b)概念1ハロrン”は塩素またはA素′It表わし: C) ハロrンアシルハロr二)’として”/’D酸
クロリド全使用することができ、その際一般式: %式%(20 で示される燐酸ビス−(2−クロルエチル)−1−(ビ
ス−(2−クロルエチル)−ホスホノコ−ビニルエステ
ルが得られる; d)第2工程で亜燐7酸トリアルキルエステル対ハロr
ンアシルハロrニドの2 : 1.1のモル比を維持す
ることができ: e)第1工程で一り0℃〜+20001とくに0°C〜
10℃の温度および0.5〜5時間、とくに2〜6時間
の反応時間を維持することができ;最後に f) 第2工程および場合によっては第6エ程で0〜1
00°C1とくにく60℃の温度および0.5〜5時間
、とくに1〜2時間の反応時間を維持することがでさる
、 本発明による後接された洗浄工程は、殊に水または七の
代りに約10%の水酸化アンモニウム浴液を用いて実施
し、その後得られたハロゲン化ホスホノ燐酸エステルは
難燃剤ないしは難燃剤成分として適当である。
従って、可燃物の燃焼性を減少させるための難燃剤とし
て、本発明方法により展進された、一般式: 〔式中x、VおよびAは上記のもの會表わす〕で示され
るハロゲン化ホスホノ燐酸エステルを使用することも本
発明の範囲内である。上記化合物は、たとえは不飽和ポ
リエステルおよびエポキシ樹脂のようなプラスチックの
防炎加工のためならびに織物の防炎加工のためにも過当
でおる。
て、本発明方法により展進された、一般式: 〔式中x、VおよびAは上記のもの會表わす〕で示され
るハロゲン化ホスホノ燐酸エステルを使用することも本
発明の範囲内である。上記化合物は、たとえは不飽和ポ
リエステルおよびエポキシ樹脂のようなプラスチックの
防炎加工のためならびに織物の防炎加工のためにも過当
でおる。
次に、本発明による製造方法の実施例ならびにハロゲン
化ホスホノ燐酸エステルの使用例金働ける。
化ホスホノ燐酸エステルの使用例金働ける。
実施例
例 1 燐酸−ピス−(2−クロルエチル)−1−〔ビ
ス−(2−クロルエチル)− ホスホノコ−ビニルエステルの製造 還流冷却器および@良計を備える内容5tの攪拌オート
クレーブ中へ、塩化燐(1)19009(14モル)t
−装入し、塩化チタン(IV)10.1加えた。次に、
3時間の経過中に撹拌下ニエチレンオキシド2000.
S/ (45モ#)を導入し、その除反応温度を冷却に
より10°Cよυ下に保った。80℃で1時間の後反応
後に、過剰のエチレンオキシド會約60ミリバールの減
圧下に除去した。引続き、1.5時間の経過中に、クロ
ル酢酸クロリド870 g (7,7モル)全滴加し、
その際冷却により反応温度を60°Cよp下に保った。
ス−(2−クロルエチル)− ホスホノコ−ビニルエステルの製造 還流冷却器および@良計を備える内容5tの攪拌オート
クレーブ中へ、塩化燐(1)19009(14モル)t
−装入し、塩化チタン(IV)10.1加えた。次に、
3時間の経過中に撹拌下ニエチレンオキシド2000.
S/ (45モ#)を導入し、その除反応温度を冷却に
より10°Cよυ下に保った。80℃で1時間の後反応
後に、過剰のエチレンオキシド會約60ミリバールの減
圧下に除去した。引続き、1.5時間の経過中に、クロ
ル酢酸クロリド870 g (7,7モル)全滴加し、
その際冷却により反応温度を60°Cよp下に保った。
90−100℃で1.5時間の後反応時間後に、還流冷
却器を下向き冷却器に代えた:反応副生成物として生じ
たジクロルエタンを留去した。
却器を下向き冷却器に代えた:反応副生成物として生じ
たジクロルエタンを留去した。
次いで、他の揮発性側成分を約10 ミIJバールの減
圧下に除去し友。
圧下に除去し友。
引続き、反応生厄物を順次に水6t、10%の水酸化ア
ンモニウム溶液およびもう一度水6tで洗浄した。次に
、徐々に温度を上げて水全圧力約120 ミIJパール
で留去した;残りの揮発性成分は温P!L120℃、圧
力1ミリバールで除去した。
ンモニウム溶液およびもう一度水6tで洗浄した。次に
、徐々に温度を上げて水全圧力約120 ミIJパール
で留去した;残りの揮発性成分は温P!L120℃、圧
力1ミリバールで除去した。
冷却した後、次の分析データを有する無色の液体249
0&が得られた: 密 度(25°C) : 1.445.9/都粘反
(25℃) : 280mPa−5屈折ぶ(25°C)
: 1.4867ff1曲 :
1.2〜KOH/ 9燐含量 :
13.0%P(理論値13.6%P) 塩累含it: 32.1%Ct (理論値3
1.6%Ct ) P3五NMR分光実験で、所望化合物85%が存在して
いたことが判明した、残りは一連の構造近縁の燐酸エス
テルおよびホスホン酸エステルに分配していた。
0&が得られた: 密 度(25°C) : 1.445.9/都粘反
(25℃) : 280mPa−5屈折ぶ(25°C)
: 1.4867ff1曲 :
1.2〜KOH/ 9燐含量 :
13.0%P(理論値13.6%P) 塩累含it: 32.1%Ct (理論値3
1.6%Ct ) P3五NMR分光実験で、所望化合物85%が存在して
いたことが判明した、残りは一連の構造近縁の燐酸エス
テルおよびホスホン酸エステルに分配していた。
例 2 g4酸ビス−(2−クロルエチル)−1−〔
ビス−(2−クロルエチル)−ホ スホノ)−2−クロルビニルエステル の製造 還流冷却器および温度計を有する内容5tの攪拌反応器
中へ塩化燐(1)1900.9(14モル)を装入し、
塩化チタン(IV)10.1加えた。次に、3時間の経
過中に攪拌下にエチレンオキシド20009(45モル
)を導入し、その際反応温度を冷却により10℃より下
に保った。80℃で1時間の後反応後、過剰のエチレン
オキシドを約60ミリバールの減圧下で除去し九。引続
き、1.5時間の経過中にジクロル酢酸クロリド114
0&(7−7モル)全滴加し、その際冷却によシ反応温
度を60℃より下に保つ魁 90〜100℃で1.5時間の後反応時間の後、還流冷
却器を下向き冷却器に代えた;反応副生成物として生じ
たジクロルエタン會貿去した。
ビス−(2−クロルエチル)−ホ スホノ)−2−クロルビニルエステル の製造 還流冷却器および温度計を有する内容5tの攪拌反応器
中へ塩化燐(1)1900.9(14モル)を装入し、
塩化チタン(IV)10.1加えた。次に、3時間の経
過中に攪拌下にエチレンオキシド20009(45モル
)を導入し、その際反応温度を冷却により10℃より下
に保った。80℃で1時間の後反応後、過剰のエチレン
オキシドを約60ミリバールの減圧下で除去し九。引続
き、1.5時間の経過中にジクロル酢酸クロリド114
0&(7−7モル)全滴加し、その際冷却によシ反応温
度を60℃より下に保つ魁 90〜100℃で1.5時間の後反応時間の後、還流冷
却器を下向き冷却器に代えた;反応副生成物として生じ
たジクロルエタン會貿去した。
次いで、他の揮光性副成分を約10ミリバールの減圧下
に除去した。
に除去した。
引続き、反応生成物t−順次に水6t、10%の水酸化
アンモニウム溶液6tおよびもう一度水6tで洗浄した
。次に、温度を徐々に上けて水を圧力約120ミリバー
ルで留去した:残りの揮発性成分は温度120℃、圧力
1ミリバールで除去した。
アンモニウム溶液6tおよびもう一度水6tで洗浄した
。次に、温度を徐々に上けて水を圧力約120ミリバー
ルで留去した:残りの揮発性成分は温度120℃、圧力
1ミリバールで除去した。
冷却した後、次の分析データを有する無色の液体298
0gが得られた: 密 良(25℃) : 1.490&/紅粘匿(2
5°0) : 380mPa−5酸価:1.5■KOH
/ 、@ 燭台t: 12.5%P(理商値12.7
%P) 塩素含it: 37.0%Ct (理論値6
6.3%P) P” NMR分光夾験で、所望の化合物88%が存在し
ていたことが判明した;残りは一連の構造近縁の燐酸エ
ステルおよびホスホン酸エステルに分配していた。
0gが得られた: 密 良(25℃) : 1.490&/紅粘匿(2
5°0) : 380mPa−5酸価:1.5■KOH
/ 、@ 燭台t: 12.5%P(理商値12.7
%P) 塩素含it: 37.0%Ct (理論値6
6.3%P) P” NMR分光夾験で、所望の化合物88%が存在し
ていたことが判明した;残りは一連の構造近縁の燐酸エ
ステルおよびホスホン酸エステルに分配していた。
例3 11酸ヒス−(2−クロルエチル)−1−〔ビス
−(2−クロルエテル)−ホ スホノ)−1,2−ジクロルエチルエ ステルの製造 還流冷却器および温度計を有する内容5tの攪拌反ら話
中へ、塩化燐(1)1900g(,14モル)t−装入
し、塩化チタン(lV)1011に加えた。次いで、3
時間の経過中に攪拌下にエチレンオキシド2000,9
(45モル)ヲ導入し、その際反応1度を冷却によシ1
0℃より下に保った。80℃で1時間の後反応の後に、
過剰のエチレンオキシドを約60ミリバールの減圧で除
去した。引続き、1.5時間の経過中に、クロル酢酸ク
ロリド870 & (7,7モル)を滴加し、その際冷
却により反応!度t30℃より下に保った。
−(2−クロルエテル)−ホ スホノ)−1,2−ジクロルエチルエ ステルの製造 還流冷却器および温度計を有する内容5tの攪拌反ら話
中へ、塩化燐(1)1900g(,14モル)t−装入
し、塩化チタン(lV)1011に加えた。次いで、3
時間の経過中に攪拌下にエチレンオキシド2000,9
(45モル)ヲ導入し、その際反応1度を冷却によシ1
0℃より下に保った。80℃で1時間の後反応の後に、
過剰のエチレンオキシドを約60ミリバールの減圧で除
去した。引続き、1.5時間の経過中に、クロル酢酸ク
ロリド870 & (7,7モル)を滴加し、その際冷
却により反応!度t30℃より下に保った。
90〜100℃で1.5時間の後反応時間の後、還流冷
却器を下向き冷却器に代え、反応副生成物として生じた
ジクロルエタンを留去した。他の揮発性−成分は約10
ミリバールの減圧下に除去した。
却器を下向き冷却器に代え、反応副生成物として生じた
ジクロルエタンを留去した。他の揮発性−成分は約10
ミリバールの減圧下に除去した。
引続き、四塩化炭素2000Nt−添加し、水冷浸漬フ
ィンガを有するフィリップスの水嫁蒸気灯を取付けた。
ィンガを有するフィリップスの水嫁蒸気灯を取付けた。
次いで、3時間の経過中に、塩素550yを導入し、そ
の際反応温度を冷却により10°Cより下に保つ次。5
0℃で1時間の後反応時間の後、過剰の塩素を俗媒とし
て使用した四塩化炭素と一緒に留去した。次いで、他の
揮発性側成分を約10ミリバールの減圧下に除去した。
の際反応温度を冷却により10°Cより下に保つ次。5
0℃で1時間の後反応時間の後、過剰の塩素を俗媒とし
て使用した四塩化炭素と一緒に留去した。次いで、他の
揮発性側成分を約10ミリバールの減圧下に除去した。
引続き、反応生成物を順次に水6t、10%の水酸化ア
ンモニウム温液6tおよびもう一度水6tで洗浄した。
ンモニウム温液6tおよびもう一度水6tで洗浄した。
次いで、@at−徐々に上げて、水を圧力約120ミリ
バールで留去した;残りの揮発性取分は@度120℃、
圧力1ミリバールで除去した。
バールで留去した;残りの揮発性取分は@度120℃、
圧力1ミリバールで除去した。
冷却した後、次の分析データを有する無色の液体335
0#が得られた: 密 友(25℃) : 1.150&/紅粘
度(25°0 ) : 500 mPa−a酸価:1.
3■KOH/ン 隣合ik : 11.6%P(理論値11.1%P
) 塩素含量: 43.7%ct (理論値44.4
%Ct ) P3↓NMR分光実験で、所望化合物81%が存在して
いたことが判明した;残シは一連の構造近縁の燐酸エス
テルおよびホスホン酸エステルに分配していた。
0#が得られた: 密 友(25℃) : 1.150&/紅粘
度(25°0 ) : 500 mPa−a酸価:1.
3■KOH/ン 隣合ik : 11.6%P(理論値11.1%P
) 塩素含量: 43.7%ct (理論値44.4
%Ct ) P3↓NMR分光実験で、所望化合物81%が存在して
いたことが判明した;残シは一連の構造近縁の燐酸エス
テルおよびホスホン酸エステルに分配していた。
例 4 ポリウレタンフォーム用難燃剤としての燐酸ビ
ス−(2−クロルエチル)− 1−〔ビス−(2−クロルエチル)− ホスホノコ−ビニルエステルの使用例 2tの板紙展パケット中へ 例1からの難燃剤 100.9水
40g0
gジメチルエタノールアミン 4gを秤取し、強
力ミキサーを用いて1分間撹拌した。次いで、引続き攪
拌しながら(回転数を著しく減少して)、デスモジs−
k (DeamoduP)T2O(バイエル社)(ジイ
ンシアナト・ドルオール)513yt−添加した;引続
き10秒間激しく混合した。それから、混合物を直ちに
調節さnた紙袋を有する木型(40X40X50cII
t)中へ注入した。フオームの上昇時間は142秒であ
った。
ス−(2−クロルエチル)− 1−〔ビス−(2−クロルエチル)− ホスホノコ−ビニルエステルの使用例 2tの板紙展パケット中へ 例1からの難燃剤 100.9水
40g0
gジメチルエタノールアミン 4gを秤取し、強
力ミキサーを用いて1分間撹拌した。次いで、引続き攪
拌しながら(回転数を著しく減少して)、デスモジs−
k (DeamoduP)T2O(バイエル社)(ジイ
ンシアナト・ドルオール)513yt−添加した;引続
き10秒間激しく混合した。それから、混合物を直ちに
調節さnた紙袋を有する木型(40X40X50cII
t)中へ注入した。フオームの上昇時間は142秒であ
った。
5分後、フオームブロックを、さらに硬化させるため@
曳140℃の空気伽塊乾燥器に15分−」入nた〇 昆温で少なくとも24時間の貯蔵時間後にフオームの試
mt−行ない、次のデータが得られた:粗密1t :
27kg/FII3FMV88302 (連邦動力
JK安1に準302−米国−〕および^8TM−D 2
863−74 (酸素指数テスト−米国一)で、次の値
が得られた:老化条件 FMV88302等級
酸素指数テスト 8E 0
.21燃焼区間:21m 140℃で72 8E 0
.25時間(全気偽環)燃焼区間:12龍 FMV88302テストの値ならひにrR累指数テスト
の数値につき、乾熱の老化条件下で難燃効果はむしろさ
らに増加することが読取れる。
曳140℃の空気伽塊乾燥器に15分−」入nた〇 昆温で少なくとも24時間の貯蔵時間後にフオームの試
mt−行ない、次のデータが得られた:粗密1t :
27kg/FII3FMV88302 (連邦動力
JK安1に準302−米国−〕および^8TM−D 2
863−74 (酸素指数テスト−米国一)で、次の値
が得られた:老化条件 FMV88302等級
酸素指数テスト 8E 0
.21燃焼区間:21m 140℃で72 8E 0
.25時間(全気偽環)燃焼区間:12龍 FMV88302テストの値ならひにrR累指数テスト
の数値につき、乾熱の老化条件下で難燃効果はむしろさ
らに増加することが読取れる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式: ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中X=ハロゲン、R′=C原子数1〜4のアルキレ
ン基、A=>C=CR_2″′または▲数式、化学式、
表等があります▼を表わし、R″′=C原子数1〜4 のアルキル基、ハロゲンまたは水素からの同じかまたは
異なる基を表わし、R^IV=ハロゲンまたは水素を表わ
す〕で示されるハロゲン化ホスホノ燐酸エステルの製造
法において、第1工程で塩化燐(III)を触媒の存在で
アルキレンオキシドと反応させ、次いで過剰のアルキレ
ンオキシドを除去し、得られる大体において亜燐酸トリ
アルキルエステルからなる反応生成物を、後処理するこ
となく、第2工程で当該ハロゲンアシルハロゲニドとモ
ル比2:1〜1.5で反応させ、それからホスホノ燐酸
エステルを水および/またはアンモニアの水溶液で数回
洗浄した後に単離するかまたはこれをさらに後処理する
ことなく第3工程でUV触媒作用下にハロゲン化し、次
いでホスホノ燐酸エステルを水および/またはアンモニ
アの水溶液で数回洗浄した後にはじめて単離することを
特徴とするハロゲン化ホスホノ燐酸エステルの製造法。 2、アルキレンオキシドとしてエチレンオキシドを使用
する特許請求の範囲第1項記載の方法。 3、ハロゲンが塩素または臭素を表わす特許請求の範囲
第1項または第2項記載の方法。 4、ハロゲンアシルハロゲニドとしてクロル酢酸クロリ
ドを使用し、式: ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される燐酸ビス−(2−クロルエチル)−1−〔ビ
ス−(2−クロルエチル)−ホスホノ〕−ビニルエステ
ルを得る特許請求の範囲第1項から第3項までのいずれ
か1項記載の方法。 5、第2工程で亜燐酸トリアルキルエステル対ハロゲン
アシルハロゲニドとの2:1.1のモル比を維持する特
許請求の範囲第1項から第4項までのいずれか1項記載
の方法。 6、第1工程において−20℃〜+20℃の温度および
0.5〜5時間の反応時間を維持する特許請求の範囲第
1項から第5項までのいずれか1項記載の方法。 7、第2工程および場合により第3工程において0℃〜
100℃の温度および0.5〜5時間の反応時間を維持
する特許請求の範囲第1項から第6項までのいずれか1
項記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19863643684 DE3643684A1 (de) | 1986-12-20 | 1986-12-20 | Verfahren zur herstellung von halogenierten phosphono-phosphorsaeureestern und ihre verwendung |
DE3643684.4 | 1986-12-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63166895A true JPS63166895A (ja) | 1988-07-11 |
Family
ID=6316720
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62315413A Pending JPS63166895A (ja) | 1986-12-20 | 1987-12-15 | ハロゲン化ホスホノ燐酸エステルの製造法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4894469A (ja) |
EP (1) | EP0272484B1 (ja) |
JP (1) | JPS63166895A (ja) |
DE (2) | DE3643684A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014525459A (ja) * | 2011-08-31 | 2014-09-29 | マリンクロッド エルエルシー | H−ホスホネート−エン/h−ホスホネート−インヒドロホスホニル化反応を用いた標的化ナノ粒子のリモートアセンブリ |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5041596A (en) * | 1989-07-03 | 1991-08-20 | Akzo America Inc. | Formation of glycol bisphosphate compounds |
DE69224830D1 (en) * | 1991-06-19 | 1998-04-23 | Upjohn Co | Dialkyl (dialkoxyphosphinyl)methyl phosphate als antientzündungsmittel |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE949948C (de) * | 1952-10-11 | 1956-09-27 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von halogenierten Phosphorsaeureestern |
US2934469A (en) * | 1956-01-30 | 1960-04-26 | Monsanto Chemicals | Phosphinylvinyl phosphates |
GB866817A (en) * | 1958-05-15 | 1961-05-03 | Monsanto Chemicals | Insecticidal compositions and phosphorylvinyl phosphates for use therein |
FR2218343B1 (ja) * | 1973-02-21 | 1977-04-29 | Ugine Kuhlmann | |
US4407765A (en) * | 1980-07-02 | 1983-10-04 | Stauffer Chemical Company | Synthesis of organic phosphate-phosphonates |
US4407103A (en) * | 1982-05-06 | 1983-10-04 | Miller Robert R | Mobile unit support |
-
1986
- 1986-12-20 DE DE19863643684 patent/DE3643684A1/de not_active Withdrawn
-
1987
- 1987-11-25 EP EP87117373A patent/EP0272484B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-11-25 DE DE8787117373T patent/DE3777115D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-12-04 US US07/128,805 patent/US4894469A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-12-15 JP JP62315413A patent/JPS63166895A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014525459A (ja) * | 2011-08-31 | 2014-09-29 | マリンクロッド エルエルシー | H−ホスホネート−エン/h−ホスホネート−インヒドロホスホニル化反応を用いた標的化ナノ粒子のリモートアセンブリ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4894469A (en) | 1990-01-16 |
DE3777115D1 (de) | 1992-04-09 |
DE3643684A1 (de) | 1988-06-30 |
EP0272484A3 (en) | 1989-11-02 |
EP0272484B1 (de) | 1992-03-04 |
EP0272484A2 (de) | 1988-06-29 |
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