JPS63166865A - 置換されたフエノキシピリジン類 - Google Patents

置換されたフエノキシピリジン類

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JPS63166865A
JPS63166865A JP62316351A JP31635187A JPS63166865A JP S63166865 A JPS63166865 A JP S63166865A JP 62316351 A JP62316351 A JP 62316351A JP 31635187 A JP31635187 A JP 31635187A JP S63166865 A JPS63166865 A JP S63166865A
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JP
Japan
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alkyl
formula
hydrogen
alkoxy
group
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Pending
Application number
JP62316351A
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English (en)
Inventor
ロルフ・キルステン
ローラント・アンドレー
ウルリツヒ・ブツセ
ハンス‐ヨアヒム・ザンテル
ロベルト・アール・シユミツト
クラウス・リユルセン
ハリイ・ストラング
アルブレヒト・マルホルト
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Bayer AG
Original Assignee
Bayer AG
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な置換されたフェノキンビリノン、その製
造方法、除草剤及び植物生長調節剤としてのその用途並
びにまたその製造に対する新規な中間体に関する。
ある種の置換されたフェノキシベンゼン(Iジフェニル
エーテル」)、例えば3−(2,4−ジクロロフェノキ
シ)−6−二トロ安息香酸メチルは除草剤的に活性であ
ることがすでに開示されている(例えば米国特許第3,
652,645号及び同第3゜776.715号参照)
、シかしながら、公知の化合物の活性は必しも満足でき
ない。
式(I) 式中、R’は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロまたは随
時ハロゲンで置換されでいてもよい一連のアルキル、ア
ルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル及びア
ルキルスルホニルからの基を表わし、 R2は水素、ハロゲンまたはアルキルを表わし、 R3は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロまたは随時ハロ
ゲンで置換されていてもよい一連のアルキル、アルコキ
シ、アルキルチオ、フルキルスルフィニル及びアルキル
スルホニルからの基を表わし、 R4は水素またはハロゲンを表わし、 R5は水素またはハロゲンを表わし、 条件として、置換基R1〜R5の少なくとも3個は水素
と異なるものであり、そして基R1〜R′の少なくとも
1個は水素及びハロゲンと異なるものであるものとし、
更に、 R1は水素、シアノ、ニトロ、ハロゲン、カルボキシル
、カルバモイルまたはアルコキシカルボニルを表わし、
そして R7は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ホルミル、ヒ
ドロキシル、トリアルキルシリルオキシ、アルキルアミ
7カルポニルオキシ、ノアルコキシ(チオ)ホスホリル
オキシまたは一〇〇MΦを表わし、ここに MΦはアンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイオ
ン、アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオン
当量を表わし、或いはR7は随時ハロゲン、シアノ、ニ
トロ、カルボキシル、カルバモイル、アミノ、フェニル
、アルキルカルボニル、アルキルアミノ、ジアルキルア
ミノ、ヒドロキシル、アルコキシ、フルキルチオ、アル
キルアミノカルボニル、アルコキシカルボニル及び/ま
たはアルコキシカルボニルアルコキシで置換されていて
もよい一連のアルキル、アルケニル、アルキニル、アル
コキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、アルキ
ルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、フルキルス
ルフィニル及びアルキルスルホニルからの基を表わすか
、K″ R8は水素またはアルキルを表わし、そしてR4は水素
、ヒドロキシル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキル
アミノ、アリール7ミノ、フルキルカルボニルアミノ、
アリールカルボニル7ミノ、アルキルスルホニルアミノ
、随時アリール部分がアルキルで置換されていでもよい
アリールスルホニル7ミノ、シアノ、アルキル、アルコ
キシ、ハロデノアルキル、アルコキシカルボニル、アル
キルカルボニル、アリールカルボニル ニル、アルキルアミノカルボニル、アリールアミノカル
ボニル、アルコキシカルボニルアルキル、ア?ルキル、
アルキルスルホニル、アリールスルホニル、または随時
ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、アルコキシ、ハ
ロデノアルキル及び/もしくはハロデノアルコキシで置
換されていてもよいアリールを表わすか、 [10 R7は基−0 −CI −Co−R目を表わし、ここに
、R”は水素またはフルキルを表わし、そしてR目はハ
ロゲン、ヒドロキシル、アミノ、アルキルアミノ、シア
ナミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホニルアミノ
、アリールスルホニルアミノ、ヒドロキシアミノ、アル
コキシアミノ、ヒドラツノ、アルキルスルホニルヒドラ
ジノ、アリールスルホニルヒドラツノまたは基−Q  
R+2を表わし、ここに、Qは酸素または硫黄を表わし
、モして R”は随時ハロゲンで置換されていてもよい一連のアル
キル、アルコキシアルキル、フルキルチオアルキル、ア
ルキルスルフィニルフルキル、アルキルスルホニルアル
キル、アリールオキシアルキル、トリアルキルシリルア
ルキル、アリールチオアルキを、アラルコキシアルキル
、アルコキンカルボニルアルキル、アルキル7ミ7カル
ポニルアルキル、アラルキルチオアルキル、アラルキル
及びアゾリルアルキルからの基を表わすか、またはアン
モニウム、アルキル7ンモニウム、アルカリ金属もしく
はアルカリ土類金属の1当量を表わすか、 1(Is ここに、 R”は水素またはアルキルを表わし、 R’3は水素、アルキル、7リール、7リル、チェニル
またはピリノルを表わし、 R目はアルキルまたはアルコキシを表わし、R”はアル
コキシを表わし、そして Qは酸素または硫黄を表わすか、 R+7 こに、 Rloは水素またはフルキルを表わし、R11は水素ま
たはアルキルを表わし、そしてR1?はアルキルまたは
アリールを表わすか、R7は基−5(0)n−Yを表わ
し、ここに、nは0.1または2を表わし、 Yはアルコキシ、アルケノキシ、アルキノキシ、7ラル
コキシ、7リールオキシまたは7ミノ、アルキルアミノ
、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、アラルキルア
ミノ、アリールアミノ、ジアルキルアミノ、シアナミノ
、グアニジノ、ヒ・ドロキシアミノ、7ルコキシアミノ
、ヒドラジノ、アルキルヒドラジノ、アリールヒドラツ
ノ、アルキルカルボニルヒドラジノ、アルコキシカルボ
ニルヒドラジノ、アルキルスルホニルヒドラジノもしく
はアリールスルホニルヒドラジノを表わすか、2つの基
R”は、独立に、アルキルを表わすか、または−緒にな
って、アルカンジイル(「アルキレン」)を表わすか、 1(7は基−(0)p−(^)q−C=N−R20を表
わし、ユニに、 Aはアルカンジイル(アルキレン)を表わし、p及びq
は0または1を表わし、 R”は水素、アルキル、アルコキシまたはアルキルアミ
ノを表わし、そして R”0は水素、アルキル、7リール、ヒドロキシル、随
時アルコキシカルボニルで置換されでいてもよいアルコ
キシ、またはアルケニルオキシ、アルキニルオキシもし
くはアラルコキシを表わすか、 R”はアルキルまたはアルコキシを表わし、そして R22はアルコキシを表わすか、或いはR7は基−(C
H2)−−Zまたは基 IG −0−C1〜COO−(CH2)髄−Zを表わし、ここ
に、 −は0.1または2を表わし、 RIGは水素またはアルキルを表わし、そしてZは随時
ハロゲン及び/またはアルキルで置換されていてもよい
一連のフリル、テトラヒドロフリル、オキソテトラヒド
ロフリル、チェニル、テトラヒドロチェニル、パーヒド
ロピラニル、オキサシリル、チアゾリル、チアジアゾリ
ル、ジオキソラニル、パーヒドロピロリル、オキソパー
ヒドロピロリル、ピリジニル、ピリミジニル及びピリダ
ジニルからの複素環式基を表わす、 の新規な置換されたフェノキシピリジンが見出された。
式(I)の新規な置換されたフェノキシピリノンは不斉
炭素原子を有する置換基を含むために、本発明は分離可
能な異性体及ゾまだこれらの異性体混合物の双方に関す
る。
R5の定義における条件はすでに公知の化合物により導
入されている(ヨーロッパ特許出H第72.529号及
び同第1.09.751号、米国特許第3,576,6
16号及び同第4,493,730号参照)。
更に、式(I)の置換されたフェノキシピリジンは、 (a)  式(I[) 式中、R1、R1、R3、R4及(/R’は上記の意味
を有する、 のフェノールllまたは式(■)の7エノール類のアル
カリ金属塩を、随時酸受容体及び希釈剤の存在下におい
て、式(I) Xはハロゲンを表わす、 のハロゲノピリジンと反応させ、 そして場合によっては更に、上記置換基の定義によって
すでに示した@囲における誘導を、かくして得られる式
(I)の化合物について、普通の方法及び下記方法偽)
〜G)に従って行うことによって得られることが見出さ
れた: かくして、式(I)の化合物は、 (b)R’がヒドロキシを表わし、モしてR1−R6が
上記の意味を有する場合、式(I)、但し、R7はアミ
ノを表わし、そして基R’−R’は上記の意味を有する
、の化合物を水性鉱酸の存在下においてアルカリ金属亜
硝塩と反応させるか、又は(c)  R’がエルボキシ
アルコキシ(−0−CHR” −COOH)を表わし、
そして基RI 4 Rlが上記の意味を有する場合、式
(I)、但し R7はアルコキシカルボニルフルコキシ
を表わし、そして基R1〜R1は上記の意味を有する、
の化合物を水の存在下において且つ、随時有機溶媒の存
在下において、アルカリ金属水酸化物と反応させ、次に
随時蒸発させた後、鉱酸で酸性にするか、又は (d)R’がクロロカルボニルアルコキシを表わし、そ
して基R1〜R6が上記の意味を有する場合、式(I)
、但し R?はカルボキシフルコキシを表わし、そしで
基R1〜R′は上記の意味を有する、の化合物を、随時
希釈剤の存在下において、へロデン化剤と反応させるか
、又は ■ (e)R’が基−0−CトCo−R11、l5 R1フ 式中、R10% R1’、RI3、R口、R■5、R+
s、Rl7、Z、Q及び論は上記の意味を有する、を表
わし、更に基R1〜R@が上記の意味を有する場合、式
(I)、但し、R7はクロロカルボニルアルコキシを表
わし、そして基Rl + R@は上記の意味を有し、こ
の場合に、該クロロカルボニルアルコキシは基 IO ■ −0−CI −Co −CI を表わす、の化合物を、随時酸受容体及び希釈剤の存在
下において、式)(+ RI 1、RI% R1・ 式+1O−N=C 式中、R目、Re3、R1’、RIs% R1’、R1
7、Z、Q及び論は上記の意味を有する、 の化合物と反応させるか、又は (f)  R’が基 式中、R8は上記の意味を有し、そしてReはアルコキ
シカルボニル、アルキルカルボニル、アリールカルボニ
ル、アリールオキシカルボニル、アルキルアミノカルボ
ニル、アリールアミ7カルボニル、アルキルスルホニル
またはアリールスルホニルを表わす、を表わし、そして
基R’−R1が上記の意味を有する場合、式(I)、但
し、R7は式−NH−Reの基を表わし、ここに、R6
は上記の意味を有する、そして基R1〜R6は上記の意
味を有する、の化合物を、随時酸受容体及び希釈剤の存
在下において、アルコキシカルボニル、アルキルカルボ
ニル、7リールカルボニル、アリールオキシカルボニル
、フルキルスルホニルもしくはアリールスルホニルハラ
イド(特にクロライド)または対応する無水物またはア
ルキルもしくは7リールイソシアネートと反応させるか
、又は ω) R7がフルキルスルフィニルまたはアルキルスル
ホニルを表わし、そして基R1〜R6が上記の意味を有
する場合、式(I)、但し、R7はアルキルチオを表わ
し、そして基R1〜R6は上記の意味を有する、の化合
物を、随時触媒及1希釈剤の存在下において、酸化剤と
反応させるか、又は(h)R’がアルコキシを表わし、
そして基R1〜Raが上記の意味を有する場合、式(+
)、但し、R7はハロゲンを表わし、そして基R1〜R
6は上記の意味を有する、の化合物をフルカノール及び
/またはフルカノールのアルカリ金属塩と反応させるか
、又は (i)R’がハロゲンを表わし、そして基R1〜R@が
上記の意味を有する場合、式(I)、但し、R7はアミ
ノを表わし、そして基R’−R”は上記の意味を有する
、の化合物を酸の存在下においで、随時触媒及び希釈剤
の存在下において、アルカリ金属亜硝酸塩及び水素また
は金属ハライドもしくは金属ハライド錯体と反応させる
か、或いは(D  R’が基 ■ −0−CI −COOR+ 2 式中、R1Gは水素またはアルキルを表わし、そして R12はシリアルキルシ、リルアルキルを表わす、を表
わし、そして基Rl # R@が上記の意味を有する場
合、式(I)、但し、R7は基 一0−C1〜COOH 式中、R”は上記の意味を有する、 を表わす、の化合物を、随時酸受容体及び希釈剤の存在
下においてトリアルキルシリルアルキルハライドと反応
させる ことによって得られる。
最初に、式(I)の新規な置換されたフェノキシピリノ
ンはすぐれた除草剤または植物生長調節特性を示す。
驚(ベトことに、本発明による式(I)の置換されたフ
ェノキシピリジンはいくつかの重要な雑草に対して実質
的により活性であり、′そして同等の作用を有する構造
的に同様なすでに公知の活性物質である3−(2,4−
ジクロロフェノキシ)−6−二トロ安息香酸メチルより
も実質的に良好な選択特性を示す。
個々の基、例えばアルキル、アルコキシ、アルキルチオ
、アルコキシカルボニル、アルケニルまたはハロデフア
ルキルにおける炭化水素鎖は直鎖状または分枝鎖状であ
る。各々の場合に、置換は一置換または多置換であるこ
とができ、そして同一もしくは相異なる置換基を含むこ
とができる6本発明は好ましくは式(I)、但し、 R1は水素、フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ或い
は随時フッ素及び/または塩素で置換されていてもよい
一連のC3〜C2−アルキル、C1〜C2−フルコキシ
、C3〜02−アルキルチオ、Cl−02−アルキルス
ルフィニル及びC,−C2−−アルキルスルホニルから
の基を表わし、 R2は水素、フッ素、塩素、臭素またはCI〜C2−ア
ルキルを表わし、 R3は水素、フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ或い
は随時フッ素及び/または塩素で置換されていてもよい
一連のC1〜C4−アルキル、C1〜C<−フルコキシ
、01〜C4−アルキルチオ、01〜C1−フルエルス
ルフィニル及びC3〜C1−アルキルスルホニルからの
基を表わし、 R4は水素、フッ素、塩素または臭素を表わし、 R5は水素、フッ素、塩素または臭素を表わし、条件と
して、置換基R’−R’の少なくとも3個は水素と異な
るものであり、そして基Rl + R5の少なくとも1
個は水素、フッ素、塩素及び臭素と異なるものであるも
のとし、更に、 R6は水素、シアノ、ニトロ、フッ素、塩素、臭素、カ
ルボキシル、カルバモイルまたは01″″C4−フルコ
キシ力ルボニルを表わし、そして R7は水素、77素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、ホ
ルミル、ヒドロキシル、トリメチルシリルオキシ、C,
−C,−アルキル7ミ7カルポニルオキシ、シー(01
〜C4−フルコキシ−(チオ)−ホスホリルオキシまた
は一〇θMのを表わし、ここに MΦはアンモニウムイオン、01〜C1−アルキルアン
モニウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイオンま
たはカルシウムイオンの1当量を表わすか、 R7は随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、カル
ボキシル、カルバモイル、7ミノ、フェニル%C1〜C
4−アルキルカルボニル、01〜C1−アルキルアミノ
、シー(C+〜C2−アルキル)−7ミノ、ヒドロキシ
ル、CI〜C4−フルコキシ% C1〜C1−アルキル
チオ、C2〜C4−アルキルアミノカルボニル%C1〜
C4−フルコキシ力ルボニル及び/またはC,〜04−
フルコキシ力ルボニルーC2〜C4−フルフキシで置換
されていてもよいC1〜C6−アルキル;随時フッ素、
塩素、臭素、シアノ、ニトロ、カルボキシル、カルバモ
イル及V/またはCI”’ C4−アルキルスルホニル
で置換されていてもよい02〜C,−フルケニル;随時
フッ素、塩素、臭素、シアノ及び/またはC1〜C4ア
ルコキシカルボニルで置換されていてもよい02〜Cm
 −アルキニル;随時フッ素、塩素、シアノ、ノー(C
1〜C4−アルキル)−7ミノ、ヒドロキシル、C1〜
C4−アルキルカルボニル、C1〜C4−フルコキシ及
び/またはC3〜C4−アルキルチオで置換されていて
もよいC,−C,−フルコキシ;随時フッ素、塩素、シ
アノ及び/またはC,−C,−フルコキシ力ルボニルで
置換されていてもよい02〜C,−”rルケニルオキシ
;随時7ツ素、塩素、臭素、シアノ及び/またはC2〜
C1−フルコキシ力ルボニルで置換されていでもよい0
2〜C1−アルキニルオキシ:随時フッ素、塩素、臭素
、シアノ、カルボキシル、カルバモイル、C1〜C4−
フルコキシ% C1〜C1−アルキルチオ及ゾ/または
C1〜C2−フルコキシ力ルボニルで置換されていても
よいC3〜C,−アルキルチオ;随時フッ素、塩素及び
/または臭素で置換されていてもよい02〜C1−アル
キルチオ;或いは各々フッ素、塩素及び/または臭素で
置換されていてもよい02〜C1−アルキルチオ、01
〜C,−アルキルスルフィニルまたはC1〜C2−アル
キルスルホニルを表わすか、K″ R1は水素またはC1〜C4−アルキルを表わし、そし
て R9は水素、ヒドロキシル、アミノ、CI〜C6−アル
キルアミノ、ツメチルアミノ、7エ二ルアミノ、Cl−
C1−アルキルカルボニルアミノ、フェニルカルボニル
アミノ%C1〜C1−アルキルスルホニルアミノ、7エ
二ルスルホニル7ミノ、4−メチルフェニルスルホニル
アミノ、シアノ、C2〜C1−アルキル、01〜C1−
アルコキシ、C1〜C4−フルオロフルキル、C1〜C
4−アルコキシカルボニル、C1〜C−−アルキルカル
ボニル、ベンゾイル、フェノキシカルボニル%CI〜0
4−アルキル7ミ7カルボニル、フェニルアミノカルボ
ニル、C1〜C1−フェノキシカルボニルーC2〜C2
−アルキル、ベンジル%c+〜C1−アルキルスルホニ
ル、フェニルスルホニル、或いは随時フッ素、塩素、臭
素、シアノ、ニトロ、C1〜C4−アルキル、C1〜c
、−アルコキシ、C3〜C4−ハロゲノアルキル及び/
またはC1〜C1−ハロゲノアルキルで置換されていて
もよいフェニルを表わすか、Hl。
■ Rフは基−0−CIl−CO−R”を表わし、ここに、
RI6は水素またはアルキルを表わし、そしてR11は
塩素、ヒドロキシル、アミノ、CI〜C4−アルキル7
ミノ、シアナミ/、ノー(C+〜C4−アルキル)−7
ミノ、C,″−C4−アルキルスルホニル7ミ/、フェ
ニルスルホニルアミ/、ヒドロキシアミ/、C1〜C,
−アルコキシアミノ、ヒドラツノ%C1〜C,−アルキ
ルスルホニルヒドラツノ、フェニルスルホニルヒドラジ
/または基−Q  1(I2を表わし、ここに、 Ql!酸素または硫黄を表わし、そしてR+2は随時7
ツ索及び/または塩素で置換されていてもよい一連のC
,−C6−アルキル、C1〜C4−アルコキシ−C1〜
C2−アルキル、01〜C4−アルキルチオ−C,−C
,−アルキル、C,−C,−アルキルスルフィニル−C
〜C1−アルキル、Cl−04−アルキルスルホニル−
C,−C,−アルキル、フェノキシ−C1〜C< −ア
ルキル、トリメチルシリル−01〜C,−アルキル、フ
ェニルチt−Ct〜C7−アルキル、ベンジルオキシ−
C,−C。
−アルキル、C1〜C1−アルコキシカルボニル−C1
〜C1−アルキル、C5〜C4−アルキルアミ7カルボ
ニルーC9〜C1−7ルキルベンジルチオ−C I= 
C 4−アルキル、ベンジル、7エネチル、ピラゾリル
−01〜C.−アルキル、イミグゾリルーC1〜C,−
アルキル及びFIJ7ゾリルーc,−C.−アルキルか
らの基を表わすか、またはアンモニウム、01〜C,−
アルキルアンモニウム、ナトリウム、カリウムもしくは
カルシウムの1当量を表わすか、 31% ここに、 Rloは水素またはC1〜C4−アルキルを表わし、 R13は水素、C1〜C,−アルキル、フェニル、フリ
ル、チェニルまたはピリジルを表わし、R1’は01〜
C,−アルキルまたはC1〜C.−アルコキシを表わし
、 R”はC,−C.−アルコキシを表わし、そして Qは酸素または硫黄を表わすか、 R+7 こに、 R 10は水素またはC1〜C,−Cルールを表わし、 RI′は水素またはC1〜C,−Cルールを表わし、そ
して RI7はC,−C4−アルキルまたはフェニルを表わす
か、 R7は基−S(0)n−Yを表わし、ここに、nは0.
1または2を表わし、そして YはC,−C,−フルコキシ、02〜C1−アルケノキ
シ、C2〜C6−フルキラキン、ベンジルオキシ、フェ
ノキシ、または7ミノ、01〜CG−アルキルアミ/、
02〜C6−フルケニルアミ7%C2〜C6−フルキニ
ルアミノ、ベンノル7ミノ、フェニルアミノ、ノー(C
t〜C4−アルキル)−7ミノ、シアナミノ、グ7ニノ
ノ、ヒドロキシアミノ、01〜C6−フェニルアミノ、
ヒドラツノ、C1〜C1−アルキルヒドラゾ/、フェニ
ルヒドラジノ、C9〜C1−アルキルカルボニルヒト2
ツノ、01〜C1−アルキルスルホニルヒドラジノ、C
3〜C,−アルキルスルホニルヒドラジノもしくはフェ
ニルスルホニルヒドラノアを表わすか、 2つの基R”は、独立に、C7〜C4−アルキルを表わ
すか、または−緒になって、02〜C1−フルカンジイ
ルを表わすか、 R+3 R7は基−(0)p−(^)q−C=H−Rzoを表わ
し、ここに、 R”は水素、C3〜C4−アルキル、C1〜C1−フル
コキシまたは01〜C<フルキルアミ/を表わし、 R”は水素、C3〜C4−アルキル、フェニル、ヒドロ
キシル、随時C4〜C4−フルコキシ力ルボニルで置換
されていてもよい01〜C,−フルフキシ;または7リ
ルオキシ、プロパルギルオキシもしくはベンノルオキシ
を表わし、Aは01〜C4−フルカンジイルを表わし、
そして p及びqは0または1を表わすか、 R” R21はC1〜C4−アルキルまたはC,−C4−アル
コ斗シを表わし、そして R22はC2〜C1−フルコキシを表わすか、或いは R7は基−(CL )s−Z * * l! JIH+
−0−C,H−COO−(CHz)m−2を表わし、こ
こに、 輸は0,1または2を表わし、 Zは随時フッ素、塩素、臭素及び/または01〜C,−
”アルキルで置換されていでもよい一連の7リル、テト
ラヒドロフリル、オキシテトラヒドロ7リル、チェニル
、テトラヒドロチェニル、パーヒドロピラニル、オキサ
シリル、チアゾリル、チアジアゾリル、ジオキソラニル
、パーヒドロピロリル、オキソパーヒドロピロリル、ピ
リノニル、ピリミジニル及びピリミジニルからの複素環
式基を表わす、そして R10は水素またはC,−C,−アルキルを表わす、 の化合物に関する。
本発明は殊に式(I)、但し、 R1は水素、フッ素、塩素、シア7またはトリフルオロ
メチルを表わし、 R2は水素、フッ素、または塩素を表わし、R3はフッ
素、塩素、シアノ、メチル、エチル、n−もしくはイソ
プロピル、n−、イソ−、s−もしくはt−ブチル、メ
トキシ、メチルチオ、シリフルオロメチル、トリフルオ
ロメトキシ、)+7フルオロメチルチオ、ト1ノフルオ
aメチルスルフィニルまたはトリプルオロメチルスルホ
ニルを表わし、 R4は水素、フッ素、または塩素を表わし、そして R5は水素、フッ素または塩素を表わし、条件として、
置換基R1〜R5の少なくとも3個は水素と異なるもの
であり、そして基1(I〜R5の少なくとも1個は水素
、フッ素及び塩素と異なるものであるものとし、更に、
R6は水素、シアノ、ニトロまたは塩素を表わし、そし
て R7は水素、塩素、シアノ、ニトロ、ヒドロキシル、ノ
ー(C+〜C2−フルコキシ)−(チオ)ホスホリルオ
キシまたはまたは一0eHΦを表わし、ここに MΦは7ンモニウムイオン、C1〜03−アルキルアン
モニウムイオン、ナトリウムイオンまたはカリウムイオ
ンを表わすか、 R7は随Qフッ素、塩素、シアノ、カルボキシル、カル
バモイル、アセチル、フェニル、7ミ/、C3〜C1−
アルキルアミノ、ノー(C+〜C3−アルキル)−7ミ
ノ、ヒドロキシル、01〜C1−フルコキシ、01〜C
j−アルキルチオ%CI〜03−アルコキシカルボニル
及び/またはc、−C,−アルコキンカルボニル−01
〜C1−フルコキシで置換されていてもよい01〜C,
−アルキル;随時7ツ素、塩素、シアノ、シー(C,−
C,−アルキル)−7ミノ、ヒドロキシル、C1−C3
−アルキルカルボニル%C1〜C1−フルコキシ及び/
またはC1〜C3−アルキルチオで置換されていてもよ
いC3〜C5−アルコキシ;C1〜C1−フルケニルオ
キン、03〜C,−アルキニルオキシ;随時フッ素、塩
素、シアノ、カルボキシル、カルバモイル、01〜Cコ
ーフルコキシ、01〜C3−アルキルチオまたはC,−
C,−アルコキンカルボニルで置換されていてもよい0
1〜C5−アルキルチオ;或いは各々の場合に随時フッ
素及び/または塩素で置換されていテモヨいCt−C1
−アルキルスルフィニルもしくは01〜03−アルキル
スルホニル、ヒドラジノ、フェニルヒドラツノまたはメ
トキシカルボニルヒドラツノを表わすか、 R11は水素またはC1〜Clフルキルを表わし、そし
て R@は水素、ヒドロキシル、7ミ/、ツメチル7ミノ、
フェニル7ミ/、アセチルアミ/、ベンゾイルアミ/、
メチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、
シアノ、01〜C3−アルキル、C1〜C3−フルコキ
シ、C+〜C1−アルコキシカルボニル、C1〜Cコー
アルキルカルポニル、ベンゾイル、フェノキンカルボニ
ル、Cl−C1−アルキルアミノカルボニル、フェニル
アミノカルボニル、C1〜C3−アルコキンカルボニル
−c、−C2−アルキル、ベンジル%C1〜C1−アル
キルスルホニル、フェニルスルホニル、または随時フッ
素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、メチル、メトキシ、
トリフルオロメチル及び/もしくはトIJフルオロメト
キシで置換されていでもよいフェニルを表わすか、 Rフは基−0−CIl−CO−R”を表わし、ここに、
R”は水素またはメチルを表わし、そしてR目は塩素、
ヒドロキシル、アミノ、CI〜C1−アルキルアミノ、
シアナミノ、ノー(at〜C5−アルキル)−7ミノ、
C5〜C,−アルキルスルホニルアミノ、フェニルスル
ホニルアミノ、ヒドロキシアミノ、C+〜C3−アルコ
キシアミノ、ヒドラジノ、C,−C,−アルキル入ルホ
ニルヒドラジノ、フェニルスルホニルヒドラジ/または
基−Q  fl12を表わし、ここに、 Qは酸素または硫黄を表わし、セして R12はC1〜C4−アルキル、C3〜C2−アルコキ
ンエチル、C3〜C2−アルキルチオエチル、トリノチ
ルシリルメチル、ペンシルオキシエチル、Cl−03−
アルコルジカルボニル−01〜C2−アルキル、ベンジ
ルチオエチル、ペンシル、ピラゾール−C1〜C2−ア
ルキル、またはアンモニウムイオン%C1〜C3−アル
キルアンモニウムイオン、ナトリウム当量もしくはカリ
ウム当量、またはC4〜C2−アルキルアミ7カルボニ
ルーC1〜C2−アルキルを表わすか、 I8 ここに、 RIoは水素またはメチルを表わし、 R1)は水素、メチル、フェニル、フリル、チェニルま
たはピリジルを表わし、 R14は01〜C2−アルコキシを表わし、RI5はC
2〜C2−アルコキシを表わし、そして Qは酸素または硫黄を表わすか、 R′は基−5(0)n−Yを表わし、ここに、nは0.
1または2を表わし、そして YはC3〜C4−アルキル、CI” C2−フルコキシ
力ルボニルーC3〜C2−アルキルまたはベンノルを表
わすか、 R’は基−(CH2)m −Z * タハ基−0−C■
−COO−(CL)m−Zを表わし、ここに −は0.1または2を表わし、 Zは随時塩素及び/またはメチルで置換されていてもよ
い一連のフリル、テトラヒ′ドロフリル、チェニル、パ
ーヒドロピラニル、オキサシリル、チアゾリル及びノオ
キソフニルからの複素環式基を表わし、そして R10は水素またはメチルを表わすか、或いはR7は基
−0−CH2−C=N−R”を表わし、ここにR19は
水素、メチルまたはエチルを表わし、そして R”は水素、ヒドロキシル、メチル、エチルまたはCl
−02−フルコキシ力ルボニルーC1〜C2−アルキル
を表わす、 の化合物に関する。
式(I)、但し、 R1は塩素を表わし、 R2は水素または7ツ索を表わし、 R3はトリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ト
リプルオロメチルスルホニルまたはトリフルオロメチル
チオを表わし、 R4は水素を表わし、 R5は塩素を表わし、 R6はニトロを表わし、そして (A)  R’は水素、塩素、シアノ、ヒドロキシル;
随時塩素、シアノ、カルボキシル、カルバモイル、01
〜C3−アルコキシ、CI〜C1−アキルチオ及びまた
はC1〜C1−アルコキシカルボニルで置換されていて
もよいC1〜C1−アルキル;随時フッ素、塩素、シア
ノ、メチルカルボニルまたはエチルカルボニルで置換さ
れていてもよいC1〜C2−アルコキシ;C1〜C7−
アルケニルオキシ、C5〜C1−アルケニルオキシ:随
時フッ素、塩素、シアノ、カルボキシル、カルバモイル
1、C2〜C7−アルコキシ、01〜C2−アルキルチ
オまたは01〜C2−アルコキシカルボニルで置換され
ていてもよいC1〜C2−アルキルチオ;随時フッ素及
び/または塩素で置換されていてもよいC3〜C2−ア
ルキルスルフィニル或いはC1〜C2アルキルスルホニ
ルを表わすか、R3は水素、メチルまたはエチルを表わ
し、そして R1は水素、メチル、エチル、メトキシ、エトキシ、メ
トキシカルボニル、C1〜C2−アルコキシカルボニル
−C6〜C2−アルキル、フェニルまたはベンジルを表
わすか、 (C)  R’は基   R10 −0−CH−Co−R”、 R” 基    R” ■ OCHCOO(CH2)II  Zを表わし、ここに、 R”は水素またはメチルを表わし、 R′1は塩素、ヒドロキシル、メチル、エチル、アミノ
、メチルアミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエ
チルアミノ、メチルスルホニルアミノ、フェニルスルホ
ニルアミノまたは基−Q−R目を表わし、ここに、 R目はC1〜C4−アルキル、01〜Cl2−アルコキ
シエチル、01〜C7−アルキルチオエチル、トリメチ
ルシリルメチル、ベンジルオキシエチル、C1〜C2−
アルコキシカルボニル−01〜C2−アルキル、01〜
C3−アルキルアミノカルボニル−CI〜C2−アルキ
ル、ベンジルチオエチル、ベンジルまたはピラゾリルメ
チルを表わし、 Qは酸素または硫黄を表わし、 RIコは水素、メチル、フェニルまたはピリジルを表わ
し、 R1はメトキシまたはエトキシを表わし、R”はメトキ
シまたはエトキシを表わし、mは1または2を表わし、
そして Zはフリル、テトラヒドロフリル、チェニル、パーヒド
ロピラニル、チアゾリルまたはジオキソラニルを表わす
か、或いは (D>  R’は基       R′!−0−CH,
−C=N−R2’を 表わし、ここに、 R”は水素またはメチルを表わし、そしてR”は水素、
ヒドロキシル、メチル、エチルまたはメトキシカルボニ
ルメチルを表わす、の化合物が殊に極めて好ましい。
例えば本発明による方法(a)において出発物質として
、2.6−ジクロロ−4−トリフルオロメチルフェノー
ル及び2−(6−クロロ−3−二トロビリジン−2−イ
ルオキシ)−プロピオン酸メチルを用いる場合、本発明
による方法の過程は次の反応式によって表わすことがで
きる:しI 例えば本発明による方法(b)において出発物質として
、2−アミノ−3−ニトロ−6−(2−クロロ−6−フ
ルオロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)−ピリジ
ンを用い、そしてまた反応成分として亜硝酸カリウム及
び硫酸を用いる場合、本発明による方法の過程は次の反
応式によって表わすことかできる: 例えば本発明による方法(c)において出発物質として
、2−メトキシカルボニルメトキシ−3−二トロー6−
 (2,6−ジクロロ−4−トリフルオロメトキシフェ
ノキシ)−ピリジンを用い、そして反応成分として水性
水酸化カリウムを用いる場合、反応過程は次の反応式に
よって表わすことができる: 例えば本発明による方法(d)において出発物質として
、2−カルボキシメトキシ−3−二トロー6−(2,6
−ジクロロ−4−トリフルオロメトキシフェノキシ)−
ピリジンを用い、そして反応成分としてチオニルクロラ
イドを用いる場合、反応過程は次の反応式によって表わ
すことができる:例えば本発明による方法(e)におい
て出発物質として、2−クロロカルボニルメトキシ−3
−シアノ−6−(2,6−ジクロロ−4−トリフルオロ
メチルフェノキシ)−ピリジン及びヒドロキシメチルホ
スホン酸ジメチルを用いる場合、反応過程は次の反応式
によって表わすことができる:例えば本発明による方法
(f)において出発物質として、2−アミノ−3−ニト
ロ−6−(2,6−ジクロロ−4−トリフルオロメチル
フェノキシ)−ピリジン及びメタンスルホニルクロライ
ドを用いる場合、反応過程は次の反応式によって表わす
ことができる: 例えば本発明による方法(g)において出発物質として
、2−メチルチオ−3−フルオロ−6−(2,6−ジク
ロロ−3−フルオロ−4−トリフルオロメチルフェノキ
シ)−ピリジン及び過酸化水素を用いる場合、反応過程
は次の反応式によって表わすことができる: 例えば本発明による方法(h)において出発物質として
、2.3−ジクロロ−6−(2,6−ジクロロ−4−ト
リフルオロメチルフェノキシ)−ピリジン及びメタノー
ルを用いる場合、反応過程は次の反応式によって表わす
ことができる:例えば本発明による方法(i)において
出発物質として、2−アミノ−3−ニトロ−6−(2,
6−ジクロロ−3−フルオロ−4−トリフルオロメチル
フェノキシ)−ピリジン及び臭化水素を用いる場合、反
応過程は次の反応式によって表わすことができる: 例えば本発明による方法(j)において出発物質として
、2−カルボキシメトキシ−3−シアノ−6−(2,6
−ジクロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)−ピ
リジン及びトリメチルシリルクロライドを用いる場合、
反応過程は次の反応式によって表わすことができる。
本発明による方法(a)において、式(I)の化合物を
製造するために出発物質として用いるフェノールは式(
II)によって定義される。
式(n)において、基R1、R2、R1,R4及びR5
は好ましくはまたは殊に好ましくは或いは殊に極めて好
ましくは本発明による式(I)の化合物の記述に関連し
て、好ましいまたは殊に好ましい或いは殊に極めて好ま
しいものとしてそれぞれすでに示した同一の意味を有す
る。
挙げ得る式(…)の出発物質の例は次のものである=2
,6−ジクロロ−4−トリフルオロメチルフェノール、
2,3.6−ドリクロロー4−トリフルオロメチルフェ
ノール、2.6−ジクロロ−3−フルオロ−4−トリフ
ルオロメチルフェノール、2−クロロ−6−フルオロ−
4−トリフルオロメチルフェノール、2.6−ジクロロ
−4−トリフルオロメトキシフェノール、2,6−ジク
ロロ−4−トリフルオロメチルチオフェノール、2.6
−ジクロロ−4−トリフルオロメチルスルフィニルフェ
ノール、2.6−ジクロロ−4−トリフルオロメチルス
ルホニルフェノール、2.6−ジクロロ−4−ジフルオ
ロメトキシフェノール、2゜6−ジクロロ−4−クロロ
ジフルオロメトキシフェノール、2.4−ジクロロ−6
−トリフルオロメチルフェノール、2,6−ジプロモー
4−トリフルオロメチルフェノール、2.3.5.6−
テトラフルオロ−4−トリフルオロメチルフェノール、
2.3.5−)リフルオロ−4−トリフルオロメチルフ
ェノール、3.4.5− トリフルオロ−2−トリフル
オロメチルフェノール、2−フルオロ−5−クロロ−4
−トリフルオロメチルフェノール、3.5−ジフルオロ
−4−トリフルオロメチルフェノール、2.3−ジフル
オロ−4−トリフルオロメチルフェノール、2,6−ジ
クロロ−3,5−ジフルオロ−4−トリフルオロメチル
フェノール、2−クロロ−3−フルオロ−4−トリフル
オロメチルフェノール、2,5−ジフルオロ−4−トリ
フルオロメチルフェノール及び2−クロロ−3゜5、ロ
ートリフルオロ−4−トリフルオロメチルフェノール。
式(II)の出発物質は公知であり、そして/または公
知の方法によって製造することができる[例えばドイツ
国特許出願公開明m嘗第2,016,624号、ヨーロ
ッパ特許出願第63.873号こ米国特許第4.259
,532号、ケミカル・アブストラクツ(Chew、^
bstracts) 60 (I964)、9170c
、及び式(IIa)の化合物の製造に対して示した方法
参照]。
式(I[a) g中、R1,R2、R3、R’及びR’4.1相互ニ独
立して、水素、フッ素または塩素を表わし、これらの置
換基の少なくとも1個が水素を表わす場合、少なくとも
他の置換基はフッ素を表わし、そしてまたこれらの置換
基の少なくとも第3はフッ素または塩素を表わす、の化
合物は新規なものである。
挙げ得る式(II)の新規化合物の例は次のちのである
=2,6−ジクロロ−3−フルオロ−4−トリフルオロ
メチルフェノール、2−クロロ−6−フルオロ−4−ト
リフルオロメチルフェノール、2.3.5−)リフルオ
ロ−4−トリフルオロメチルフェノール、2−フルオロ
−5−クロロトリフルオロメチルフェノール、3.5−
ジフルオロ−4−トリフルオロメチルフェノール、2.
3−ジフルオロ−4−トリフルオロメチルフェノール、
2−クロロ−3−フルオロ−4−トリフルオロメチルフ
ェノール及び2.5−ジフルオロ−4−トリフルオロメ
チルフェノール。
2.6−ジクロロ−3−フルオロ−4−トリフルオロメ
チルフェノールが殊に好ましい。
式(IIa)の新規な出発物質は式(IV)式中、R1
,R2、R4及びR5は式(I[a>の新規化合物に対
して上に示した意味を有し、そして 又はフッ素または塩素を表わす、 の対応するハロゲノベンゼン誘導体を随時相関移動触媒
、例えば臭化テトラブチルアンモニウム、塩化ベンジル
−トリエチルアンモニウム、塩化メチル−トリオクチル
アンモニウム、または臭化ヘキサデシル−トリブチルホ
スホニウムの存在下において、そして希釈剤、例えばメ
タノール、エタノール、プロパツール、イソプロパツー
ル、ブタノール、イソブタノール、S−ブタノール、1
−ブタノール、エチレングリコール、メトキシエタノー
ル、エトキシエタノール、グリセリン、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ピリジン、ジメチルホルムアミド、
N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラ
メチレンスルホン及び/または水、好ましくはt−ブタ
ノール/水、1−ブタノール/ピリジン/水またはt−
ブタノール/ジメチルスルホキシド/水の存在下におい
て、20℃乃至100℃間、好ましくは30℃乃至70
℃間の温度で、アルカリ金属水酸化物及び/またはアル
カリ土類金属水酸化物、例えば水酸化リチウム、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ルビジウム、水酸
化セシウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムま
たは水酸化バリウム、好ましくは水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム及び/または水酸化カルシウムと反応させ
、そして生成物を普通の方法で処理した場合に得られる
式(f%’)は中間体として用いるハロゲノベンゼン誘
導体の一般的な定義を与えるものである。式(IV)に
おいて、置換基R1、R2、R4及びR5は水素、フッ
素及び/または塩素を表わし、これらの置換基の少なく
とも1個が水素を表わす場合、これらの置換基の少なく
とも他はフッ素を表わし、そしてまたこれらの置換基の
少なくとも第3はフッ素または塩素を表わす。
挙げ得る式(IV)の化合物の例は次のものである:3
.5−ジクロロー2.4−ジフルオロペンシトリフルオ
ライド、2.3.4.6−チトラフルオロペンゾトリフ
ルオライド、3−クロロ−4,5−ジフルオロペンゾト
リフルオライド、2−クロロ−4,5−ジフルオロペン
シトリフルオライド、2.4.6− )リフルオロペン
シトリフルオライド、2.3.4− トリフルオロペン
シトリフルオライド、3−クロロ−2,4−ジフルオロ
ペンシトリフルオライド及び2.4.5−)リフルオロ
ペンシトリフルオライド。
式NV)の化合物は公知のものであり、そして/または
公知の方法によって製造することができる[ジャーナル
・オブ・ザ・ケミカル・ソサエティ(J、 Chell
、 Soc、) 1969.211〜217゜同上、1
971.1547〜1549.ヨーロッパ特許出願第3
4.402号:米国特許第4.424.396号;ヨー
ロッパ特許出願第145.314号; フランス国特許
出願第2,538,380号;ケミカルアブストラクト
102 (I985)、61914x参照]。
本発明による方法(a)において出発物質として追加的
に用いるハロゲノピリジンは式(III)によって定義
される1式(III)において、基R6及びR7は好ま
しくはまたは殊に好ましくは或いは殊に極めて好ましく
は本発明による式(I)の化合物の記述に関連して、好
ましいまたは殊に好ましい或いは殊に極めて好ましいも
のとしてそれぞれすでに同一の意味を有し、そしてXは
好ましい範囲において塩素を表わす。
挙げ得る式(III)の出発物質の例は次のものである
=2−クロロ−5−ニトロピリジン、2.6−ジクロロ
−5−二トロピリジン、2−クロロ−6−メチル−5−
ニトロピリジン、2−クロロ−6−ジアツー5−二トロ
ピリジン、6−アミノ−2−クロロ−5−ニトロピリジ
ン、2−クロロ−6−ヒドロキシ−5−二トロビリジン
、2−クロロ−6−メドキシー5−ニトロピリジン、2
−クロロ−6−ニトキシー5−ニトロピリジン、2−ク
ロロ−6−メチルチオ−5−二トロピリジン。
2−クロロ−6−エチルチオ−5ニトロロピリジン、2
−クロロ−6−メチルアミノ−5−ニトロピリジン、2
−クロロ−6−エチルアミノ−5−ニトロピリジン、2
−クロロ−6−シメチルアミノー5−ニトロピリジン、
2−クロロ−6−メドキシアミノー5−二トロビリジン
、2−クロロー6−ニトキシアミノー5−二トロビリジ
ン、2−クロロ−6−(メトキシカルボニルメチルチオ
)=5−二トロビリジン、2−クロロ−6−(エトキシ
カルボニルメチルチオ)−5−二トロビリジン、2−ク
ロロ−6−(2−メトキシカルボニルエチルチオ)−5
−二トロビリジン、2−クロロ−6−(I−エトキシカ
ルボニルエチルチオ)−5−二トロビリジン、2−クロ
ロ−6−メドキシカルボニルメチルアミノー5−二トロ
ビリジン、2−クロロ−6−ニドキシカルボニルメチル
アミノー5−ニトロピリジン、2−クロロ−6−アセチ
ルアミノ−5−ニトロピリジン、(2−クロロ−5−二
トロピリジン−6−イルオキシ)−酢酸メチル及びエチ
ル、2−(2−クロロ−5−ニトロピリジン−6−イル
オキシ)−スロピオン酸メチル及びエチル。
式(III)の出発物質は公知のものであり、そして/
または公知の方法によって製造することができ[例えば
ヘミカーパソアイトウング(Chesiker−Zei
tung)、103.387〜399(I979);ジ
ャーナル・オブ・ヘテロサイクリック・ケミストリイ(
J、 Heterocycl、 Chew、)、21.
673〜679 (I984):ヨーロッパ特許出願第
109.751号;米国特許第4.493.730号及
びヨーロッパ特許出願第162,776号参照コ。
式(I)の置換されたフェノキシピリジンの製造に対す
る本発明による方法(a)は好ましくは希釈剤を用いて
行われる。使用可能な希釈剤は、なかでも、有極性有機
溶媒、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトニト
リル、プロピオニトリル、塩化メチレン、クロロホルム
、クロロベンゼン、1,2−ジクロロベンゼン、1.2
−ジメトキシエタン、1,2−ジクロロエタン、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、酢酸メチル、酢酸エチル、
酢酸イソプロピル及び酢酸イソブチル、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン
、ジメチルスルホキシド並びにテトラメチレンスルホン
である。
本発明による方法(a)において酸受容体として、この
タイプの反応に対して通常用いられる全ての酸結合剤を
用いることができる。脂肪族、芳香族または複素環式ア
ミン、例えばトリエチルアミン、トリメチルアミン、ジ
メチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、ピリジン、
1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]ノン−5−エン
(DBN)、1.8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウ
ンテクー7−エン(DBU)及び1.4−ジアザビシク
ロ[2,2,2]オクタン(DABCO)に加えて、ア
ルカリ金属水酸化物、例えば水酸化ナトリウム及び水酸
化カリウム、アルカリ土類金属水酸化物、例えば水酸化
カルシウム、アルカリ金属炭酸塩、例えば炭酸ナトリウ
ム及び炭酸カリウム、アルカリ金属アルコレート、例え
ばナトリウム及びカリウムメチレートまたはエチレート
が好ましい。
本発明による方法(a ) c:fおいて、反応温度は
比較的広い範囲に変えることができる。一般に、0℃乃
至200℃間、好ましくは10℃乃至150℃間の温度
を用いる。
一般に、本発明による方法(a)は常圧下で行われる。
しかしながら、また昇圧下または減圧下で行うこともで
きる。
本発明による方法(a)を行うために、一般に、各場合
に必要な出発物質をほぼ等モル量で用いる。
しかしながら、また用いる2成分の一方を比較的多量に
用いることができる。この反応は一般に酸受容体の存在
下において適当な希釈剤中で行われ、反応混合物を必要
な温度で数時間撹拌する。
本発明による方法(a>における処理は普通の方法によ
って行われる0例えば反応混合物を、場合によっては蒸
発させた後、水で希釈し、所望の反応生成物を水と実際
に混和せぬ有機溶媒、例えば塩化メチレン、クロロホル
ム、ジエチルエーテル、トルエンまたはキシレンで抽出
する。有機抽出液を水で洗浄し、普通の乾燥剤、例えば
硫酸ナトリウムで乾燥し、そして濾過する。P液を蒸発
させた後、粗製の生成物として式(I)の化合物が得ら
れ、このものを普通の方法、例えばクロマトグラフィー
及び/または再結晶によって精製することができる。
式(I)は本発明による方法(b)において出発物質と
して用いる化合物、但し条件としてR7はアミノを表わ
す、の一般的な定義を与えるものである。この場合、基
R1、R2、Rコ、R4、Rs及びR@は好ましくはま
たは殊に好ましくは或いは殊に極めて好ましくは本発明
による式(I)の化合物の記述に関連して、好ましいま
たは殊に好ましい或いは殊に極めて好ましいものとして
それぞれすでに述べた同一の意味を有する。
方法(b)に対する出発物質の例として次のものを挙げ
ることができる: 2−アミノ−3−ニトロ−6−(2,6−ジクロ−4−
トリフルオロメチルフェノキシ)−ピリジン、2−アミ
ノ−3−ニトロ−6−(2,3,6−ドリクロロー4−
トリフルオロメチルフェノキシ)−ピリジン、2−アミ
ノ−3−ニトロ−6−(2゜6−ジクロロ−3−フルオ
ロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)−ピリジン、
2−アミノ−3−ニトロ−6−(2−クロロ−6−フル
オロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)−ピリジン
、2−アミノ−3−ニトロ−6−(2,3,5,6−テ
トラフルオロ−4−トリフルオロメチルフェノ° キシ
)−ピリジン、2−アミノ−3−ニトロ−6−(2,3
,5−トリフルオロ−4−トリフルオロメチルフェノキ
シ)−ピリジン、2−アミノ−3−ニトロ−6−(2−
フルオロ−5−クロロ−4−トリフルオロメチルフェノ
キシ)−ピリジン、2−アミノ−3−ニトロ−6−(3
,5−ジフルオロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ
)−ピリジン、2−アミノ−3−ニトロ−6−(2,3
−ジフルオロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)−
ピリジン、2−アミノ−3−ニトロ−6−(2,6−ジ
クロロ−3,5−ジフルオロ−4−トリフルオロメチル
フェノキシ)−ピリジン、2−アミノ−3−ニトロ−6
−(2−クロロ−3−フルオロ−4−トリフルオロメチ
ルフェノキシ)−ピリジン、2−アミノ−3−ニトロ−
6−(2゜5−ジフルオロ−4−トリフルオロメチルフ
ェノキシ)−ピリジン及び2−アミノ−3−ニトロ−6
−(2−クロロ−3,5,6−)リフルオロ−4−トリ
フルオロメチルフェノキシ)−ピリジン。
方法(b)に対して上に述べた式(I)の出発物質は本
発明による新規な化合物である;これらの化合物は本発
明による方法(a)によって製造することができる。
方法(b)はアルカリ金属亜硝酸塩を用いて行われる。
その例として、亜硝酸ナトリウム及び亜硝酸カリウムを
挙げることができる。好ましくは、亜硝酸ナトリウムを
用いる。
方法(b)は水性鉱酸の存在下において行われる。その
例として、必要に応じて水で希釈した硫酸、塩酸、硝酸
及びリン酸を挙げることができる。
好ましくは、希硫酸を用いる。
本発明による方法(b)において、反応温度は比較的広
い範囲に変えることができる。一般に一10℃乃至+2
0℃間、好ましくは一5℃乃至+10℃間の温度を用い
る。
一般に、本発明による方法(b)は常圧下で行われる。
方法(b>を行う際に、式(r)の出発化合物1モル当
り鉱酸10乃至1000モル間、好ましくは50乃至2
00モル間及びアルカリ金属亜硝酸塩1乃至5モル間、
好ましくは1.1乃至1.5モル間が一般に用いられる
。一般に、式(I)の出発化合物をまず水性鉱酸中に導
入し、この水溶液に冷却しながら、アルカリ金属亜硝酸
塩を加える0反応終了後、処理を方法(a)に対して上
に述べた如くして行うことができる。
式(I)は本発明による方法(c)において出発物質と
して用いる化合物、但し、条件としてR7はアルコキシ
カルボニルアルコキシを表わす、の一般的な定義を与え
るものである。この場合、基R1、R2、R3、R4、
Rs及びR6は好ましくハマたは殊には或いは殊に極め
て好ましくは本発明による式(I)の化合物の記述に関
連して、好ましいまたは殊に好ましい或いは殊に極めて
好ましいものとしてそれぞれすでに述べた同一の意味を
有し、そしてR7は好ましくは01〜C2−アルコキシ
−カルボニル−C1〜C2−アルコキシを表わす。
方法(c)に対する出発物質挙げ得る例は次のものであ
る: 2−メトキシカルボニルメトキシ−及び2−エトキシカ
ルボニルメトキシ−3−二トロー6− (2゜6−ジク
ロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)−ピリジン
、2−メトキシカルボニルメトキシ−及び2−エトキシ
カルボニルメトキシ−3−二l・ロー6−(2,6−ジ
クロロ−3−フルオロ−4−トリフルオロメチルフェノ
キシ)−ピリジン、2−メトキシカルボニルメトキシ−
及び2−エトキシカルボニルメトキシ−3−ニトロ−6
−(2,3,6−)ジクロロ−4−トリフルオロメチル
フェノキシ)−ピリジン、2−(I−メトキシカルボニ
ルエトキシ)−及び2−(I−エトキシカルボニルエト
キシ)−3−二トロー6− (2゜6−ジクロロ−4−
トリフルオロメチルフェノキシ)−ピリジン、2−(I
−メトキシカルボニルエトキシ)−及び2−(I−エト
キシカルボニルエトキシ)−3−二トロー6−(2,6
−ジクロロ−3−フルオロ−4−トリフルオロメチルフ
ェノキシ)−ピリジン並びにまた2−(I−メトキシカ
ルボニルエトキシ)−及び2−(I−エトキシカルボニ
ルエトキシ)−3−二トロー6− (2゜3.6−)リ
フルオロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)−ピリ
ジン。
方法(C)に対する式(I)の出発物質は本発明による
新規な化合物である;これらの化合物は本発明による方
法(a)に従って製造することができる。
方法(C)はアルカリ金属水酸化物を用いて行われる。
その例として、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムを
挙げることができる。好ましくは、水酸化ナトリウムを
用いる。
方法(c)は水の存在下において、そして場合によって
は有機溶媒の存在下において行われる。
有機溶媒としてアルコール、好ましくは、例えばメタノ
ールまたはエタノールを用いる。
方法(c)における酸性化のために、普通の鉱酸、例え
ば塩酸またはまたは硫酸を用いる。
本発明による方法(C)において、反応温度は比較的広
い範囲に変えることができる。一般に一10℃乃至15
0℃間、好ましくは20℃乃至100℃間の温度を用い
る。
一般に、本発明による方法(c)は大気圧下で行われる
。しかしながら、また昇圧下または減圧下で行うことも
できる。
方法(c)を行う際に、式(I)の出発化合物1モル当
り一般にアルカリ金属水酸化物0.1乃至10モル間、
好ましくは0.5乃至2モル間を用いる。一般に、反応
成分を一緒に室温で加え、場合によっては昇温下で反応
混合物を反応が終了するまで撹拌する。随時蒸発、冷却
及び酸性化した後、沈澱した結晶性反応生成物を吸引濾
過によって単離することができる。
式(I )は本発明による方法(d)において出発物質
として用いる化合物、R7はカルボキシアルコキシを表
わす、の一般的な定義を与えるものである。この場合、
基R1、R2、Rコ、R4、R5及びR6は好ましくは
または殊に或いは殊に極めて好ましくは、本発明による
式(I)の化合物の記述に関連して、それぞれ好ましい
または殊に或いは殊に極めて好ましいものとしてすでに
述べた同一の意味を有し、R7は好ましくはカルボキシ
C+〜C1−アルコキシを表わす。
方法(d)に対する出発物質の例として次のものを挙げ
ることができる: 2−カルボキシメトキシ−及び2−(I−カルボキシエ
トキシ)−3−ニトロ−6−(2,6−ジクロロ−4−
トリフルオロメチルフェノキシ)−ピリジン、2−カル
ボキシメトキシ−及び2−(I−カルボキシメトキシ)
−3−二トロー6−(2゜6−ジクロロ−3−フルオロ
−4−トリフルオロメチルフェノキシ)−ピリジン並び
に2−カルボキシメトキシ−及び2−(I−カルボキシ
メトキシ)−3−二トロー6− (2,3,6−)ジク
ロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)−とリジン
方法(d)に対する式(I)の出発物質は本発明による
新規な化合物である;これらの化合物は本発明による方
法(C)によって製造することができる。
方法(d)はハロゲン化剤を用いて行われる。
カルボン酸をカルボン酸ハライドに添加するための普通
の試薬を用いることができる。その例としてホスゲン、
チオニルクロライド、ホスホリルクロライド及びペンシ
トリクロライドを挙げることができる。好ましくは、ハ
ロゲン化剤としてチオニルクロライドを用いる。
方法(d)は随時希釈剤の存在下において行われる。好
ましくは、一連のハロゲン化された炭化水素、例えば塩
化メチレン、20ロホルム、テトラクロロメタンまたは
1,2−ジクロロエタンからの不活性有機溶媒が考えら
れる。
本発明による方法(d)において反応温度は比較的広い
範囲に変えることができる。一般に0℃乃至100℃間
、好ましくは10℃乃至90℃間の温度を用いる。
方法(d)は一般に常圧下で行われる。
方法(d)を行う際(こ、式(I)の出発化合物1モル
当り一般にハロゲン化剤1乃至100モル間、好ましく
は2乃至50モル間を用いる。一般に、反応成分を共に
室温で加え、反応混合物を、随時昇温下で、反応終了時
まで撹拌する。減圧下で揮発性成分を留去した後に残っ
た反応生成物を再結晶によって精製し得るか、或いはま
た更に精製せずに次の反応に用いることもできる6式(
I)は本発明による方法(e)において出発物質として
用いる化合物、但し、R7はクロロカルボニルアルコキ
シ(−0−CH(R’°)−Co−CI)を表わす、の
一般的な定義を与えるものである。
この場合、基R1,R2、R′3、R4、R5及びR6
は好ましくはまたは殊に或いは殊に極めて好ましくは、
本発明による式(I)の化合物の記述に関連して、それ
ぞれ好ましいまたは殊に或いは殊に極めて好ましいもの
としてすでに述べた同一の意味を有し、そしてR7は好
ましくはタロロ力ルボニルーC5〜C2−アルコキシを
表わす。
方法(e)に対する出発物質の例として次のらのを挙げ
ることができる: 2−クロロカルボニルメトキシ−及び2−(I−クロロ
カルボニルエトキシ)−3−二トロー6−(2,6−ジ
クロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)−ピリジ
ン、2−クロロカルボニルメトキシ−及び2−(l−ク
ロロカルボニルエトキシ)−3−二トロー6−(2,6
−ジクロロ−3=フルオロ−4−トリフルオロメチルフ
ェノキシ)−ビリジン並びに2−クロロカルボニルメト
キシ−及び2−(I−クロロカルボニルエトキシ)−3
−二トロー6− (2,3,6−ドリクロロー4−トリ
フルオロメチルフェノキシ)−ピリジン。
方法(e)に対する式(I)の出発物質は本発明による
新規な化合物である;これらの化合物は本発明による方
法(d)によって製造することができる。
加えて、方法(e)に対する出発物質として用いる化合
物において、m、Q、R11、R13、R”、R”、R
”、R1?及びZは好ましくはまたは殊に或いは殊に極
めて好ましくは、本発明による式(I)の化合物の記述
に関連して、それぞれ好ましいまたは殊に或いは極めて
好ましいものとしてすでに述べた同一の意味を有する。
方法(e)に対するこれらの出発物質の例として次のも
のを挙げることができる: メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプ
ロピルアミン、シアナミド、ジメチルアミン、ジエチル
アミン、ヒドロキシルアミン、〇−メチルヒドロキシル
アミン、ヒドラジン、メチルスルホニルヒドラジン、メ
タノール、エタノール、プロパツール、イソプロパツー
ル、ブタノール、イソブタノール、See 、−ブタノ
ール、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノー
ル、2−メチルチオエタノール、2−エチルチオエタノ
ール、2−ベンジルオキシエタノール、2−ベンジルチ
オエタノール、ヒドロキシメタンホスホン酸ジエチル及
びジメチル、1−ヒドロキシエタンホスホン酸ジメチル
及びジエチル、1−ヒドロキシ−1−フェニルメタンホ
スホン酸ジメチル及びジエチル、アセトンオキシム、3
−ヒドロキシフラン、フルフリルアルコール、パーヒド
ロフルフリルアルコール、乳酸メチル及びエチル並びに
グリコール酸メチル及びエチル。
上記の化合物は公知の合成薬品である。
本発明による方法(e)は好ましくは酸受容体を用いて
行われる。殊に、本発明による方法(a)の記述に関連
して上に既に述べた酸結合剤を考えることができる。
本発明による方法(e)は好ましくは希釈剤を用いて行
われる。希釈剤として殊に全ての不活性有機溶媒を考え
ることができる。これらの溶媒には好ましくは脂肪族及
び芳香族の随時ハロゲン化されていてもよい炭化水素、
例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン
、石油エーテル、ベンジン、リグロイン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、塩化メチレン、塩化エチレン、クロ
ロホルム、テトラクロロメタン、クロロベンゼン及び0
−ジクロロベンゼン、エーテル、例えばジエチル及びジ
ブチルエーテル、グリコールジメチルエーテル、ジグリ
コールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオ
キサン、ケトン、例えばアセトン、メチルエチルケトン
、メチルイソプロピルケトン及びメチルイソブチルケト
ン、エステル、例えば酢酸メチル及び酢酸エチル、ニト
リル、例えばアセトニトリル及びプロピオニトリル、ア
ミド、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド及びN−メチルピロリドン並びにまたジメチルスル
ホキシド、テトラメチレンスルホン及びヘキサメチルリ
ン酸トリアミドが含まれる。
本発明による方法(e)において、反応温度は比較的広
い範囲で変えることができる。一般に、0℃乃至100
℃間、好ましくは10℃乃至50℃間の温度が用いられ
る。
一般に、本発明による方法(e)は大気圧下で行われる
。しかしながら、また昇圧下または減圧下で行うことも
できる。
方法(e)を行う際に、一般に出発物質をほぼ等モル量
で用いる。範囲で及び処理は本発明による方法(a)に
対して上に述べた如くして行うことができる。
式(I)は本発明による方法(f)において出発物質と
して用いる化合物、但し、R7は基−NH−R’を表わ
す、の一般な定義を与えるものである。この場合、基R
1、R2、R3、R4、Rs、R6及びR1は好ましく
はまたは殊に或いは殊に極めて好ましくは、本発明によ
る式(()の化合物の記述に関連して、それぞれ好まし
いまたは殊に或いは殊に極めて好ましいものとしてすで
に述べた同一の意味を有する。
これらの出発物質の例は本発明による方法(b)に対す
る出発物質の記述において詳細に述べた。
方法(f)に対する式(I)の出発物質は本発明による
化合物である;これらの化合物は本発明による方法(a
)に従って製造することができる。
方法(f)はアルコキシ力ルボニウル、アルキルスルホ
ニル、アリールカルボニウル、アリールオキシ力ルボニ
ウル、アルキルスルホニルまたはアリールスルホニルハ
ライド或いは対応する無水物またはアルキルもしくはア
リールイソシアネートを用いて行われる。
その挙げ得る例は次のものである: クロロギ酸メチル、エチル及びプロピル、アセチルクロ
ライド、無水酢酸、プロピオニル、ブチリル、イソブチ
リル、バレリル及びイソバレリルクロライド、ベンゾイ
ルクロライド、フェニルクロロホルメート、メタンスル
ホニルクロライド、ベンゼンスルホニルクロライド、メ
チル、エチル、プロピル及びブチルイソシアネート並び
にフェニルイソシアネート。
これらの出発物質は公知の合成薬品である。
方法(f)は随時酸受容体の存在下において行われる。
好ましくは本発明による方法(a)の記述に関連して上
にすでに述べた酸結合剤が考えられる。
方法(f)は好ましくは希釈剤を用いて行われる。殊に
、本発明による方法(e)の記述に関連して上にすでに
述べた希釈剤が考えられる。酸無水物との反応の場合、
また希釈剤として対応する酸を用いることもできる。
本発明による方法(f)において、反応温度は比較的広
い範囲で変えることができる。一般に、0℃乃至100
℃間、好ましくは10℃乃至80℃間の温度が用いられ
る。
一般に、本発明による方法(f)は大気圧下で行われる
。しかしながら、また昇圧下または減圧下で行うことも
できる。
本発明による方法(f)を行う際に、各場合に必要な出
発物質を一般にほぼ等モル量で用いる。
しかしながら、また用いる成分の一方を過剰量で用いる
こともできる。
反応及び処理は本発明による方法(a)に述べた如くし
て行うことができる。
式(I)は本発明による方法(g)において出発物質と
して用いる化合物、但し、R7はアルキルチオを表わす
、の一般的な定義を与えるものである。この場合、基R
+、Rz、Rコ、R4、R%及びR@は好ましくはまた
は殊に或いは殊に極めて好ましくは、本発明による式(
l)、の化合物の記述に関連して、それぞれ好ましいま
たは殊に或いは殊に極めて好ましいものとして上にすで
に述べた同一の意味を有し、そしてRは好ましくはC1
〜C1−アルキルチオを表わす。
方法(g)に対する出発物質の例として次のものを挙げ
ることができる。
2−メチルチオ−12−エチルチオ−及び2−プロピル
チオ−3−ニトロ−6−(2,6−ジクロロ−4−トリ
フルオロメチルフェノキシ)−ピリジン、2−メチルチ
オ−12−エチルチオ−及び2−プロピル千オー3−二
トロー6−(2,6−ジクロロ−3−フルオロ−4−ト
リフルオロメチルフェノキシ)−ピリジン並びに2−メ
チルチオ−12−エチルチオ−及び2−プロとルナオー
3−二トロー6− (2,3,6−トリクロロ−4−ト
リフルオロメチルフェノキシ)−ピリジン。
方法(g)に対する式(I)の出発物質は本発明による
化合物である;これらの化合物は本発明による方法(a
)に従って製造することができる。
本発明による方法(g)は酸化剤を用いて行われる。チ
オエーテルをスルホキシドまたはスルホンに酸化する通
常の試薬を用いることができる[テトラヘドロン(丁e
trahedron) 42.5459〜5495 (
I986):ホスホラス・アンド・サルファー(Pho
sphorus and 5ulfur) 22.5〜
11 (I985)参照]。
挙げ得る適当な酸化剤の例は次のものである二過酸化水
素(Ht Oz )或いはこれとカルボン酸、例えばギ
酸、酢酸、プロピオン酸または安息香酸によって生成し
た過酸、並びにまた塩素及び次亜塩素酸またはその塩。
方法(g)は随時触媒の存在下において行われる0通常
の相間移動触媒例えば臭化テトラブチルアンモニウム、
塩化ベンジルトリエチルアンモニウム及び塩化メチルト
リオクチルアンモニウム並びに/または酸化反応に対す
る通常の触媒例えばモリブデン酸アンモニウム、タング
ステン酸ナトリウム、バナジン酸ナトリウム、二酸化セ
レンもしくは塩化チタン(III)を用いることができ
る。
方法(g)は好ましくは希釈剤を用いて行われる。殊に
、本発明による方法(e)の記述において上にすでに述
べた希釈剤を用いることができるが、しかしながら、加
えて、水並びにアルコール、例えばメタノール、エタノ
ール及びイソプロパツールを用いることができる。
本発明による方法(g)において反応温度は比較的広い
範囲で考えることができる。一般に、0℃乃至80℃間
、好ましくは0℃乃至50℃間の温度が用いられる。
−mに、方法(g)は大気圧下で行われる。
方法(g)を行う際に、式<1)の出発化合物1モル当
り一般に酸化剤1乃至10モル間、好ましくは1.1乃
至3.0モル(またはモル当ff1)を用いる。一般に
、式(I)の化合物を最初に導入し、そして酸化剤を加
える;次に反応混合物を反応終了まで撹拌する。処理は
方法(a)に対して上に述べた如くして行うことができ
る。
式(I)は本発明による方法(g)において出発物質と
して用いる化合物、但し、R7はハロゲンを表わす、の
一般的な定義を与えるものである。
この場合、基R1、R2,R3、R4、R5、及びR8
は好ましくはまたは殊に或いは殊に極めて好ましくは、
本発明による式(I)の化合物の記述に関連して、それ
ぞれ好ましいまたは殊に或いは殊に極めて好ましいもの
として上にすでに述べた同一の意味を有し、そしてR7
は好ましくは塩素を表わす。
方法(h)に対する出発物質として挙げ得る例は次のも
のである: 2−クロロ−3−二トロー6−(2,6−ジクロロ−4
−トリフルオロメチルフェノキシ)−ピリジン、2−ク
ロロ−3−二トロー6−(2,6−ジクロロ−3−フル
オロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)−ピリジン
及び2−クロロ−3−二トロー6−(2,3,6−ドリ
クロロー4−トリフルオロメチルフェノキシ)−ピリジ
ン。
方法(h)に対する式(I)の出発物質は本発明による
化合物である;これらの化合物は本発明による方法(a
)に従って製造することができる。
本発明による方法(h)はアルカノール及び/またはア
ルカノールのアルカリ金属塩を用いて行われる。好まし
くはC9〜C1−アルカノール及びそのナトリウムまた
はカリウム塩を用いる。挙げ得る例はメタノール、エタ
ノール、プロパツール、イソプロパツール、ブタノール
及びsec、−ブタノール、並びにそのナトリウム及び
カリウム塩である。
本発明による方法(h)において、反応温度は比較的広
い範囲で変えることができる。一般に、0℃乃至80℃
間、好ましくは10℃乃至50℃間の温度が用いられる
一般に方法(h)は大気圧下で行われる。
方法(h)を行う際に、−mに式(I)の出発化合物1
モル当りアルカノールのアルカリ金属1乃至3モル間、
好ましくは1.1乃至1.5モル間及び/またはアルカ
ノール1乃至100モル間、好ましくは10乃至50モ
ル間を用いる。一般に反応成分を室温で共に加え、反応
混合物を反応が終了するまで撹拌する。処理は方法(a
)に対して上に述べた如くして行うことができる。
式(I)は本発明による方法(i)に対して出発物質と
して用いる化合物、但し、R7はアミノを表わす、の一
般的な定義を与えるものである。
この場合、基R1、R2、R3、R4、R5及びR6は
好ましくはまたは殊に或いは殊に極めて好ましくは、本
発明による式(I)の化合物の記述に関連して、それぞ
れ好ましいまたは殊に或いは殊に極めて好ましいものと
して上にすでに述べた同一の意味を有する。これらの出
発物質の例は本発明による方法(b)に対する出発物質
の記述において詳細にすでに述べた。
方法(i)に対する式(I)の出発物質は本発明による
化合物である;これらの化合物は本発明による方法(a
)に従って製造することができる。
方法(i)はアルカリ金属亜硝酸塩を用いて行われる。
挙げ得る例は亜硝酸ナトリウム及び亜硝酸カリウムであ
る。好ましくは亜硝酸ナトリウムを用いる。
方法(i)はハロゲン化水素或いは金属ハライドまたは
金属ハライド錯体を用いて行われる。挙げ得る例は次の
ものである:フッ化水素、塩化水素、臭化水素及びヨウ
化水素、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム及びフッ化
カリウム、塩化リチウム、塩化ナトリウム及び塩化カリ
ウム、臭化リチウム、臭化ナトリウム及び臭化カリウム
、ヨウ化リチウム、ヨウ化ナトリウム及びヨウ化カリウ
ム、並びにまたホウフッ化リチウム、ホウフッ化ナトリ
ウム及びホウフッ化カリウム。
本発明による方法(i)に使用し得る酸は上記のハロゲ
ン化水素、例えばフッ化水素、塩化水素、臭化水素及び
ヨウ化水素、しかしながら、更にまた有機酸、例えばギ
酸、酢酸、プロピオン酸またはメタンスルホン酸である
方法(L)は随時触媒の存在下において行われる。好ま
しくは、銅及び銅化合物、例えば塩化銅、臭化銅、ヨウ
化鋼、硝酸銅及び硫酸銅が考えられる。
方法(I)は希釈剤の存在下において行われる。
水に加えて、希釈剤として、なかでも、有機酸、例えば
ギ酸、酢酸、プロピオン酸及びメタンスルホン酸が考え
られる。
本発明による方法(i)において、反応温度は比較的広
い範囲で変えることができる。一般に、0℃乃至80℃
間、好ましくは0℃乃至50℃間の温度が用いられる。
−mに、方法(i)は大気圧下で行われる。
方法(i)を行う際に、式(I)の出発化合物1モル当
りアルカリ金属亜硝酸塩1乃至3モル、好ましくは1.
1乃至1.5モル、ハロゲン化水素或いは金属ハライド
または金属ハライド錯体1乃至100モル、好ましくは
2乃至50モル及び酸のほぼ等モル量を用いる。一般に
、反応成分を共に室温または冷却しながら加え、反応混
合物を反応が終了するまで撹拌する。処理は上記方法(
a)に述べた如くして行うことができる。
式(I)は本発明による方法(j)において出発物質と
して用いる化合物、但し、R7は基−〇−CH(R10
)−COOHを表わす、の一般的な定義を与えるもので
ある。この場合、基R1、R2、R3、R4、R5、R
@及びR10は好ましくはまたは殊に或いは殊に極めて
好ましくは、本発明による式(I)の化合物の記述に関
連して、それぞれ好ましいまたは殊に或いは殊に極めて
好ましいものとしてすでに述べた同一の意味を有する。
方法(j)に対する式(I)の出発物質の挙げ得る例は
次のものである: 2−カルボキシメトキシ−及び2−(I−カルボキシエ
トキシ)−3−二トロー6−<2.6−ジクロロ−4−
トリフルオロメチルフェノキシ)−ピリジン、2−カル
ボキシメトキシ−及び2−(I−カルボキシエトキシ)
−3−二トロー6− (2゜6−ジクロロ−3−フルオ
ロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)−ピリジン並
びにまた2−カルボキシメトキシ−及び2−(I−力ル
ポキシエトキシ)−3−二トロー6− (2,3,6−
ドリクロロー4−トリフルオロメチルフェノキシ)−ピ
リジン。
方法(j)に対する式(I)の出発物質は本発明による
化合物である;これらの化合物は本発明による方法(c
)に従って製造することができる。
本発明による(j)はトリアルキルシリルアルキルハラ
イドを用いて行われる。好ましくはトリメチルシリル−
C3〜C4−アルキルクロライドまたはブロマイド、殊
にトリメチルシリルメチルクロライドが用いられる。
方法(j)に用いるトリアルキルシリルアルキルハライ
ドは公知の合成薬品である。
方法(j)は好ましくは希釈剤を用いて行われる。なか
でも、本発明による方法(a)の記述においてすでに述
べた希釈剤が考えられる。アセトン、アセトニトリル及
びジメチルホルムアミドが殊に好ましい。
方法(j)は好ましくは酸受容体の存在下において行わ
れる。なかでも、本発明による方法(a)の記述におい
てすでに述べた酸受容体が考えられる。1.8−ジアザ
ビシクロ[5,4,0]ウンデク−7−エン(DBU>
が殊に好ましい。
本発明による方法(j)において、反応温度は比較的広
い範囲で変えることができる。一般に、0℃乃至100
℃間、好ましくは20℃乃至80℃間の温度が用いられ
る。
一般に、本発明による方法(j)は大気圧下で行われる
。しかしながら、また昇圧下または減圧下で行うことも
できる。
方法(j)を行う際に、式(I)の出発化合物1モル当
り一般にトリアルキルシリルアルキルハライド1乃至3
モル、好ましくは1.1乃至2.5モルを用いる。
反応及び処理は方法(a>に対して述べた如くして行う
ことができる。
本発明による活性化合物は、落葉剤、乾燥剤、広葉樹の
破壊剤及び、ことに殺雑草剤として使用することができ
る。雑草とは、最も広い意味において、植物を望まない
場所に成長するすべての植物を意味する0本発明による
物質は、本質的に使用量に依存して完全除草剤または選
択的除草剤として作用する。
本発明による化合物は、例えば、次の植物に関連して使
用することができる: ゛の の −葉  :カラシ属(S 1napis)、
マメグンバイナズナ属(L eipidium)、ヤエ
ムグラ属(Galium)、ハコベ属(S tella
ria)、シカギク属(Matriearia>、カミ
ツレモドキ属(A nthemis)、ガリンソガ属(
Galinsoga)、アカザ属(Chenopodi
u+++)、イラクサ属(U rtica) 、キオン
m< S enec io)、ヒエ属(A naran
thus)、スベリヒエ属(F ortulaca)、
オナモミ属(Xanthium)、ヒルガオ属(Con
volvulus)、サツマイモ属(I pos+oe
a)、タデ属(pglygonu+++)、セスバニア
属(S esbania)、オナモミ属(A+1bro
sia)、アザミ属(Cirsium)、ヒレアザミ属
  ゛(Carduus)、ノゲシ属(Sonchus
)、ナス属(Sofanuta)、イヌガラシ属(Ro
rippa)、キカシグサ属(Rotala)、アゼナ
属(L 1ndernia)、ラミラム属(Lamiu
m)、クワガタソウrd!、(Veronica)、イ
チビ属(Abutilon)、エメクス属(E 5ex
)、チョウセンアサガオ属(D atura)、スミレ
属(Viola)、チシマオドリコ属(Galeops
is)、ケシ属(P apaver)およびセンタウレ
ア属(Centaurea)。
久9」IL(そ1Jげ1〔1:ワタ属(G ossyp
ium)、ダイズ属(G 1ycine)、フダンソウ
属(Beta)、ニンジン属(D aucus) 、イ
ンゲンマメ属(P haseolus)、エントウ属(
P isum)、ナス属(Solanum)、アマ属(
Linum)、サツマイモ属(Ipomoea)、ソラ
マメ属(Vicia)、タバコ属(N 1cotian
a)、トマト属(Lyeopersicon)、ラッカ
セイ@(Arachis)、アブラナ属(B rass
ica)、アキノノゲシ属(Lactuca)、キュウ
リ属(Cuaumis)およびウリ属(Cucurbi
ta) 。
久cy>Xl、n ’−@t!J:ヒエ属(E chi
noehloa)、エノコログサ属(Setaria)
、キビ属(P anicus+)、メしシバ属(D 1
g1taria)、アワガリエ属(Phleu++)、
スズメノカタビラ属(Poa)、ウシノケグサ属(Fe
stuca)、オヒシバ属(E 1eusine)、ブ
ラキアリア属(B rachiaria)、ドクムギ属
(Lolium)、スズメノチャヒキ属(B romu
s)、カラスムギ属(Avena)、カヤツリグサ属(
Cyperus)、モロコシ属(S orgbum)、
カモジグサ属(A gropyron)、ジノトン属(
Cynodon)、ミズアオイ属(M onochor
ia)、テンツキ属(F i+*bristylis)
、オモダカ属(Sagittaria)、ハリイ属(E
 1eocharis)、ホタルイ属(Scirpus
)、バスバルム属(P aspalum)、カモノハシ
属(I schaemum)、スフニックレア属(Sp
hen。
clea)、ダクチロクテニウム属(D actylo
ctenium)、ヌカボ属(Agrostis)、ス
ズメノテツボウ属(Al。
pecurus)及びアベラ属(Apera)。
次!Σ単三已湾」(培」(物−:イネ属(Oryza)
、トウモロコシ属(Zea)、コムギ[K(Triti
cum)、オオムギ属(W ordeum)、カラスム
ギ属(Avena)、ライムギ属(Seeale>、モ
ロコシ1iL(Sorghum)、キビ属(Panie
um)、サトウキビ属(S aaeharuet)、ア
ナナス属(A nanas)、クサスギカズラ属(A 
5paraHus)およびネギ属(A l l ium
)。
しかしながら、本発明による活性化合物の使用はこれら
の属にまったく限定されず、同じ方法で他の植物に及ぶ
化合物は、濃度に依存して、たとえば、工業地域および
鉄道線路上、樹木が存在するかあるいは存在しない道路
および四角い広場上の雑中の完全防除に適する。同等に
、化合物は多年生栽培植物、例えば、造林、装飾樹木、
果樹園、ブドウ園、かんきつ類の木立、クルミの果樹園
、バナナの植林、コーヒーの植林、茶の植林、ゴムの木
の植林、油ヤシの植林、カカオの植林、小果樹の植え付
は及びホップの栽培植物の中の雑草の防除に、そして1
年生栽培植物中の雑草の選択的防除に使用することがで
きる。
本発明による活性化合物は、発芽前及び発芽後施用法に
おいて、単子葉栽培作物の双子葉雑草そ防除するために
殊に用いることができる。
本発明による活性化合物は、発芽後施用法において、単
子葉栽培作物中の双子葉雑草を選択的に抑制するために
殊によく適する。
本発明に従って使用し得る活性化合物は植物の代謝作用
に関係し、従って成長調節剤として用いることができる
植物生長調節剤の作用方法の今日までの経験から、活性
化合物が植物にいくつかの異なる作用を及ぼすことが分
っている。化合物の作用は本質的に該化合物を使用する
時点、植物の発育段階、並びに植物にまたはその周りに
適用する活性化合物の量及び化合物の適用方法に依存す
る。各々の場合に生長調節剤が特定の所望の方法で穀物
植物に脱気用を及ばずようにする。
植物における葉の菫を生長調節剤の影響下で調節するこ
とができ、従って所望の時点で植物の落葉が行える。か
かる落葉は綿の機械的収穫に際して極めて重要であるが
、しかしまた他の作物、例えばぶどう栽培における収穫
促進に対しても重要である。また植物の落葉は植物を移
植する前に植物の蒸散を低下させるために行うことがで
きる。
本活性化合物は、普通の調製物例えば溶液、乳液、水相
性粉剤、懸濁剤、粉末、粉剤、塗布剤、可溶性粉剤、粒
剤、懸濁−乳液濃厚剤、活性化合物を含浸させた天然及
び合成物質並びに重合物質中の掻く細かいカプセルに変
えることができる。
これらの組成物は公知の方法において、例えば活性化合
物を伸展剤、即ち液体溶媒及び/または固体の担体と随
時表面活性剤、即ち乳化剤及び/または分散剤及び/ま
たは発泡剤と混合して製造される。
また伸展剤として水を用いる場合、例えば補助溶媒とし
て有機溶媒を用いることもできる。液体溶媒として、主
に、芳香族炭化水素例えばキシレン、トルエンもしくは
アルキルナフタレン、塩素化された芳香族もしくは塩素
化された脂肪族炭化水素例えばクロロベンゼン、クロロ
エチレンもしくは塩化メチレン、脂肪族炭化水素例えば
シクロヘキサン、またはパラフィン例えば鉱油留分、鉱
油及び植物油、アルコール例えばブタノールもしくはク
リコール並びにそのエーテル及びエステル、ケトン例え
ばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トンもしくはシクロヘキサノン、強い有極性溶媒例えば
ジメチルホルムアミド及びジメチルスルホキシド並びに
水が適している。
固体の担体として、粉砕した天然鉱物、例えばカオリン
、クレイ、タルク、チョーク、石英、アタパルジャイト
、モノトモリロナイト、またはケイソウ土並びに粉砕し
た合成鉱物例えば高度に分散性ケイ酸、アルミナ及びシ
リケートが適している;粒剤に対する固体の担体として
、粉砕し且つ分別した天然岩、例えば方解石、大理石、
軽石、海泡石及び白雲石並びに無機及び有機のひきわり
合成顆粒及び有機物質の顆粒例えばおがくず、やしがら
、トウモロコシ穂軸及びタバコ茎が適している;乳化剤
及び/または発泡剤として非イオン性及び陰イオン性乳
化剤例えばポリオキシエチレン−脂肪酸エステル、ポリ
オキシエチレン脂肪族アルコールエーテル例えばアルキ
ルアリールポリグリコールエーテル、アルキルスルホネ
ート、アルキルスルフェート、アリールスルホネート並
びにアルブミン加水分解生成物が適している;分散剤と
して、例えばリグニンスルファイト廃液及びメチルセル
ロースが適している。
接着剤例えばカルボキシメチルセルロース並びに粉状、
粒状またはラテックス状の天然及び合成重合体例えばア
ラビアゴム、ポリビニルアルコール及びポリビニルアセ
テート並びに天然リン脂質、例えばセファリン及びレシ
チン、及び合成リン脂質を組成物に用いることができる
。更に添加物は鉱油及び植物油であることができる。
着色剤例えば無機顔料、例えば酸化鉄、酸化チタン及び
プルシアンブルー並びに有機染料例えばアリザリン染料
、アゾ染料及び金属フタロシアニン染料、及びtanの
栄養剤例えば鉄、マンガン、ホウ素、銅、コバルト、モ
リブテン及び亜鉛の塩を用いることができる。
調製物は一最に活性化合物0.1乃至95重量%間、好
ましくは0.5乃至90重量%間を含有する。
また本発明による活性化合物は、そのまま或いはその調
製物の形態において、公知の除草剤との混合物として雑
草を防除するために用いることもでき、仕上げた配合物
または種混合が可能である。
公知の除草剤、例えば穀物中の雑草を防除するための1
−アミノ−6−ニチルチオー3−(2゜−ジメチルプロ
ピル)−1,3,5−)リアジン−2,4−(IH,3
H)−ジオンまたはN−(2−ベンゾチアゾリル)−N
、N’−ジメチルウレア;テンサイ中の雑草を防除する
ための4−アミノ−3−メチル−6−フェニル−1,2
,4−)リアジン−5(4H)−オン及び大豆中の雑草
を防除するための4−アミノ−6−(I,1−ジメチル
エチル)−3−メチルチオ−1,2,4−トリアジン−
5(4H)−オンと混合物として用いることができ、加
えて、2.4−ジクロロフェノキシ酢酸;2.4−ジク
ロロフェノキシプロピオン酸、4−(2,4−ジクロロ
フェノキシ)−酪酸;(2−メチル−4−クロロフェノ
キシ)−酢酸;(4−クロロ−2−メチルフェノキシ)
−プロピオン酸、3,5.6−ドリクロロー2−ピリジ
ルオキシ酢酸; 2− [4−(2,4−ジクロロフェ
ノキシ)−フェノキシ]−プロピオン酸、そのメチル及
びエチルエステル、2−(4−L(6−クロロ−2−ベ
ンズオキサシリル)−オキシ]−フェノキシ)−プロピ
オン酸、そのメチル及びエチルエステル;2− [4−
(3,5−ジクロロビリジ−2−イルオキシ)−フェノ
キシ」−プロピオン酸くトリメチルシリル)メチル;3
.6−ジクロロ−2−ピリジンカルボン酸:N−(I−
エチルプロピル)−3,4−ジメチル−2,6−シニト
ロアニリン;5−(2,4−ジクロロフェノキシ)−2
−二トロ安息香酸メチル;N、N−ジメチル−N’−(
3−クロロ−4−メチルフェニル)−ウレア;N、N−
ジメチル−N’−(4−イソプロピルフェニル)−ウレ
ア、6.6−シメチルー2,4−ジオキソ−3−[1−
(2−プロペニルオキシアミノ)−ブチリデン]−シク
ロヘキサンカルボン酸メチル;2−[4,5−ジヒドロ
−4−メチル−4−(I−メチルエチル)−5−オキソ
−IH−イミダゾルー2−イル] −4(5)−メチル
安息香酸メチル;3.5−ジブロモ−4−ヒドロキシベ
ンゾニトリル:3,5−ショート−4−ヒドロキシベン
ツニトリル;N−メチル−2−(I,3−ベンゾチアゾ
ルー2−イルオキシ)−アセトアニリド;2−クロロ−
N−(I(4−メトキシ−6−メチル−1,3,5−ト
リアジン−2−イル)−アミノコ−力ルボニル)−ベン
ゼンスルホンアミド;2−(I[((4−メトキシ−6
−メチル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−アミ
ノ)−カルボニル」アミノコ−スルホニル)安息香酸ま
たはそのメチルエステル、3−[[[[(4−メトキシ
−6−メチル−1,3,5−)リアジン−2−イル)−
アミノコ−力ルボニル]−アミノー]スルホニルコーチ
オフエン−2−カルボン酸メチル;4−エチルアミノ−
2−tert、−ブチルアミノ−6〜メチルチオ−S−
トリアジン;3−イソプロピル−2゜1.3−ベンゾチ
アジン−4−オン−2,2−ジオキシド並びに〇−(6
−クロロ−3−フェニル−ピリダジン−4−イル)−s
−オクチルチオカルボネトとの混合物として用いること
ができる。またある混合物は相乗作用を示す。
また他の公知の活性化合物、例えば、殺菌・殺カビ剤、
殺虫剤(insecticides)、殺ダニ剤(ac
aricides)、殺線虫剤(negIaticid
es)、小鳥忌避剤、植物栄養剤及び土壌改良剤との混
合物が可能である。
本活性化合物はそのままで、或いはその配合物の形態ま
たはその配合物から更に希釈して調製した使用形態、例
えば調製清液剤、′懸濁剤、乳剤、粉剤、塗布剤及び粒
剤の形態で使用することができる。これらのものは普通
の方法で、例えば液剤散布(watering)、スプ
レー、アトマイジング(at。
mising)または粒剤散布(seatteriB)
によって施用される。
本発明による活性化合物は植物の発芽の前または後に施
用することができる。
また本化合物は種子をまく前に土壌中に混入することが
できる。
本活性化合物の使用量は実質的な範囲内で変えることが
できる。この量は本質的に所望の効果の特質に依存する
。一般に、施用量は土壌表面1ヘクタール当り活性化合
物0.01乃至10kg間、好ましくは0.05乃至5
kg/ha間である。
本発明による活性化合物の製造及び用途を以下の実施例
から知ることができる。
1ま夫1匹 実施例 I CI。
方法 (a) 2−(3−ニトロ−6−クロロピリジニル−2=オキシ
)−プロピオン酸メチル7.8g(0゜03ミル)、2
.6−ジクロロ−4−トリフルオロメチルフェノール6
.9g(0,03モル)及び炭酸カリウム8.3g (
0,06モル)をジメチルスルホキシド60m1中にて
100℃で24時間撹拌した。混合物を水500m1で
希釈し、塩化メチレン各150m1で2回抽出した。合
液した塩化メチレン相を水で洗浄し、vL酸ナナトリウ
ム上乾燥し、枦遇し、そして蒸発させた。残った油をシ
リカゲル上で、溶離剤としてn−ヘキサン4部及び酢酸
エチル1部の混合物を用いてクロマトグラフィーにかけ
た。
融点108〜109℃の無色の結晶として2−[3−二
トロー6−(2,6−ジクロロ−4−トリフルオロメチ
ルフェノキシ)−ビリジルー2−オキシ]プロピオン酸
メチル2.9g(理論量の21%)が得られた。
実施例 2 し凰 方法 (a) 2.6−ジクロロ−4−トリフルオロメチルフェノール
3.2 g (0,0125モル)、2−エトキシカル
ボニル−メチルアミノ−3−ニトロ−6−クロロピリジ
ン3.2 g (0,0125モル)及び1.4−ジア
ザビシクロし2.2.2]オクタン1.4g (0,0
125モル)をクロロホルム100m1中にて60℃で
9時間撹拌した;クロロホルム相を水で洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、V過し、そして蒸発させた。残っ
た油をリグロインから結晶させ、結晶を吸引枦別し、そ
して乾燥した。
融点140〜145℃の2−エトキシカルボニル−メチ
ルアミノ−3−ニトロ−6−(2,6−ジクロロ−4−
トリフルオロメチルフェノキシ)ピリジン3.6g(理
論量の63%)が得られた。
実施例 3 し! 方法 (a) 2.6−ジクロロ−4−トリフルオロメチルフェノール
17.4g (0,075モル)、2−クロロ−5−ニ
トロピリジン8g(0,050モル)及び炭酸カリウム
10.4g(0,075モル)をジメチルスルホキシド
200m1中にて90℃で48時間撹拌した。20〜3
0℃に冷却した後、混合物を氷上に注ぎ、クロロホルム
各250m1で2回抽出した1合液したクロロホルム相
を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そ
して蒸発させた。残渣をシリカゲル上で、溶離剤として
塩化メチレンを用いてクロマトグラフィーにかけた。
溶離剤を蒸発させた後、融点102〜108°Cの3−
ニトロ−6−(2,6−ジクロロ−4−トリフルオロメ
チルフェノキシ)ピリジン2.4g(理論量の13%)
が得られた。
実施例 4 方法 (a) 2.6−ジクロロ−4−トリフルオロメチルフェノール
2.9 g (0,015モル)を炭酸カリウム粉末0
.7 g (0,0125モル)と共にジメチルスルホ
キシド50m1中にて室温で処理し、この混合物を1時
間撹拌した:次に6−クロロ−3−ニトロ−2−メチル
千オビリジン2.4g(o、615モル)を加え、混合
物を90℃で6時間撹拌した0次にこのものを蒸発させ
、残渣を塩化メチレンに採り入れた。塩化メチレン溶液
をIN水酸化ナトリウム及び水で洗浄し、硫酸ナトリウ
ム上で乾燥し、濾過し、V液を蒸発させた。残った油は
エタノールと共に砕解した後、結晶化した。
融点142℃の2−メチルチオ−3−二トロー6−(2
,6−ジクロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)
ピリジン1.7g(理論蓋の37%)が得られた。
実施例 5 方法 (a) 4−トリフルオロメチル−2,6−ジクロロフェノール
17.4g(0,075モル)を無水炭酸カリウム1o
、4g (0,075モル)と共にジメチルスルホキシ
ド200m1中にて60〜70℃で1時間撹拌した。室
温に冷却後、6−クロロ−2−ジメチルアミノ−3−ニ
トロピリジン10g(0,050モル)を加え、混合物
を120〜140℃で3日間撹拌した。次に混合物を水
200 m l中で撹拌し、水相を塩化メチレン各15
0m1で2回抽出した。合液した塩化メチレン相を硫酸
ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発さぜな。残
渣をシリカゲルカラムで塩化メチレンを用いてクロマト
グラフィーによって精製した。 融点103〜106℃
の黄色結晶として2−ジメチルアミノ−3−ニトロ−6
−(2,6−ジクロロ−4−トリフルオロメチルフェノ
キシ)ピリジン1.8g(理論量の9%)が得られた。
実施例 6 U厘 方法 (a) 2.6−ジクロロ−4−トリフルオロメチルフェノール
3.2g (0,014モル)、1.4−ジアザビシク
ロ[2,2,21オクタン1.4g(0,0125モル
)及び2−アミノ−3−ニトロ−6−クロロピリジン2
.2 g (0,0125モル)をクロロポルム50m
1中にて60℃で3時間撹拌した。クロロホルム溶液を
水各50m1で2回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し
、濾過し、そして蒸発させた。残った油を熱りグロイン
で処理し、混合物をシリカゲルを通して濾過し、炉液を
蒸発させた。油状残渣は冷却した際に結晶化した。
融点140℃の2−アミノ−3−ニトロ−6−(2,6
−ジクロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)ピリ
ジン1.66g(理論蓋の36%)が得られた。
実施例 7 方法 (b) 2−アミノ−3−ニトロ−6−ジクロロ−4−トリフル
オロメチルフェノキシ)ピリジン6.6g(0,018
モル)を濃硫酸150m1に溶解し、水50m!加え、
溶液を0℃に冷却した。水10m1中の亜硝酸ナトリウ
ム2.5g (0,03モル)の溶液を撹拌し且つ冷却
しながら滴下した。
反応混合物を一夜放置して室温にし、混合物を水500
m1で希釈し、水相を塩化メチレン各200m1で2回
抽出した1合液した塩化メチレン相を硫酸ナトリウム上
で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。
融点177〜182℃の2−ヒドロキシ−3−ニトロ−
6−(2,6−ジクロロ−4−トリフルオロメチルフェ
ノキシ)ピリジン6.1g(理論量の92%)が得られ
た。
実施例 8 C)I3 し1 方法 (c) 2−[ニトロ−6−(2,6−ジクロロ−4−トリフル
オロメチルフェノキシ)−ピリジニル−2−オキシ)−
10ピオン酸メチル11.4g(0,05モル)をエタ
ノール17m1中で撹拌し、水12m1中の水酸化ナト
リウム1g(0,025モル)の溶液を加えた。混合物
を還流下で2時間撹拌し、透明な溶液を生じた。この溶
液をその容量の半分に蒸発させ、塩酸でpH値2に調節
した。沈澱した血漿を吸引炉別し、洗浄して中性にし、
デシケータ−中で乾燥した。
融点170〜176℃の2−[3−ニトロ−6−(2,
6−ジクロロ−4−トリフルオロメチルフェノキシ)−
ピリジニル−2−オキシ]プロピオン酸10.6g(理
論量の96%)が得られた。
実施例 9 C11゜ 方法 (d) 2−[3−ニトロ−6−(2,6−ジクロロ−4−トリ
フルオロメチルフェノキシ)−ピリジニル−2−オキシ
コプロピオン酸8g (0,0174ミリモル)をチオニルクロライド55m
1中にて還流下で3時間沸騰させた。次に溶液を減圧下
で蒸発させ、残渣を石油エーテル20m1で結晶させ、
石油エーテルで洗浄し、デシケータ−中で乾燥しな。
融点94〜98℃の2−[3−二トロー6−(2,6−
ジクロロ−4−トルフルオロメチルフェノキシ)−ピリ
ジニル−2−オキシ]プロピオニルクロライド5.5g
(理論量の69%)が得られた。
実施例10 CH8 ゝC1 方法(e) 2−[3−ニトロ−6−(2,6−ジクロロ−4−トリ
フルオロメチルフェノキシ)−ピリジニル−2−オキシ
]プロピオニルクロライド2.3g(0,005モル)
を塩化メチレン20mMに溶解し、ジエチルアミン0.
52mQ(0,005モル)及びトリエチルアミン0.
7 m(+(0,005モル)を加え、この溶液を20
〜30°Cで3時間撹拌した。塩化メチレン相を水容5
0mQで2回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過
し、そして蒸発させた。油状残渣を石油エーテルを用い
て結晶させ、結晶を吸引濾別し、石油エーテルで洗浄し
、風乾した。
融点90〜93℃の黄色結晶として2−[3−ニトロ−
6−(2,6−ジクロロ−4−トリフルオロメチルフェ
ノキシ)−ピリジニル−2−オキシ] プロピオオン酸
ジエチルアミド2 、1 g(理論量の85%)が得ら
れた。
実施例11 r++− ゝC1 方法(e) 2−[3−ニトロ−6−(2,6−ジクロロ−4−トリ
フルオロメチルフェノキシ)−ピリジニル−2−オキシ
]プロピオニルクロライド2.3g(0,005モル)
を塩化メチレン20n+Qに溶解し、3−ベンジルオキ
シ−プロパン−1−オール0.8g(0,005モル)
を加え、次に塩化メチレン5mQに溶解したトリエチル
アミン0.7mα(0,005モル)を滴下した。
反応混合物を40℃で4時間撹拌し、IN水酸化ナトリ
ウムで、次に水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、
濾過し、そして蒸発させた。残った油をシリカゲルカラ
ムで、溶離剤として塩化メチレンを用いてクロマトグラ
フィーによって精製しtこ。
溶離液の蒸発後、融点86〜87℃の2−[3−二) 
’−6−(2,6−ジクロロ−4−トリプルオロメチル
フエノキシ)−ピリジニル−2−オキシ]プロピオン酸
−ベンジルオキシ−1−プロピル0.44g(理論量の
15%)が残った。
次の第1表に示した式(I)の化合物を実施例1〜11
と同様にして、そして製造における一般的な方法に従っ
て得ることができたニ ーl cQC’J寸へトロトーC叩 き−!−の口■ロロへロ ー++1−+−1+m−−+−+−ヘ エ 平干閃:e工工工工工工= 、:′ =工+E+ E+ :e+エーエ;−=偶      
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                   (カ   U
つ−ロー トート 工 +!::l:!工工閃 =工士 開国−工工 −工; 実施例1〜11に加えて、更に本発明にはいくつかの製
造方法を例として以下に述べる:実施例50として前記
した化合物の製造方法(f) 2−アミノ−3−ニトロ−6−(2,6−ジクロロ−4
〜トリフルオロメチルフエノキシ)ビリノン(実施例6
参照)1.8g(0,005モル)、無水酢fllO,
95g(0,01モル)、酢酸15−l及び濃硫酸数滴
の混合物を60℃で4時間攪拌した。冷却後、混合物を
炭酸水素ナトリウムを用いて中和し、塩化メチレンで抽
出した。塩化メチレン相を炭酸水素ナトリウム水溶液で
洗浄し、硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、そして濾過
した。炉液から水流ポンプによる真空下で溶媒を留去し
た。
融点153℃の結晶性残渣として2−7セチルアミノー
3−ニトロ−6−(2,6−シクaロー4−トリフルオ
ロメチルフェノキシ)ビリノン1.7g(理論量の83
%)が得られた。
実施例23として前記した化合物の製造し轟 方法(g) 2−メチルチオ−3−ニトロ−6−(2,6−ジクロロ
−4−)リフルオロメチルフェノキン)ピリジン(実施
例4参照)2.Og(0,005モル)、ギ酸0.6g
(0,013モル)、35%パーヒトロール1.Og(
H,020,01モルに相当)、塩化メチレン30曽l
及びモリブデン酸アンモニウムスパチュラ1杯の混合物
を20℃で2日間攪拌した0次に混合物を亜硫酸水素ナ
リトウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムを用いて乾
燥し、そして濾過した。
炉液から水流ポンプによる真空下で溶媒を留去し、残渣
をエタノールと共砕解して結晶させ、生成物を吸引濾過
によって単離した。
M点167℃の2−メチルスルホニル−3−ニトロ−6
−(2,6−フクロロー4−トリフルオロメチル7−c
/キシ)t”Jジン1.6g(埋1jlF)74%)が
得られた。
実施例26として前記した化合物の製造し1 方法(h) 2−クロロ−3−二)o−6−(2,6−フクロロー4
−トリフルオロメチルフェノキシ)ピリジン(実施例6
参照H,9g(0,065)、40%メタノール性ナリ
トウムメチレー) 1 、 Og(N ao CH30
005モルに相当)及びメタノール20IIlの混合物
を20℃で15時間攪拌した6次にこのものを水で希釈
し、塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン相を水で洗
浄し、硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、そして濾過し
た。炉液から水流ポンプによる真空下で溶媒を留去し、
残渣をエタノールと共に砕解して結晶させ、生成物を吸
引濾過によって単離した。融点101℃の2−メトキシ
−3−二トロー6−(2,6−ジクロロ−4−トリフル
オロメチル7エ/キシ)ピリノン1.Og(理論量の5
2%)が得られた。
実施例20として前記した化合物の製造方法(i) 2−7ミ/−3−ニトロ−6−(2,6−ジクロロ−4
−トリフルオロメチルフェノキシ)ピリノン(実施例6
参照H9,Og(0,050モル)、濃塩酸20011
1及び酢酸200iej2の混合物に20℃で攪拌しな
がら亜硝陵ナトリウム4.Og(0,058モル)を加
え、反応混合物を2時間攪拌した。銅6gの添加後、攪
拌を15時l111続けた。次に混合物を塩化メチレン
と共に振盪し、有機相を分離し、水で洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、そして濾過した。濾過から水流ポン
プによる真空下で溶媒を留去した。
融点142℃の2−クロロ−3−ニトロ−6−(2゜6
−ジクロロ−4−トリフルオロメチルフェノ斗シ)ピリ
ノン8.Ig(理論量の42%)が得られた。
実施例80として前記した化合物の製造CI、1 糎 し1 方法(j) 2−(I−カルボキシエトキン)−3−二トロー6−(
2,6−ジクロロ−4−トリフルオロメチル7エ/キシ
)ピリジン2.2g(0,005)モlし、1,8−ジ
アザビシクロ[5,4,0]ウンデセン(DBU)0.
9g(0,006モル)及びアセトン50*jlの混合
物に20℃で攪拌しなからクロロメチルトリノチルシラ
ン0.8 g(0,006モル)を加え、反応混合物を
還流下で15時間沸騰させた0次にこのものを蒸発させ
、残渣を塩化メチレンに採り入れ、2N塩酸で洗浄し、
硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、そして濾過した。炉
液から水流ポンプによる真空下で溶媒を留去した。
非晶質残渣として2−(I−)リメチルシリルメトキシ
カルボニルエトキシ)−3−ニトロ−6−(2゜6−ジ
クロロ−4−トリフルオロメチル7エ/キシ)ピリジン
1.3g(理論量の49%)が得られた。
実施例H−i 3.5−ジクロロ−2,4−ジフルオロベンゾトリプル
オライド75g(0,3モル)、tert、−ブタ/−
ル400m1及び水50m1の混合物に20℃で攪拌し
ながら、水酸化カリウム粉末50g(0,9モル)を一
部づづ加えた0反応混合物を50℃で6時間攪拌し、冷
却し、水600−βに注ぎ、冷却しながら塩酸で酸性に
した。次に混合物を塩化メチレンで抽出し、塩化メチレ
ン相を硫酸マグネシウムを用いて乾燥し、そして濾過し
た。炉液から回転蒸発磯によって溶媒を留去し、残った
生成物を回転バンドカラムで蒸留して精製した。
沸点78〜80℃(I4ミリバール)及び屈折率nii
’=1.4870の2,4−ツクoロー3−フルオロ−
6−ドリプルオロメチルフエノール48g(埋atの6
4%)が得られた。
次の式(II)の化合物を実施例■−1と同様にして、
そして製造に対する一般的な支持に従って製造すること
ができた: 次の使用実施例において、下記の化合物を比較4#質と
して用いた: 3−(2,4−ジクロロフェノキシ)−6−ニトロ安息
香酸メチル (米国特許第3,652,645号及び同第3,776
.715号/実施例5から公知)。
実施例 A 発芽前試験 溶 媒ニア七トン5重量部 乳化剤:アルキルアリールポリグリコールエーテル1重
量部 活性化合物の適当な#焚物を製造するために、活性化合
物1重量部を上記量の溶媒と混合し、上記量の乳化剤を
加え、この濃厚物を水で希釈して所望の濃度にした。
試験植物の種子を普通の土壌にまき、24時fill後
、活性化合物の調製物で液剤散布した。単位面積当りの
水の量を一定に保持することが有利である。調製物中の
活性化合物の濃度は重要でなく、単位面積当りに施用し
た活性化合物の量のみが決め手となる。3週問後、植物
に対する損傷の程度を未処理対照の発育と比較して、%
損傷として評価した。数字は次の意味を表わす: θ%=作用無しく米麹装置対照と同様)100%=全で
絶滅 この試験において、例えば製R実施例(I)、(8)、
(9)及び(I1)に述べた活性化合物は、比較物質(
A)よりも、雑草、例えばイチビ、〃リンノが、シカギ
ク、カラン、キビ及びエノコログサを防除する際に、明
らかに良好な活性を示した。
その結果を第A表に示す。
実施例B 発芽後試験 溶 媒ニア七トン5重量部 乳化剤:アルキルアリールポリグリコールエーテル1重
量部 活性化合物の適当な′14製物を製造するために、活性
化合物1重量部を上記盆の溶媒と混合し、上記量の乳化
剤を加え、この濃厚物を水で希釈して所望の濃度にした
高さ5〜15cmの試験植物に、単位面積当り所望の活
性化合物の特定の量が施用されるように、活性化合物の
調製物を噴霧した。噴霧液の濃度を所望の活性化合物の
特定の量が1ヘクタール当り水20001として施用さ
れるように選定した。
3週間後、植物に対する損傷の程度の未処理対照の発R
と比較して%損傷として評価した。数字は次の意味を表
わす: 0%=作用なしく未処理対照と同様) 100%=全て撲滅 この試験において、例えば製造実施例(I)、(6)、
(8)及び(9)に述べた活性化合物は、比較物質(A
)よりも、雑草、例えば7す〃オ、チョウセンアサガオ
、〃リンシカ、サツマイモ、スベリヒエ、ヒエ及びエノ
コログサを防除する際に、明らかにすぐれた活性を示し
た。
加えて、製造実施例(2°6)、(27)、(33)、
(58)、(61)、(63)、(83)、(84)及
び(89)に述べた活性化合物は、比較物質(A)より
も雑草に対するかなり良好な活性と共に、コムギと良好
な適合性を示した。その結果゛を第81表及び第82表
に示す。
実施例C ワタの葉の落葉及び脱水 溶 媒ニジメチルホルムアミド30重量部乳化剤:ポリ
オキシエチレンソルビタンモ/ラウレート1重量部 活性化合物の適当な調製物を91Rするために、活性化
合物1重量部を上記量の溶媒及び乳化剤と混合し、この
混合物を水で所望の濃度にした。
ワタ植物を第5の第2葉が完全に開くまで温床で発をさ
せた。この段階で植物に活性化合物の調製物をしたたり
落る程度にぬれるまで噴霧した。
1週間後、葉の落葉及び脱水を対照植物と比較して評価
した。
記号は次の意味を表わす: 0=葉の脱水なし、葉の落葉なし +=葉のわずかの脱水、葉のわずかの落葉++=葉のき
びしい脱水、葉のきびしい落葉士十+=菓の極めてきび
しい脱水、葉の極めてきましい落葉 この試験において、例えば製造実施例(I)及び(8)
に述べた活性化合物は葉の極めてきびしい脱水及び葉の
極めてきびしい落葉を起こした。その結果を第0表に示
す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、R^1は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロまたは
    随時ハロゲンで置換されていでもよい一連のアルキル、
    アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル及び
    アルキルスルホニルからの基を表わし、 R^2は水素、ハロゲンまたはアルキルを表わし、 R^3は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロまたは随時ハ
    ロゲンで置換されていてもよい一連のアルキル、アルコ
    キシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル及びアルキ
    ルスルホニルからの基を表わし、 R^4は水素またはハロゲンを表わし、 R^5は水素またはハロゲンを表わし、 条件として、置換基R^1〜R^5の少なくとも3個は
    水素と異なるものであり、そして基R^1〜R^5の少
    なくとも1個は水素及びハロゲンと異なるものであるも
    のとし、更に、 R^6は水素、シアノ、ニトロ、ハロゲン、カルボキシ
    ル、カルバモイルまたはアルコキシカルボニルを表わし
    、そして R^7は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ホルミル、
    ヒドロキシル、トリアルキルシリルオキシ、アルキルア
    ミノカルボニルオキシ、ジアルコキシ(チオ)ホスホリ
    ルオキシまたは−O^■M^■を表わし、ここに M^■はアンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイ
    オン、アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオ
    ン当量を表わすか、 R^7は随時ハロゲン、シアノ、ニトロ、カルボキシル
    、カルバモイル、アミノ、フェニル、アルキルカルボニ
    ル、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ヒドロキシル
    、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルアミノカルボニ
    ル、アルコキシカルボニル及び/またはアルコキシカル
    ボニルアルコキシで置換されていてもよい一連のアルキ
    ル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルケニル
    オキシ、アルキニルオキシ、アルキルチオ、アルケニル
    チオ、アルキニルチオ、アルキルスルフィニル及びアル
    キルスルホニルからの基を表わすか、 R^7基は▲数式、化学式、表等があります▼を表わし
    、ここに、 R^8は水素またはアルキルを表わし、そしてR^9は
    水素、ヒドロキシル、アミノ、アルキルアミノ、ジアル
    キルアミノ、アリールアミノ、アルキルカルボニルアミ
    ノ、アリールカルボニルアミノ、アルキルスルホニルア
    ミノ、随時アリール部分がアルキルで置換されていても
    よいアリールスルホニルアミノ、シアノ、アルキル、ア
    ルコキシ、ハロゲノアルキル、アルコキシカルボニル、
    アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アリールオ
    キシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリール
    アミノカルボニル、アルコキシカルボニルアルキル、ア
    ラルキル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、
    または随時ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、アル
    コキシ、ハロゲノアルキル及び/もしくはハロゲノアル
    コキシで置換されていでもよいアリールを表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし
    、ここに、 R^1^0は水素またはアルキルを表わし、そしてR^
    1^1はハロゲン、ヒドロキシル、アミノ、アルキルア
    ミノ、シアナミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホ
    ニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、ヒドロキシア
    ミノ、アルコキシアミノ、ヒドラジノ、アルキルスルホ
    ニルヒドラジノ、アリールスルホニルヒドラジノまたは
    基−Q−R^1^2を表わし、ここに、Qは酸素または
    硫黄を表わし、そして R^1^2は随時ハロゲンで置換されていてもよい一連
    のアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチオアルキ
    ル、アルキルスルフィニルアルキル、アルキルスルホニ
    ルアルキル、アリールオキシアルキル、トリアルキルシ
    リルアルキル、アリールチオアルキル、アラルコキシア
    ルキル、アルコキシカルボニルアルキル、アルキルアミ
    ノカルボニルアルキル、アラルキルチオアルキル、アラ
    ルキル及びアゾリルアルキルからの基を表わすか、また
    はアンモニウム、アルキルアンモニウム、アルカリ金属
    もしくはアルカリ土類金属の1当量を表わすか、 R^7は▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、 ここに、 R^1^0は水素またはアルキルを表わし、R^1^3
    は水素、アルキル、アリール、フリル、チエニルまたは
    ピリジルを表わし、 R^1^4はアルキルまたはアルコキシを表わし、R^
    1^5はアルコキシを表わし、そして Qは酸素または硫黄を表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし
    、こ こに、 R^1^0は水素またはアルキルを表わし、R^1^6
    は水素またはアルキルを表わし、そしてR^1^7はア
    ルキルまたはアリールを表わすか、R^7は基−S(O
    )_n−Yを表わし、ここに、nは0、1または2を表
    わし、 Yはアルコキシ、アルケノキシ、アルキノキシ、アラル
    コキシ、アリールオキシまたはアミノ、アルキルアミノ
    、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、アラルキルア
    ミノ、アリールアミノ、ジアルキルアミノ、シアナミノ
    、グアニジノ、ヒドロキシアミノ、アルコキシアミノ、
    ヒドラジノ、アルキルヒドラジノ、アリールヒドラジノ
    、アルキルカルボニルヒドラジノ、アルコキシカルボニ
    ルヒドラジノ、アルキルスルホニルヒドラシノもしくは
    アリールスルホニルヒドラジノを表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし
    、ここに、 2つの基R^1^8は、独立に、アルキルを表わすか、
    または一緒になって、アルカンジイル(「アルキレン」
    )を表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし
    、ここ に、 Aはアルカンジイル(アルキレン)を表わし、p及びq
    は0または1を表わし、 R^1^9は水素、アルキル、アルコキシまたはアルキ
    ルアミノを表わし、そして R^2^0は水素、アルキル、アリール、ヒドロキシル
    、随時アルコキシカルボニルで置換されていてもよいア
    ルコキシ、またはアルケニルオキシ、アルキニルオキシ
    もしくはアラルコキシを表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし
    、ここに、 R^2^1はアルキルまたはアルコキシを表わし、そし
    て R^2^2はアルコキシを表わすか、或いはR^7は基
    −(CH_2)_m−Zまたは基▲数式、化学式、表等
    があります▼ を表わし、ここに、 mは0、1または2を表わし、 R^1^0は水素またはアルキルを表わし、そしてZは
    随時ハロゲン及び/またはアルキルで置換されていても
    よい一連のフリル、テトラヒドロフリル、オキソテトラ
    ヒドロフリル、チエニル、テトラヒドロチエニル、パー
    ヒドロピラニル、オキサゾリル、チアゾリル、チアジア
    ゾリル、ジオキソラニル、パーヒドロピロリル、オキソ
    パーヒドロピロリル、ピリジニル、ピリミジニル及びピ
    リダジニルからの複素環式基を表わす、 の置換されたフェノキシピリジン類。 2、特許請求の範囲第1項記載の式( I )、但し、R
    ^1は水素、フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ或い
    は随時フツ素及び/または塩素で置換されていてもよい
    一連のC_1〜C_2−アルキル、C_1〜C_2−ア
    ルコキシ、C_1〜C_2−アルキルチオ、C_1〜C
    _2−アルキルスルフィニル及びC_1〜C_2−アル
    キルスルホニルからの基を表わし、 R^2は水素、フッ素、塩素、臭素またはC_1〜C_
    2−アルキルを表わし、 R^3は水素、フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ或
    いは随時フッ素及び/または塩素で置換されていてもよ
    い一連のC_1〜C_4−アルキル、C_1〜C_4−
    アルコキシ、C_1〜C_4−アルキルチオ、C_1〜
    C_4−アルキルスルフィニル及びC_1〜C_4−ア
    ルキルスルホニルからの基を表わし、 R^4は水素、フッ素、塩素または臭素を表わし、 R^5は水素、フッ素、塩素または臭素を表わし、条件
    として、置換基R^1〜R^5の少なくとも3個は水素
    と異なるものであり、そして基R^1〜R^5の少なく
    とも1個は水素、フッ素、塩素及び臭素と異なるもので
    あるものとし、更に、 R^6は水素、シアノ、ニトロ、フッ素、塩素、臭素、
    カルボキシル、カルバモイルまたは C_1〜C_4−アルコキシカルボニルを表わし、そし
    て R^7は水素、フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、
    ホルミル、ヒドロキシル、トリメチルシリルオキシ、C
    _1〜C_4−アルキルアミノカルボニルオキシ、ジ−
    (C_1〜C_4−アルコキシ−(チオ)−ホスホリル
    オキシまたは−O^■M^■を表わし、ここに M^■はアンモニウムイオン、C_1〜C_4−アルキ
    ルアンモニウムイオン、ナトリウムイオン、カリウムイ
    オンまたはカルシウムイオンの1当量を表わすか、 R^7は随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、カ
    ルボキシル、カルバモイル、アミノ、フェニル、C_1
    〜C_4−アルキルカルボニル、C_1〜C_4−アル
    キルアミノ、ジ−(C_1〜C_4−アルキル)−アミ
    ノ、ヒドロキシル、C_1〜C_1−アルコキシ、C_
    1〜C_4−アルキルチオ、C_1〜C_4−アルキル
    アミノカルボニル、C_1〜C_4−アルコキシカルボ
    ニル及び/またはC_1〜C_4−アルコキシカルボニ
    ル−C_1〜C_4−アルコキシで置換されていてもよ
    いC_1〜C_6アルキル;随時フッ素、塩素、臭素、
    シアノ、ニトロ、カルボキシル、カルバモイル及び/ま
    たはC_1〜C_4−アルコキシカルボニルで置換され
    ていてもよいC_2−C_6−アルケニル;随時フッ素
    、塩素、臭素、シアノ及び/またはC_1〜C_4アル
    コキシカルボニルで置換されていてもよいC_2〜C_
    6−アルキニル;随時フッ素、塩素、シアノ、ジ−(C
    _1〜C_4−アルキル)−アミノ、ヒドロキシル、C
    _1〜C_4−アルキルカルボニル、C_1〜C_4−
    アルコキシ及び/またはC_1〜C_4−アルキルチオ
    で置換されていてもよいC_1〜C_4−アルコキシ;
    随時フッ素、塩素、シアノ及び/またはC_1〜C_4
    −アルコキシカルボニルで置換されていてもよいC_2
    −C_4−アルケニルオキシ;随時フッ素、塩素、臭素
    、シアノ及び/またはC_1〜C_4−アルコキシカル
    ボニルで置換されていてもよいC_2〜C_4−アルキ
    ニルオキシ;随時フッ素、塩素、臭素、シアノ、カルボ
    キシル、カルバモイル、C_1〜C_4−アルコキシ、
    C_1〜C_4−アルキルチオ及び/またはC_1〜C
    _4−アルコキシカルボニルで置換されていてもよいC
    _1〜C_4−アルキルチオ;随時フッ素、塩素及び/
    または臭素で置換されていてもよいC_2〜C_4−ア
    ルケニルチオ;或いは各々フッ素、塩素及び/または臭
    素で置換されていてもよいC_2〜C_4−アルキニル
    チオ、C_1〜C_4−アルキルスルフィニルまたはC
    _1〜C_4−アルキルスルホニルを表わすか、R^7
    は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、ここ
    に、 R^8は水素またはC_1〜C_4−アルキルを表わし
    、そして R^9は水素、ヒドロキシル、アミノ、C_1〜C_6
    −アルキルアミノ、ジメチルアミノ、フェニルアミノ、
    C_1〜C_4−アルキルカルボニルアミノ、フェニル
    カルボニルアミノ、C_1〜C_4−アルキルスルホニ
    ルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、4−メチルフェ
    ニルスルホニルアミノ、シアノ、C_1〜C_4−アル
    キル、C_1〜C_4−アルコキシ、C_1〜C_4−
    フルオロアルキル、C_1〜C_4−アルコキシカルボ
    ニル、C_1〜C_4−アルキルカルボニル、ベンゾイ
    ル、フェノキシカルボニル、C_1〜C_4−アルキル
    アミノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、C_1
    〜C_4−アルコキシカルボニル−C_1〜C_2−ア
    ルキル、ベンジル、C_1〜C_4−アルキルスルホニ
    ル、フェニルスルホニル、或いは随時フッ素、塩素、臭
    素、シアノ、ニトロ、C_1〜C_4−アルキル、C_
    1〜C_4−アルコキシ、C_1〜C_4−ハロゲノア
    ルキル及び/またはC_1〜C_4−ハロゲノアルコキ
    シで置換されていてもよいフェニルを表わすか、R^7
    は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、ここ
    に、 R^1^0は水素またはアルキルを表わし、そしてR^
    1^1は塩素、ヒドロキシル、アミノ、C_1〜C_4
    −アルキルアミノ、シアナミノ、ジ−(C_1〜C_4
    −アルキル)−アミノ、C_1〜C_4−アルキルスル
    ホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、ヒドロキシ
    アミノ、C_1〜C_4−アルコキシアミノ、ヒドラジ
    ノ、C_1〜C_1−アルキルスルホニルヒドラジノ、
    フェニルスルホニルヒドラジノまたは基−Q−R^1^
    2を表わし、ここに、 Qは酸素または硫黄を表わし、そして R^1^2は随時フッ素及び/または塩素で置換されて
    いてもよい一連のC_1〜C_6−アルキル、C_1〜
    C_4−アルコキシ−C_1〜C_4−アルキル、C_
    1〜C_4−アルキルチオ−C_1〜C_4−アルキル
    、C_1〜C_4−アルキルスルフィニル−C_1〜C
    _4−アルキル、C_1〜C_4−アルキルスルホニル
    −C_1〜C_4−アルキル、フェノキシ−C_1〜C
    _4−アルキル、トリメチルシリル−C_1〜C_4−
    アルキル、フェニルチオ−C_1〜C_4−アルキル、
    ベンジルオキシ−C_1〜C_4−アルキル、C_1〜
    C_4−アルコキシカルボニル−C_1〜C_4−アル
    キル、C_1〜C_4−アルキルアミノカルボニル−C
    _1〜C_4−アルキル、ベンシルチオ−C_1〜C_
    4−アルキル、ベンジル、フェネチル、ピラゾリル−C
    _1〜C_4−アルキル、イミダゾリル−C_1〜C_
    4−アルキル及びトリアゾリル−C_1〜C_4−アル
    キルからの基を表わすか、またはアンモニウム、 C_1〜C_4−アルキルアンモニウム、ナトリウム、
    カリウムもしくはカルシウムの1当量を表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表し、 ここに、 R^1^0は水素またはC_1〜C_4−アルキルを表
    わし、 R^1^3は水素、C_1〜C_4−アルキル、フェニ
    ル、フリル、チエニルまたはピリジルを表わし、R^1
    ^4はC_1〜C_4−アルキルまたはC_1〜C_4
    −アルコキシを表わし、 R^1^5はC_1〜C_4−アルコキシを表わし、そ
    して Qは酸素または硫黄を表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし
    、こ こに、 R^1^0は水素またはC_1〜C_4−アルキルを表
    わし、 R^1^6は水素またはC_1〜C_4−アルキルを表
    わし、そして R^1^7はC_1〜C_4−アルキルまたはフェニル
    を表わすか、 R^7は基−S(O)_n−Yを表わし、ここに、nは
    0、1または2を表わし、そして YはC_1〜C_6−アルコキシ、C_2〜C_6−ア
    ルケノキシ、C_2〜C_6−アルキノキシ、ベンジル
    オキシ、フェノキシ、またはアミノ、C_1〜C_6−
    アルキルアミノ、C_2〜C_6−アルケニルアミノ、
    C_2〜C_6−アルキニルアミノ、ベンジルアミノ、
    フェニルアミノ、ジ−(C_1〜C_4−アルキル)−
    アミノ、シアナミノ、グアニジノ、ヒドロキシアミノ、
    C_1〜C_6−アルコキシアミノ、ヒドラジノ、C_
    1〜C_4−アルキルヒドラジノ、フェニルヒドラジノ
    、 C_1〜C_4−アルキルカルボニルヒドラジノ、C_
    1〜C_4−アルコキシカルボニルヒドラジノ、C_1
    〜C_4−アルキルスルホニルヒドラジノもしくはフェ
    ニルスルホニルヒドラジノを表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし
    、ここに、 2つの基R^1^8は、独立に、C_1〜C_4−アル
    キルを表わすか、または一緒になって、C_2〜C_3
    −アルカンジイルを表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし
    、ここ に、 R^1^9は水素、C_1〜C_4−アルキル、C_1
    〜C_4−アルコキシまたはC_1〜C_4−アルキル
    アミノを表わし、 R^2^0は水素、C_1〜C_4−アルキル、フェニ
    ル、ヒドロキシル、随時C_1〜C_4−アルコキシカ
    ルボニルで置換されていてもよいC_1〜C_4−アル
    コキシ;またはアリルオキシ、プロパルギルオキシもし
    くはベンジルオキシを表わし、AはC_1〜C_4−ア
    ルカンジイルを表わし、そして p及びqは0または1を表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし
    、ここに、 R^2^1はC_1〜C_4−アルキルまたはC_1〜
    C_4−アルコキシを表わし、そして R^2^2はC_1〜C_4−アルコキシを表わすか、
    或いは R^7は基−(CH_2)_m−Zまたは基▲数式、化
    学式、表等があります▼ を表わし、ここに、 mは0、1または2を表わし、 Zは随時フッ素、塩素、臭素及び/または C_1〜C_4−アルキルで置換されていてもよい一連
    のアリル、テトラヒドロフリル、オキソテトラヒドロフ
    リル、チエニル、テトラヒドロチエニル、パーヒドロピ
    ラニル、オキサゾリル、チアゾリル、チアジアゾリル、
    ジオキソラニル、パーヒドロピロリル、オキソパーヒド
    ロピロリル、ピリジニル、ピリミジニル及びピリダジニ
    ルからの複素環式基を表わす、そして R^1^0は水素またはC_1〜C_4−アルキルを表
    わす、 の置換されたフェノキシピリジン類。 3、特許請求の範囲第1項記載の式( I )、但し、R
    ^1は水素、フッ素、塩素、シアノ、またはトリフルオ
    ロメチルを表わし、 R^2は水素、フッ素、または塩素を表わし、R^3は
    フッ素、塩素、シアノ、メチル、エチル、n−もしくは
    イソプロピル、n−、イソ−、s−もしくはt−ブチル
    、メトキシ、メチルチオ、トリフルオロメチル、トリフ
    ルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、トリフルオ
    ロメチルスルフィニルまたはトリフルオロメチルスルホ
    ニルを表わし、 R^4は水素、フッ素、または塩素を表わし、そして R^5は水素、フッ素または塩素を表わし、条件として
    、置換基R^1〜R^5の少なくとも3個は水素と異な
    るものであり、そして基R^1〜R^5の少なくとも1
    個は水素、フッ素及び塩素と異なるものであるものとし
    、更に、 R^5は水素、シアノ、ニトロまたは塩素を表わし、そ
    して R^7は水素、塩素、シアノ、ニトロ、ヒドロキシル、
    ジ−(C_1〜C_2−アルコキシ)−(チオ)ホスホ
    リルオキシまたはまたは−O^■M^■を表わし、ここ
    に M^■はアンモニウムイオン、C_1〜C_3−アルキ
    ルアンモニウムイオン、ナトリウムイオンまたはカリウ
    ムイオンを表わすか、 R^7は随時フッ素、塩素、シアノ、カルボキシル、カ
    ルバモイル、アセチル、フェニル、アミノ、C_1〜C
    _3−アルキルアミノ、ジ−(C_1〜C_3−アルキ
    ル)−アミノ、ヒドロキシル、C_1〜C_3−アルコ
    キシ、C_1〜C_3−アルキルチオ、C_1〜C_3
    −アルコキシカルボニル及び/またはC_1〜C_3−
    アルコキシカルボニル−C_1〜C_3−アルコキシで
    置換されていてもよいC_1〜C_3−アルキル;随時
    フッ素、塩素、シアノ、ジ−(C_1〜C_3−アルキ
    ル)−アミノ、ヒドロキシル、C_1〜C_3−アルキ
    ルカルボニル、C_1〜C_3−アルコキシ及び/また
    はC_1〜C_3−アルキルチオで置換されていてもよ
    いC_1〜C_3−アルコキシ;C_3〜C_4−アル
    ケニルオキシ、C_3〜C_4−アルキニルオキシ;随
    時フッ素、塩素、シアノ、カルボキシル、カルバモイル
    、C_1〜C_3−アルコキシ、C_1〜C_3−アル
    キルチオまたはC_1〜C_3−アルコキシカルボニル
    で置換されていてもよいC_1〜C_3−アルキルチオ
    ;或いは各々の場合に随時フッ素及び/または塩素で置
    換されていてもよいC_1〜C_3−アルキルスルフィ
    ニルもしくはC_1〜C_3−アルキルスルホニル、ヒ
    ドラジノ、フェニルヒドラジノまたはメトキシカルボニ
    ルヒドラジノを表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし
    、ここに、 R^8は水素またはC_1〜C_3−アルキルを表わし
    、そして R^9は水素、ヒドロキシル、アミノ、ジメチルアミノ
    、フェニルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ
    、メチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ
    、シアノ、C_1〜C_3−アルキル、C_1〜C_3
    −アルコキシ、C_1〜C_3−アルコキシカルボニル
    、C_1〜C_3−アルキルカルボニル、ベンゾイル、
    フェノキシカルボニル、C_1〜C_3−アルキルアミ
    ノカルボニル、フェニルアミノカルボニル、C_1〜C
    _3−アルコキシカルボニル−C_1〜C_2−アルキ
    ル、ベンジル、C_1〜C_3−アルキルスルホニル、
    フェニルスルホニル、または随時フッ素、塩素、臭素、
    シアノ、ニトロ、メチル、メトキシ、トリフルオロメチ
    ル及び/もしくはトリフルオロメトキシで置換されてい
    てもよいフェニルを表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし
    、ここに、 R^1^0は水素またはメチルを表わし、そしてR^1
    ^1は塩素、ヒドロキシル、アミノ、C_1〜C_3−
    アルキルアミノ、シアナミノ、ジ−(C_1〜C_3−
    アルキル)−アミノ、C_1〜C_3−アルキルスルホ
    ニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、ヒドロキシア
    ミノ、C_1〜C_3−アルコキシアミノ、ヒドラジノ
    、C_1〜C_3−アルキルスルホニルヒドラジノ、フ
    ェニルスルホニルヒドラジノまたは基−Q−R^_1^
    2を表わし、ここに、 Qは酸素または硫黄を表わし、そして R^1^2はC_1〜C_4−アルキル、C_1〜C_
    2−アルコキシエチル、C_1〜C_2−アルキルチオ
    エチル、トリメチルシリルメチル、ベンジルオキシエチ
    ル、C_1〜C_3−アルコキシカルボニル−C_1〜
    C_2−アルキル、ベンジルチオエチル、ベンジル、ピ
    ラゾール−C_1〜C_2−アルキル、またはアンモニ
    ウムイオン、C_1〜C_3−アルキルアンモニウムイ
    オン、ナトリウム当量もしくはカリウム当量、またはC
    _1〜C_2−アルキルアミノカルボニル−C_1〜C
    _2−アルキルを表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表し、
    ここに、 R^1^0は水素またはメチルを表わし、 R^1^3は水素、メチル、フェニル、フリル、チエニ
    ルまたはピリジルを表わし、 R^1^4はC_1〜C_2−アルコキシを表わし、R
    ^1^5はC_1〜C_2−アルコキシを表わし、そし
    て Qは酸素または硫黄を表わすか、 R^7は基−S(O)_n−Yを表わし、ここに、nは
    0、1または2を表わし、そして YはC_1〜C_4−アルキル、C_1〜C_2−アル
    コキシカルボニル−C_1〜C_2−アルキルまたはベ
    ンジルを表わすか、 R^7は基−(CH_2)_m−Zまたは基▲数式、化
    学式、表等があります▼を表わし、ここに mは0、1または2を表わし、 Zは随時塩素及び/またはメチルで置換されていてもよ
    い一連のフリル、テトラヒドロフリル、チエニル、パー
    ヒドロピラニル、オキサゾリル、チアゾリル及びジオキ
    ソラニルからの複素環式基を表わし、そして R^1^0は水素またはメチルを表わすか、或いはR^
    7は▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、ここ
    に R^1^9は水素、メチルまたはエチルを表わし、そし
    て R^2^0は水素、ヒドロキシル、メチル、エチルまた
    はC_1〜C_2−アルコキシカルボニル−C_1〜C
    _2−アルキルを表わす、 の置換されたフェノキシピリジン類。 4、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、R^1は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロまたは
    随時ハロゲンで置換されていてもよい一連のアルキル、
    アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル及び
    アルキルスルホニルからの基を表わし、 R^2は水素、ハロゲンまたはアルキルを表わし、 R^3は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロまたは随時ハ
    ロゲンで置換されていてもよい一連のアルキル、アルコ
    キシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニル及びアルキ
    ルスルホニルからの基を表わし、 R^4は水素またはハロゲンを表わし、 R^5は水素またはハロゲンを表わし、 条件として、置換基R^1〜R^5の少なくとも3個は
    水素と異なるものであり、そして基R^1〜R^5の少
    なくとも1個は水素及びハロゲンと異なるものであるも
    のとし、更に、 R^6は水素、シアノ、ニトロ、ハロゲン、カルボキシ
    ル、カルバモイルまたはアルコキシカルボニルを表わし
    、そして R^7は水素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、ホルミル、
    ヒドロキシル、トリアルキルシリルオキシ、アルキルア
    ミノカルボニルオキシ、ジアルコキシ(チオ)ホスホリ
    ルオキシまたは−O^■M^■を表わし、ここに M^■はアンモニウムイオン、アルキルアンモニウムイ
    オン、アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオ
    ン当量を表わすか、 R^7は随時ハロゲン、シアノ、ニトロ、カルボキシル
    、カルバモイル、アミノ、フェニル、アルキルカルボニ
    ル、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ヒドロキシル
    、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルアミノカルボニ
    ル、アルコキシカルボニル及び/またはアルコキシカル
    ボニルアルコキシで置換されていてもよい一連のアルキ
    ル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、アルケニル
    オキシ、アルキニルオキシ、アルキルチオ、アルケニル
    チオ、アルキニルチオ、アルキルスルフィニル及びアル
    キルスルホニルからの基を表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし
    、ここに、 R^8は水素またはアルキルを表わし、そしてR^9は
    水素、ヒドロキシル、アミノ、アルキルアミノ、ジアル
    キルアミノ、アリールアミノ、アルキルカルボニルアミ
    ノ、アリールカルボニルアミノ、アルキルスルホニルア
    ミノ、随時アリール部分がアルキルで置換されていても
    よいアリールスルホニルアミノ、シアノ、アルキル、ア
    ルコキシ、ハロゲノアルキル、アルコキシカルボニル、
    アルキルカルボニル、アリールカルボニル、アリールオ
    キシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、アリール
    アミノカルボニル、アルコキシカルボニルアルキル、ア
    ラルキル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、
    または随時ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、アル
    コキシ、ハロゲノアルキル及び/もしくはハロゲノアル
    コキシで置換されていてもよいアリールを表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし
    、ここに、 R^1^0は水素またはアルキルを表わし、そしてR^
    1^1はハロゲン、ヒドロキシル、アミノ、アルキルア
    ミノ、シアナミノ、ジアルキルアミノ、アルキルスルホ
    ニルアミノ、アリールスルホニルアミノ、ヒドロキシア
    ミノ、アルコキシアミノ、ヒドラジノ、アルキルスルホ
    ニルヒドラジノ、アリールスルホニルヒトラジノまたは
    基−Q−R^1^2を表わし、ここに、Qは酸素または
    硫黄を表わし、そして R^1^2は随時ハロゲンで置換されていてもよい一連
    のアルキル、アルコキシアルキル、アルキルチオアルキ
    ル、アルキルスルフィニルアルキル、アルキルスルホニ
    ルアルキル、アリールオキシアルキル、トリアルキルシ
    リルアルキル、アリールチオアルキル、アラルコキシア
    ルキル、アルコキシカルボニルアルキル、アルキルアミ
    ノカルボニルアルキル、アラルキルチオアルキル、アラ
    ルキル及びアゾリルアルキルからの基を表わすか、また
    はアンモニウム、アルキルアンモニウム、アルカリ金属
    もしくはアルカリ土類金属の1当量を表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし
    、 ここに、 R^1^0は水素またはアルキルを表わし、R^1^3
    は水素、アルキル、アリール、フリル、チエニルまたは
    ピリジルを表わし、 R^1^4はアルキルまたはアルコキシを表わし、R^
    1^5はアルコキシを表わし、そして Qは酸素または硫黄を表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし
    、こ こに、 R^1^0は水素またはアルキルを表わし、R^1^6
    は水素またはアルキルを表わし、そしてR^1^7はア
    ルキルまたはアリールを表わすか、R^7は基−S(O
    )_n−Yを表わし、ここに、nは0、1または2を表
    わし、 Yはアルコキシ、アルケノキシ、アルキノキシ、アラル
    コキシ、アリールオキシまたはアミノ、アルキルアミノ
    、アルケニルアミノ、アルキニルアミノ、アラルキルア
    ミノ、アリールアミノ、ジアルキルアミノ、シアナミノ
    、グアニジノ、ヒドロキシアミノ、アルコキシアミノ、
    ヒドラジノ、アルキルヒドラジノ、アリールヒドラジノ
    、アルキルカルボニルヒドラジノ、アルコキシカルボニ
    ルヒドラジノ、アルキルスルホニルヒドラジノもしくは
    アリールスルホニルヒドラジノを表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし
    、ここに、 2つの基R^1^8は、独立に、アルキルを表わすか、
    または一緒になって、アルカンジイル(「アルキレン」
    )を表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし
    、ここ に、 Aはアルカンジイル(アルキレン)を表わし、p及びq
    は0または1を表わし、 R^1^9は水素、アルキル、アルコキシまたはアルキ
    ルアミノを表わし、そして R^2^0は水素、アルキル、アリール、ヒドロキシル
    、随時アルコキシカルボニルで置換されていてもよいア
    ルコキシ、またはアルケニルオキシ、アルキニルオキシ
    もしくはアラルコキシを表わすか、 R^7は基▲数式、化学式、表等があります▼を表わし
    、ここに、 R^2^1はアルキルまたはアルコキシを表わし、そし
    て R^2^2はアルコキシを表わすか、或いはR^7は基
    −(CH_2)_m−Zまたは基▲数式、化学式、表等
    があります▼ を表わし、ここに、 mは0、1または2を表わし、 R^1^0は水素またはアルキルを表わし、そしてZは
    随時ハロゲン及び/またはアルキルで置換されていても
    よい一連のフリル、テトラヒドロフリル、オキソテトラ
    ヒドロフリル、チエニル、テトラヒドロチエニル、パー
    ヒドロピラニル、オキサゾリル、チアゾリル、チアジア
    ゾリル、ジオキソラニル、パーヒドロピロリル、オキソ
    パーヒドロピロリル、ピリジニル、ピリミジニル及びピ
    リダジニルからの複素環式基を表わす、 の置換されたフェノキシピリジン類を製造する方法であ
    って、 (a)式(II) ▲数式、化学式、表等があります▼(II) 式中、R^1、R^2、R^3、R^4及びR^5は上
    記の意味を有する、 のフェノール類または式(II)のフェノール類のアルカ
    リ金属塩を、随時酸受容体及び希釈剤の存在下において
    、式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 式中、R^6及びR^7は上記の意味を有し、そしてX
    はハロゲンを表わす、 のハロゲノピリジン類と反応させるか、又は(b)R^
    7がヒドロキシを表わし、そしてR^1〜R^6が上記
    の意味を有する場合、式( I )、但し、R^7はアミ
    ノを表わし、そして基R^1〜R^6は上記の意味を有
    する、の化合物を水性鉱酸の存在下においてアルカリ金
    属亜硝塩と反応させるか、又は(c)R^7がカルボキ
    シアルコキシ(−O−CHR^1^0−COOH)を表
    わし、そして基R^1〜R^6が上記の意味を有する場
    合、式( I )、但し、R^7はアルコキシカルボニル
    アルコキシを表わし、そして基R^1〜R^6は上記の
    意味を有する、の化合物を水の存在下において且つ、随
    時有機溶媒の存在下において、アルカリ金属水酸化物と
    反応させ、次に随時蒸発させた後、鉱酸で酸性にするか
    、又は (d)R^7がクロロカルボニルアルコキシを表わし、
    そして基R^1〜R^6が上記の意味を有する場合、式
    ( I )し、R^7はカルボキシアルコキシを表わし、
    そして基R^1〜R^6は上記の意味を有する、の化合
    物を、随時希釈剤の存在下において、ハロゲン化剤と反
    応させるか、又は (e)R^7が基▲数式、化学式、表等があります▼、 基▲数式、化学式、表等があります▼、基▲数式、化学
    式、表等があります▼ または▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^1^0、R^1^1、R^1^3、R^1^
    4、R^1^5、R^1^6、R^1^7、Z、Q及び
    mは上記の意味を有する、を表わし、更に基R^1〜R
    ^6が上記の意味を有する場合、式( I )、但し、R
    ^7はクロロカルボニルアルコキシを表わし、そして基
    R^1〜R^6は上記の意味を有し、この場合に、該ク
    ロロカルボニルアルコキシは基 ▲数式、化学式、表等があります▼ を表わす、の化合物を、随時酸受容体及び希釈剤の存在
    下において、式H−R^1^1、 式▲数式、化学式、表等があります▼、式HO−(CH
    _2)_m−Zまたは式▲数式、化学式、表等がありま
    す▼ 式中、R^1^1、R^1^3、R^1^4、R^1^
    5、R^1^6、R^1^7、Z、Q及びmは上記の意
    味を有する、 の化合物と反応させるか、又は (f)R^7が基 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^8は上記の意味を有し、そして R^9はアルコキシカルボニル、アルキルカルボニル、
    アリールカルボニル、アリールオキシカルボニル、アル
    キルアミノカルボニル、アリールアミノカルボニル、ア
    ルキルスルホニルまたはアリールスルホニルを表わす、 を表わし、そして基R^1〜R^6が上記の意味を有す
    る場合、式( I )、但し、R^7は式−NH−R^8
    の基を表わし、ここに、R^9は上記の意味を有する、
    そして基R^1〜R^6は上記の意味を有する、の化合
    物を、随時酸受容体及び希釈剤の存在下において、アル
    コキシカルボニル、アルキルカルボニル、アリールカル
    ボニル、アリールオキシカルボニル、アルキルスルホニ
    ルもしくはアリールスルホニルハライド(特にクロライ
    ド)または対応する無水物またはアルキルもしくはアリ
    ールイソシアネートと反応させるか、又は (g)R^7がアルキルスルフィニルまたはアルキルス
    ルホニルを表わし、そして基R^1〜R^6が上記の意
    味を有する場合、式( I )、但し、R^7はアルキル
    チオを表わし、そして基R^1〜R^6は上記の意味を
    有する、の化合物を、随時触媒及び希釈剤の存在下にお
    いて、酸化剤と反応させるか、又は(h)R^7がアル
    コキシを表わし、そして基R^1〜R^6が上記の意味
    を有する場合、式( I )、但し、R^7はハロゲンを
    表わし、そして基R^1〜R^6は上記の意味を有する
    、の化合物をアルカノール及び/またはアルカノールの
    アルカリ金属塩と反応させるか、又は (i)R^7がハロゲンを表わし、そして基R^1〜R
    ^6が上記の意味を有する場合、式( I )、但し、R
    ^7はアミノを表わし、そして基R^1〜R^6は上記
    の意味を有する、の化合物を酸の存在下において、随時
    触媒及び希釈剤の存在下において、アルカリ金属亜硝酸
    塩及び水素または金属ハライドもしくは金属ハライド錯
    体と反応させるか、或いは (j)R^7が基 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^1^0水素またはアルキルを表わし、そして R^1^2はトリアルキルシリルアルキルを表わす、を
    表わし、そして基R^1〜R^6が上記の意味を有する
    場合、式( I )、但し、R^7は基 ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中、R^1^0は上記の意味を有する、 を表わす、の化合物を、随時酸受容体及び希釈剤の存在
    下において、トリアルキルシリルアルキルハライドと反
    応させる ことを特徴とする方法。 5、少なくとも1種の特許請求の範囲第1〜4項のいず
    れかに記載の式( I )の置換されたフェノキシピリジ
    ン類を含有することを特徴とする除草剤及び植物生長調
    節剤。 6、特許請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載の式(
    I )の置換されたフェノキシピリジン類を雑草及び/
    またはその生育場所に作用させることを特徴とする雑草
    の抑制方法。 7、雑草の抑制に対して及び/または植物生長調節とし
    て特許請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載の式(
    I )の置換されたフェノキシピリジン類の使用。 8、特許請求の範囲第1〜4項のいずれかに記載の式(
    I )の置換されたフェノキシピリジン類を伸展剤及び
    /または表面活性物質と混合することを特徴とする除草
    剤及び/または植物生長調節剤の製造方法。 9、式(IIa) ▲数式、化学式、表等があります▼(IIa) 式中、R^1、R^2、R^4及びR^5は相互に独立
    して、水素、フッ素または塩素を表わし、これらの置換
    基の少なくとも1個が水素を表わす場合、少なくとも他
    の置換基はフッ素を表わし、そしてまたこれらの置換基
    の少なくとも第3はフッ素または塩素を表わす、 のフェノール類。 10、式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) 式中、R^1、R^2、R^4及びR^5は相互に独立
    して、水素、フッ素または塩素を表わし、これらの置換
    基の少なくとも1個が水素を表わす場合、少なくとも他
    の置換基はフッ素を表わし、そしてまたこれらの置換基
    の少なくとも第3はフッ素または塩素を表わし、そして Xはフッ素または塩素を表わす、 のハロゲノベンゼン誘導体を、随時相間移動触媒及び希
    釈剤の存在下において、アルカリ金属水酸化物及び/ま
    たはアルカリ土類金属水酸化物と反応させることを特徴
    とする式(IIa) ▲数式、化学式、表等があります▼(IIa) 式中、R^1、R^2、R^4及びR^5は上記の意味
    を有する、 のフェノール類の製造方法。
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JP2020506970A (ja) * 2017-02-07 2020-03-05 オブリーク セラピューティクス アーベー ヒドロカルビルスルホニル置換ピリジンおよび癌の治療におけるそれらの使用

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