JPS63158809A - Method of hardening resistance element for variable resistor - Google Patents

Method of hardening resistance element for variable resistor

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JPS63158809A
JPS63158809A JP61305323A JP30532386A JPS63158809A JP S63158809 A JPS63158809 A JP S63158809A JP 61305323 A JP61305323 A JP 61305323A JP 30532386 A JP30532386 A JP 30532386A JP S63158809 A JPS63158809 A JP S63158809A
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JP
Japan
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heating tank
heating
curing
temperature
resistor layer
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Application number
JP61305323A
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Japanese (ja)
Inventor
二階堂 隆示
泉田 壽
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Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

[産業上の利用分野1 本発明は、可変抵抗器の抵抗素子を加熱してその抵抗体
層を硬化するための方法に関するものである。
[Industrial Application Field 1] The present invention relates to a method for heating a resistance element of a variable resistor to harden its resistor layer.

【従来の技術1 可変抵抗器における抵抗素子は、例えば、フェノール樹
脂積層板からなる基板の表面に抵抗体層を形成してなる
もので、この抵抗体層は、カーボンブラックやグラファ
イト等の炭素粉末と、フェノール樹脂やエポキシ樹脂等
からなるバインダ樹脂とを溶剤中に分散させてなる抵抗
インクを印刷等の手段でバターニングすることによって
形成し、然る後に、これを乾燥させた上で、抵抗体層を
硬化するために基板が加熱される。 而して、この抵抗体層の硬化を行うためには、ワークを
搬送するだめのコンベアを設け、該コンベアの搬送路の
途中にトンネル形の炉を設け、該炉内を、例えば加熱ヒ
ータ、近赤外線ランプ等の加熱手段を用いて加熱してお
き、基板を該炉内を通過させて、このワークを加熱する
ことによって、抵抗体層の硬化を行うようにしたものが
従来から知られている。 [発明が解決しようとする問題点1 前述した従来技術の方式にあっては、炉内にコンベアを
挿通させるようにしているので、該炉の両端はコンベア
によって搬送されるワークの入口と出口になるために、
開口させておかなければならない。従って、これら両端
開口部の熱が外部に放出されることになり、また入口部
分では冷えた状態のコンベアが進入すること等から、炉
内の温度分布は均一ではなくなり、中央部分が高く、両
端部が低い状態となる。さらに、炉の中央部分において
も、熱源に近い所と遠い所とでは温度差が生じることも
あって、炉内の温度管理を厳格に行うことが困難である
。而して、炉内の温度分布が均一に保持することができ
ないと、抵抗体層の硬化度が不均一となって、硬化後に
おける抵抗値にばらつきが生じる等、一定の品質の抵抗
素子を得ることができない等の不都合が生じることにな
る。このために、炉内に送風機等を設置して内部の空気
を攪拌するようにしたものも知られてはいるが、このよ
うな構成を採用しても、必ずしも炉内の温度分布を厳格
に均一な状態に保持することができなかった。また、ベ
ルトコンベアの進行方向での温度分布が均一でなく、炉
の両端は温度が低い山型の分布であるために、抵抗素子
を十分硬化させるための加熱時間がlθ〜20分程度と
長くなり、炉の全長もこれに応じて長くなり、炉の設置
面積が広く必要となる問題もあった。 本発明は叙上の点に鑑みてなされたものであって、ワー
クを均一な温度条件下で加熱硬化させることができるよ
うにした可変抵抗塁用抵抗素子の硬化方法を提供するこ
とにある。 【問題点を解決するための手段】 前述した目的を達成するために、本発明は、抵抗体層を
形成した基板からなるワークを加熱することにより、該
抵抗体層を硬化するための方法であって、前記ワークを
前記抵抗体層の硬化温度以下の低温状態に保持した蒸気
相加熱槽を通過させ1次に少なくとも前記抵抗体層の硬
化温度の高温の蒸気相加熱槽に移行させることにより、
前記抵抗層の加熱硬化を行うようにしたことをその特徴
とするものである。
[Prior art 1] A resistance element in a variable resistor is made by forming a resistor layer on the surface of a substrate made of, for example, a phenol resin laminate, and this resistor layer is made of carbon powder such as carbon black or graphite. and a binder resin such as phenol resin or epoxy resin are dispersed in a solvent to form a resistive ink by patterning by printing or other means. The substrate is heated to cure the body layer. In order to harden this resistor layer, a conveyor is provided to convey the workpiece, a tunnel-shaped furnace is provided in the middle of the conveyance path of the conveyor, and the interior of the furnace is heated, for example, by a heater, etc. Conventionally, it has been known to heat the resistor layer using a heating means such as a near-infrared lamp, pass the substrate through the furnace, and heat the work to harden the resistor layer. There is. [Problem to be Solved by the Invention 1] In the prior art system described above, the conveyor is inserted into the furnace, so both ends of the furnace are connected to the inlet and outlet of the workpieces transported by the conveyor. In order to become
Must be left open. Therefore, the heat from these openings at both ends is released to the outside, and the cold conveyor enters the entrance, so the temperature distribution inside the furnace is not uniform, with the center being high and the temperature being high at both ends. part is in a low state. Furthermore, even in the central part of the furnace, there may be a temperature difference between a place close to the heat source and a place far from the heat source, making it difficult to strictly control the temperature inside the furnace. If the temperature distribution in the furnace cannot be maintained uniformly, the degree of hardening of the resistor layer will be uneven, resulting in variations in the resistance value after hardening, making it difficult to maintain a constant quality resistor element. This may cause inconveniences such as not being able to obtain the required information. For this purpose, some furnaces are known in which a blower or the like is installed inside the furnace to agitate the air inside, but even if such a configuration is adopted, it is not always possible to strictly control the temperature distribution inside the furnace. It was not possible to maintain it in a uniform state. In addition, the temperature distribution in the direction of movement of the belt conveyor is not uniform, and the temperature at both ends of the furnace is low in the shape of a mountain, so the heating time to sufficiently harden the resistance element is long, at about 20 minutes. Therefore, the overall length of the furnace becomes correspondingly longer, and there is also the problem that the installation area of the furnace is required to be large. The present invention has been made in view of the above points, and it is an object of the present invention to provide a method for curing a resistance element for a variable resistance base, which allows a workpiece to be heat-cured under uniform temperature conditions. [Means for Solving the Problems] In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a method for curing a resistor layer by heating a workpiece consisting of a substrate on which the resistor layer is formed. The workpiece is first passed through a vapor phase heating tank maintained at a low temperature below the curing temperature of the resistor layer, and then transferred to a vapor phase heating tank at a high temperature at least as high as the curing temperature of the resistor layer. ,
The feature is that the resistance layer is cured by heating.

【実施例】【Example】

以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
。 まず、第1図には、本発明の方法を実施するための蒸気
相加熱槽の構成を示す。 図中において、1は上端を開放した加熱槽を示し、該加
熱槽l内には、蒸気相を形成するための液体としてフッ
化炭素液2が貯留されている。ここで、フッ化炭素とし
ては後述の抵抗インクと反応したり、それを溶解させた
りすることがないものでなければならず、このために不
活性フッ化炭素液が使用される。そして、このフッ化炭
素液2を加熱するために、加熱槽lの下部にはヒータ3
が設けられており、とのヒータ3によってフッ化炭素液
2を蒸気化させるように構成され、また、加熱槽1の上
部にはフッ化炭素蒸気を凝縮させて、それを槽内に回収
するための冷却コイル4が装着されている。 而して、本発明においては、第2図に示した如く、前述
の構成を有する蒸気相加熱槽lを2個連設し、第1の蒸
気相加熱槽1aには、 120〜170℃程度の比較的
沸点の低いフッ化炭素液を貯留しておき、第2の蒸気相
加熱槽1bには200〜240℃というように高い沸点
のフッ化炭素液を貯留しておくようにする。そして、加
熱硬化させるワークlOはコンベア11に搬送されて、
順次第1.゛第2の蒸気相加熱槽1a、 lb内を通過
して搬送される間にその加熱による硬化が行われるよう
になっている。 前述した各加熱槽1a、 lbのそれぞれにおいて、ワ
ーク10を一定温度状態で加熱するために、各加熱槽1
a、 lbには飽和蒸気相が形成されており、コンベア
11はこの飽和蒸気相形成部を通過するようになってい
る。 本発明の方法を実施するための装置は前述のような構成
を有するが、次にこの装置を用いてワークlOを硬化す
る方法について説明する。 ここで、ワーク10は、基板10aの表面に抵抗体層1
0bを形成してなるもので、基板10aは、例えばフェ
ノール樹脂やエポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂やセラミッ
ク等から構成される。一方、抵抗体層tobは、フェノ
ール樹脂、クレゾール樹脂、メラミン樹脂、熱硬化アク
リル樹脂、熱硬化ポリエステル樹脂及びこれらを2種類
以上組み合わせて変性した樹脂からなる高誘電率のバイ
ンダ樹脂と、カーボンブラック、グラファイト粉、金属
粉等の導電体粉末とを溶剤に溶解してなる抵抗インクを
用い、この抵抗インクをスクリーン印刷等の手段によっ
て基板10aに円弧状や直線状にバターニングすること
により形成される。 而して、前述のように基板10a上に抵抗体層10bを
バターニングした状態のワーク10は、コンベア11に
よって搬送されて、例えば120℃程度の温度条件下で
乾燥する乾燥工程を経て硬化工程に向けて搬送される。 一方、各加熱槽1a、 lbにはヒータ3によりフッ化
炭素液2をその沸点に維持するように加熱することによ
って、それらの内部・ に飽和蒸気相を形成する。この
ように飽和蒸気相を形成することによって、槽1a及び
lbの内部はフッ化炭素の沸点における均一な温度状態
に維持されることになる。 そこで、ワークlOがコンベア11によって搬送されて
、第1の加熱槽la内に導かれると、該ワーク10の予
熱が行われる。この予熱は、ワークlOを急激に硬化温
度まで上昇させると、基板10aが反ったり、また抵抗
インクの乾燥後に残留している溶剤が発泡して完全に抜
は切らない状態で硬化が開始し、抵抗体層10bの表面
に凹凸が発生する面欠陥を生じたりするのを防止するこ
とができると共に、急激な硬化を行うことによって、素
子の内部に応力歪みが発生し、この結果製品が長期間多
湿状態で使用されたときに、この応力歪みが緩和される
過程で抵抗値に変化が生じるといった不都合を防止する
ことができるようになる。このように、第1の加熱槽1
aにおいて予熱される間は、その抵抗体層10bの硬化
が緩やかに行われないように保持する必要があり、従っ
て、この第1の加熱槽1aにおいては、抵抗インクにお
けるバインダ樹脂の硬化温度以下の低温状態、即ち12
0〜170℃で、好ましくは165°C程度の沸点を有
するフッ化炭素液を使用する。 前述のようにして第1の加熱槽1aにおいて予熱された
ワークIOはコンベア11に搬送されて、次に、第2の
加熱槽1bに導かれるが、この第2の加熱槽lb内のフ
ッ化炭素液として、前述の第1の加熱槽1aより高温の
沸点、即ち、 200〜250℃、好ましくは215℃
程度というように抵抗インクにおけるバインダ樹脂の硬
化温度以上の高温状態に保持することができるものを使
用する。これによって、ワークIOかこの第2の加熱槽
1bに導入されたときに、抵抗体層lObは充分に加熱
硬化されることになる。而して、第2の加熱槽lb内に
はフッ化炭素の飽和蒸気相が形成されているので、ワー
ク10が位置する部位は一定の温度状態に保たれており
、このために、抵抗体層10bの加熱は均一に行われる
ことになり、その全体が均質に硬化することになり、抵
抗値のばらつき等の不都合がない一定で良好な品質の抵
抗素子を形成することができる。 ここで、前述した第1の加熱槽1aにおいては、ワーク
10の全体を予熱すると共に、該ワーク10に抵抗体層
10bを形成するために印刷した抵抗インク中から可及
的に溶剤を放出し、かつ緩やかな硬化を進めるようにす
るもので、このためにワーク10の該第1の加熱槽la
内での滞留時間は、後述する第2の加熱槽1bにおける
より短くて良い。また、第2の加熱槽1bにおいては、
予め第1の加熱槽1aで予熱したワークIOをさらに高
温で加熱して抵抗体層10bの充分な硬化を行わせるた
めに必要な時間だけ滞留させる。従って、可変抵抗姦用
の抵抗素子を形成するには、第1の加熱槽1aにおける
滞留時間を3分程度とし、第2の加熱槽1bにおいては
約3〜5分滞留させるようにすれば良い。 このために、全体としての加熱時間が短くてすむし、装
置の設置面積も小さくてよくなる。そして、第1の加熱
槽1aにおいて溶剤の放出が完全には行われず、このた
めに第2の加熱槽1bにおいて加熱したときに溶剤の発
泡が生じても、表面張力の小さいフッ化炭素雰囲気下で
加熱されるようになっているので、この発泡により生じ
る四部にフッ化炭素が付着してその表面を平滑化するこ
とができると共に、フッ化炭素は潤滑性のある部材であ
るために、抵抗素子として使用する場合において、抵抗
体層10b上に摺動子を摺動させる場合において、該摺
動子の滑りが良好となる。 しかも、第1.第2の加熱層1a、 lb内は共に蒸気
相となっているので、その内部には塵芥等の異物が混入
するおそれがなく、従って、硬化作業を無塵環境下で行
うことができるようになり、抵抗素子に塵芥が固着する
ことが少なく、製品となる可変抵抗器の操作時に3ける
ノイズレベルを大幅に低下゛することができるようにな
る。 【発明の効果1 以上詳述したように、本発明は、2個の蒸気相加熱槽を
使用し、第1の加熱槽においては、ワークを予熱し、第
2の加熱槽においては抵抗体層の加熱硬化を行わせるよ
うにしたので、ワークを均一な温度条件下で硬化させる
ことができ、抵抗素子としての品質の向上及び歩留の向
上を図ることができると共に、ワークを徐々に昇温させ
るようにしているので、抵抗体層を平滑に形成すること
ができるようになって、摺動子の摺動性が良好となり、
また基板に応力歪み等が発生せず、素子の長寿命化を図
ることができるようになる等の諸効果を奏する。
Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. First, FIG. 1 shows the configuration of a vapor phase heating tank for carrying out the method of the present invention. In the figure, reference numeral 1 indicates a heating tank with an open upper end, and a fluorocarbon liquid 2 is stored in the heating tank 1 as a liquid for forming a vapor phase. Here, the fluorocarbon must not react with or dissolve the resistance ink described later, and for this purpose, an inert fluorocarbon liquid is used. In order to heat this fluorocarbon liquid 2, a heater 3 is installed at the bottom of the heating tank l.
A heater 3 is provided to vaporize the fluorocarbon liquid 2, and an upper part of the heating tank 1 is configured to condense the fluorocarbon vapor and collect it into the tank. A cooling coil 4 is installed for this purpose. Accordingly, in the present invention, as shown in FIG. 2, two vapor phase heating tanks 1 having the above-mentioned configuration are installed in series, and the first vapor phase heating tank 1a has a temperature of about 120 to 170°C. A fluorocarbon liquid with a relatively low boiling point is stored in the second vapor phase heating tank 1b, and a fluorocarbon liquid with a high boiling point of 200 to 240°C is stored in the second vapor phase heating tank 1b. Then, the work lO to be heated and hardened is conveyed to the conveyor 11,
In order: 1. ``While being conveyed through the second vapor phase heating tanks 1a and 1b, curing is performed by heating. In each of the heating tanks 1a and lb described above, in order to heat the workpiece 10 at a constant temperature, each heating tank 1 is
A saturated vapor phase is formed in portions a and lb, and the conveyor 11 passes through this saturated vapor phase formation section. The apparatus for carrying out the method of the present invention has the above-mentioned configuration. Next, a method for curing a workpiece IO using this apparatus will be explained. Here, the work 10 has a resistor layer 1 on the surface of the substrate 10a.
The substrate 10a is made of thermosetting resin such as phenol resin or epoxy resin, ceramic, or the like. On the other hand, the resistor layer tob is made of a high dielectric constant binder resin made of phenol resin, cresol resin, melamine resin, thermosetting acrylic resin, thermosetting polyester resin, or a resin modified by combining two or more of these resins, carbon black, It is formed by using a resistance ink made by dissolving conductor powder such as graphite powder or metal powder in a solvent, and patterning this resistance ink into an arc shape or a straight line shape on the substrate 10a by means such as screen printing. . The workpiece 10 with the resistor layer 10b patterned on the substrate 10a as described above is conveyed by the conveyor 11 and undergoes a drying process of drying at a temperature of about 120°C, for example, and then undergoes a curing process. will be transported towards. On the other hand, in each heating tank 1a, lb, a saturated vapor phase is formed inside the fluorocarbon liquid 2 by heating the fluorocarbon liquid 2 with a heater 3 so as to maintain it at its boiling point. By forming a saturated vapor phase in this manner, the interiors of tanks 1a and lb are maintained at a uniform temperature at the boiling point of the fluorocarbon. Therefore, when the work lO is conveyed by the conveyor 11 and guided into the first heating tank la, the work 10 is preheated. In this preheating, if the workpiece 10 is rapidly raised to the curing temperature, the substrate 10a may warp, and the solvent remaining after the resistive ink dries will foam, causing curing to begin before it can be completely removed. It is possible to prevent surface defects such as unevenness on the surface of the resistor layer 10b, and also to prevent stress strain from occurring inside the element due to rapid curing, resulting in product failure over a long period of time. When used in a humid condition, it is possible to prevent the inconvenience that the resistance value changes during the process of relaxing stress and strain. In this way, the first heating tank 1
While being preheated in a, it is necessary to keep the resistor layer 10b from curing slowly. Therefore, in the first heating tank 1a, the temperature should be lower than the curing temperature of the binder resin in the resistance ink. low temperature state, i.e. 12
A fluorocarbon liquid having a boiling point of 0 to 170°C, preferably about 165°C is used. The workpiece IO preheated in the first heating tank 1a as described above is conveyed to the conveyor 11 and then guided to the second heating tank 1b. The carbon liquid has a boiling point higher than that of the first heating tank 1a, that is, 200 to 250°C, preferably 215°C.
Use a material that can be maintained at a high temperature higher than the curing temperature of the binder resin in the resistance ink. As a result, when the workpiece IO is introduced into the second heating tank 1b, the resistor layer 1Ob is sufficiently heated and hardened. Since a saturated vapor phase of fluorocarbon is formed in the second heating tank lb, the area where the workpiece 10 is located is maintained at a constant temperature, and for this reason, the resistor Since the layer 10b is heated uniformly, the entire layer 10b is uniformly cured, and a resistive element of constant and good quality without any disadvantages such as variations in resistance value can be formed. Here, in the first heating tank 1a described above, the entire workpiece 10 is preheated, and the solvent is released as much as possible from the resistance ink printed to form the resistor layer 10b on the workpiece 10. , and to proceed with gradual curing, and for this purpose, the first heating tank la of the workpiece 10 is
The residence time in the heating tank 1b may be shorter than that in the second heating tank 1b, which will be described later. Moreover, in the second heating tank 1b,
The workpiece IO, which has been preheated in the first heating tank 1a, is further heated to a high temperature and left there for a period of time necessary to sufficiently harden the resistor layer 10b. Therefore, in order to form a resistance element for variable resistance heating, the residence time in the first heating tank 1a should be about 3 minutes, and the residence time in the second heating tank 1b should be about 3 to 5 minutes. . Therefore, the overall heating time can be shortened, and the installation area of the device can also be small. The solvent is not completely discharged in the first heating tank 1a, and even if the solvent foams when heated in the second heating tank 1b, the solvent is not completely released in the fluorocarbon atmosphere with low surface tension. Since the foam is heated, the fluorocarbon adheres to the four parts created by this foaming, smoothing the surface, and since fluorocarbon is a lubricating material, it has a low resistance. When used as an element, when the slider is slid on the resistor layer 10b, the slider can smoothly slide. Moreover, the first. Since the insides of the second heating layers 1a and lb are both in a vapor phase, there is no risk of foreign matter such as dust getting into them, so that the curing work can be performed in a dust-free environment. Therefore, there is less dust sticking to the resistive element, and the noise level that occurs during operation of the variable resistor as a product can be significantly reduced. Effects of the Invention 1 As detailed above, the present invention uses two vapor phase heating tanks, the first heating tank preheats the workpiece, and the second heating tank preheats the resistor layer. Since the workpiece is cured by heating under uniform temperature conditions, it is possible to improve the quality of the resistance element and the yield, and the workpiece can be heated gradually. As a result, the resistor layer can be formed smoothly, and the sliding properties of the slider are improved.
In addition, stress distortion and the like are not generated in the substrate, and various effects such as the ability to extend the life of the element are achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明に係る方法を実施するために使用される
蒸気相加熱槽の構成説明図、第2図は加熱槽の配列を示
す説明図である。 l :加熱槽、1a:第1の加熱槽、lb;第2の加熱
槽、2:フツ化炭素液、lO:ワーク、lOa :基板
、lOb :抵抗体槽、ll:コンベア。 第1図 第2図
FIG. 1 is an explanatory diagram of the configuration of a vapor phase heating tank used to carry out the method according to the present invention, and FIG. 2 is an explanatory diagram showing the arrangement of the heating tanks. l: heating tank, 1a: first heating tank, lb: second heating tank, 2: fluorinated carbon liquid, lO: workpiece, lOa: substrate, lOb: resistor tank, ll: conveyor. Figure 1 Figure 2

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)抵抗体層を形成した基板からなるワークを加熱す
ることにより、該抵抗体層を硬化するための方法におい
て、前記ワークを前記抵抗体層の硬化温度以下の低温状
態に保持した蒸気相加熱槽を通過させ、次に少なくとも
前記抵抗体層の硬化温度の高温の蒸気相加熱槽に移行さ
せることにより、前記抵抗層の加熱硬化を行うようにし
たことを特徴とする可変抵抗器用抵抗素子の硬化方法。
(1) A method for curing a resistor layer by heating a work consisting of a substrate on which the resistor layer is formed, in which the workpiece is maintained in a low temperature state below the curing temperature of the resistor layer. A resistance element for a variable resistor, characterized in that the resistance layer is heated and cured by passing through a heating tank and then transferring to a vapor phase heating tank at a temperature at least equal to the curing temperature of the resistor layer. curing method.
(2)前記蒸気相加熱槽における加熱媒体としてフッ化
炭素液を使用することを特徴とする特許請求の範囲第(
2)項記載の可変抵抗器用抵抗素子の硬化方法。
(2) A fluorocarbon liquid is used as the heating medium in the vapor phase heating tank,
2) A method for curing a resistance element for a variable resistor as described in section 2).
JP61305323A 1986-12-23 1986-12-23 Method of hardening resistance element for variable resistor Pending JPS63158809A (en)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53103195A (en) * 1977-02-21 1978-09-08 Hitachi Ltd Preparing thick film resistor unit and thick film resistor unit paste

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