JPS63157858A - Vapor deposited film for wrapping - Google Patents

Vapor deposited film for wrapping

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JPS63157858A
JPS63157858A JP30612086A JP30612086A JPS63157858A JP S63157858 A JPS63157858 A JP S63157858A JP 30612086 A JP30612086 A JP 30612086A JP 30612086 A JP30612086 A JP 30612086A JP S63157858 A JPS63157858 A JP S63157858A
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wrapping
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桑原 信夫
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Abstract

PURPOSE:To prevent a film for wrapping obtd. by vapor-depositing a metal on a plastic film from causing electric discharge and generating heat and to make the film usable in an electronic oven, by providing an insular structure to the formed metallic layer so as to transmit microwaves. CONSTITUTION:A metallic layer having an insular structure is formed on a plastic film by vapor deposition to obtain a vapor deposited film for wrapping. This vapor deposited film transmits microwaves. When the film is directly heated in an electronic oven in the form of a bag or vessel for wrapping, the film causes no electric discharge and generates no heat because it transmits microwaves. The film has insulating properties and metallic luster.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は食品用その他各種の物品の包装用蒸着フィル
ムに関し、各種の食品の包装に使用すれば特に有益な包
装用蒸着フィルムに係るものである。
[Detailed Description of the Invention] (Field of Industrial Application) This invention relates to a vapor-deposited film for packaging food and other various articles, and relates to a vapor-deposited film for packaging which is particularly useful when used for packaging various foods. be.

(従来の技術及びその問題点) 食品包装用には従来から、美麗な金属光沢性を考慮して
、  Al蒸着フィルムがそのまま又は他の素材と貼り
合わせるなどして使用されている。
(Prior art and its problems) Al-deposited films have traditionally been used for food packaging, either as they are or by being bonded to other materials, in consideration of their beautiful metallic luster.

しかし従来のA4蒸着フィルムを使用したものけ、これ
を電子レンジにかけて加熱、調理すると、Al蒸着層で
マイクロ波により帯電した電荷にて放電が発生したりあ
るいは発熱して熱収縮を生じたりあるいはまたこの放電
により紙やプラスチック等の可燃物があると燃焼するこ
ともあった。
However, when a conventional A4 vapor-deposited film is heated and cooked in a microwave oven, the electric charge generated by the microwaves in the Al vapor-deposited layer causes discharge, heat generation, and thermal contraction. This discharge could cause combustible materials such as paper and plastic to burn.

これを改良するため、物理的な応力を加えてAl蒸着層
にクラックを発生させたり、あるいはAl蒸着層を格子
状に除去したりした本のもあるが、これらは直流抵抗で
は絶縁物のように大きな表面抵抗を示すが、マイクロ波
による帯電量をなくすほどに微細な表面積に加工するこ
とは困難であり、電子レンジ加熱、調理用として使用す
るには十分でない。また、これらは金属蒸着層にクラッ
クがありあるいは格子状に金属が除去されていて数多く
の曲線又は直線が目ざわりであり、全面的に美麗に金属
化された包装材とはほど遠く高級感が得られない。
In order to improve this, there are books that apply physical stress to generate cracks in the Al deposited layer, or remove the Al deposited layer in a lattice pattern, but these methods are similar to insulators in direct current resistance. Although it exhibits a large surface resistance, it is difficult to process it into a surface area so fine as to eliminate the amount of electrostatic charge caused by microwaves, and it is not sufficient for use in microwave heating and cooking. In addition, these materials have cracks in the metal vapor deposition layer or have metal removed in a lattice pattern, giving the appearance of many curved lines or straight lines, which is far from a packaging material that is beautifully metallized all over, and does not give a sense of luxury. do not have.

この発明は上記の各種の欠点を除去するもので、食品用
袋や容器にしてこれを使用して電子レンジで加熱、調理
した場合に、マイクロ波透過性、絶縁性、及び美麗な連
続した光沢性を有していて、最適な電子レンジ用の食品
包装用袋や容器を提供することができる包装用蒸着フィ
ルムに関するものである。
This invention eliminates the above-mentioned various drawbacks, and when the bag or container for food is heated and cooked in a microwave oven, it has microwave permeability, insulation properties, and a beautiful continuous gloss. The present invention relates to a vapor-deposited film for packaging, which has a high degree of properties and can provide food packaging bags and containers suitable for use in microwave ovens.

(問題点を解決するだめの手段) すなわちこの発明は、少なくともプラスチックフィルム
と金属蒸着層とを有してなる包装用蒸着フィルムにおい
て、金属蒸着層を島状構造としてマイクロ波透過性、絶
縁性、及び金属光沢性をもたせたことを特徴とする包装
用蒸着フィルムである、 この発明の最も単純な構造はプラスチックフィルムと前
記所定の金属蒸着層からなる。しかしもちろん他のプラ
スチックフィルムや紙、セロハン等を適宜積層したり適
宜の樹脂層をコーティングしたりしてもよい。金属蒸着
層上には保護層があってもよく、また、この発明は適宜
の箇所に適宜の印刷を設けることは自由であり、このよ
うなものもこの発明に含まれる。また、この発明は金属
蒸着層をエツチング等により一部除去してもよく、金属
蒸着層や金属蒸着層の存在しない部分で適宜の模様、図
柄等を形成することもでき、この発明はもちろんこのよ
うな本のも含むものである。
(Another Means to Solve the Problems) That is, the present invention provides a packaging vapor-deposited film having at least a plastic film and a metal vapor-deposited layer, in which the metal vapor-deposited layer has an island-like structure that has microwave permeability, insulation properties, The simplest structure of the present invention is a vapor-deposited film for packaging, which is characterized by having metallic luster. However, of course, other plastic films, paper, cellophane, etc. may be laminated as appropriate, or an appropriate resin layer may be coated. A protective layer may be provided on the metal vapor deposited layer, and the present invention is free to provide appropriate printing at appropriate locations, and such materials are also included in the present invention. Further, in the present invention, a portion of the metal vapor deposited layer may be removed by etching or the like, and an appropriate pattern, design, etc. may be formed in the metal vapor deposit layer or a portion where the metal vapor deposit layer does not exist. This includes books such as:

プラスチックフィルムとしてはポリエステルフィルム、
ホリ7’ロピレンフイルム、ポリエチレンフィルム、ポ
リ塩化ビニルフィルム、その他各種のプラスチックフィ
ルムが使用できる。プラスチックフィルムはヘアーライ
ン加工、マット加工等の凹凸加工や適宜の印刷を施とし
たものであってもよい。プラスチックフィルムはヒート
シール性であってもよく、また、非ヒートシール性のも
のであってもよい。
Polyester film is a plastic film,
Holly 7' propylene film, polyethylene film, polyvinyl chloride film, and various other plastic films can be used. The plastic film may be subjected to uneven processing such as hairline processing or matte processing, or may be subjected to appropriate printing. The plastic film may be heat-sealable or non-heat-sealable.

この発明の包装用蒸着フィルムはヒートシールや接着剤
の使用等により食品包装用の袋や容器を形成する。例え
ば、プラスチックフィルムがヒートシール性を有してい
るときけそのままあるいは他の素材を貼り合わせるなど
して補強して、又はヒートシール性を有していないとき
はヒートシール性フィルムの貼着やヒートシール性樹脂
のコーティング等によりヒートシール性を付与せしめて
、ヒートシールにより袋を形成することができる。
The vapor-deposited packaging film of the present invention can be used to form bags and containers for food packaging by heat sealing, using an adhesive, or the like. For example, if the plastic film has heat-sealing properties, it can be reinforced as is or by pasting other materials, or if it does not have heat-sealing properties, it can be reinforced by pasting a heat-sealing film or by applying heat. A bag can be formed by heat sealing by imparting heat sealability by coating with a sealable resin or the like.

また別の例としては、適宜の紙等と貼り合わせて液体飲
料用容器を形成することもできる。
As another example, a container for a liquid beverage can be formed by laminating it with a suitable paper or the like.

金属蒸着層は島状構造としてマイクロ波透過性、絶縁性
、及び金属光沢性をもたせたものとする。
The metal vapor deposited layer has an island-like structure and has microwave transparency, insulation, and metallic luster.

使用する金属としてはSn、 Sn−A/金合金Sn 
−Si合金等が最適であるが、必ずしもこれに限られな
い。
The metals used are Sn, Sn-A/gold alloy Sn
-Si alloy etc. are optimal, but are not necessarily limited to this.

金属蒸着層は真空蒸着、スパッタリング、イオンブレー
ティング等の従来公知の薄膜生成法により形成する。
The metal vapor deposition layer is formed by a conventionally known thin film forming method such as vacuum deposition, sputtering, or ion blasting.

金属蒸着層は薄膜生成過程でいえば「核生成」から「核
結合」、「初期島状構造」を経た後の島状構造となるよ
うに設ける。
The metal vapor deposition layer is provided so as to form an island-like structure after passing through "nucleation", "nuclear bonding", and "initial island-like structure" in the thin film production process.

この発明は金属蒸着層を島状構造とすることにより、金
属蒸着層を使用しているにもかかわらずマイクロ波透過
性、絶縁性、及び美麗な金属光沢性を有するようにした
ことに大きな特徴を有するものである。
The major feature of this invention is that by forming the metal evaporation layer into an island-like structure, it has microwave transparency, insulation properties, and beautiful metallic luster even though the metal evaporation layer is used. It has the following.

島状構造における島のサイズは200 Å〜1μm程度
とする。島のサイズが20OAより小さいと美麗な金属
光沢が得られない。島のサイズが1μmを超えると島と
島とが接して一体となってきて絶縁性が低下すると共に
マイクロ波が透過しなくなり、金属蒸着層にマイクロ波
が照射すると電荷が帯電し放電や燃焼が生じたりあるい
け発熱しフィルムが熱収縮する。
The size of the islands in the island-like structure is approximately 200 Å to 1 μm. If the island size is smaller than 20OA, beautiful metallic luster cannot be obtained. When the size of the islands exceeds 1 μm, the islands come into contact with each other and become a single unit, resulting in a decrease in insulation and impermeability of microwaves.When microwaves are irradiated to the metal vapor deposited layer, it becomes electrically charged, causing discharge and combustion. Heat is generated and the film shrinks due to heat.

島の間隔け100Å〜5000 Aとする。島の間隔が
100Aより小さいと帯電した電荷のトンネル電流が流
れ放電あるいけ燃焼又は熱収縮を起こす。
The spacing between the islands is 100 Å to 5000 Å. If the spacing between the islands is less than 100 A, a tunnel current of charged charges flows, causing discharge, combustion, or thermal contraction.

島の間隔が500OAより大きいと全体としての金属の
量が少なく美麗な金属光沢は得られない。
If the spacing between the islands is larger than 500 OA, the overall amount of metal will be small and beautiful metallic luster will not be obtained.

この発明の金属蒸着層の島状構造を得るには、蒸発速度
、蒸着膜厚等を制御する必要がある。この発明の島のサ
イズや間隔を得るだめの制御は使用する金属により難易
がある。大ざっばにいえば融点の低い金属や貴金属は制
御が比較的容易であり、中でもSn、 Pb、 Zn、
 Bi等は特に好ましいが、食品用として使用する場合
の毒性を考えると、pb、 Zn、 Bi等はそれ程好
ましくなく、Snが最適である。また、Ti、Or%F
e、 Co、 N4等の遷移金属やSi、Ge等の半導
体金属は制御は比較的容易でない。
In order to obtain the island-like structure of the metal vapor deposited layer of this invention, it is necessary to control the evaporation rate, the thickness of the vapor deposited film, etc. Controlling the size and spacing of the islands in this invention may be difficult depending on the metal used. Generally speaking, metals with low melting points and noble metals are relatively easy to control, especially Sn, Pb, Zn,
Bi and the like are particularly preferred, but considering the toxicity when used for food, PB, Zn, Bi, etc. are not so preferred, and Sn is most suitable. Also, Ti, Or%F
Control of transition metals such as e, Co, and N4 and semiconductor metals such as Si and Ge is relatively difficult.

この発明の島状構造の金属蒸着層の生成は、金属の凝集
エネルギーと吸着エネルギーとの関係の制御にかかつて
おり、そのために各種の蒸着条件の制御を要するもので
あるが、一般的には蒸発速度を速くする程島のサイズは
小さくなる傾向にある。しかし蒸着膜厚の影響は特に大
きく、蒸着膜厚を光線透過率で換算した場合、光線透過
率1%〜15チがこの発明の金属蒸着層の島状構造を得
るのに最適である。もつともこれ本金属により異なり、
Sn、 Pb、 Zn、 Bi等はこれでよいが、その
他の金属では必ずしもこの範囲が最適とはならない場合
もある。
The generation of the metal vapor deposited layer with the island-like structure of this invention involves controlling the relationship between the cohesive energy and adsorption energy of the metal, and therefore requires control of various vapor deposition conditions. The faster the evaporation rate, the smaller the island size tends to be. However, the influence of the deposited film thickness is particularly large, and when the deposited film thickness is converted into light transmittance, a light transmittance of 1% to 15 cm is optimal for obtaining the island-like structure of the metal vapor deposited layer of the present invention. However, this varies depending on the actual metal.
This range may be sufficient for Sn, Pb, Zn, Bi, etc., but this range may not necessarily be optimal for other metals.

この発明に使用する代表的金属であるSnの場合、Sn
蒸着層の光線透過率が1チより少ないとマイクロ波によ
りSn蒸着層に電荷が帯電し放電あるいは熱収縮するこ
とがあり、光線透過率が15係を超えると放電あるいは
熱収縮は発生しないが美麗な金属光沢は得られない。美
麗な金属光沢を得るにはSn蒸着層の場合光沢度で大体
350以上を要するのであるが、Sn蒸着層の光線透過
率が15係以下であれば光沢度が350以上となるもの
である。
In the case of Sn, which is a typical metal used in this invention, Sn
If the light transmittance of the vapor-deposited layer is less than 1, the Sn vapor-deposit layer will be charged by microwaves and may cause discharge or thermal contraction.If the light transmittance exceeds 15, no discharge or thermal contraction will occur, but it will be beautiful. A metallic luster cannot be obtained. In order to obtain a beautiful metallic luster, a Sn vapor deposited layer generally requires a gloss level of 350 or higher, but if the light transmittance of the Sn vapor deposited layer is 15 coefficients or lower, the gloss level will be 350 or higher.

(実施例) 厚さ30μmの長尺な未延伸ポリプロピレンフィルムの
片面に、半連続式真空蒸着機を使用してSn蒸着層を真
空蒸着により下記の蒸着条件にて設けて実施例1〜実施
例7とした。
(Example) A Sn vapor deposition layer was provided on one side of a long unstretched polypropylene film with a thickness of 30 μm using a semi-continuous vacuum vapor deposition machine under the following vapor deposition conditions. It was set at 7.

※ 光線透過率はフィルム巻取スピードの制御によりコ
ントロールし、蒸着機併設の透過率モニターにより制御
した。
*The light transmittance was controlled by controlling the film winding speed and by the transmittance monitor attached to the vapor deposition machine.

次に、上記実施例1〜実施例7の各サンプルについて、
光線透過率、光沢度、島のサイズ、島の間隔、表面抵抗
につき測定し、その後裔サンプルのSn蒸着層側に厚さ
50μmのポリエチレンテレフタレートフィルムをウレ
タン系接着剤を用いて貼着し、このようにして得たもの
を使用してヒートシールにより袋を形成しく富士インパ
ルスシール機使用)、その中に冷凍食品を入れて電子レ
ンジにかけて加熱、調理し、電子レンジ調理用袋として
の適性につぎ調査した。これらの測定及び調査の結果は
次の表の通りであった。
Next, for each sample of Examples 1 to 7 above,
Light transmittance, gloss, island size, island spacing, and surface resistance were measured, and a polyethylene terephthalate film with a thickness of 50 μm was attached to the Sn vapor-deposited layer side of the descendant sample using a urethane adhesive. Using the obtained product, form a bag by heat-sealing (using a Fuji impulse sealing machine), put frozen food in it, heat it in a microwave, and cook it to make it suitable as a microwave cooking bag. investigated. The results of these measurements and investigations are shown in the table below.

来 光線透過率は全光線透過率をJ工SK −6714
の方法により測定した。
The light transmittance is the total light transmittance of J Engineering SK-6714.
It was measured by the method of

※ 光沢度はJ工5Z−874の方法により測定した※
 島のサイズについては電子顕微鏡にて蒸着層を観察l
−平均的な大きさを表示した ※ 島の間隔については電子顕微鏡にて蒸着層を観察し
平均的な間隔を表示した。
* Glossiness was measured by the method of J-Ko 5Z-874 *
To determine the size of the islands, observe the deposited layer using an electron microscope.
-The average size is displayed.* Regarding the spacing between islands, the deposited layer was observed using an electron microscope and the average spacing was displayed.

※ 表面抵抗けJ工5K−6911の方法により測定し
た ※ 電子レンジ適性は放電及びフィルムの熱収縮の有無
並びに加熱、調理が可能か否かにより判定した (比較例) 上記実施例におけるSn蒸着層にかえて厚さ100実施
例と同様にしてそれぞれ比較例1、比較例2゜及び比較
例3とし、これらについて実施例と同様に測定及び調査
した結果は次の表の通りであった。
*Surface resistance was measured by the method of J-Tech 5K-6911 *Microwave suitability was determined by the presence or absence of electrical discharge and thermal contraction of the film, and whether heating and cooking were possible (comparative example) Sn vapor deposited layer in the above example Instead, Comparative Example 1, Comparative Example 2°, and Comparative Example 3 were prepared in the same manner as in the Example with a thickness of 100, and these were measured and investigated in the same manner as in the Example, and the results are shown in the following table.

(発明の効果) この発明は金属蒸着層を島状構造としてマイクロ波透過
性、絶縁性、及び金属光沢性をもたせたから、これを包
装用袋や容器にして食品を包装し、そのまま直接電子レ
ンジにかけて加熱、調理した場合に、マイクロ波は透過
し、放電や燃焼及び熱収縮は生じることはなく、また、
全体は美麗な連続した金属光沢を呈しているものである
(Effects of the Invention) This invention uses a metal vapor deposition layer as an island structure to provide microwave transparency, insulation, and metallic luster, so food can be packaged using this as a packaging bag or container, and it can be directly microwaved as it is. When heated and cooked, microwaves pass through and no discharge, combustion, or heat shrinkage occurs, and
The whole exhibits a beautiful continuous metallic luster.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)少なくともプラスチックフィルムと金属蒸着層と
を有してなる包装用蒸着フィルムにおいて、金属蒸着層
を島状構造としてマイクロ波透過性、絶縁性、及び金属
光沢性をもたせたことを特徴とする包装用蒸着フィルム
(1) A vapor-deposited film for packaging comprising at least a plastic film and a metal vapor-deposited layer, characterized in that the metal vapor-deposited layer has an island-like structure to provide microwave transparency, insulation, and metallic luster. Deposited film for packaging.
(2)金属蒸着層の島状構造が、島のサイズ200Å〜
1μm、島の間隔100Å〜5000Åである特許請求
の範囲第1項記載の包装用蒸着フィルム。
(2) The island-like structure of the metal vapor deposited layer has an island size of 200 Å or more.
The vapor-deposited film for packaging according to claim 1, which has an island spacing of 1 μm and an island spacing of 100 Å to 5000 Å.
(3)金属蒸着層の金属がSn、Sn−Al合金、又は
Sn−Si合金である特許請求の範囲第1項又は第2項
記載の包装用蒸着フィルム。
(3) The vapor-deposited film for packaging according to claim 1 or 2, wherein the metal of the metal vapor-deposited layer is Sn, Sn-Al alloy, or Sn-Si alloy.
(4)金属蒸着層の光線透過率が1%〜15%である特
許請求の範囲第3項記載の包装用蒸着フィルム。
(4) The vapor-deposited film for packaging according to claim 3, wherein the metal vapor-deposited layer has a light transmittance of 1% to 15%.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008226070A (en) * 2007-03-15 2008-09-25 Dainippon Printing Co Ltd Non-contact ic tag with insulating metallic glossy layer
US7651033B2 (en) 2005-12-19 2010-01-26 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Noncontract IC tag with non-conductive metal film
JP2010155366A (en) * 2008-12-26 2010-07-15 Osaka Sealing Printing Co Ltd Shrink film with metal foil
CN112004663A (en) * 2018-04-23 2020-11-27 日东电工株式会社 Electromagnetic wave-permeable metallic luster article and metallic thin film
CN112004665A (en) * 2018-04-23 2020-11-27 日东电工株式会社 Electromagnetic wave transmitting metallic luster article and method for producing same
CN112004666A (en) * 2018-04-23 2020-11-27 日东电工株式会社 Electromagnetic wave transmitting metallic luster article
CN112020423A (en) * 2018-04-23 2020-12-01 日东电工株式会社 Electromagnetic wave-permeable metallic luster article and metallic thin film

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4876850B2 (en) * 2006-10-23 2012-02-15 東レフィルム加工株式会社 Metal thin film transfer material and method for producing the same
WO2019208494A1 (en) * 2018-04-23 2019-10-31 日東電工株式会社 Electromagnetic wave transmissive metallic luster product and metal thin film
WO2019208499A1 (en) * 2018-04-23 2019-10-31 日東電工株式会社 Electromagnetically permeable article with metallic gloss
WO2019208504A1 (en) * 2018-04-23 2019-10-31 日東電工株式会社 Electromagnetic wave transparent metallic luster article, and metal thin film
CN112020424A (en) * 2018-04-23 2020-12-01 日东电工株式会社 Electromagnetic wave transmitting metallic luster article
WO2019208488A1 (en) * 2018-04-23 2019-10-31 日東電工株式会社 Electromagnetic wave transmissive metal luster article
WO2019208493A1 (en) * 2018-04-23 2019-10-31 日東電工株式会社 Electromagnetic-wave-permeable metallic-luster article, and decorative member
CN112020422A (en) * 2018-04-23 2020-12-01 日东电工株式会社 Electromagnetic wave-permeable metallic luster article and decorative member
WO2019208489A1 (en) * 2018-04-23 2019-10-31 日東電工株式会社 Electromagnetic wave-transmitting metallic-luster article
CN112004664B (en) * 2018-04-23 2023-05-30 日东电工株式会社 Electromagnetic wave-transparent metallic glossy article

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4889278A (en) * 1972-02-28 1973-11-21
JPS60262959A (en) * 1984-06-09 1985-12-26 Oike Kogyo Kk Manufacture of vapor-deposited metallic film for electronic oven

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4889278A (en) * 1972-02-28 1973-11-21
JPS60262959A (en) * 1984-06-09 1985-12-26 Oike Kogyo Kk Manufacture of vapor-deposited metallic film for electronic oven

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7651033B2 (en) 2005-12-19 2010-01-26 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Noncontract IC tag with non-conductive metal film
JP2008226070A (en) * 2007-03-15 2008-09-25 Dainippon Printing Co Ltd Non-contact ic tag with insulating metallic glossy layer
JP2010155366A (en) * 2008-12-26 2010-07-15 Osaka Sealing Printing Co Ltd Shrink film with metal foil
CN112004663A (en) * 2018-04-23 2020-11-27 日东电工株式会社 Electromagnetic wave-permeable metallic luster article and metallic thin film
CN112004665A (en) * 2018-04-23 2020-11-27 日东电工株式会社 Electromagnetic wave transmitting metallic luster article and method for producing same
CN112004666A (en) * 2018-04-23 2020-11-27 日东电工株式会社 Electromagnetic wave transmitting metallic luster article
CN112020423A (en) * 2018-04-23 2020-12-01 日东电工株式会社 Electromagnetic wave-permeable metallic luster article and metallic thin film

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