JPH066783B2 - Deposition film for packaging - Google Patents
Deposition film for packagingInfo
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- JPH066783B2 JPH066783B2 JP61306120A JP30612086A JPH066783B2 JP H066783 B2 JPH066783 B2 JP H066783B2 JP 61306120 A JP61306120 A JP 61306120A JP 30612086 A JP30612086 A JP 30612086A JP H066783 B2 JPH066783 B2 JP H066783B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は各種の物品の包装用蒸着フイルムに関し、各
種の食品の包装に使用すれば特に有益な、平面方向に連
続した金属光沢性を備えている包装用蒸着フイルムに関
するものである。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a vapor deposition film for packaging various articles, and has a metallic luster continuous in a planar direction, which is particularly useful when used for packaging various foods. The present invention relates to a vapor deposition film for packaging.
（従来の技術） 平面方向に連続した金属光沢性を備えている包装用蒸着
フイルムとしては従来、Ａｌ蒸着フイルムが知られてお
り、これがそのまま又は他の素材と貼り合わせるなどし
て食品包装用等に使用されている。(Prior Art) Al vapor deposition film has been conventionally known as a vapor deposition film for packaging having a continuous metallic luster in a plane direction, which is used for food packaging such as as it is or when laminated with other materials. Is used for.
（発明が解決しようとする課題） しかし、従来のＡｌ蒸着フイルムを使用したものは、こ
れを電子レンジにかけて食品を加熱、調理すると、Ａｌ
蒸着層が平面方向に連続してつながった導電性の層又は
膜をなしているから、Ａｌ蒸着層でマイクロ波により帯
電した電荷にて放電が生じたり、発熱して熱収縮が生じ
たり、また、紙やプラスチック等の可燃物があると放電
により燃焼が生じたりする。(Problems to be Solved by the Invention) However, in the case of using the conventional Al vapor deposition film, when the food is heated and cooked in a microwave oven, Al
Since the vapor-deposited layer forms a conductive layer or film that is continuously connected in the plane direction, discharge is generated by electric charges charged by microwaves in the Al vapor-deposited layer, heat is generated, and heat contraction occurs. If there is combustible material such as paper or plastic, the discharge may cause combustion.
これらの欠点を除去するために、物理的な応力を加えて
Ａｌ蒸着層にクラックを形成したり、Ａｌ蒸着層を格子
状に除去したりしたものもある。In order to remove these defects, there is a method in which physical stress is applied to form cracks in the Al vapor deposition layer, or the Al vapor deposition layer is removed in a lattice pattern.
しかし、このようにした場合は、Ａｌ蒸着層が包装用蒸
着フイルム全体では絶縁物のように大きな表面抵抗を示
すが、Ａｌ蒸着層をマイクロ波による帯電をなくすほど
に微細な表面積に加工することは困難であるから、電子
レンジ用として使用するには十分でない。また、このよ
うにした場合は、Ａｌ蒸着層が平面方向に連続した金属
光沢性を備えたものとはならないとともに、クラックや
格子による数多くの曲線や直線が目ざわりである。However, in such a case, the Al vapor-deposited layer has a large surface resistance like an insulator in the entire vapor-deposited film for packaging, but the Al vapor-deposited layer should be processed to have a fine surface area so as to eliminate charging by microwaves. Is difficult to use for microwave ovens. Further, in this case, the Al vapor deposition layer does not have continuous metallic luster in the plane direction, and many curves and straight lines due to cracks and lattices are noticeable.
そこで、本発明者は鋭意研究の結果、金属蒸着層のうち
特定の構造をした金属蒸着層が、マイクロ波透過性、絶
縁性及び金属光沢性のいずれをも備えていることを見出
し、この発明を完成したもので、この発明は、上記の種
々の欠点を除去し、平面方向に連続した金属光沢性を備
えているとともに、マイクロ波透過性及び絶縁性をも備
えていて、電子レンジ用として最適な包装用蒸着フイル
ムを提供するものである。Therefore, as a result of earnest research, the present inventor has found that a metal vapor deposition layer having a specific structure among the metal vapor deposition layers has all of microwave transparency, insulating properties and metallic luster. The present invention eliminates the above-mentioned various drawbacks and has a continuous metallic luster in the planar direction, and also has microwave transmission and insulation properties, and is suitable for microwave ovens. The optimum vapor deposition film for packaging is provided.
（課題を解決するための手段） この発明は、少なくともプラスチックフイルムと金属蒸
着層とを有してなる包装用蒸着フイルムにおいて、金属
蒸着層を島のサイズが２００Å〜１μｍで島の間隔が１
００Å〜５０００Åの島状構造としたことを特徴とす
る、マイクロ波透過性、絶縁性及び金属光沢性を備えた
包装用蒸着フイルムである。(Means for Solving the Problem) The present invention relates to a packaging vapor deposition film having at least a plastic film and a metal vapor deposition layer, the metal vapor deposition layer having an island size of 200Å to 1 μm and an island spacing of 1
It is a vapor deposition film for packaging having microwave transparency, insulation and metallic luster, which has an island structure of 00Å to 5000Å.
この発明の最も単純な構造は、プラスチックフイルムと
上記した特定の金属蒸着層からなる。しかし、もちろ
ん、この単純な構造をしたものに他のプラスチックフイ
ルムや紙、セロハン等を適宜貼り合わせ等により積層
し、また、適宜の樹脂層をコーティングにより積層して
もよい。The simplest structure of the present invention consists of a plastic film and the specific metal deposition layer described above. However, as a matter of course, other plastic film, paper, cellophane, etc. may be appropriately laminated to this simple structure, or an appropriate resin layer may be laminated by coating.
また、この発明は、適宜の層に着色をしてもよい。Further, in the present invention, an appropriate layer may be colored.
さらに、この発明は、適宜の箇所に適宜の印刷をするこ
とは自由である。Further, according to the present invention, it is possible to perform appropriate printing on appropriate places.
プラスチックフイルムとしては、ポリエステルフイル
ム、ポリプロピレンフイルム、ポリエチレンフイルム、
ポリ塩化ビニルフイルム、その他各種のプラスチックフ
イルムが使用できる。As the plastic film, polyester film, polypropylene film, polyethylene film,
Polyvinyl chloride film and other various plastic films can be used.
プラスチックフイルムは、ヘアーライン加工、マット加
工等の凹凸加工や、適宜の着色、印刷をしたものであっ
てもよい。The plastic film may be processed to have irregularities such as a hairline process and a matte process, or may be appropriately colored and printed.
プラスチックフイルムは、ヒートシール性であってもよ
く、非ヒートシール性であってもよい。The plastic film may be heat sealable or non-heat sealable.
この発明の包装用蒸着フイルムは、ヒートシールや接着
剤の使用等により、食品包装用の袋や容器を形成する。
例えば、プラスチックフイルムがヒートシール性を有し
ているときはそのまま或いは他の素材を貼り合わせるな
どして補強して、またヒートシール性を有していないと
きはヒートシール性フイルムの貼着やヒートシール性樹
脂のコーテイング等によりヒートシール性を付与せしめ
て、ヒートシールにより袋を形成することができる。ま
た、別の例としては、適宜の紙等と貼り合わせて、液体
飲料用容器を形成することもできる。The vapor deposition film for packaging of the present invention forms a bag or container for packaging food by heat sealing, use of an adhesive or the like.
For example, when the plastic film has a heat-sealing property, it is reinforced as it is or by adhering other materials, and when it does not have a heat-sealing property, the heat-sealing film is attached or heat-treated. A heat-sealability can be imparted by coating a sealing resin, and the bag can be formed by heat-sealing. Further, as another example, the container for liquid beverage can be formed by laminating it with an appropriate paper or the like.
島状構造をした金属蒸着層は、真空蒸着、スパッタリン
グ、イオンプレーティング等の従来公知の薄膜生成法に
より、プラスチックフイルムの表面に形成する。The metal vapor deposition layer having an island structure is formed on the surface of the plastic film by a conventionally known thin film forming method such as vacuum vapor deposition, sputtering and ion plating.
島状構造をした金属蒸着層上には保護層があってもよ
く、島状構造をした金属蒸着層の下には前処理としての
下地層があってもよい。A protective layer may be provided on the metal-deposited layer having an island structure, and a base layer may be provided as a pretreatment under the metal-deposited layer having an island structure.
また、この発明は、島状構造をした金属蒸着層を部分的
に形成してもよく、このようにした場合は、島状構造を
した金属蒸着層の存在する部分と存在しない部分とが相
まって適宜の模様、図柄等を現出させることができる。Further, in the present invention, the metal vapor deposition layer having an island structure may be partially formed. In such a case, a portion where the metal vapor deposition layer having an island structure is present and a portion where the metal vapor deposition layer is not present are combined. Appropriate patterns, designs, etc. can be revealed.
金属蒸着層は、島のサイズが２００Å〜１μｍで島の間
隔５が１００Å〜５０００Åの島状構造とする。The metal vapor deposition layer has an island-shaped structure with island sizes of 200Å to 1 µm and island intervals 5 of 100Å to 5000Å.
金属蒸着層の島状構造における島のサイズが２００Åよ
り小さいと、島が小さすぎて、平面方向に連続した金属
光沢が得られない。島のサイズが１μｍより大きいと、
島が大きすぎるので島と島とが接して一体となってき
て、絶縁性が低下するとともにマイクロ波が透過しなく
なり、金属蒸着層にマイクロ波が照射すると電荷が帯電
して、放電、熱収縮、燃焼等が生じる。If the size of the islands in the island-like structure of the metal vapor deposition layer is smaller than 200Å, the islands are too small to obtain a continuous metallic luster in the planar direction. If the island size is larger than 1 μm,
Since the islands are too large, the islands come into contact with each other and become integrated, and the insulation is deteriorated and microwaves do not penetrate, and when the metal vapor deposition layer is irradiated with microwaves, electric charges are charged, and discharge and thermal contraction occur. , Burning, etc.
金属蒸着層の島状構造における島の間隔が１００Åより
小さいと、帯電した電荷のトンネル電流が流れて、放
電、熱収縮、燃焼等が生じる。島の間隔が５０００Åよ
り大きいと、全体としての金属の量が少なくなるので、
平面方向に連続した金属光沢が得られない。If the distance between the islands in the island-like structure of the metal vapor deposition layer is smaller than 100Å, a tunnel current of charged charges flows, causing discharge, thermal contraction, combustion, and the like. If the island spacing is greater than 5000Å, the amount of metal as a whole will decrease, so
A metallic luster continuous in the plane direction cannot be obtained.
島状構造をした金属蒸着層には、Ｓｎ、Ｓｎ−Ａｌ合
金、Ｓｎ−Ｓｉ合金、Ｐｂ、Ｚｎ、Ｂｉ、Ｔｉ、Ｃｒ、
Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｇｅ等の各種の金属、合金が
使用できる。Sn, Sn—Al alloy, Sn—Si alloy, Pb, Zn, Bi, Ti, Cr,
Various metals and alloys such as Fe, Co, Ni, Si and Ge can be used.
この発明の島状構造をした金属蒸着層は、真空蒸着等に
おける蒸発速度、蒸着層厚等を制御することにより形成
することができる。The metal vapor deposition layer having the island structure of the present invention can be formed by controlling the evaporation rate in vacuum vapor deposition and the vapor deposition layer thickness.
真空蒸着等における制御は、薄膜生成過程でいえば、
「核生成」から「核結合」、「初期島状構造」を経た後
の島状構造となるように制御する。Control in vacuum deposition, etc.
It is controlled so as to become an island structure after "nuclear formation", "nuclear bond", and "initial island structure".
制御は使用する金属により難易がある。大ざっぱにいえ
ば、融点の低い金属や貴金属は制御が比較的容易であ
り、中でもＳｎ、Ｓｎ−Ａｌ合金、Ｓｎ−Ｓｉ合金、Ｐ
ｂ、Ｚｎ、Ｂｉ等は特に容易であるが、食品用容器とし
て使用する場合には、毒性を考えると、Ｐｂ、Ｚｎ、Ｂ
ｉ等はそれ程好ましくなく、Ｓｎ、Ｓｎ−Ａｌ合金、Ｓ
ｎ−Ｓｉ合金が最適である。また、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｆｅ、
Ｃｏ、Ｎｉ等の遷移金属や、Ｓｉ、Ｇｅ等の半導体金属
は制御は比較的容易でない。Control is difficult depending on the metal used. Roughly speaking, metals and noble metals having a low melting point are relatively easy to control, among which Sn, Sn-Al alloys, Sn-Si alloys, P
b, Zn, Bi, etc. are particularly easy, but when used as a food container, considering toxicity, Pb, Zn, B, etc.
i and the like are not so preferable, and Sn, Sn-Al alloy, S
The n-Si alloy is most suitable. In addition, Ti, Cr, Fe,
Control of transition metals such as Co and Ni and semiconductor metals such as Si and Ge is relatively difficult.
島状構造をした金属蒸着層の形成時の制御において、一
般的には、蒸発速度を速くする程島のサイズは小さくな
る傾向にある。しかし、蒸着層厚の影響は特に大きく、
蒸着層厚を光線透過率で換算した場合、光線透過率１％
〜１５％程度がこの発明の金属蒸着層の島状構造を得る
のに最適である。もっともこれも金属により異なり、Ｓ
ｎ、Ｐｂ、Ｚｎ、Ｂｉ、等はこれでよいが、その他の金
属では必ずしもこの範囲が最適とはならない場合もあ
る。In the control at the time of forming the metal vapor deposition layer having an island structure, in general, the faster the evaporation rate, the smaller the island size tends to be. However, the influence of the vapor deposition layer thickness is particularly large,
When the vapor deposition layer thickness is converted to light transmittance, light transmittance is 1%
About 15% is optimal for obtaining the island-shaped structure of the metal vapor deposition layer of the present invention. However, this also depends on the metal, S
This is sufficient for n, Pb, Zn, Bi, etc., but this range may not always be optimal for other metals.
この発明に使用する代表的金属であるＳｎの場合、Ｓｎ
蒸着層の光線透過率が１％より低いと、マイクロ波によ
りＳｎ蒸着層に電荷が帯電して、放電、熱収縮が生じる
ことがあり、光線透過率が大体１５％より高いと、放
電、熱収縮は生じないが、平面方向に連続した金属光沢
が十分には得られない場合がある。平面方向に連続した
金属光沢を得るには、Ｓｎ蒸着層の場合光沢度で大体３
５０以上を要するのであるが、Ｓｎ蒸着層の光線透過率
が大体１５％以下であれば光沢度が大体３５０以上とな
るものである。In the case of Sn which is a typical metal used in the present invention, Sn
If the light transmittance of the vapor deposition layer is lower than 1%, electric charges may be charged in the Sn vapor deposition layer by microwaves, and discharge or thermal contraction may occur. If the light transmittance of the vapor deposition layer is higher than about 15%, discharge or heat may occur. Although no shrinkage occurs, a metallic luster continuous in the plane direction may not be sufficiently obtained. In order to obtain a continuous metallic luster in the plane direction, in the case of the Sn vapor-deposited layer, the glossiness is approximately 3
It requires 50 or more, but when the light transmittance of the Sn vapor deposition layer is about 15% or less, the glossiness is about 350 or more.
（実施例及び比較例） 実施例１ 厚さ３０μｍの広幅長尺な未延伸ポリプロピレンフイル
ムの片面に、半連続式真空蒸着機を使用して、蒸発速度
０．４ｇ／ｍｉｎ、フイルム巻取りスピード２５０ｍ／
ｍｉｎにコントロールしつつＳｎ蒸着層を形成した。(Examples and Comparative Examples) Example 1 A semi-continuous vacuum vapor deposition machine was used on one side of a wide and long unstretched polypropylene film having a thickness of 30 μm to evaporate at a rate of 0.4 g / min and a film winding speed at 250 m. /
The Sn vapor deposition layer was formed while controlling to min.
該Ｓｎ蒸着層の島のサイズ、島の間隔を測定したとこ
ろ、島のサイズは１０００Åで島の間隔は１００Åであ
った。When the island size and the island interval of the Sn vapor deposition layer were measured, the island size was 1000Å and the island interval was 100Å.
なお、島のサイズについては、電子顕微鏡にてＳｎ蒸着
層を観察して平均的な大きさを表示し、島の間隔につい
ては、電子顕微鏡にてＳｎ蒸着層を観察して平均的な間
隔を表示した（実施例２〜実施例６及び比較例１〜比較
例４も同様）。Regarding the size of the islands, the Sn vapor-deposited layer was observed with an electron microscope to display an average size, and regarding the island spacing, the Sn vapor-deposited layer was observed with an electron microscope to display the average spacing. Displayed (the same applies to Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 4).
ちなみに、該Ｓｎ蒸着層の全光線透過率をＪＩＳ Ｋ−
６７１４の方法により測定した（実施例２〜実施例６及
び比較例１〜比較例４も同様）ところ、光線透過率は１
８％であった。By the way, the total light transmittance of the Sn vapor deposition layer is determined by JIS K-
When measured by the method of 6714 (the same applies to Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 to 4), the light transmittance is 1
It was 8%.
また、該Ｓｎ蒸着層の表面抵抗及び光沢度についても測
定した。Further, the surface resistance and gloss of the Sn vapor deposition layer were also measured.
次いで、該Ｓｎ蒸着層上に、厚さ５０μｍのポリエチレ
ンテレフタレートフイルムをウレタン系接着剤を用いて
貼着し、次に、このようにして得たものを使用してヒー
トシールにより袋を形成し（富士インパルスシール機使
用）、該袋の中に冷凍食品を入れて電子レンジにかけて
加熱、調理し、電子レンジ調理用袋としての適性につき
調査した。Then, a polyethylene terephthalate film having a thickness of 50 μm was adhered onto the Sn vapor-deposited layer using a urethane adhesive, and then the thus obtained product was used to form a bag by heat sealing ( Fuji impulse sealer was used), frozen food was put in the bag, heated in a microwave oven to cook, and the suitability as a microwave cooking bag was investigated.
表面抵抗、光沢度、及び上記の電子レンジ適性の測定及
び調査の結果は下記の表の通りであった。The results of the measurement and investigation of the surface resistance, the glossiness, and the microwave oven suitability are shown in the table below.
実施例２ フイルム巻取りスピードを１８０ｍ／ｍｉｎとしたほか
は実施例１と同様にした。Example 2 Same as Example 1 except that the film winding speed was 180 m / min.
Ｓｎ蒸着層の島のサイズは１０００Åで島の間隔は１０
０Åであった。The size of the island of Sn vapor deposition layer is 1000Å and the interval between islands is 10
It was 0Å.
ちなみに、Ｓｎ蒸着層の光線透過率は１２％であった。By the way, the light transmittance of the Sn vapor deposition layer was 12%.
実施例３ フイルム巻取りスピードを１５０ｍ／ｍｉｎとしたほか
は実施例１と同様にした。Example 3 Example 3 was repeated except that the film winding speed was 150 m / min.
Ｓｎ蒸着層の島のサイズは２０００Åで島の間隔は１０
０Åであった。The size of the islands of Sn vapor deposition layer is 2000Å and the interval between the islands is 10
It was 0Å.
ちなみに、Ｓｎ蒸着層の光線透過率は７％であった。By the way, the light transmittance of the Sn vapor deposition layer was 7%.
実施例４ フイルム巻取りスピードを７０ｍ／ｍｉｎとしたほかは
実施例１と同様にした。Example 4 Same as Example 1 except that the film winding speed was 70 m / min.
Ｓｎ蒸着層の島のサイズは７０００Åで島の間隔は５０
０Åであった。The size of the islands of the Sn deposition layer is 7,000 Å and the island spacing is 50.
It was 0Å.
ちなみに、Ｓｎ蒸着層の光線透過率は２％であった。By the way, the light transmittance of the Sn vapor deposition layer was 2%.
実施例５ 蒸発速度を０．６ｇ／ｍｉｎとしてフイルム巻取りスピ
ードを２００ｍ／ｍｉｎとしたほかは実施例１と同様に
した。Example 5 Example 5 was repeated except that the evaporation rate was 0.6 g / min and the film winding speed was 200 m / min.
Ｓｎ蒸着層の島のサイズは６００Åで島の間隔は１００
Åであった。The size of islands of Sn deposition layer is 600Å and the spacing between islands is 100.
It was Å.
ちなみに、Ｓｎ蒸着層の光線透過率は１４％であった。By the way, the light transmittance of the Sn vapor deposition layer was 14%.
実施例６ 蒸発速度を０．６ｇ／ｍｉｎとしてフイルム巻取りスピ
ードを１８０ｍ／ｍｉｎとしたほかは実施例１と同様に
した。Example 6 The same as Example 1 except that the evaporation rate was 0.6 g / min and the film winding speed was 180 m / min.
Ｓｎ蒸着層の島のサイズは１６００Åで島の間隔は３０
０Åであった。The size of the islands of the Sn vapor deposition layer is 1600Å and the intervals between the islands are 30.
It was 0Å.
ちなみに、Ｓｎ蒸着層の光線透過率は９％であった。By the way, the light transmittance of the Sn vapor deposition layer was 9%.
比較例１ フイルム巻取りスピードを３０ｍ／ｍｉｎとしたほかは
実施例１と同様にした。Comparative Example 1 The procedure of Example 1 was repeated except that the film winding speed was 30 m / min.
Ｓｎ蒸着層は島状構造をしていなく、平面方向に連続し
た層をなしていた。The Sn vapor deposition layer did not have an island structure, but was a continuous layer in the plane direction.
ちなみに、Ｓｎ蒸着層の光線透過率は０．１％であっ
た。Incidentally, the light transmittance of the Sn vapor deposition layer was 0.1%.
比較例２ Ｓｎ蒸着層をＡｌ蒸着層とし、フイルム巻取りスピード
を４００ｍ／ｍｉｎとしたほかは実施例１と同様にし
た。Comparative Example 2 Same as Example 1 except that the Sn vapor deposition layer was an Al vapor deposition layer and the film winding speed was 400 m / min.
Ａｌ蒸着層は島状構造をしていなく、平面方向に連続し
た層をなしていた。The Al vapor deposition layer did not have an island structure, but was a continuous layer in the plane direction.
ちなみに、Ａｌ蒸着層の光線透過率は６５％であった。By the way, the light transmittance of the Al vapor deposition layer was 65%.
比較例３ Ｓｎ蒸着層をＡｌ蒸着層とし、フイルム巻取りスピード
を３５０ｍ／ｍｉｎとしたほかは実施例１と同様にし
た。Comparative Example 3 The same as Example 1 except that the Sn vapor deposition layer was an Al vapor deposition layer and the film winding speed was 350 m / min.
Ａｌ蒸着層は島状構造をしていなく、平面方向に連続し
た層をなしていた。The Al vapor deposition layer did not have an island structure, but was a continuous layer in the plane direction.
ちなみに、Ａｌ蒸着層の光線透過率は５０％であった。By the way, the light transmittance of the Al vapor deposition layer was 50%.
比較例４ Ｓｎ蒸着層をＡｌ蒸着層とし、フイルム巻取りスピード
を４０ｍ／ｍｉｎとしたほかは実施例１と同様にした。Comparative Example 4 The same as Example 1 except that the Sn vapor deposition layer was an Al vapor deposition layer and the film winding speed was 40 m / min.
Ａｌ蒸着層は島状構造をしていなく、平面方向に連続し
た層をなしていた。The Al vapor deposition layer did not have an island structure, but was a continuous layer in the plane direction.
ちなみに、Ａｌ蒸着層の光線透過率は０．２％であっ
た。By the way, the light transmittance of the Al vapor deposition layer was 0.2%.
表面抵抗 光沢度 電子レンジ （Ω／□） 適性 実施例１ １０13以上 ３７１ 適 実施例２ 〃 ４３０ 適 実施例３ 〃 ４７０ 適 実施例４ 〃 ６１４ 適 実施例５ 〃 ４２３ 適 実施例６ 〃 ４８０ 適 比較例１ １．６ ７００ 不適 比較例２ １０３ ３５０ 不適 比較例３ １０２ ５００ 不適 比較例４ １０-1 ８００ 不適 上記の表の表面抵抗は、ＪＩＳ Ｋ−６９１１の方法に
より測定した。Surface resistance Gloss Microwave oven (Ω / □) Suitability Example 1 10 13 or more 371 Suitability Example 2 〃 430 Suitability Example 3 〃 470 Suitability Example 4 〃 614 Suitability Example 5 〃 423 Suitability Example 6 〃 480 Suitability Comparative Example 1 1.6 700 Inappropriate Comparative Example 2 10 3 350 Inappropriate Comparative Example 3 10 2 500 Inappropriate Comparative Example 4 10 -1 800 Inappropriate The surface resistance in the above table was measured by the method of JIS K-6911.
上記の表の光沢度は、ＪＩＳ Ｚ−８７４の方法により
測定した。The glossiness in the above table was measured by the method of JIS Z-874.
上記の表の電子レンジ適性は、放電及び熱収縮の有無、
並びに加熱、調理が可能か否かにより判定した。Microwave suitability of the above table, the presence or absence of discharge and heat shrinkage,
Also, it was judged whether or not heating and cooking were possible.
（発明の効果） この発明は、金属蒸着層を島のサイズが２００Å〜１μ
ｍで島の間隔が１００Å〜５０００Åの島状構造とし
て、マイクロ波透過性、絶縁性及び金属光沢性を備えた
ものとしたから、これを包装用袋や容器にして食品を包
装し、そのまま電子レンジにかけて食品を加熱、調理し
ても、マイクロ波は透過して、放電、熱収縮及び燃焼が
生じることはなく、しかも、全体は平面方向に連続した
金属光沢を呈しているものである。(Effect of the Invention) In this invention, the metal vapor deposition layer has an island size of 200Å to 1 μ
Since the island-shaped structure of 100 m-islet with an interval between 100 Å and 5000 Å is provided with microwave transparency, insulation and metallic luster, this is used as a packaging bag or container for packaging food, Even when the food is heated and cooked in a microwave oven, the microwave does not penetrate, and electric discharge, heat shrinkage, and combustion do not occur, and the whole has a continuous metallic luster in the planar direction.
Claims (3)
着層とを有してなる包装用蒸着フイルムにおいて、金属
蒸着層を島のサイズが２００Å〜１μｍで島の間隔が１
００Å〜５０００Åの島状構造としたことを特徴とす
る、マイクロ波透過性、絶縁性及び金属光沢性を備えた
包装用蒸着フイルム。1. A packaging vapor deposition film comprising at least a plastic film and a metal vapor deposition layer, wherein the metal vapor deposition layer has an island size of 200Å to 1 μm and an island spacing of 1.
A vapor deposition film for packaging having microwave transparency, insulation and metallic luster, which has an island structure of 00 Å to 5000 Å.
金、又はＳｎ−Ｓｉ合金である特許請求の範囲第１項記
載の包装用蒸着フイルム。2. The vapor deposition film for packaging according to claim 1, wherein the metal of the metal vapor deposition layer is Sn, Sn—Al alloy, or Sn—Si alloy.
ある特許請求の範囲第２項記載の包装用蒸着フイルム。3. The vapor deposition film for packaging according to claim 2, wherein the metal vapor deposition layer has a light transmittance of 1% to 15%.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61306120A JPH066783B2 (en) | 1986-12-22 | 1986-12-22 | Deposition film for packaging |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61306120A JPH066783B2 (en) | 1986-12-22 | 1986-12-22 | Deposition film for packaging |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63157858A JPS63157858A (en) | 1988-06-30 |
| JPH066783B2 true JPH066783B2 (en) | 1994-01-26 |
Family
ID=17953288
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61306120A Expired - Lifetime JPH066783B2 (en) | 1986-12-22 | 1986-12-22 | Deposition film for packaging |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH066783B2 (en) |
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