JPS63152096A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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Publication number
JPS63152096A
JPS63152096A JP61298714A JP29871486A JPS63152096A JP S63152096 A JPS63152096 A JP S63152096A JP 61298714 A JP61298714 A JP 61298714A JP 29871486 A JP29871486 A JP 29871486A JP S63152096 A JPS63152096 A JP S63152096A
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JP
Japan
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signal
circuit
refresh
address
selection
Prior art date
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Pending
Application number
JP61298714A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsuratoki Ooishi
貫時 大石
Susumu Hatano
進 波多野
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS63152096A publication Critical patent/JPS63152096A/en
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Abstract

PURPOSE:To facilitate battery backup, by invalidating an address signal which instructs the selection of one of the memory arrays at the time of performing a read/write operation, and validating it at the time of performing a refresh operation. CONSTITUTION:The address selection of a row system is performed by invalidat ing the address signal which instructs the selection of one of plural memory arrays M-ARY1 (M-ARY2) in which dynamic memory cells are arranged and constituted in a matrix shape, at the time of performing the read/write opera tion, and validating it at the time of performing the refresh operation. Therefore, since only a sense amplifier SA-1 (SA-2) provided on a selected memory array M-ARY1 (M-ARY2) is set at an operating state at the time of performing the refresh operation, it is possible to reduce the number of the sense amplifiers being operated in one refresh cycle. In such way, it is easy to perform the battery backup.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体記憶装置に関するもので、例えば、
周辺回路がCMO3(相補型MO3)回路により構成さ
れ、内部同期式のダイナミック型RAM (擬似スタテ
ィック型RAM)に利用して有効な技術に関するもので
ある。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a semiconductor memory device, for example,
The present invention relates to a technique that is effective when used in an internally synchronized dynamic RAM (pseudo-static RAM) whose peripheral circuit is constituted by a CMO3 (complementary MO3) circuit.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

本願出顆人においては、先にアドレス信号の変化を検出
して内部回路の動作に必要な各種タイミング信号を形成
するものとした擬似スタティック型RAMを開発した(
特願昭57−164831号参照)。すなわち、情報を
電荷の形態で記憶するキャパシタとアドレス選択用MO
5FETとによって構成されるダイナミック型メモリセ
ルを用いるとともに、その周辺回路をCMOSスタティ
ツク型回路で構成し、上記アドレス信号の変化を検出し
て必要なタイミング信号を得ることによって、外部から
はスタティック型RAMと同等に扱えるようにするもの
である。
The applicant first developed a pseudo-static RAM that detects changes in address signals and forms various timing signals necessary for the operation of internal circuits.
(See Japanese Patent Application No. 57-164831). In other words, a capacitor that stores information in the form of charge and an address selection MO
By using a dynamic type memory cell composed of 5 FETs and its peripheral circuitry using a CMOS static type circuit, and obtaining the necessary timing signal by detecting changes in the address signal, it is possible to use a static type RAM from the outside. This allows them to be treated equally.

半導体基板上において形成されるダイナミック型メモリ
セルは、上記キャパシタに蓄積された電荷が、リーク電
流等によって時間の経過とともに減少してしまう。した
がって、常にメモリセルに正確な情報を記憶させておく
ために、上記擬似スタティック型RAMには、メモリセ
ルに記憶されている情報を、その情報が失われる前に読
み出して、これを増幅して再び同じメモリセルに書き込
む動作、いわゆるセルフリフレッシュ機能が設けられる
In a dynamic memory cell formed on a semiconductor substrate, the charge accumulated in the capacitor decreases over time due to leakage current or the like. Therefore, in order to always store accurate information in the memory cells, the pseudo-static RAM reads out the information stored in the memory cells and amplifies it before it is lost. An operation of writing to the same memory cell again, a so-called self-refresh function, is provided.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

本廓発明者において上記の擬似スタティック型RAMの
セルフリフレッシュ機能を利用してスタティック型RA
Mと同様なバッテリーバックアップを行うことを検討し
た結果、次のような問題の生じることが判明した。バッ
テリーバックアップ時に上記セルフリフレッシュ動作を
行わせると、全センスアンプが一斉にその動作を開始す
るためパルス状の比較的大きな電流が消費されてしまう
The present inventor has developed a static RA using the self-refresh function of the above-mentioned pseudo-static RAM.
As a result of considering battery backup similar to M, it was found that the following problems would occur. If the self-refresh operation is performed during battery backup, all the sense amplifiers start their operations at the same time, which consumes a relatively large pulsed current.

このため、大きな電流供給能力を持つバッテリーを用い
ることが必要になる。また、上記パルス状の電流によっ
て動作電圧が低下してしまうことを防止するために、大
きな容量値を持つコンデンサーをバッテリーに並列形態
に接続することが必要となる。このため、バンクアンプ
電源が大型化してしまうものとなる。
Therefore, it is necessary to use a battery with a large current supply capacity. Furthermore, in order to prevent the operating voltage from decreasing due to the pulsed current, it is necessary to connect a capacitor with a large capacitance value to the battery in parallel. Therefore, the bank amplifier power supply becomes large.

この発明の目的は、簡単な構成によりバッテリーバンク
アップを容易にした半4体記憶装置を提供することにあ
る。
An object of the present invention is to provide a semi-quadruple storage device that has a simple configuration and facilitates battery bank up.

この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of this invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、ダイナミック型メモリセルがマトリックス配
置されて構成される複数のメモリアレイのうち1つの選
択を指示するアドレス信号を、書き込み/読み出し動作
のとき無効として、リフレッシュ動作のとき有効にして
ロウ系のアドレス選択を行うようにするものである。
In other words, the address signal that instructs the selection of one of a plurality of memory arrays consisting of dynamic memory cells arranged in a matrix is disabled during a write/read operation, and enabled during a refresh operation, and the address signal for the row system is disabled. It allows you to make a choice.

〔作 用〕[For production]

上記した手段によれば、リフレッシュ動作のとき、選択
されたメモリアレイに設けられるセンスアンプだけが動
作状態になるため、1つのリフレッシュサイクルで動作
するセンスアンプの数を減らせるため、バッテリーバン
クアップが簡単な電源回路により容易に行える。
According to the above-mentioned means, during refresh operation, only the sense amplifiers provided in the selected memory array are activated, so the number of sense amplifiers that operate in one refresh cycle can be reduced, and battery bank up is reduced. This can be easily done using a simple power supply circuit.

〔実施例〕〔Example〕

第1図には、この発明が適用された内部同期式(いわゆ
る、擬似スタティック型RAM)のダイナミック型RA
Mの一実施例の回路図が示されている。同図の各回路素
子は、公知のCMO3集積回路の製造技術によって、1
個の単結晶シリコンのような半導体基板上において形成
される。同図において、チャンネル部分に矢印が付加さ
れたMOSFETはPチャンネル型である。
FIG. 1 shows an internally synchronous (so-called pseudo-static RAM) dynamic RA to which the present invention is applied.
A circuit diagram of one embodiment of M is shown. Each circuit element in the figure is manufactured using known CMO3 integrated circuit manufacturing technology.
formed on a semiconductor substrate such as single crystal silicon. In the figure, the MOSFETs whose channel portions are marked with arrows are of the P-channel type.

特に制限されないが、集積回路は、単結晶P型シリコン
からなる半導体基板に形成される。Nチャンネル部分 
S F ETは、かかる半導体基板表面に形成されたソ
ース領域、ドレイン領域及びソース領域とドレイン領域
との間の半導体基板表面に薄い厚さのゲート絶縁膜を介
して形成されたポリシリコンからなるようなゲート電極
から構成される。PチャンネルMO3FETは、上記半
導体基板表面に形成されたN型ウェル領域に形成される
Although not particularly limited, the integrated circuit is formed on a semiconductor substrate made of single-crystal P-type silicon. N channel part
SFET consists of a source region, a drain region formed on the surface of such a semiconductor substrate, and polysilicon formed on the surface of the semiconductor substrate between the source region and the drain region with a thin gate insulating film interposed therebetween. It consists of a gate electrode. The P-channel MO3FET is formed in an N-type well region formed on the surface of the semiconductor substrate.

これによって、半導体基板は、その上に形成された複数
のNチャンネルMOSFETの共通の基板ゲートを構成
する。N型ウェル領域は、その上に形成されたPチャン
ネルMO5FETの基板ゲートを構成する。Pチャンネ
ルMO3FETの基板ゲートすなわちN型ウェル領域は
、第1図の電源端子Vccに結合される。基板バイアス
電圧発生回路vBGは、半導体基板に供給すべき負のバ
ックバイアス電圧−vbbを発生する。これによって、
NチャンネルMOSFETの基板ゲートにバンクバイア
ス電圧が加えられることになり、その結果として、Nチ
ャンネル領域 S F ETのソース、ドレインと基板
間の寄生容量値が減少させられるため回路の高速動作化
が図られるとともに、基板に発生するマイノリティ (
少数)キャリアが吸収され、情報記憶キャパシタに蓄積
された情報電荷が失われることが軽減されるためメモリ
セルのリフレッシュ周期を長くすることができる。
Thereby, the semiconductor substrate constitutes a common substrate gate for a plurality of N-channel MOSFETs formed thereon. The N-type well region constitutes the substrate gate of the P-channel MO5FET formed thereon. The substrate gate or N-type well region of the P-channel MO3FET is coupled to the power supply terminal Vcc of FIG. The substrate bias voltage generation circuit vBG generates a negative back bias voltage -vbb to be supplied to the semiconductor substrate. by this,
A bank bias voltage is applied to the substrate gate of the N-channel MOSFET, and as a result, the parasitic capacitance between the source and drain of the N-channel MOSFET and the substrate is reduced, resulting in faster circuit operation. Minorities (
Since the minority) carriers are absorbed and the loss of information charges stored in the information storage capacitor is reduced, the refresh period of the memory cell can be lengthened.

集積回路のより具体的な構造は、大まかに説明すると次
のようになる。
The more specific structure of an integrated circuit can be roughly explained as follows.

すなわち、単結晶P型シリコンからなり、かつN型ウェ
ル領域が形成された半淳体基板の表面部分のうち、活性
領域とされた表面部分以外、言い換えると半導体配線領
域、キャパシタ形成領域、及びNチャンネル及びPチャ
ンネル領域 S F ETのソース、ドレイン及びチャ
ンネル形成領域(ゲート形成領域)とされた表面部分以
外には、公知の選択酸化法によって形成された比較厚い
厚さのフィールド絶縁膜が形成されている。特に制限さ
れないが、キャパシタ形成領域上には、比較的薄い厚さ
の絶縁膜(酸化膜)を介して1層目ポリシリコン層が形
成されている。1層目ポリシリコン層は、フィールド絶
縁膜上まで延長されている。
That is, of the surface portion of the semiconductive substrate made of single crystal P-type silicon and on which the N-type well region is formed, the surface portion other than the surface portion that is used as the active region, in other words, the semiconductor wiring region, the capacitor formation region, and the N-type well region are formed. Channel and P-channel region A relatively thick field insulating film formed by a known selective oxidation method is formed on the surface portions other than the source, drain, and channel formation region (gate formation region) of the SFET. ing. Although not particularly limited, a first polysilicon layer is formed on the capacitor formation region with a relatively thin insulating film (oxide film) interposed therebetween. The first polysilicon layer extends over the field insulating film.

1層目ポリシリコン層の表面には、それ自体の熱酸化に
よって形成された薄い酸化膜が形成されている。キャパ
シタ形成領域における半導体基板表面には、イオン打ち
込み法によるN型領域が形成されること(又は所定の電
圧が供給されること)によってチャンネルが形成される
。これによって、1層目ポリシリコン層、薄い絶縁膜及
びチャンネル領域からなるキャパシタが形成される。フ
ィールド酸化膜上の1層目ポリシリコン層は、1種の配
線とみなされる。
A thin oxide film formed by thermal oxidation of the first polysilicon layer is formed on the surface of the first polysilicon layer. A channel is formed on the surface of the semiconductor substrate in the capacitor formation region by forming an N-type region by ion implantation (or by supplying a predetermined voltage). As a result, a capacitor consisting of the first polysilicon layer, a thin insulating film, and a channel region is formed. The first polysilicon layer on the field oxide film is regarded as a type of wiring.

チャンネル形成上には、薄いゲート酸化膜を介してゲー
ト電極とするための2層目ポリシリコン層が形成されて
いる。この2N目ポリシリコン層は、フィールド絶!!
膜上及び1層目ポリシリコン層上に延長される。特に制
限されないが、後で説明するメモリアレイにおけるワー
ド線及びダミーワード線は、2層目ポリシリコン層から
構成される。
A second polysilicon layer to serve as a gate electrode is formed on the channel formation via a thin gate oxide film. This 2N polysilicon layer is field-perfect! !
It extends over the film and the first polysilicon layer. Although not particularly limited, word lines and dummy word lines in a memory array, which will be described later, are constructed from a second polysilicon layer.

フィールド絶縁膜、1層目及び2@目ポリシリコン、層
によって覆われていない活性領域表面には、それらを不
純?I導入マスクとして使用する公知の不純物導入技術
によってソース、ドレイン及び半導体配線領域が形成さ
れている。
The active area surface not covered by the field insulating film, the first and second polysilicon layers, is impure? The source, drain, and semiconductor wiring regions are formed by a known impurity introduction technique used as an I introduction mask.

1層目及び27層月ポリシリコン層上を含む半導体基板
表面上に比較的jIい厚さの層間絶縁膜が形成され、こ
の層間絶縁膜上には、アルミニュウムからなるような導
体層が形成されている。導体層は、その下の絶縁膜に設
けられたコンタクト孔を介してポリシリコン層、半導体
領域に電気的に結合されている。後で説明するメモリア
レイにおけるデータ線は、特に制限されないが、この層
間絶縁膜上に延長された導体層から構成される。
An interlayer insulating film having a relatively thick thickness is formed on the surface of the semiconductor substrate including the first and 27th polysilicon layers, and a conductor layer made of aluminum is formed on this interlayer insulating film. ing. The conductor layer is electrically coupled to the polysilicon layer and the semiconductor region through a contact hole provided in the insulating film below. Although not particularly limited, data lines in a memory array, which will be described later, are composed of conductor layers extending on this interlayer insulating film.

層間絶縁膜上及び導体層上を含む半導体基板表面は、窒
化シリコン膜とフォスフオシリケードガラス膜とからな
るようなファイナルパッシベーション膜によって覆われ
ている。
The surface of the semiconductor substrate including the interlayer insulating film and the conductor layer is covered with a final passivation film such as a silicon nitride film and a phosphosilicate glass film.

特に開平されないが、この実施例においては、2つのメ
モリアレイ (又はメモリマット) M−ARYIとM
−ARY2を持つ。同図では、そのうち1つのメモリア
レイM−ARY1及びその選択回路が例示的に示されて
いる。メモリアレイM−ARY1は、特に制限されない
が、2交点(折り返しビット線又はディジット線)方式
とされる。
Although not specifically squared, in this example two memory arrays (or memory mats) M-ARYI and M
- Has ARY2. In the figure, one of the memory arrays M-ARY1 and its selection circuit are exemplarily shown. Although not particularly limited, the memory array M-ARY1 is of a two-intersection (folded bit line or digit line) type.

第1図には、その一対のデータ線が具体的に示されてい
る。すなわち、一対の平行に配置された相補データ線(
ビット線又はディシフト線)D、Dに、アドレス選択用
MO3FETQmと情報記憶用キャパシタCsとで構成
された複数のメモリセルのそれぞれの入出力ノードが同
図に示すように所定の規則性をもって配分されて結合さ
れる。
FIG. 1 specifically shows the pair of data lines. That is, a pair of parallel arranged complementary data lines (
The input/output nodes of a plurality of memory cells each composed of an address selection MO3FET Qm and an information storage capacitor Cs are distributed to bit lines (or deshift lines) D and D with a predetermined regularity as shown in the figure. are combined.

プリチャージ回路PCは、代表として示されたMO3F
ETQ5のように、相補データ線り、  D間に設けら
れたスイッチMO3FETにより構成される。このMO
3FETQ5は、後にタイミング図を参照して詳細に説
明するように、そのゲートにメモリサイクルの最初に発
生されるプリチャージ信号φpcが供給されることによ
ってオン状態にされる。これにより、前の動作サイクル
において、後述するセンスアンプSAの増幅動作による
相補データ線り、Dのハイレベルとロウレベルを短絡し
て、相補データ線り、Dを約Vcc/2のプリチャージ
電圧とする。なお、RAMがチップ選択状態にされ、上
記プリチャージMOS F ETQ5等がオン状態にさ
れる前に、上記センスアンプSAは非動作状態にされる
。これにより、上記相補データ線り、Dはハイインピー
ダンス状態でハイレベルとロウレベルを保持するものと
なっている。また、センスアンプSAが動作状態にされ
る前に上記プリチャージMO3FETQ5等はオフ状態
にされる。これにより、相補データ線り、  Dは、ハ
イインピーダンス状態で上記ハーフプリチャージレベル
を保持するものである。
The precharge circuit PC is MO3F shown as a representative.
Like ETQ5, it is composed of a switch MO3FET provided between the complementary data line and D. This M.O.
The 3FET Q5 is turned on by being supplied with a precharge signal φpc generated at the beginning of a memory cycle to its gate, as will be described in detail later with reference to a timing diagram. As a result, in the previous operation cycle, the high level and low level of the complementary data line D are short-circuited by the amplification operation of the sense amplifier SA, which will be described later, and the complementary data line D is set to a precharge voltage of approximately Vcc/2. do. Note that before the RAM is brought into the chip selection state and the precharge MOS FETQ5 and the like are turned on, the sense amplifier SA is rendered inactive. As a result, the complementary data line D maintains a high level and a low level in a high impedance state. Furthermore, the precharge MO3FETQ5 and the like are turned off before the sense amplifier SA is put into operation. As a result, the complementary data line D maintains the above-mentioned half precharge level in a high impedance state.

このようなハーフプリチャージ方式にあっては、相補デ
ータ線り、Dのハイレベルとロウレベルを単に短絡して
形成するものであるので、低消費電力化が図られる。ま
た、センスアンプSAの増幅動作において、上記プリチ
ャージレベルを中心として相補データ線り、Dがハイレ
ベルとロウレベルのようにコモンモードで変化するので
、容量カップリングにより発生するノイズレベルを低減
できるものとなる。
In such a half precharge method, since the complementary data line D is formed by simply shorting the high level and low level of D, power consumption can be reduced. In addition, in the amplification operation of the sense amplifier SA, the complementary data line D changes in common mode, such as high level and low level, centering on the precharge level, so it is possible to reduce the noise level generated by capacitive coupling. becomes.

センスアンプSAは、その単位回路USAが例示的に示
されており、PチャンネルMOS F ETQ7.Q9
と、NチャンネルMO3FETQ6゜Q8とからなるC
MOSラッチ回路で構成され、その一対の入出力ノード
が上記相補データ線り。
The unit circuit USA of the sense amplifier SA is shown as an example, and includes a P-channel MOS FETQ7. Q9
and N-channel MO3FETQ6゜Q8.
It is composed of a MOS latch circuit, and its pair of input/output nodes are the complementary data lines.

Dに結合されている。また、上記ランチ回路には、特に
制限されないが、並列形態のPチャンネルMO3FET
QI 2.Ql 3を通して電源電圧Vccが供給され
、並列形態のNチャンネルMO3FETQIO,Qll
を通して回路の接地電圧Vssが供給される。これらの
パワースイッチMO3FF。
It is connected to D. The launch circuit may include, but is not limited to, a parallel P-channel MO3FET.
QI 2. Power supply voltage Vcc is supplied through Ql3, and N-channel MO3FETs QIO and Qll in parallel form
The ground voltage Vss of the circuit is supplied through the circuit. These power switches MO3FF.

TQI O,Ql 1及びMO3FETQ12.Q13
は、同じメモリアレイ又はメモリマット内の他の同様な
行に設けられたラッチ回路(単位回路)に対して共通に
用いられる。
TQI O, Ql 1 and MO3FETQ12. Q13
is commonly used for latch circuits (unit circuits) provided in other similar rows within the same memory array or memory mat.

上記MO3FETQI O,Ql 2のゲートには、動
作サイクルではセンスアンプSAを活性化させる相補タ
イミングパルスφpal I  φpalが印加され、
MO3FETQI 1.Ql 3のゲートには、上記タ
イミングパルスφpal、  φpalより遅れた、相
補タイミングパルスφpa2 、  φpa2が印加さ
れる。このようにすることによって、センスアンプSA
の動作は2段階に分けられる。タイミングパルスφpa
l、φpalが発生されたとき、すなわち第1段階にお
いては、比較的小さいコンダクタンスを持つMO3FE
TQ、io及びQ12による電流制限作用によってメモ
リセルからの一対のデータ線間に与えられた微小読み出
し電圧は、不所望なレベル変動を受けることなく増幅さ
れる。上記センスアンプSAでの増幅動作によって相補
データ線電位の差が大きくされた後、タイミングパルス
φpa2.φpa2が発生されると、すなわち第2段階
に入ると、比較的大きなコンダクタンスを持つMO3F
ETQI 1.Ql 3がオン状態にされる。
A complementary timing pulse φpal I φpal that activates the sense amplifier SA is applied to the gates of the MO3FETQI O, Ql 2 in the operation cycle,
MO3FETQI 1. Complementary timing pulses φpa2 and φpa2, which are delayed from the timing pulses φpal and φpal, are applied to the gate of Ql3. By doing this, the sense amplifier SA
The operation can be divided into two stages. timing pulse φpa
When l, φpal is generated, that is, in the first stage, MO3FE with relatively small conductance
Due to the current limiting effect of TQ, io, and Q12, the minute read voltage applied between the pair of data lines from the memory cell is amplified without undergoing undesired level fluctuations. After the difference in complementary data line potential is increased by the amplification operation in the sense amplifier SA, the timing pulse φpa2. When φpa2 is generated, that is, when it enters the second stage, MO3F with a relatively large conductance
ETQI 1. Ql 3 is turned on.

センスアンプSAの増幅動作は、MOS F ETQl
l、Q13がオン状態にされることによって速(される
。このように2段階に分けて、センスアンプSAの増幅
動作を行わせることによって、相補データ線の不所望な
レベル変化を防止しつつデータの高速読み出しを行うこ
とができる。
The amplification operation of the sense amplifier SA is performed using MOS FETQl.
1 and Q13 are turned on. By performing the amplification operation of the sense amplifier SA in two stages in this way, undesired level changes in the complementary data line can be prevented. Data can be read at high speed.

ロウデコーダR−DCRは、特に制限されないが、2分
割されたロウデコーダR−DCR1とR−DCR2との
組み合わせによって構成される。
Although not particularly limited, the row decoder R-DCR is configured by a combination of two divided row decoders R-DCR1 and R-DCR2.

同図には、第2のロウデコーダR−DCR2の単位回路
(ワード線4本分)UDCRが代表として示されている
。図示の構成に従うと、アドレス信号a2〜丁9は、直
列形態にされたNチャンネル型の駆動MO3FETMO
3FETQ32〜Q34のゲートに供給される。Pチャ
ンネル型の負荷MO3FETQ35のゲートには、特に
制限されないが、動作状態のときにロウレベルにされる
制御信号XDPが供給される。これによって、RAMが
動作状態にされたときのみ、上記MO3FETQ32な
いしQ35からなるナンド(NAND)ゲート回路が動
作状態にされ、上記4本分のワード線選択信号が形成さ
れる。上記ナンドゲート回路の出力は、一方において、
CMOSインバータIVIで反転されNチャンネル型の
カットMO3FETQ28〜Q31を通して、スイッチ
回路としてのNチャンネル型伝送ゲートMO3FETQ
24〜Q27のゲートに伝えられる。
In the figure, a unit circuit (corresponding to four word lines) UDCR of the second row decoder R-DCR2 is shown as a representative. According to the illustrated configuration, the address signals a2 to d9 are connected to N-channel drive MO3FETMO in series configuration.
Supplied to the gates of 3FETs Q32 to Q34. The gate of the P-channel type load MO3FETQ35 is supplied with a control signal XDP, which is set to a low level in an operating state, although this is not particularly limited. As a result, only when the RAM is activated, the NAND gate circuit consisting of the MO3FETs Q32 to Q35 is activated, and the four word line selection signals are generated. The output of the above NAND gate circuit is, on the one hand,
The N-channel type transmission gate MO3FETQ as a switch circuit is inverted by the CMOS inverter IVI and passed through the N-channel type cut MO3FETQ28 to Q31.
It will be sent to gates 24-Q27.

第1のロウデコーダR−DCRIは、その具体的回路を
図示しないが、2ビツトの後述するような内部相補アド
レス信号aQ、alを解読して形成されたデコード信号
によって選択される上記同様な伝送ゲートMO3FET
とカットMO3FETとからなるスイッチ回路を通して
ワード線選択タイミング信号φXから4通りのワード線
選択タイミング信号φXOOないしφxllを形成する
。これらのワード線選択タイミング信号φx00〜φx
11は、上記伝送ケ゛−ト上記MO3FETQ24〜Q
27を介して各ワード線に伝えられる。なお、特に制限
されないが、ロウデコーダR−DCR1及びロウデコー
ダR−DCR2は完全CMOSスタティック型のデコー
ダであってもよい。
The first row decoder R-DCRI, although its specific circuit is not shown, performs the same transmission as described above, selected by a decode signal formed by decoding 2-bit internal complementary address signals aQ and al, which will be described later. Gate MO3FET
Four types of word line selection timing signals φXOO to φxll are formed from the word line selection timing signal φX through a switch circuit including a cut MO3FET and a cut MO3FET. These word line selection timing signals φx00 to φx
11 is the MO3FET Q24 to Q of the transmission case.
27 to each word line. Note that, although not particularly limited, the row decoder R-DCR1 and the row decoder R-DCR2 may be completely CMOS static type decoders.

なお、上記のようにアドレス信号a2ないしi9に応じ
て8個の駆動MO5FETが直列形態にされる場合、そ
の合成コンダクタンスを上記負荷MO3FETQ35に
対して十分大きく設定することが必要とされる。このた
め、上記駆動MO3FETQ32ないしQ34は、その
サイズを比較的大きく形成することが必要となる。そこ
で、上記メモリアレイの選択を指示するアドレス信号T
9を除く、他のアドレス信号a2なしいa8を、一旦他
のデコーダ回路によりデコードして、上記駆動MO3F
ETの数を減らすよ・うにするものであってもよい。例
えば、アドレス信号12ないし工4からなる3ビツトの
アドレス信号をデコードして形成される1/8のデコー
ド出力信号と、アドレス信号土5と16をデコードして
形成される1/4のデコード出力信号と、アドレス信号
a7とa8をデコードして形成される1/4のデコード
出力信号とを上記ナントゲート回路を構成するMO3F
ETQ32ないしQ33等に供給するものであってもよ
い。この場合には、上記3つのデコード出力信号と、ア
ドレス信号τ9とを受ける合計4つの駆動MOSFET
によりナントゲート回路が構成できるものとなる。
Incidentally, when the eight drive MO5FETs are connected in series according to the address signals a2 to i9 as described above, it is necessary to set their combined conductance sufficiently large with respect to the load MO3FET Q35. Therefore, the drive MO3FETs Q32 to Q34 need to be relatively large in size. Therefore, the address signal T instructing the selection of the memory array is
The other address signals a2 to a8 except for 9 are once decoded by another decoder circuit, and then the drive MO3F
It may also be something that reduces the number of ETs. For example, a 1/8 decode output signal is formed by decoding a 3-bit address signal consisting of address signals 12 to 4, and a 1/4 decode output signal is formed by decoding address signals 5 and 16. MO3F which constitutes the above-mentioned Nant gate circuit
It may also be supplied to ETQ32 or Q33. In this case, a total of four drive MOSFETs receive the three decoded output signals and the address signal τ9.
Thus, a Nant gate circuit can be constructed.

特に制限されないが、タイミング信号φxOOは、アド
レス信号aQ及びalがロウレベルにされているとき、
タイミング信号φXに同期してハイレベルにされる。同
様に、タイミング信号φxOI、φxlO及びφxll
は、それぞれアドレス信号aO及びal、及びaO及び
τ1、及びTO及びτ1がロウレベルにされているとき
タイミング信号φXに同期してハイレベルにされる。
Although not particularly limited, timing signal φxOO is set when address signals aQ and al are at low level.
It is set to high level in synchronization with the timing signal φX. Similarly, timing signals φxOI, φxlO and φxll
are set to high level in synchronization with timing signal φX when address signals aO and al, aO and τ1, and TO and τ1 are set to low level, respectively.

これによって、アドレス信号al及びalは、複数のワ
ード線のうちのデータ%%Dに結合されたメモリセルに
対応されたワード線群(WO,Wl、以下、第1ワード
線群と称する)と、データ線りに結合されたメモリセル
に対応されたワード線群(W2、W3、以下、第2ワー
ド線群と称する)とを識別するための一種のワード線群
選択信号とみなされる。
As a result, the address signals al and al are transmitted to the word line group (WO, Wl, hereinafter referred to as the first word line group) corresponding to the memory cell coupled to the data %%D among the plurality of word lines. , is regarded as a kind of word line group selection signal for identifying a word line group (W2, W3, hereinafter referred to as a second word line group) corresponding to a memory cell coupled to a data line.

上記のようにアドレス選択用MOS F ETQmと情
報記憶用キャパシタCsとからなるグイナミソク型メモ
リセルへの書込み動作において、情報記憶用キャパシタ
Csにフルライトを行うため、言い換えるならば、アド
レス選択用MOS F ETQm等のしきい値電圧によ
り情報記憶用キャパシタC3への書込みハイレベルのレ
ベル損失が生じないようにするため、ワード線選択タイ
ミング信号φXによって起動されるワード線ブートスト
ラップ回路(図示せず)が設けられる。このワード線ブ
ートストラップ回路は、ワード線選択タイミング信号φ
Xとその遅延信号を用いて、ワード線選択タイミング信
号φXのハイレベルを電源電圧VCC以上の高レベルと
する。
As mentioned above, in the write operation to the Guinami Soku type memory cell consisting of the address selection MOS F ETQm and the information storage capacitor Cs, in order to fully write to the information storage capacitor Cs, in other words, the address selection MOS F In order to prevent level loss of the high level written to the information storage capacitor C3 due to the threshold voltage of ETQm, etc., a word line bootstrap circuit (not shown) activated by the word line selection timing signal φX is installed. provided. This word line bootstrap circuit uses the word line selection timing signal φ
Using X and its delayed signal, the high level of the word line selection timing signal φX is set to a high level higher than the power supply voltage VCC.

ロウデコーダR−DCR1とR−DCR2のようにロウ
デコーダを2分割することによって、ロウデコーダR−
DCR2のピッチ(間隔)とワード線のピッチとを合わ
せることができる。その結果、無駄な空間が半導体基板
上に生じない。各ワード線と接地電位との間には、MO
3FETQ20〜Q23が設けられ、そのゲートに上記
NAND回路の出力が印加されることによって、非選択
時のワード線を接地電位に固定させるものである。
By dividing the row decoder into two like row decoders R-DCR1 and R-DCR2, the row decoder R-
The pitch (interval) of DCR2 and the pitch of word lines can be matched. As a result, no wasted space is created on the semiconductor substrate. Between each word line and ground potential, MO
3FETs Q20 to Q23 are provided, and by applying the output of the NAND circuit to their gates, the word line is fixed at the ground potential when not selected.

特に制限されないが、上記ワード線には、その遠端側(
デコーダ側と反対側の端)にリセット用のNチャンネル
MO3FETQI〜Q4が設けられており、リセットパ
ルスφp−を受けてこれらのMO3FETQI〜Q4が
オン状態となることによって、選択されたワード線がそ
の両端から接地レベルにリセットされる。
Although not particularly limited, the word line may have a far end side (
N-channel MO3FETs QI to Q4 for reset are provided at the end opposite to the decoder side, and when these MO3FETs QI to Q4 are turned on in response to the reset pulse φp-, the selected word line is turned on. Reset to ground level from both ends.

カラムスイッチCWI  (CW2)は、代表として示
されているNチャンネルMO3FETQ42゜Q43の
ように、相補データ線り、Dと共通相補データvACD
、CDを選択的に結合させる。これらのMO3FETQ
42.Q43のゲートには、後述するカラムデコーダC
−DCRからの選択信号が供給される。
The column switch CWI (CW2) is connected to the complementary data line D and the common complementary data vACD, like the N-channel MO3FET Q42°Q43 shown as a representative.
, selectively binds CDs. These MO3FETQ
42. A column decoder C, which will be described later, is connected to the gate of Q43.
- A selection signal from the DCR is provided.

ロウアドレスバッファR−ADHは、後述するチップイ
ネーブル信号GEがロウレベルにされることによって動
作状態にされ、その動作状態において外部端子から供給
されたアドレス信号AOないしA9を取り込み、それを
保持するととに内部相補アドレス信号aO−a9を形成
して上記ロウデコーダR−DCR1及びR−DCR2に
伝える。
The row address buffer R-ADH is put into an operating state when a chip enable signal GE, which will be described later, is set to a low level, and in that operating state, it takes in and holds address signals AO to A9 supplied from an external terminal. An internal complementary address signal aO-a9 is formed and transmitted to the row decoders R-DCR1 and R-DCR2.

ここで、上記外部端子から供給されたアドレス信号AO
と同相の内部アドレス信号aOと逆相の内部アドレス信
号aOとを合わせて相補アドレス信号aOのように表し
ている(以下、同じ)。ロウデコーダR−DCR1とR
−DCR2は、上述のように上記相補アドレス信号10
〜土9を解読して、ワード線選択タイミング信号φXに
同期してワード線の選択動作を行う。
Here, address signal AO supplied from the external terminal
The internal address signal aO having the same phase and the internal address signal aO having the opposite phase are collectively expressed as a complementary address signal aO (the same applies hereinafter). Row decoder R-DCR1 and R
-DCR2 is the complementary address signal 10 as described above.
~Sat9 is decoded and a word line selection operation is performed in synchronization with the word line selection timing signal φX.

一方、カラムアドレスバッファC−ADHは、後述する
チップイネーブル信号CBがロウレベルにされることに
よって動作状態にされ、その動作状態において外部端子
から供給されたアドレス信号AIOないしA16を取り
込み、それを保持するととに内部相補アドレス信号上1
0−土16を形成して上記カラムアドレスデコーダC−
DCRに伝える。
On the other hand, the column address buffer C-ADH is put into an operating state when a chip enable signal CB, which will be described later, is set to a low level, and in that operating state takes in address signals AIO to A16 supplied from an external terminal and holds them. and internal complementary address signal on 1
0-16 to form the column address decoder C-
Tell DCR.

カラムデコーダC−DCRは、上記アドレスデコーダR
−DCR2と類似のアドレスデコーダ回路により構成さ
れ、カラムアドレスバッファC−ADBから供給される
内部アドレス信号alo〜a16と逆相のアドレス信号
alO〜a16からなる相補アドレス信号310〜31
6を解読してデータ線選択タイミング信号φyに同期し
て上記カラムスイッチCWI  (CW2)に供給すべ
き選択信号を形成する。
The column decoder C-DCR is the address decoder R mentioned above.
Complementary address signals 310 to 31 are constructed by an address decoder circuit similar to -DCR2 and are composed of address signals alO to a16 in opposite phase to internal address signals alo to a16 supplied from column address buffer C-ADB.
6 is decoded to form a selection signal to be supplied to the column switch CWI (CW2) in synchronization with the data line selection timing signal φy.

上記共通相補データ線CD、CD間には、上記同様なプ
リチャージ回路を構成するNチャンネル型のプリチャー
ジMO3FETQ44が設けられている。この共通相補
データ線CD、CDには、上記単位のセンスアンプUS
Aと同様な回路構成のメインアンプMAの一対の入出力
ノードが結合されている。このメインアンプの出力信号
は、データ出力バッファDOBを介して外部端子Dou
tへ送出される。読み出し動作ならば、データ出力バッ
ファDOBはそのタイミング信号φr−によって動作状
態にされ、上記メインアンプMAの出力信号を増幅して
外部端子I10から送出する。なお、書込み動作なら、
上記タイミング信号φr賀によってデータ出力バッファ
DOBの出力はハイインピーダンス状態される。
An N-channel precharge MO3FETQ44 constituting a similar precharge circuit as described above is provided between the common complementary data lines CD and CD. The common complementary data lines CD and CD are connected to the sense amplifier US of the above unit.
A pair of input/output nodes of main amplifier MA having the same circuit configuration as A are coupled. The output signal of this main amplifier is sent to the external terminal Dou via the data output buffer DOB.
is sent to t. In the case of a read operation, the data output buffer DOB is activated by the timing signal φr-, amplifies the output signal of the main amplifier MA, and sends it out from the external terminal I10. In addition, in the case of a write operation,
The output of the data output buffer DOB is placed in a high impedance state by the timing signal φr.

上記共通相補データ線CD、CDは、データ入カバソフ
ァI)rBの出力端子が結合される。書込み動作ならば
、データ入カバソファDIBは、そのタイミング信号φ
rhによって動作状態にされ、外部端子Dinから供給
された書込み信号に従った相補書込み信号を上記共通相
補データ線CD、CDに伝えることにより、選択された
メモリセルへの書込みが行われる。なお、読み出し動作
なら、上記タイミング信号φrwによってデータ入カバ
ソファDIBの出力はハイインピーダンス状態にされる
The common complementary data lines CD, CD are coupled to the output terminals of the data input cover sofa I)rB. In the case of a write operation, the data input cover sofa DIB uses its timing signal φ
rh, and writes into the selected memory cell by transmitting a complementary write signal in accordance with the write signal supplied from the external terminal Din to the common complementary data lines CD, CD. Note that in the case of a read operation, the output of the data input buffer sofa DIB is brought into a high impedance state by the timing signal φrw.

上述した各種タイミング信号は、次の内部制御信号発生
回路TGにより形成される。内部制御信号発生回路TG
は、2つの外部制御信号CE(チップイネーブル信号)
、WE(ライトイネーブル信号)と、その内部に設けら
れ、上記アドレス信号ao−a16を受けるアドレス信
号変化検出回路ATDで形成されたアドレス信号の変化
検出信号φに基づいて、メモリ動作に必要な各種タイミ
ング信号を形成して送出する。上記アドレス信号変化検
出回路ATDは、特に制限されないが、アドレス信号a
O〜16と、その遅延信号とをそれぞれ受ける排他的論
理和回路と、これらの排他的論理和回路の出力信号を受
ける論理和回路とによって構成される。このアドレス信
号変化検出回路ATDは、アドレス信号aOないしA1
6のうち、いずれか1つでもそのレベルが変化すると、
その変化タイミングに同期したアドレス信号変化検出パ
ルスφを形成する。これによって、RAMは、内部で形
成したタイミング信号によって動作させられるので、I
Cの外部からはスタティック型RAMと同様(擬似スタ
ティック型RAM)にして動作させることができる。
The various timing signals mentioned above are generated by the following internal control signal generation circuit TG. Internal control signal generation circuit TG
are two external control signals CE (chip enable signal)
, WE (write enable signal) and an address signal change detection signal φ formed by an address signal change detection circuit ATD provided therein and receiving the address signal ao-a16, various types necessary for memory operation are performed. Forms and sends a timing signal. Although not particularly limited, the address signal change detection circuit ATD can be configured to detect address signal a.
0 to 16 and their delayed signals, and an OR circuit that receives the output signals of these exclusive OR circuits. This address signal change detection circuit ATD detects the address signals aO to A1.
If the level of any one of 6 changes,
An address signal change detection pulse φ is formed in synchronization with the change timing. As a result, the RAM is operated by an internally generated timing signal, so the I
From outside C, it can be operated in the same way as a static RAM (pseudo static RAM).

また、内部制御信号発生回路TGは、上記アドレス信号
a9と後述する自動リフレッシュ制御回路REFCから
供給される信号srfを受けて、上記メモリアレイM−
ARY1とM−ARY2に対応したセンスアンプSAI
、SA2の動作タイミング信号φpa(φpa1.φp
alとφpa2.φpa)を後述するように発生させる
Further, the internal control signal generation circuit TG receives the address signal a9 and a signal srf supplied from the automatic refresh control circuit REFC, which will be described later, and receives the address signal a9 from the memory array M-
Sense amplifier SAI compatible with ARY1 and M-ARY2
, SA2 operation timing signal φpa (φpa1.φp
al and φpa2. φpa) is generated as described below.

回路記号REFCで示されているのは、自動リフレッシ
ュ回路であり、後述するようにタイマー回路及びリフレ
ッシュアドレスカウンタ等を含んでいる。この自動リフ
レッシュ回路REFCは、特に制限されないが、タイマ
ー回路は、外部端子から供給されるリフレッシュ制御信
号REFが1メモリサイクル以上の比較的長い時間ハイ
レベルにされると、これを検出してセフルリフレソシュ
動作を開始させる。すなわち、セルフリフレッシュ動作
は、上記信号REFがロウレベルにされている間、上記
タイマー回路によって設定される周期に従ってアドレス
歩進動作により、連続的なリフレッシュ動作が行われる
。また、上記信号REFが上記lサイクルのような短い
時間だけロウレベルにされると、オートリフレッシュ動
作が実行される。すなわち、上記信号REFがロウレベ
ルにされる毎に、リフレッシュアドレスの歩進動作が行
われるものとなる。上記アドレスカウンタ回路は、リフ
レッシュ用アドレス信号aQl ないしa9”を形成す
る。このリフレッシュ用アドレス信号aQl ないしa
91 は、マルチプレクサ機能を持つロウアドレスバッ
ファR−ADBを介して1:l”77)’し7!、7’
D−ダR−DCRI、R−DCR2に伝えられ、ロウ系
の選択動作によってリフレッシュ動作が行われる。
The circuit designated by the circuit symbol REFC is an automatic refresh circuit, which includes a timer circuit, a refresh address counter, etc., as will be described later. Although this automatic refresh circuit REFC is not particularly limited, when the refresh control signal REF supplied from an external terminal is kept at a high level for a relatively long time of one memory cycle or more, the timer circuit detects this and performs a self-refresh. Start the sosh operation. That is, in the self-refresh operation, while the signal REF is at a low level, a continuous refresh operation is performed by an address increment operation according to a cycle set by the timer circuit. Furthermore, when the signal REF is brought to a low level for a short period of time such as the 1 cycle, an auto-refresh operation is performed. That is, each time the signal REF is set to low level, the refresh address is incremented. The address counter circuit generates refresh address signals aQl to a9''. These refresh address signals aQl to a
91 is 1:l"77)' and 7!, 7' via the row address buffer R-ADB with multiplexer function.
The data is transmitted to the D-da R-DCRI and R-DCR2, and a refresh operation is performed by a row-related selection operation.

上記セルフリフレッシュ動作におけるピーク電流値を低
減されるために、この実施例では上記セルフリフレッシ
ュ動作モードのとき、自動リフレッシュ制御皿回路RE
FCからセルフリフレッシュ動作を示すHa[信号sr
fが形成される。この信号は、特に制限されないが、上
記ロウデコーダR−DCR2を構成する単位回路UDC
R2におけるナントゲート回路に設けられるMO3FE
TQ36のゲートに供給される。このMO3FETQ3
6は、メモリアレイ又はメモリマットの選択を指示する
アドレス信号T9を受けるMO3FETQ34に対して
並列形態に設けられる。上記信号srfは、上記アドレ
ス信号子9の有効/無効を指示するものである。すなわ
ち、信号srfがハイレベルにされると、MO3FET
Q36がオン状態にされるため、アドレス信号子9のハ
イレベル/ロウレベルに無関係に、他のアドレス信号a
2ないしa8によってナントゲート回路の出力信号が決
定される。これに対して、上記信号srfがロウレベル
にされると、上記MO3FETQ36がオフ状態にされ
るため、反転のアドレス信号a9がハイレベルのとき、
メモリアレイM−ARYl側のロウ選択動作が行われる
。このとき、非反転のアドレス信号a9のロウレベルに
よってメモリアレイM−ARY2のロウ系の選択動作が
行われない。これに応じて、メモリアレイM−ARY2
のセンスアンプSA2も非動作状態にされる。
In order to reduce the peak current value in the self-refresh operation, in this embodiment, in the self-refresh operation mode, the automatic refresh control plate circuit RE
Ha [signal sr] indicating self-refresh operation from FC
f is formed. Although this signal is not particularly limited, the unit circuit UDC constituting the row decoder R-DCR2
MO3FE provided in the Nant gate circuit in R2
Supplied to the gate of TQ36. This MO3FETQ3
6 is provided in parallel with MO3FETQ34 which receives address signal T9 instructing selection of a memory array or memory mat. The signal srf instructs whether the address signal 9 is valid or invalid. That is, when the signal srf is set to high level, the MO3FET
Since Q36 is turned on, other address signals a are
2 to a8 determine the output signal of the Nant gate circuit. On the other hand, when the signal srf is set to a low level, the MO3FET Q36 is turned off, so when the inverted address signal a9 is at a high level,
A row selection operation on the memory array M-ARYl side is performed. At this time, the row selection operation of memory array M-ARY2 is not performed due to the low level of non-inverted address signal a9. Accordingly, memory array M-ARY2
The sense amplifier SA2 is also rendered inactive.

すなわち、センスアンプSA2の動作タイミング信号φ
paLφpa2は、ロウレベルのままにされ、タイミン
グ信号φpal、φpa2はハイレベルのままにされる
。逆に、非反転のアドレス信号a9がハイレベルのとき
、メモリアレイM−ARY2側のロウ選択動作が行われ
る。このとき、反転のアドレス(8号a9のロウレベル
によってメモリアレイM−ARY1のロウ系の選択動作
が行われない。
In other words, the operation timing signal φ of the sense amplifier SA2
paLφpa2 is kept at low level, and timing signals φpal and φpa2 are kept at high level. Conversely, when the non-inverted address signal a9 is at a high level, the row selection operation on the memory array M-ARY2 side is performed. At this time, the selection operation of the row system of the memory array M-ARY1 is not performed due to the low level of the inverted address (No. 8 a9).

これに応じて、メモリアレイM−ARY1のセンスアン
プSAIも非動作状態にされる。すなわち、センスアン
プSAIの動作タイミング信号φpal。
In response, sense amplifier SAI of memory array M-ARY1 is also rendered inactive. That is, the operation timing signal φpal of the sense amplifier SAI.

φpa2は、ロウレベルのままにされ、タイミング信号
φpaLφpa2はハイレベルのままにされる。
φpa2 is kept at a low level, and the timing signal φpaLφpa2 is kept at a high level.

以上のことより、上記内部相補アドレス信号上9は、図
示しないけれども上記信号srfに従って上記センスア
ンプSAI、SA2の動作タイミング信号φpaLφp
al とφp a 2 +φpa2の発生をも制御する
ものである。
From the above, although not shown, the internal complementary address signal 9 is the operation timing signal φpaLφp of the sense amplifiers SAI and SA2 according to the signal srf.
It also controls the generation of al and φp a 2 +φpa2.

第2図には、上記自動リフレッシュ制御回路REFCの
一実施例の回路図が示されている。
FIG. 2 shows a circuit diagram of an embodiment of the automatic refresh control circuit REFC.

外部端子から供給されるリフレッシュ制御信号REFは
、特に制限されないが、一方において並列形態のPチャ
ンネルMO3FF、TQ50とQ51及び直列形態のN
チャンネルM OS F E T Q 52、Q53か
らなるCMOSナンド(NAND)ゲート回路からなる
第1の入力回路TBIの一方の入力端子とされるMO3
FETQ50とQ53のゲートに伝えられる。上記信号
REFは、他方において並列形態のPチャンネルMOS
 F ETQ54とQ55及び直列形態のNチャンネル
MO3FETQ56.Q57からなるCMOSナントゲ
ート回路からなる第2の入力回路TB2の一方の入力端
子とされるMO3FETQ54とQ57のゲートに伝え
られる。なお、上記各入力回路TB1とIB2の入力端
子と上記外部端子との間には、静電破壊防止回路が設け
られるものであるが、この発明には直接関係ないので同
図では省略されている。
The refresh control signal REF supplied from the external terminal is not particularly limited, but on the one hand, the P-channel MO3FF in parallel form, TQ50 and Q51, and the N in series form.
Channel MOS FET Q MO3 serves as one input terminal of the first input circuit TBI consisting of a CMOS NAND gate circuit consisting of 52 and Q53.
It is transmitted to the gates of FETQ50 and Q53. On the other hand, the signal REF is connected to a P-channel MOS in parallel form.
FETQ54 and Q55 and N-channel MO3FETQ56 in series form. The signal is transmitted to the gates of MO3FETQ54 and Q57, which serve as one input terminal of the second input circuit TB2, which is a CMOS Nant gate circuit consisting of Q57. Note that an electrostatic breakdown prevention circuit is provided between the input terminals of each of the input circuits TB1 and IB2 and the external terminal, but it is omitted in the figure because it is not directly related to this invention. .

上記第1の入力回路IBIを構成する各MO3FETQ
50ないしQ53は、オートリフレッシュ動作の高速化
のためにそのサイズが比較的大きく形成されることによ
って比較的大きな電流駆動能力を持つようにされる。こ
れに対して、上記第2の入力回路IB2を構成する各M
O3FETQ54ないしQ57は、セルフリフレッシュ
動作での低消費電力化を図るこめにそのサイズが比較的
小さく形成されることによって比較的小さな電流駆動能
力しか持たないようにされる。
Each MO3FETQ that constitutes the first input circuit IBI
50 to Q53 are formed relatively large in size to speed up the auto-refresh operation, so that they have a relatively large current driving capability. On the other hand, each M constituting the second input circuit IB2
The O3FETs Q54 to Q57 are formed relatively small in size in order to reduce power consumption in self-refresh operation, so that they have only a relatively small current driving capability.

上記第1の入力回路TBIの出力信号refは、一方に
おいて内部制御信号発生回路TOに供給され、他方にお
いてリフレッシュ制御回路のタイマー回路TMのセット
端子Sに供給される。上記第2の入力回路TB2の出力
信号ref’ は、上記タイマー回路TMのリセット端
子Rに供給される。
The output signal ref of the first input circuit TBI is supplied on one side to the internal control signal generation circuit TO, and on the other hand to the set terminal S of the timer circuit TM of the refresh control circuit. The output signal ref' of the second input circuit TB2 is supplied to the reset terminal R of the timer circuit TM.

タイマー回路TMは、後述するように上記内部信号re
fが1メモリサイクル等所定の時間以上にわたってハイ
レベル(リフレッシュ制御信号REFがロウレベル)の
とき、これを検出してセルフリフレッシュ信号srfを
ハイレベルにする。このセルフリフレッシュ信号srr
のハイレベルによって、アドレスカウンタ回路ADCは
、例えば内蔵の発振回路等により形成されたパルス信号
の計数動作を開始して、リフレッシュ用アドレス信号a
Ql ないしa9°を形成する。上記リフレッシュ信号
refは、図示しないが第1図に示したロウアドレス八
ソファR−ADBのマルチプレクサ回路に切り換え動作
を行い、上記リフレッシュ用アドレス信号aQl ない
しa9’ をアドレス信号変化検出回路ATD及びロウ
アドレスデコーダR−DCRに伝える。これによって、
と記リフレッシュ用アドレス信号aO”ないしa9”に
従ったリフレッシュ動作が開始される。
The timer circuit TM receives the internal signal re as described later.
When f is at a high level for more than a predetermined time such as one memory cycle (refresh control signal REF is at a low level), this is detected and the self-refresh signal srf is set at a high level. This self-refresh signal srr
In response to the high level of the address counter circuit ADC, the address counter circuit ADC starts counting pulse signals generated by, for example, a built-in oscillation circuit, and outputs the refresh address signal a.
Forms Ql to a9°. Although not shown, the refresh signal ref performs a switching operation to the row address eight sofa R-ADB multiplexer circuit shown in FIG. It is transmitted to the decoder R-DCR. by this,
A refresh operation according to the refresh address signals aO" to a9" is started.

また、上記セルフリフレッシュ信号srfは、上記第2
の入力回路IB2を構成するナントゲート回路の他方の
入力端子とされるMO3FETQ55とQ56のゲート
に伝えられる。これによって、第2の入力回路IB2は
、そめNチャンネルMO3FETQ56がオン状態にさ
れるため、上記リフレッシュ開始とともに実質的な非動
作状態から動作状態にされる。すなわち、外部端子から
供給される制御信号REFに対応された内部信号ref
’ を形成するものとなる。上記セルフリフレッシュ制
御信号srfは、CMOSインバータ回路TVを介して
第1の入力回路IBIを構成するナントゲート回路の他
方の入力端子とされるM○5FETQ51.Q52のゲ
ートに伝えられる。
Further, the self-refresh signal srf is the second
The signal is transmitted to the gates of MO3FETs Q55 and Q56, which are the other input terminals of the Nant gate circuit that constitutes the input circuit IB2. As a result, the second input circuit IB2 turns on the N-channel MO3FET Q56, so that the second input circuit IB2 is changed from a substantially inactive state to an active state at the same time as the refresh starts. That is, the internal signal ref corresponds to the control signal REF supplied from the external terminal.
'. The self-refresh control signal srf is applied to the M○5FETQ51. This will be communicated to the gate of Q52.

これにより、第1の入力回路IBIは、そのNチャンネ
ルMO3FETQ52が上記セルフリフレッシュ動作開
始により反転されたセルフリフレッシュ信号5rfOロ
ウレベルによってオフ状態にされるため、実質的に非動
作状態にされる。すなわち、第1の入力回路IBIは、
外部端子から供給される信号REFには応答しないハイ
レベルの内部信号refを形成するものとなる。
As a result, the first input circuit IBI is substantially rendered inactive since its N-channel MO3FET Q52 is turned off by the low level of the self-refresh signal 5rfO, which is inverted by the start of the self-refresh operation. That is, the first input circuit IBI is
A high-level internal signal ref that does not respond to the signal REF supplied from the external terminal is formed.

上記2つの入力回路IBIとIB2の実質的な動作切り
換えによって、セルフリフレッシュ期間において第1の
入力回路IBIには、上記制御信号REFがTTLレベ
ルのロウレベル(約0.8■)によりMO3FETQ5
3がウィークリイにオン状態にされるものであっても直
流電流を消費せず、第2の入力回路IB2において小さ
な直流電流を消費するのみとなる。これによって、セル
フリフレッシュ期間での低消費電力化を図ることができ
る。
By substantially switching the operation of the two input circuits IBI and IB2, during the self-refresh period, the control signal REF is applied to the MO3FETQ5 at a low level of TTL level (approximately 0.8■) to the first input circuit IBI.
Even if 3 is turned on weekly, it does not consume DC current, and only a small amount of DC current is consumed in the second input circuit IB2. This makes it possible to reduce power consumption during the self-refresh period.

セルフリフレッシュ動作の終了時には、制御信号REF
がロウレベルからハイレベルに変化する。
At the end of the self-refresh operation, the control signal REF
changes from low level to high level.

第2の入力回路IB2は、上記信号REFの変化に応答
して内部信号srf’ をハイレベルからロウレベルに
変化させる。これにより、上記タイマー回路TMはリセ
ット状態にされ、セルフリフレッシュ信号srfをロウ
レベルにしてセルフリフレッシュ動作を終了させる。上
記セルフリフレッシュ信号srfのロウレベルによって
、上記第1の入力回路IBIが実質的な動作状態に、第
2の入力回路IB2が実質的な非動作状態に切り換えら
れる。
The second input circuit IB2 changes the internal signal srf' from high level to low level in response to the change in the signal REF. As a result, the timer circuit TM is placed in a reset state, and the self-refresh signal srf is brought to a low level to complete the self-refresh operation. By the low level of the self-refresh signal srf, the first input circuit IBI is switched to a substantially operating state, and the second input circuit IB2 is switched to a substantially non-operating state.

上記のようなセルフリフレッシュ動作のとき、上記セル
フリフレッシュ信号srfに応じて上述のようにメモリ
アレイM−ARYIとM−ARY2のロウ系のアドレス
選択回路が選択的に動作状態にされ、その選択動作に応
じてセンスアンプSA1とSA2が選択的に動作状態に
される。したがって、上記のようにメモリアレイM−A
RY1とM−ARY2のように、2つのメモリアレイ(
メモリマット)とした場合には、セルフリフレッシュ動
作のときの消費電流(ピーク電流)を半減させることが
できる。したがって、主としてバッテリーバンクアップ
動作のときに多用されるセルフリフレッシュでのピーク
電流の低減によってその電源回路の簡素化を図ることが
できる。言い換えるならば、比較的小ざな電流供給能力
を持つバッテリー及び比較的小さな容量値のコンデンコ
ーによりバンクアップ用電源を構成することができるも
のとなる。
During the self-refresh operation as described above, the row-related address selection circuits of the memory arrays M-ARYI and M-ARY2 are selectively activated as described above in response to the self-refresh signal srf, and the selection operation is performed. Sense amplifiers SA1 and SA2 are selectively activated in response to this. Therefore, as mentioned above, memory array M-A
Two memory arrays (such as RY1 and M-ARY2)
(memory mat), the current consumption (peak current) during self-refresh operation can be halved. Therefore, the power supply circuit can be simplified by reducing the peak current in self-refresh, which is often used mainly during battery bank-up operation. In other words, the bank-up power source can be configured with a battery having a relatively small current supply capacity and a capacitor having a relatively small capacity value.

なお、上記タイマー回路により設定される時間より短い
時間だけ、信号REFをロウレベルにすると、信号re
fによりアドレスカウンタ回路ADCが+1の歩進動作
を行い、1ステツプずつのオートリフレッシュ動作が行
われる。このときには、上記セルフリフレッシュ信号s
rfが形成されないことによって、両メモリアレイM−
ARY1とM−ARY2が同時にリフレッシュ動作を行
うものとなる。これによって、そのリフレッシュ時間を
短くできるから、書き込み/読み出しを高速に行うこと
ができる。言い換えるならば、書き込み/読み出しアク
セスに対して、その応答性を高くできる。
Note that if the signal REF is set to low level for a period shorter than the time set by the timer circuit, the signal RE
In response to f, the address counter circuit ADC performs an increment operation of +1, and an auto-refresh operation is performed one step at a time. At this time, the self-refresh signal s
rf is not formed, both memory arrays M-
ARY1 and M-ARY2 perform refresh operations at the same time. As a result, the refresh time can be shortened, so writing/reading can be performed at high speed. In other words, responsiveness to write/read access can be increased.

また、タイマー回路TMに、発振機能を持たせるもので
あってもよい。すなわち、上記リフレッシュ制御信号R
EFをロウレベルにしづづけると、その設定時間毎に、
タイマー回路が1つのパルス信号を発生して上記アドレ
スカウンタ回路ADCの歩進パルスを形成するようにす
るものであってもよい。この場合には、セルフリフレッ
シュ信号srfは、上記タイマー回路の出力信号を受け
てセットされるラッチ回路により形成するようにすれば
よい。
Further, the timer circuit TM may be provided with an oscillation function. That is, the refresh control signal R
If you keep EF at low level, at each set time,
The timer circuit may generate one pulse signal to form the step pulse of the address counter circuit ADC. In this case, the self-refresh signal srf may be generated by a latch circuit that is set in response to the output signal of the timer circuit.

第3図には、この実施例回路の動作の一例を説明するた
めのタイミング図が示されている。
FIG. 3 shows a timing diagram for explaining an example of the operation of this embodiment circuit.

リフレッシュ制御信号REFがロウレベルになると、上
記のようにオートリフレッシュ動作とみなされアドレス
カウンタ回路ADCが+1の歩進動作を行う。これによ
って、いずれか少なくとも1つのアドレス信号aiが変
化するためと、アドレス信号変化検出回路ATDにより
アドレス信号変化検出検出パルスφが形成される。内部
制御信号発生回路TGは、このアドレス信号変化検出パ
ルスφに同期して、メモリアレイM−ARY1、M−A
RY2の選択回路を一旦リセットする。
When the refresh control signal REF becomes low level, it is regarded as an auto-refresh operation as described above, and the address counter circuit ADC performs a +1 increment operation. As a result, at least one address signal ai changes, and an address signal change detection detection pulse φ is formed by the address signal change detection circuit ATD. The internal control signal generation circuit TG generates memory arrays M-ARY1, M-A in synchronization with this address signal change detection pulse φ.
Reset the selection circuit of RY2 once.

すなわち、上記アドレス信号変化検出パルスφにより、
センスアンプSAのタイミングパルスφpa (φpa
l、φpa2 )をロウレベルにして(図示しないがタ
イミングパルスφpaLφpa2はハイレベルにして)
センスアンプSAのパワースイッチMO3FETをオフ
状態にし、相補データ!l、’iD、Dを以前の動作に
従ったハイレベル(Vccレベル)。
That is, due to the address signal change detection pulse φ,
Sense amplifier SA timing pulse φpa (φpa
l, φpa2) to low level (timing pulse φpaLφpa2 is set to high level, although not shown)
The power switch MO3FET of the sense amplifier SA is turned off, and the complementary data! l, 'iD, D to high level (Vcc level) according to previous operation.

ロウレベル(Vssレベル)をフローティンク状態で保
持させる。ワード線選択タイミング信号φXをロウレベ
ルにすることによって、選択されていたワード線WLを
ハイレベルからロウレベル(図示せず)に引き抜いてワ
ード線のりセントを行わせる。
The low level (Vss level) is held in a floating state. By setting the word line selection timing signal φX to a low level, the selected word line WL is drawn from a high level to a low level (not shown), and the word line is inserted.

次に、プリチャージパルスφpcをハイレベルにして、
プリチャージMO3FE’[’をオン状態にすることに
より、相補データ線り、Dを短絡してVcc/2レベル
にプリチャージする。上記相補データ線り、Dが共にV
cc/2のプリチャージレベルになる時間を待って上記
プリチャージパルスφpcはロウレベルにされる。そし
て、次にワード線選択タイミング信号φXをハイレベル
に立ち上げる。
Next, set the precharge pulse φpc to high level,
By turning on the precharge MO3FE'[', the complementary data line D is short-circuited and precharged to the Vcc/2 level. Both D of the above complementary data line are V
After waiting for the time to reach the precharge level of cc/2, the precharge pulse φpc is set to low level. Then, the word line selection timing signal φX is raised to a high level.

このワード線選択タイミング信号φXの立ち上がりに同
期して相補アドレス信号上0−18 (最初はオートリ
フレッシュ動作のみなされるので、アドレス信号a9は
無効にされる。)によって決まる1つのワード線WLが
ハイレベル(図示せず)に立ち上がり選択状態にされる
。これにより、選択されたワード線に結合された複数の
メモリセルが選択され、この各メモリセルの情報記憶用
キャパシタがアドレス選択用MOS F ETを介して
データ線D(又はD)に結合される。すなわち、各相補
データ線り、 Dの1つのメモリセルの入出力ノードが
一方のデータ線D(又はD)に結合される。これにより
、メモリセルの蓄積電荷とそのデータ線りのプリチャー
ジ電荷との電荷分散により、そのデータfiD (又は
D)に読み出しレベルが現れる。なお、他方のデータ線
D(又はD)は、メモリセルが結合されないので、上記
プリチャージレベルのままである。
In synchronization with the rise of this word line selection timing signal φX, one word line WL determined by the complementary address signal 0-18 (initially, only an auto-refresh operation is performed, so the address signal a9 is invalidated) goes high. It rises to a level (not shown) and is placed in a selected state. As a result, a plurality of memory cells coupled to the selected word line are selected, and the information storage capacitor of each memory cell is coupled to the data line D (or D) via the address selection MOS FET. . That is, the input/output node of one memory cell of each complementary data line D is coupled to one data line D (or D). As a result, a read level appears in the data fiD (or D) due to charge dispersion between the accumulated charge of the memory cell and the precharged charge of the data line. Note that the other data line D (or D) remains at the above precharge level since no memory cell is coupled thereto.

次に、タイミングパルスφpaを発生させてセンスアン
プSAIとSA2を動作させる。これにより、上記相補
データ線り、Dは、上記情報記憶用キャパシタCsの記
憶電荷に従ったロウレベル。
Next, timing pulse φpa is generated to operate sense amplifiers SAI and SA2. As a result, the complementary data line D is at a low level according to the storage charge of the information storage capacitor Cs.

ハイレベルに増幅される。このようなセンスアンプSA
I、SA2の動作による増幅信号が上記メモリセルに伝
えられるので上記失われかかった記憶情報の再書込みが
なされる(リフレッシュ動作)。
amplified to a high level. This kind of sense amplifier SA
Since the amplified signal resulting from the operation of I and SA2 is transmitted to the memory cell, the memory information that is about to be lost is rewritten (refresh operation).

なお、これ以降続けて信号REFがロウレベルにされて
いると、タイマー回路TMがこれを検出してセルフリフ
レッシュ信号srfを発生させる。
Note that if the signal REF continues to be at a low level from then on, the timer circuit TM detects this and generates the self-refresh signal srf.

これにより、アドレスカウンタ回路ADCにより形成れ
たリフレッシュ用アドレス信号aQl ないしa9’ 
の変化(歩進動作)に従ってアドレス信号変化検出パル
スφが形成されるため、内部制御信号発生回路TGに再
び起動がかかり、上記ロウ系のアドレス選択回路の動作
によってセルフリフレッシュ動作が行われる。このとき
、アドレス信号上9が有効にされるため、そのレベルに
応じて、上述のようにメモリアレイM−ARYI又はM
−ARY2に対してのみリフレッシュ動作が行われる。
As a result, the refresh address signals aQl to a9' formed by the address counter circuit ADC
Since the address signal change detection pulse φ is formed in accordance with the change in (stepping operation), the internal control signal generation circuit TG is activated again, and a self-refresh operation is performed by the operation of the row-related address selection circuit. At this time, address signal 9 is enabled, so depending on its level, memory array M-ARYI or M
- Refresh operation is performed only for ARY2.

上記の実施例から得られる作用効果は、下記の通りであ
る。すなわち、 (1)ダイナミック型メモリセルがマトリックス配置さ
れて構成される複数のメモリアレイのうち1つの選択を
指示するアドレス信号を、書き込み/読み出し動作のと
き無効として、リフレッシュ動作のとき有効にしてロウ
系のアドレス選択を行うようにすることにより、リフレ
ッシュ動作のとき、選択されたメモリアレイに設けられ
るセンスアンプだけが動作状態になるため、1つのりフ
レッシュサイクルで動作するセンスアンプの数を減らせ
るため、バッテリーバックアンプが簡単な@源回路によ
り容易に行えるという効果が得られる。
The effects obtained from the above examples are as follows. That is, (1) An address signal that instructs the selection of one of a plurality of memory arrays made up of dynamic memory cells arranged in a matrix is disabled during write/read operations, and enabled during refresh operations. By selecting the address of the system, only the sense amplifiers provided in the selected memory array are activated during refresh operation, which reduces the number of sense amplifiers that operate in one refresh cycle. , an effect can be obtained in that battery back amplifier can be easily performed using a simple @source circuit.

(2)上記リフレッシュ動作のうち、セルフリフレッシ
ュ動作のときに上記メモリアレイ毎のリフレッシュを行
うことより上記バッテリーバンクアンプが容易にできる
とともに、オートリフレッシュのとき全メモリアレイの
同時リフレッシュを行うようにすることによって書き込
み/読み出し時の応答性を高くすることができるという
効果が得られる。
(2) Among the above refresh operations, by refreshing each memory array during self-refresh operation, the above-mentioned battery bank amplifier can be easily performed, and all memory arrays are simultaneously refreshed during auto-refresh. This provides the effect of increasing responsiveness during writing/reading.

(3)内部同期式のダイナミック型RAM (擬似スタ
ティック型RAM)に、上記セルフリフレッシュ機能を
設けることによって、スタティック型RAMとはソ°同
様に扱うことができる。これによって、ダイナミック型
RAMの持つ大記憶容量とスタティック型RAMの持つ
汲い扱いやすさを兼ね備えた半導体記憶装置を得ること
ができるという効果が得られる。
(3) By providing the above self-refresh function to an internally synchronized dynamic RAM (pseudo-static RAM), it can be treated in the same way as a static RAM. As a result, it is possible to obtain a semiconductor memory device that has both the large storage capacity of a dynamic RAM and the ease of handling of a static RAM.

(1)セルフリフレッシュ動作を指示する制御信号を受
ける入力回路として、比較的大きな駆動電流を持つ第1
の入力回路と、比較的小さな駆動電流しか持たない第2
の入力回路とを設け、セルフリフレッシュ期間中に上記
第1の入力回路を実質的に非動作状態にし、第2の入力
回路回路を実質的に動作状態にさせることによって、T
TLレベルの制御信号のもとでもリフレッシュモードで
の消費電流を小さくできる。これによって、上記(1)
の効果と相俟って、バッテリーバックアップをいっそう
容易にできるという効果が得られる。
(1) The first input circuit, which has a relatively large drive current, serves as an input circuit that receives a control signal that instructs self-refresh operation.
input circuit and a second circuit with a relatively small drive current.
an input circuit, and by rendering the first input circuit substantially inactive and causing the second input circuit to be substantially operational during the self-refresh period.
Current consumption in refresh mode can be reduced even under a TL level control signal. As a result, (1) above
Combined with this effect, it is possible to obtain the effect that battery backup can be performed even more easily.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、オートリフレ
ッシュ動作のときにも、メモリアレイ毎のリフレッシュ
動作を行うようにするものであってもよい。また、ダイ
ナミック型RAMのメモリセルの読み出し動作に必要と
される基準電圧は、ダミーセルを用いて形成するもので
あってもよい。また、上記ダイナミック型RAMを構成
する他の周辺回路の具体的回路構成は、種々の実施形態
を採ることができるものである。例えば、メモリアレイ
ないしメモリマットの数は、上記2個の他、4個又は個
等のようにより多くの数であってもよい。この場合、選
択されるメモリアレイ又はメモリマットを指示するアド
レス″信号は、2ビツト又は3ビツトからなる。また、
これらのアドレス信号に応じてロウ系のアドレス選択を
行う回路は、ワード線選択タイミング信号を選択的に発
生させるようにするもの等種々の実施形態を採ることが
できる。また、ロウ系とカラム系のアドレス信号を共通
の外部端子からアドレスストローブ信号に同期して時系
列的に供給するものであってもよい。さらに、リフレッ
シュ動作を指示する制御信号は、上記実質的なチップイ
ネーブル信号、例えばチフブイネーブル信号CEをロウ
レベルにし続けることにより、上記セルフリフレッシュ
動作を行わせるもの、あるいは2つのアドレスストロー
ブ信号の組み合わせ(ロウアドレスストローブ信号RA
Sの立ち下がりの前にカラムアドレスストローブ信号C
ASをロウレベルにすること等)、又はこれらの実質的
なチップ選択信号とライトイネーブル信号WE等のよう
な他の制御信号との組み合わせて形成するものであって
もよい。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that this invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. For example, a refresh operation may be performed for each memory array even during an auto-refresh operation. Further, the reference voltage required for the read operation of the memory cell of the dynamic RAM may be formed using a dummy cell. Furthermore, the specific circuit configurations of other peripheral circuits constituting the dynamic RAM can take various embodiments. For example, the number of memory arrays or memory mats may be greater than the above two, such as four or more. In this case, the address signal indicating the selected memory array or memory mat consists of 2 or 3 bits.
The circuit that selects row-related addresses in response to these address signals can take various embodiments, such as one that selectively generates a word line selection timing signal. Alternatively, the row-related and column-related address signals may be supplied in time series from a common external terminal in synchronization with the address strobe signal. Further, the control signal instructing the refresh operation may be one that causes the self-refresh operation to be performed by keeping the substantial chip enable signal, for example, the chip enable signal CE, at a low level, or a combination of two address strobe signals ( Row address strobe signal RA
Column address strobe signal C before the falling edge of S.
AS) or by combining these substantial chip selection signals with other control signals such as the write enable signal WE.

この発明は、ダイナミック型メモリセルを用いた半導体
記憶装置に広く利用できる。
The present invention can be widely used in semiconductor memory devices using dynamic memory cells.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を符単に説明すれば、下記の通りである
。すなわち、ダイナミック型メモリセルがマトリックス
配置されて構成される複数のメモリアレイのうち1つの
選択を指示するアドレス信号を、書き込み/読み出し動
作のとき無効として、リフレッシュ動作のとき有効にし
てロウ系のアドレス選択を行うようにすることにより、
リフレッシュ動作のとき、選択されたメモリアレイに設
けられるセンスアンプだけが動作状態になるため、1つ
のリフレッシュサイクルで動作するセンスアンプの数を
減らせるため、バ・7テリーハツクアツプが容易に行え
る。
A brief description of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows. In other words, the address signal that instructs the selection of one of a plurality of memory arrays consisting of dynamic memory cells arranged in a matrix is disabled during a write/read operation, and enabled during a refresh operation, and the address signal for the row system is disabled. By allowing us to make choices;
During a refresh operation, only the sense amplifiers provided in the selected memory array are in operation, so the number of sense amplifiers operating in one refresh cycle can be reduced, making it easy to perform battery hack-up.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、この発明が適用されたダイナミック型RAM
の一実施例を示す回路図、 第2図は、その自動リフレッシュ制御回路の−実施例を
示す回路図、 第3図は、その動作を説明するためのタイミング図であ
る。 M−ARYI  (M−ARY2)  ・・メモリアレ
イ、PCI  (PO2)  ・・プリチャージ回路、
SAl  (SA2)  ・・センスアンプ、USA・
・単位回路、CWl (SW2)  ・・カラムスイッ
チ、R−ADB・・ロウアドレスバッファ、C−ADB
・・カラムアドレスバッファ、R−DCR1゜R−DC
R2・・ロウデコーダ、UDCR2・・単位回路、C−
DCR・・カラムデコーダ、MA・・メインアンプ、D
OB・・データ出カバソファ、DIB・・データ人カバ
ソファ、VBG・・基板バイア、大発生回路、TG・・
内部制御信号発生回路、ATD・・アドレス信号変化検
出回路。 自動リフレッシュ制御回路RE F C,TM・・タイ
マー回路、ADC・・アドレスカウンタ回路、IBI、
IB2・・入力回路
Figure 1 shows a dynamic RAM to which this invention is applied.
FIG. 2 is a circuit diagram showing an embodiment of the automatic refresh control circuit, and FIG. 3 is a timing diagram for explaining its operation. M-ARYI (M-ARY2) ・・Memory array, PCI (PO2) ・・Precharge circuit,
SAl (SA2)...Sense amplifier, USA...
・Unit circuit, CWl (SW2) ・・Column switch, R-ADB ・・Row address buffer, C-ADB
・・Column address buffer, R-DCR1゜R-DC
R2...Row decoder, UDCR2...Unit circuit, C-
DCR: Column decoder, MA: Main amplifier, D
OB...data output cover sofa, DIB...data person cover sofa, VBG...board via, large generation circuit, TG...
Internal control signal generation circuit, ATD...address signal change detection circuit. Automatic refresh control circuit REFC, TM...Timer circuit, ADC...Address counter circuit, IBI,
IB2...Input circuit

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、ダイナミック型メモリセルがマトリックス配置され
て構成される複数のメモリアレイと、上記複数のメモリ
アレイのうち1つの選択を指示するアドレス信号を、書
き込み/読み出し動作のとき無効として、リフレッシュ
動作のとき有効にするロウ系のアドレス選択回路とを含
むことを特徴とする半導体記憶装置。 2、上記リフレッシュ動作は、外部端子から供給される
制御信号が一定時間以上所定のレベルのとき内部で形成
されたリフレッシュ用アドレス信号に基づいたセルフリ
フレッシュ機能を持つ自動リフレッシュ制御回路により
行われるものであることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の半導体記憶装置。 3、上記半導体記憶装置は、アドレス信号の変化検出信
号に従って、内部動作に必要な時系列的な動作タイミン
グ信号が形成される内部同期式のダイナミック型RAM
であることを特徴とする特許請求の範囲第1、又は第2
項記載の半導体記憶装置。
[Claims] 1. A plurality of memory arrays configured by dynamic memory cells arranged in a matrix, and an address signal instructing selection of one of the plurality of memory arrays are invalidated during write/read operations. 1. A semiconductor memory device comprising: a row-related address selection circuit that is enabled during a refresh operation. 2. The above refresh operation is performed by an automatic refresh control circuit having a self-refresh function based on an internally generated refresh address signal when a control signal supplied from an external terminal is at a predetermined level for a certain period of time or more. A semiconductor memory device according to claim 1, characterized in that: 3. The semiconductor memory device is an internally synchronized dynamic RAM in which a time-series operation timing signal necessary for internal operations is formed according to a change detection signal of an address signal.
The first or second claim characterized in that
The semiconductor storage device described in 1.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0268791A (en) * 1988-09-01 1990-03-08 Mitsubishi Electric Corp Dynamic random access memory device and its action method
JPH06318393A (en) * 1993-02-04 1994-11-15 United Memories Inc Bit selecting circuit for integrated circuit

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