JPH035992A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH035992A
JPH035992A JP1140734A JP14073489A JPH035992A JP H035992 A JPH035992 A JP H035992A JP 1140734 A JP1140734 A JP 1140734A JP 14073489 A JP14073489 A JP 14073489A JP H035992 A JPH035992 A JP H035992A
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JP
Japan
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circuit
complementary data
data line
signal
amplifier
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Application number
JP1140734A
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Japanese (ja)
Inventor
Isao Akima
勇夫 秋間
Souichi Kunito
国戸 総一
Hideaki Nakamura
英明 中村
Michiaki Kiku
規矩 道昭
Toshio Nosaka
野坂 寿雄
Hiroshi Yoshida
浩 吉田
Yasushi Yamazaki
康司 山崎
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Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH035992A publication Critical patent/JPH035992A/en
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Abstract

PURPOSE:To equivalently improve speed for the amplifying operation of a main amplifier by providing the amplifier circuit of a latch style to be activated by a prescribed timing signal to a common complementary data line to be connected to a complementary data line to which a memory cell is coupled through a column switch circuit. CONSTITUTION:The input of a main amplifier MA and an amplifier circuit AMP including an amplifier MOSFET of the latch style to be activated by the prescribed timing signal are connected to the common complementary data line to be connected through the column switch circuit to the complementary data line to which the memory cell is coupled. Accordingly, a read signal, which is transmitted to the common complementary data line, is amplified in the manner of a direct current as well by the amplifier circuit AMP of the latch style. Thus, the speed for the amplifying operation of the main amplifier MA can be equivalently improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体記憶装置に関し、例えばダイナミッ
ク型RAM (ランダム・アクセス・メモリ)に利用し
て有効な技術に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory device, and relates to a technique effective for use in, for example, a dynamic RAM (random access memory).

〔従来の技術〕[Conventional technology]

マトリックス配置されたダイナミック型メモリセルから
読み出された信号は、出力回路の前段部にあたるメイア
ンプの入力に伝えられ、ここで増幅されて出力回路を通
して外部端子から送出される。ダイナミック型RAMに
関しては、例えば側サンエンスフオーラム社昭和58年
11月28日発行「超LSIデバイスハンドブック1頁
291〜頁305がある。
Signals read from the dynamic memory cells arranged in a matrix are transmitted to the input of the main amplifier, which is the front stage of the output circuit, where they are amplified and sent out from the external terminal through the output circuit. Regarding dynamic RAM, there is, for example, ``Very LSI Device Handbook,'' published by Sanence Forum Publishing, November 28, 1981, pages 1, 291 to 305.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

選択されたメモリセルからの記憶情報は、データ線に微
小電位差として現れる。この微小電位差は、データ線に
結合されたセンスアンプにより増幅され、カラムスイッ
チ回路を介して共通相補データ線に伝達される。ここで
、共通相補データ線は、カラムスイッチ回路を構成する
スイッチM。
The stored information from the selected memory cell appears on the data line as a minute potential difference. This minute potential difference is amplified by a sense amplifier coupled to the data line and transmitted to the common complementary data line via the column switch circuit. Here, the common complementary data line is a switch M that constitutes a column switch circuit.

・5FETが結合されてなることによって、比較的大き
な寄生容量を持つ。したがって、センスアンプにより増
幅された読み出し信号は、カラムスイッチ回路が動作さ
れ相補データ線と上記大きな寄生容量を持つ共通相補デ
ータ線とが結合されることによって、メイアンプの入力
部では、比較的小さなレベルになってしまう。それとと
もに、上記カラム選択動作に伴い相補データ線に共通相
補データ線が結合されるとそれらがセンスアンプに・対
して重い負荷を構成することとなるので、メイアンプに
伝えられるべき入力信号レベル差のセンスアンプによる
拡大が遅くなり、メインアンプ部での増幅動作に時間が
かかりるという問題を生じる。
・Has a relatively large parasitic capacitance due to the combination of 5 FETs. Therefore, the read signal amplified by the sense amplifier is brought to a relatively small level at the input section of the main amplifier by operating the column switch circuit and coupling the complementary data line and the common complementary data line with the above-mentioned large parasitic capacitance. Become. At the same time, when the common complementary data line is coupled to the complementary data line due to the above column selection operation, they constitute a heavy load on the sense amplifier. A problem arises in that the expansion by the sense amplifier becomes slow and the amplification operation in the main amplifier section takes time.

また、1トランジスタ型のダイナミック型メモリセルで
は、ワード線の選択動作により記憶電荷が破壊的に読み
出される。それ故、センスアンプの増幅動作によって、
記憶用キャパシタにもとの電荷状態に戻すという再書き
込み動作が必要である。この再書き込み動作においても
、上記カラム選択動作に伴い相補データ線に共通相補デ
ータ線が結合されることによってセンスアンプの負荷が
重くなり、上記のように増幅動作に時間がかかると、そ
れに応じてメモリセルの再書き込み動作も遅くなるもの
である。
Furthermore, in a one-transistor type dynamic memory cell, stored charges are destructively read out by a word line selection operation. Therefore, due to the amplification operation of the sense amplifier,
A rewrite operation is required to return the storage capacitor to its original charge state. In this rewrite operation, the load on the sense amplifier becomes heavy due to the coupling of the common complementary data line to the complementary data line in conjunction with the column selection operation, and if the amplification operation takes time as described above, the load on the sense amplifier increases accordingly. The rewriting operation of the memory cell also becomes slower.

この発明の目的は、読み出し動作の高速化を図った半導
体記憶装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device capable of speeding up read operations.

この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は
、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、メモリセルが結合された相補データ線に、カ
ラムスイッチ回路を介して接続される共通相補データ線
に対して、メインアンプの入力と、所定のタイミング信
号により活性化されるラッチ形態の増幅MOSFETを
含む増幅回路とを接続させる。
That is, a latch-type amplification MOSFET activated by the input of the main amplifier and a predetermined timing signal is connected to a common complementary data line connected to a complementary data line to which memory cells are coupled via a column switch circuit. and an amplifier circuit including.

〔作 用〕[For production]

上記した手段によれば、共通相補データ線に伝えられた
読み出し信号は、ラッチ形態の増幅回路により直流的に
も増幅されるから等価的にメンアンプの増幅動作の高速
化が図られる。
According to the above-mentioned means, the read signal transmitted to the common complementary data line is also DC-amplified by the latch-type amplifier circuit, so that the speed of the amplification operation of the main amplifier is equivalently increased.

〔実施例〕〔Example〕

第1図には、この発明が適用されたダイナミック型RA
Mの一実施例の概略回路図が示されている。同図の各回
路素子は、公知のCMO5集積回路の製造技術によって
、1個の単結晶シリコンのような半導体基板上において
形成される。同図において、チャンネル部分(バックゲ
ート)に矢印が付加されたMOSFETはPチャンネル
型である。
FIG. 1 shows a dynamic RA to which this invention is applied.
A schematic circuit diagram of one embodiment of M is shown. Each circuit element in the figure is formed on a single semiconductor substrate, such as single crystal silicon, by a known CMO5 integrated circuit manufacturing technique. In the figure, MOSFETs whose channel portions (back gates) are marked with arrows are P-channel type.

特に制服されないが、集積回路は、単結晶P型シリコン
からなる半導体基板に形成される。NチャンネルMOS
 F ETは、かかる半導体基板表面に形成されたN型
のソース領域、ドレイン領域及びかかるソース領域とド
レイン領域との間の半導体基板表面に薄い厚さのゲート
絶縁膜を介して形成されたポリシリコンからなるような
ゲート電極から構成される。PチャンネルMOSFET
は、上記半導体基板表面に形成されたN型ウェル領域に
形成される。これによって、半導体基板は、その上に形
成された複数のNチャンネルMOSFETの共通の基板
ゲートを構成する。N型ウェル領域は、その上に形成さ
れたPチャンネルMOSFETの基板ゲートを構成する
。PチャンネルMOSFETの基板ゲートすなわちN型
ウェル領域は、第1図の電源端子VCCに結合される。
Although not particularly specific, integrated circuits are formed on semiconductor substrates consisting of single crystal P-type silicon. N channel MOS
An FET consists of an N-type source region, a drain region formed on the surface of a semiconductor substrate, and a polysilicon film formed on the surface of the semiconductor substrate between the source region and the drain region with a thin gate insulating film interposed therebetween. It consists of a gate electrode consisting of: P-channel MOSFET
is formed in an N-type well region formed on the surface of the semiconductor substrate. Thereby, the semiconductor substrate constitutes a common substrate gate for a plurality of N-channel MOSFETs formed thereon. The N-type well region constitutes the substrate gate of the P-channel MOSFET formed thereon. The substrate gate of the P-channel MOSFET, ie, the N-type well region, is coupled to the power supply terminal VCC of FIG.

基板バイアス電圧発生回路■BGは、電源端子Vccと
基準電位端子(グランド端子)Vssとの間に供給され
る+5vのような正の電源電圧によって動作され、半導
体基板に供給すべき負のバックバイアス電圧−vbbを
発生する。これによって、NチャンネルMOS F E
Tの基板ゲートにバックバイアス電圧が加えられること
になり、その結果として、NチャンネルMOSFETの
ソース、ドレインと基板間の寄生容量値が減少され、回
路の畜速動作化が図られる。また、基板に発生するマイ
ノリティ(少数)キャリアがバックバイアス電源側に吸
収されることによって回路素子のリーク電流が減少され
、情報記憶キャパシタに蓄積された情報電荷が失われる
ことが軽減されるためリフレッシュ周期を長くすること
ができる。
Substrate bias voltage generation circuit BG is operated by a positive power supply voltage such as +5V supplied between the power supply terminal Vcc and the reference potential terminal (ground terminal) Vss, and generates a negative back bias to be supplied to the semiconductor substrate. Generates voltage -vbb. As a result, N-channel MOS F E
A back bias voltage is applied to the substrate gate of T, and as a result, the parasitic capacitance value between the source and drain of the N-channel MOSFET and the substrate is reduced, and faster operation of the circuit is achieved. In addition, minority carriers generated in the substrate are absorbed into the back bias power supply side, which reduces the leakage current of circuit elements and reduces the loss of information charges accumulated in the information storage capacitor. The cycle can be lengthened.

集積回路のより具体的な構造は、大まかに説明すると次
のようになる。
The more specific structure of an integrated circuit can be roughly explained as follows.

すなわち、単結晶P型シリコンからなり、かつN型ウェ
ル領域が形成された半導体基板の表面部分のうち、活性
領域とされた表面部分以外、すなわち、半導体配線領域
、キャパシタ形成領域、及びNチャンネル及びPチャン
ネル領域 S F ETのソース、ドレイン及びチャン
ネル形成領域(ゲーI・形成領域)とされた表面部分以
外には、公知の選択酸化法によって形成された比較厚い
厚さのフィールド絶縁膜が形成されている。キャパシタ
形成領域は、特に制限されないが、キャパシタ用の誘電
体膜としての比較的薄い厚さの絶縁膜(酸化膜)を介し
て1層目ポリシリコン層が形成されている。1層目ポリ
シリコン層は、フィールド絶縁膜上まで延長されている
。1層目ポリシリコン層の表面には、それ自体の熱酸化
によって形成された薄い酸化膜が形成されている。キャ
パシタ形成領域における半導体基板表面には、イオン打
ち込み法によるN型領域が形成されること、又は所定の
電圧が供給されることによってチャンネルが形成される
。これによって、IN目ポリシリコン層、薄い絶縁膜及
びチャンネル領域からなるキャパシタが形成される。フ
ィールド酸化膜上の1層目ポリシリコン層は、1種の配
線とみなされる。
That is, out of the surface portion of the semiconductor substrate made of single crystal P-type silicon and on which the N-type well region is formed, the surface portion other than the surface portion that is used as the active region, that is, the semiconductor wiring region, the capacitor formation region, and the N-channel and P-channel region A relatively thick field insulating film formed by a known selective oxidation method is formed in areas other than the surface portions used as the source, drain, and channel formation region (GaI/formation region) of the SFET. ing. Although the capacitor formation region is not particularly limited, a first polysilicon layer is formed via a relatively thin insulating film (oxide film) as a dielectric film for the capacitor. The first polysilicon layer extends over the field insulating film. A thin oxide film formed by thermal oxidation of the first polysilicon layer is formed on the surface of the first polysilicon layer. A channel is formed on the surface of the semiconductor substrate in the capacitor formation region by forming an N-type region by ion implantation or by supplying a predetermined voltage. As a result, a capacitor consisting of an IN-th polysilicon layer, a thin insulating film, and a channel region is formed. The first polysilicon layer on the field oxide film is regarded as a type of wiring.

チャンネル形成領域上には、薄いゲート酸化膜を介して
ゲート電極として2層目ポリシリコン層が形成されてい
る。この2層目ポリシリコン層は、フィールド絶縁膜上
及び1層目ポリシリコン層上に延長される。特に制限さ
れないが、後で説明するメモリアレイにおけるワード線
及びダミーワード線は、2層目ポリシリコン層から構成
される。
A second polysilicon layer is formed as a gate electrode on the channel forming region with a thin gate oxide film interposed therebetween. This second polysilicon layer extends over the field insulating film and over the first polysilicon layer. Although not particularly limited, word lines and dummy word lines in a memory array, which will be described later, are constructed from a second polysilicon layer.

フィールド絶縁膜、1層目及び2層目ポリシリコン層に
よって覆われていない活性領域表面には、それらを不純
物導入マスクとして使用する公知の不純物導入技術によ
ってソース、ドレイン及び半導体配線領域が形成されて
る。
Source, drain, and semiconductor wiring regions are formed on the surface of the active region not covered by the field insulating film and the first and second polysilicon layers by a known impurity doping technique that uses them as an impurity doping mask. .

1層目及び2層口ポリシリコン層上を含む半導体基板表
面に比較的厚い厚さの眉間絶縁膜が形成され、この眉間
絶縁膜上には、アルミニュウムからなるような導体層が
形成されている。導体層は、その下の絶縁膜に設けられ
たコンタクト孔を介してポリシリコン層、半導体領域に
電気的に結合される。後で説明するメモリアレイにおけ
るデータ線は、特に制限されないが、この眉間絶縁膜上
に延長された導体層から構成される。
A relatively thick glabellar insulating film is formed on the surface of the semiconductor substrate including the first and second polysilicon layers, and a conductor layer made of aluminum is formed on this glabellar insulating film. . The conductor layer is electrically coupled to the polysilicon layer and the semiconductor region through a contact hole provided in the insulating film below. A data line in a memory array, which will be described later, is composed of a conductor layer extending on this glabella insulating film, although it is not particularly limited.

眉間絶縁膜上及び導体層上を含む半導体基板表面は、窒
化シリコン膜とフォスフオシリケードガラス膜とからな
るようなファイナルパッシベーション膜によって覆われ
ている。
The surface of the semiconductor substrate including the top of the glabella insulating film and the top of the conductor layer is covered with a final passivation film made of a silicon nitride film and a phosphosilicade glass film.

メモリアレイMARYは、特に制限されないが、2交点
(折り返しピッ14’り方式とされる。第1図には、そ
の一対の行が具体的に示されている。
Although not particularly limited, the memory array MARY is of a two-intersection (folded-pitch 14') type. A pair of rows is specifically shown in FIG. 1.

例示的に示された一対の平行に配置された相補データ線
(ビット線又はデイジット線とも称される)DO,DO
に、アドレス選択用MOSFETQmと情報記憶用キャ
パシタCsとで構成された複数のメモリセルのそれぞれ
の入出力ノードが同図に示すように所定の規則性をもっ
て配分されて結合されている。
A pair of parallel arranged complementary data lines (also referred to as bit lines or digit lines) DO, DO
Input/output nodes of each of a plurality of memory cells constituted by an address selection MOSFET Qm and an information storage capacitor Cs are distributed and coupled with a predetermined regularity as shown in the figure.

プリチャージ回路PCは、代表として示されたMOSF
ETQ5のように、相補データ線DO。
The precharge circuit PC is a MOSF shown as a representative.
Complementary data line DO, like ETQ5.

00間に設けられたスイッチMO5FETにより構成さ
れる。MOSFETQ5は、そのゲートに供給されるプ
リチャージ信号φpcによって、チップ非選択状態のと
き又はメモリセルが選択状態にされる前にオン状態にさ
れる。これにより、後述するセンスアンプSAの以前の
動作サイクルでの増幅動作によってハイレベル及びロウ
レベルニ゛すれていた相補データ線Do、Doは、MO
SFETQ5を介して短絡されることになるので共に約
Vcc/2 (HVC)のプリチャージ電圧レベルにさ
れることになる。なお、チップが比較的長い時間非選択
状態に置かれる場合、上記プリチャージレベルは、リー
ク電流等によって低下する。そこで、特に制限されない
が、この実施例では、上記MOSFETQ5とともにプ
リチャージ信号φpcによって動作されるスイッチMO
SFETQ45及びQ45を設けて、ハーフプリチャー
ジ電圧HVCを相補データ線Do、Doに供給するよう
にする。このハーフプリチャージ電圧HVCを形成する
電圧発生回路は、その具体的回路は図示しないが、MO
SFETを電圧分圧抵抗とするような電圧分圧回路から
構成される。電圧発生回路は、上記リーク電流等を補う
程度の比較的小さな電流供給能力しか持てば充分であり
、分圧抵抗としてのMOS F ETは比較的小さいコ
ンダクタンスを持つようにされる。これによって、電圧
発生回路によって消費電力が増大するのを抑えている。
It is composed of a switch MO5FET provided between 00 and 00. MOSFET Q5 is turned on by a precharge signal φpc supplied to its gate when the chip is not selected or before the memory cell is selected. As a result, the complementary data lines Do, which have shifted to high and low levels due to the amplification operation in the previous operation cycle of the sense amplifier SA, which will be described later, become
Since they will be short-circuited via SFETQ5, both will be at a precharge voltage level of approximately Vcc/2 (HVC). Note that when the chip is left in a non-selected state for a relatively long time, the precharge level is reduced due to leakage current or the like. Therefore, although not particularly limited, in this embodiment, the switch MO, which is operated by the precharge signal φpc together with the MOSFET Q5,
SFETs Q45 and Q45 are provided to supply half precharge voltage HVC to complementary data lines Do, Do. Although the specific circuit is not shown, the voltage generation circuit that forms this half precharge voltage HVC is
It is composed of a voltage dividing circuit in which an SFET is used as a voltage dividing resistor. It is sufficient for the voltage generation circuit to have a relatively small current supply capacity to compensate for the leakage current, etc., and the MOS FET as a voltage dividing resistor is designed to have a relatively small conductance. This suppresses an increase in power consumption due to the voltage generation circuit.

なお、センスアンプSAは、RAMのチップ非選択状態
への移行等により上記プリチャージMOSFETQ5等
がオン状態にされる前に、非動作状態にされる。これに
より、上記相補データ線DO,Doはハイインピーダン
ス状態でハイレベルとロウレベルを保持するものとなっ
ている。センスアンプSAは、RAMが動作状態にされ
ると、それに応じて動作状態にされる。上記プリチャー
ジMOSFETQ5、Q45及びQ46等は、センスア
ンプSAが動作される前にオフ状態にされる。これによ
り、相補データ線DO,Doは、ハイインピーダンス状
態で上記ハーフプリチャージレベルを保持するものであ
る。
Note that the sense amplifier SA is brought into a non-operating state before the precharge MOSFET Q5 and the like are turned on due to transition of the RAM to a chip non-selected state or the like. As a result, the complementary data lines DO, Do maintain a high level and a low level in a high impedance state. The sense amplifier SA is activated when the RAM is activated. The precharge MOSFETs Q5, Q45, Q46, etc. are turned off before the sense amplifier SA is operated. As a result, the complementary data lines DO, Do maintain the above half precharge level in a high impedance state.

このようなハーフプリチャージ方式にあっては、相補デ
ータ線DO,DOのハイレベルとロウレベルを単に短絡
して形成するものであるので、低消費電力化が図られる
。また、センスアンプSAの増幅動作において、上記プ
リチャージレベルを中心として相補データ線DO,Do
がハイレベルとロウレベルのようにディファレンシャル
モードで変化される際の、容量カップリングにより発生
するノイズレベルを低減できるものとなる。
In such a half precharge method, since the complementary data lines DO and DO are formed by simply shorting the high level and low level, power consumption can be reduced. In addition, in the amplification operation of the sense amplifier SA, the complementary data lines DO, Do
It is possible to reduce the noise level generated by capacitive coupling when the voltage is changed in a differential mode such as between a high level and a low level.

センスアンプSAは、それぞれメモリアレイMARYの
相補データ線に一対一に対応された複数の単位回路から
なる。各単位回路USAは、第1図にその1つが例示的
に示されているように、PチャンネルMOSFETQ7
.Q9と、NチャンネルMOSFETQ6.Q8とから
なるCMOSラッチ回路で構成され、その一対の入出力
ノードが対応する相補データ線Do、Doに結合されて
いる。上記ラッチ回路には、特に制限されないが、パワ
ースイッチないし動作制御素子としての並列形態のPチ
ャンネルMOSFETQI 2.Ql 3を通して電源
電圧Vccが供給され、パワースイッチないし動作制御
素子としての並列形態のNチャンネルMOSFETQI
 O,Ql lを通して回路の接地電圧Vssが供給さ
れる。これらのパワースイッチMOSFETQI O,
Ql 1及びMOSFETQ42.Ql 3は、同じメ
モリアレイ内の他の同様な行に設けられたラッチ回路(
単位回路)に対して共通に用いられる。言い換えるなら
ば、同じメモリアレイ内のラッチ回路におけるPチャン
ネルMO8FETとNチャンネルMO8FETとはそれ
ぞれそのソースPS及びSNが共通接続される。特に制
限されないが、MOSFETQI0及びQ12は、比較
的小さいコンダクタンスを持つようにされ、MOSFE
TQI 1及びQ13は、比較的大きなコンダクタンス
を持つようにされる。
Sense amplifier SA is composed of a plurality of unit circuits each having a one-to-one correspondence with complementary data lines of memory array MARY. Each unit circuit USA includes a P-channel MOSFET Q7, one of which is exemplarily shown in FIG.
.. Q9 and N-channel MOSFET Q6. A pair of input/output nodes thereof are coupled to corresponding complementary data lines Do, Do. The latch circuit may include, but is not particularly limited to, a parallel P-channel MOSFET QI as a power switch or operation control element.2. A power supply voltage Vcc is supplied through Ql3, and a parallel N-channel MOSFET QI is used as a power switch or an operation control element.
The ground voltage Vss of the circuit is supplied through O and Ql. These power switch MOSFETQI O,
Ql 1 and MOSFET Q42. Ql 3 is a latch circuit (
Commonly used for unit circuits). In other words, the sources PS and SN of the P-channel MO8FET and N-channel MO8FET in the latch circuit in the same memory array are commonly connected. Although not particularly limited, MOSFETs QI0 and Q12 are made to have relatively small conductance, and MOSFETs QI0 and Q12 are
TQI 1 and Q13 are made to have relatively large conductance.

上記MOSFETQI O,Ql 2のゲートには、動
作サイクルにおいてセンスアンプSAを活性化させよう
にハイレベル、ロウレベルにされる相補タイミングパル
スφpal 、  φpalが印加され、MOSFET
QI 1.Ql 3のゲートには、上記タイミングパル
スφpal r  φpalより遅れてハイレベル、ロ
ウレベルにされる相補タイミングパルスφpa2 + 
 φpa2が印加される。このようにすることによって
、センスアンプSAの動作は2段階に分けられる。タイ
ミングパルスφpal+φpalが発生されたとき、す
なわち第1段階においては、比較的小さいコンダクタン
スを持つMOSFETQ10及びQ12による電流制限
作用によってメモリセルからの一対のデータ線間に与え
られた微小読み出し電圧は、不所望なレベル変動を受け
ることなく増幅される。上記センスアンプSAでの増幅
動作によって相補データ線電位の差が大きくされた後、
タイミングパルスφpa2.φpa2が発生されると、
すなわち第2段階に入ると、比較的大きなコンダクタン
スを持つMOSFETQI 1.Ql3がオン状態にさ
れる。センスアンプSAの増幅動作は、MOSFETQ
I 1.Ql 3がオン状態にされることによって速く
される。このように2段階に分けて、センスアンプSA
の増幅動作を行わせることによって、相補データ線の不
所望なレベル変化を防止しつつデータの高速読み出しを
行うことができる。
Complementary timing pulses φpal and φpal that are set to high and low levels to activate the sense amplifier SA in the operation cycle are applied to the gates of the MOSFETs QI O and Ql 2, and the MOSFETs
QI 1. At the gate of Ql3, a complementary timing pulse φpa2 + which is brought to high level and low level with a delay from the timing pulse φpal r φpal is provided.
φpa2 is applied. By doing so, the operation of sense amplifier SA is divided into two stages. When the timing pulse φpal+φpal is generated, that is, in the first stage, the minute read voltage applied between the pair of data lines from the memory cell due to the current limiting effect of MOSFETs Q10 and Q12, which have relatively small conductance, is undesired. The signal is amplified without significant level fluctuations. After the difference in complementary data line potential is increased by the amplification operation in the sense amplifier SA,
Timing pulse φpa2. When φpa2 is generated,
That is, in the second stage, MOSFETQI with relatively large conductance 1. Ql3 is turned on. The amplification operation of the sense amplifier SA is performed using MOSFETQ.
I 1. This is speeded up by Ql 3 being turned on. In this way, the sense amplifier SA is divided into two stages.
By performing the amplification operation, data can be read out at high speed while preventing undesired level changes in the complementary data lines.

ロウデコーダR−DCRは、特に制限されないが、2分
割されたロウデコーダR−DCRIとRDCR2との組
み合わせによってワード線を選択するように構成される
。第1のロウデコーダR−DCRIは、2ビツトのアド
レス信号上0.土1をデコードし、タイミング信号φX
によって決められるタイミングにおいてデコード出力φ
x00ないしφxllを形成する。第2のロウデコーダ
R−DCR2は、それぞれ4ワード線に1個宛設けられ
た複数の単位回路UDCRからなる。但し、第1図には
、第2のロウデコーダR−DCR2の1単位回路分くワ
ード線4本分)が代表として示されている。図示の構成
に従うと、特に制限されないが、アドレス信号12〜丁
mは、直列形態にされたNチャンネル型の駆動MOSF
ETMOSFETQ32〜Q34のゲートに供給される
。Pチャンネル型の負荷MOSFETQ35のゲートに
は、その動作時に一時的にロウレベルにされる1シヨツ
トパルスφが供給される。この1シヨツトパルスφは、
例えば、ロウアドレスストローブ(1号RAsのロウレ
ベルによりロウアドレスバッファR−ADB (本質的
ではないが、第1図では、ロウアドレスバッファR−A
DBとカラムアドレスバッファC−ADBとをまとめて
表示している)の動作タイミング信号φaにが形成され
てからワード線選択タイミング信号φXが発生される迄
の間ロウレベルにされる。したがって、上記1シヨツト
パルスφは、これらのタイミング信号を受けるタイミン
グ発生回路TG内の論理回路により形成される。上記負
荷MOSFETQ35と駆動MOSFETQ32〜Q3
4によりナンド(NAND)ゲート回路が構成され、上
記4本分のワード線選択信号が形成される。上記ナント
ゲート回路の出力は、一方において、CMOSインバー
タIVIで反転されNチャンネル型のカットMOSFE
TQ28〜Q31を通して、スイッチ回路としてのNチ
ャンネル型伝送ゲートMOSFETQ24〜Q27のゲ
ートに伝えられる。上記ナントゲート回路は、ワンショ
ットパルスφによって駆動されることによって、ダイナ
ミック動作を行うようされるものであるので、出力レベ
ルを静的に保持するよう上記インバータ回路IV1の出
力をゲートに受けるPチャンネル型MOSFETQ36
が結合されている。上記インバータ回路IVIとMOS
FETQ36は、実質的なラッチ回路を構成する。かか
るラッチ回路の動作は、次のとおりである。すなわち、
上記出力信号を送出するCMOSインバータ回路IVI
の出力信号は、上記負荷MOSFETQ35と並列形態
にされたPチャンネル型の第2の負荷MOSFETQ、
36のゲートに帰還されることになる。これにより、上
記ナントゲート回路の出力信号がハイレベルにされたと
き、CMOSインバータ回路TVIの出力信号のロウレ
ベルによって上記第2の負荷MOSFETQ36がオン
状態にされ、出力信号をハイレベルに維持させるもとな
る。また、上記ナントゲート回路の出力信号がロウレベ
ルなら、言い換えるならば、全てのアドレス信号12〜
amのハイレベルによって駆動MOSFETQ32〜Q
34が全てオン状態なら、これに応じて上記CMOSイ
ンバータ回路IVIの出力信号がハイレベルにされるの
で負荷MOSFETQ36はオフ状態にされる。これに
より、上記ナントゲート回路にあっては、1シヨツトパ
ルスφがハイレベルにされた後において、上記オン状態
にされた駆動MOSFETQ32〜Q34を通しての直
流電流の消費はない。なお、上記第2のロウデコーダR
−DCR2は、上記構成に代えて完全CMOSスタティ
ック型のデコーダとするものであってもよい。
Although not particularly limited, row decoder R-DCR is configured to select a word line by a combination of two divided row decoders R-DCRI and RDCR2. The first row decoder R-DCRI receives 0. Decode Sat1, timing signal φX
The decode output φ at the timing determined by
x00 to φxll are formed. The second row decoder R-DCR2 includes a plurality of unit circuits UDCR, one for each of four word lines. However, in FIG. 1, one unit circuit of the second row decoder R-DCR2 (four word lines) is shown as a representative. According to the illustrated configuration, although not particularly limited, address signals 12 to 12 are connected to N-channel drive MOSFs connected in series.
It is supplied to the gates of ETMOSFETs Q32 to Q34. The gate of the P-channel type load MOSFET Q35 is supplied with a one-shot pulse φ that is temporarily brought to a low level during its operation. This one shot pulse φ is
For example, the row address strobe (low level of No. 1 RAs causes the row address buffer R-ADB (although not essential, in FIG. 1, the row address buffer R-ADB
DB and column address buffers C-ADB (shown together) are kept at a low level from the time when the operation timing signal φa is generated until the word line selection timing signal φX is generated. Therefore, the one shot pulse φ is generated by the logic circuit within the timing generation circuit TG that receives these timing signals. The above load MOSFET Q35 and drive MOSFET Q32 to Q3
4 constitutes a NAND gate circuit, and the four word line selection signals are formed. On the one hand, the output of the Nant gate circuit is inverted by a CMOS inverter IVI and output to an N-channel cut MOSFE.
The signal is transmitted through TQ28 to Q31 to the gates of N-channel transmission gate MOSFETs Q24 to Q27 as switch circuits. Since the Nant gate circuit is driven by a one-shot pulse φ to perform dynamic operation, the P-channel gate circuit receives the output of the inverter circuit IV1 at its gate so as to maintain the output level statically. Type MOSFETQ36
are combined. Above inverter circuit IVI and MOS
FETQ36 constitutes a substantial latch circuit. The operation of such a latch circuit is as follows. That is,
CMOS inverter circuit IVI that sends out the above output signal
The output signal of the P-channel type second load MOSFETQ, which is connected in parallel with the load MOSFETQ35,
It will be returned to Gate 36. As a result, when the output signal of the Nant gate circuit is set to high level, the second load MOSFET Q36 is turned on by the low level of the output signal of the CMOS inverter circuit TVI, and the output signal is maintained at high level. Become. In addition, if the output signal of the Nant gate circuit is low level, in other words, all the address signals 12 to 12
MOSFETQ32~Q driven by the high level of am
34 are all in the on state, the output signal of the CMOS inverter circuit IVI is set to high level in response to this, and the load MOSFET Q36 is turned off. As a result, in the Nant gate circuit, no direct current is consumed through the drive MOSFETs Q32 to Q34 turned on after the one shot pulse φ is set to high level. Note that the second row decoder R
-DCR2 may be a complete CMOS static decoder instead of the above configuration.

第1のロウデコーダR−DCR1は、その具体的回路を
図示しないが、2ビツトの相補アドレス信号aQ、al
をデコードするデコーダと、かかるデコーダによって制
御される上記MOS F ETQ24.Q28等と同様
な伝送ゲー)MOSFETとカットMOSFETとから
なるスイッチ回路を通してワード線選択タイミング信号
φXから4通りのワード線選択タイミング信号φ×00
ないしφxllを形成する。これらのワード線選択タイ
ミング信号φxOO〜φxllは、上記伝送ゲート上記
MOSFETQ24〜Q27を介して各ワード線に伝え
られる。なお、特に制限されないが、ロウデコーダR−
DCR1は、ロウデコーダR−DCR2と同じく1シヨ
ツトパルスφを受けてワード線選択動作を行うものであ
ってもよく、また上記同様に完全CMOSスタティック
型のデコーダであってもよい。
The first row decoder R-DCR1 receives 2-bit complementary address signals aQ, al, although its specific circuit is not shown.
a decoder for decoding the MOS FETQ24., and the MOS FETQ24. Four types of word line selection timing signals φ×00 are output from the word line selection timing signal φX through a switch circuit consisting of a transmission game (similar to Q28, etc.) MOSFET and cut MOSFET.
to φxll are formed. These word line selection timing signals φxOO to φxll are transmitted to each word line via the transmission gate and the MOSFETs Q24 to Q27. Note that, although not particularly limited, the row decoder R-
Like the row decoder R-DCR2, the DCR1 may perform a word line selection operation in response to one shot pulse φ, or may be a completely CMOS static type decoder as described above.

特に制限されないが、タイミング信号φxoOは、アド
レス信号aO及びalが共にロウレベルにされていると
き、タイミング信号φXに同期してハイレベルにされる
。同様に、タイミング信号φx01、φxlO及びφ+
dlは、それぞれアドレス信号aO及びal、及びaO
及びal、及びaO及びalがロウレベルにされている
ときそれぞれタイミング信号φXに同期してハイレベル
にされる。
Although not particularly limited, the timing signal φxoO is set to a high level in synchronization with the timing signal φX when both address signals aO and al are set to a low level. Similarly, timing signals φx01, φxlO and φ+
dl are address signals aO and al, and aO
and al, and when aO and al are set to low level, they are respectively set to high level in synchronization with timing signal φX.

これによって、アドレス信号al(及びal)は、複数
のワード線のうちのデータ線りに結合さ、れたメモリセ
ルに対応されたワード線群(WO2W1、以下、第1ワ
ード線群と称する)と、データ線りに結合されたメモリ
セルに対応されたワード線群(W2)W3)以下、第2
ワード線群と称する)とを識別するための一種のワード
線群選択信号とみなされる。
As a result, the address signal al (and al) is coupled to the data line of the plurality of word lines, and the word line group (WO2W1, hereinafter referred to as the first word line group) corresponding to the memory cell is connected to the data line of the plurality of word lines. and the word line groups (W2) and W3) corresponding to the memory cells coupled to the data line, and the second
It is regarded as a kind of word line group selection signal for identifying a word line group (referred to as a word line group).

各ワード線と接地電位との間には、MOSFETQ20
〜Q23が設けられ、そのゲートに上記NAND回路の
出力が印加されることによって、非選択時のワード線を
接地電位に固定させるものである。特に制限されないが
、各ワード線の遠端側(デコーダ側と反対側の端)には
、スイッチM○5FETQ38〜Q41が設けられる。
A MOSFET Q20 is connected between each word line and the ground potential.
~Q23 is provided, and by applying the output of the NAND circuit to its gate, the word line is fixed at the ground potential when not selected. Although not particularly limited, switches M○5FETs Q38 to Q41 are provided at the far end side of each word line (the end opposite to the decoder side).

これらのMOSFETQ38〜Q41のゲートには、上
記タイミング信号φx00〜φxllと逆相のタイミン
グ信号−COO−WCIIが供給される。これによって
、非選択のワード線を回路の接地電位に固定できるため
、ワード線相互の容量結合によって非選択のワード線が
、選択ワード線の立ち上がりに応じて中間電位に持ち上
がってしまうことが防止できる。
The gates of these MOSFETs Q38 to Q41 are supplied with a timing signal -COO-WCII having an opposite phase to the timing signals φx00 to φxll. This allows unselected word lines to be fixed at the circuit's ground potential, thereby preventing unselected word lines from rising to an intermediate potential in response to the rise of the selected word line due to capacitive coupling between word lines. .

ロウデコーダR−DCRをR−DCRIとR−DCR2
のように2分割する場合、ロウデコーダR−DCR2を
構成する単位回路UDCRは、複数のワード線に対して
1個宛膜けられれば良く、半導体基板上でのピッチ(間
隔)をワード線のピッチとを合わせることが容易となる
Row decoder R-DCR with R-DCRI and R-DCR2
In the case of dividing the row decoder R-DCR2 into two parts as shown in FIG. It becomes easy to match the pitch.

カラムスイッチC−5Wは、代表として示されているN
チャンネルMOSFETQ42.Q43のように、相補
データ線DO,Doと共通相補データ線CD、CDとの
間に設けられたスイッチMOSFETからなる。これら
のMOSFETQ42)Q43のゲートには、後述する
カラムデコーダC−,DCRからの選択信号が供給され
る。
Column switch C-5W is shown as a representative N
Channel MOSFETQ42. Like Q43, it consists of a switch MOSFET provided between the complementary data lines DO, Do and the common complementary data lines CD, CD. Selection signals from column decoders C- and DCR, which will be described later, are supplied to the gates of these MOSFETs Q42) and Q43.

ロウアドレスバッファR−ADBは、外部端子から供給
されるロウアドレスストローブ信号RASに基づいて後
述するタイミング発生回路TGにより形成されるタイミ
ング信号φaxによってその動作が制御され、かかるタ
イミング信号φaxが発生されたとき、外部端子に供給
されているアドレス信号AOxAmをロウアドレス信号
として取り込み、上記ロウアドレスデコーダR−DCR
1及びR−DCR2に供給されるべき内部相補アドレス
信号aQ−amを形成する。なお14便宜上、上記外部
端子から供給されたアドレス信号AOと同相の内部アド
レス信号と逆相の内部アドレス信号とを合わせて相補ア
ドレス信号aOと表記しているので注意されたいく以下
同じ)。
The operation of the row address buffer R-ADB is controlled by a timing signal φax generated by a timing generation circuit TG, which will be described later, based on a row address strobe signal RAS supplied from an external terminal, and the timing signal φax is generated. At this time, the address signal AOxAm supplied to the external terminal is taken in as a row address signal, and the row address decoder R-DCR
1 and R-DCR2. Note that for convenience, the internal address signal in phase with the address signal AO supplied from the external terminal and the internal address signal in opposite phase are collectively referred to as a complementary address signal aO (the same applies hereafter).

ロウアドレスバッファR−ADBは、また、マルチプレ
クサ機能を持つようにされる。後述するリフレッシュ制
御回路REFCから制御信号φrfが出力されると、ロ
ウアドレスバッファR−ADBは、外部端子からのアド
レス信号ではなく、リフレッシュ制御回路REFCから
のアドレス信号ol 〜am’を取り込む。
The row address buffer R-ADB is also made to have a multiplexer function. When a control signal φrf is output from a refresh control circuit REFC, which will be described later, the row address buffer R-ADB takes in address signals ol-am' from the refresh control circuit REFC instead of an address signal from an external terminal.

ロウアドレスデコーダR−DCRIとR−DCR2は、
上述のように上記相補アドレス信号aO〜amを解読し
て、ワード線選択タイミング信号φXに同期してワード
線の選択動作を行う。
Row address decoders R-DCRI and R-DCR2 are
As described above, the complementary address signals aO-am are decoded and a word line selection operation is performed in synchronization with the word line selection timing signal φX.

カラムアドレスバッファC−ADBは、外部端子から供
給されるカラムアドレスストローブ信号CASに基づい
てタイミング発生回路TGにより形成されるタイミング
信号φayによってその動作が制御され、かかるタイミ
ング信号ψayが発生されたとき外部端子に供給されて
いるアドレス信号AO=Anをカラムアドレス信号とし
て取り込み、カラムアドレスデコーダC−DCRに供給
されるべき内部相補アドレス信号aQxanを形成する
The operation of the column address buffer C-ADB is controlled by a timing signal φay generated by a timing generation circuit TG based on a column address strobe signal CAS supplied from an external terminal. Address signal AO=An supplied to the terminal is taken in as a column address signal to form internal complementary address signal aQxan to be supplied to column address decoder C-DCR.

カラムデコーダC−DCRは、基本的には上記アドレス
デコーダR−DCR2と類似のアドレスデコーダ回路に
より構成され、カラムアドレスバッファC−ADBから
供給される相補アドレス信号a□−anを解読してデー
タ線選択タイミング信号φyに同期して上記カラムスイ
ッチC−5Wに供給すべき選択信号を形成する。
The column decoder C-DCR is basically constituted by an address decoder circuit similar to the address decoder R-DCR2 described above, and decodes the complementary address signal a□-an supplied from the column address buffer C-ADB to output the data line. A selection signal to be supplied to the column switch C-5W is formed in synchronization with the selection timing signal φy.

なお、前述のように同図においては、便宜上ロウアドレ
スバッファR−ADBとカラムアドレスバッファC−A
DBを合わせてアドレスバッファR,C−ADBのよう
に表している。
As mentioned above, in this figure, for convenience, the row address buffer R-ADB and the column address buffer C-A are
DB are collectively represented as address buffers R and C-ADB.

上記共通相補データ線CD、CD間には、プリチャージ
回路を構成するNチャンネル型のプリチャージMOSF
ETQ44が設けられている。この共通相補データ線C
D、CDには、上記単位のセンスアンプUSAと同様な
回路構成の増幅回路AMPの一対の入出力ノードと、後
述するようなメインアンプMAの入力端子が結合されて
いる。
Between the common complementary data lines CD and CD is an N-channel precharge MOSF constituting a precharge circuit.
ETQ44 is provided. This common complementary data line C
D and CD are coupled to a pair of input/output nodes of an amplifier circuit AMP having a circuit configuration similar to that of the sense amplifier USA of the unit described above, and an input terminal of a main amplifier MA as described later.

増幅回路AMPはタイミングパルスφρa′により活性
化され、上記メインアンプMAは、タイミングパルスφ
maにより活性化される。メイアンブMAの増幅出力信
号は、データ出力バッファDOBの入力端子に供給され
る。データ出力バッファDOBは、その動作がタイミン
グ信号φrwによって制御される。
The amplifier circuit AMP is activated by the timing pulse φρa', and the main amplifier MA is activated by the timing pulse φρa'.
activated by ma. The amplified output signal of main amplifier MA is supplied to the input terminal of data output buffer DOB. The operation of data output buffer DOB is controlled by timing signal φrw.

通常動作における読み出し動作ならば、データ出力バッ
ファDOBはそのタイミング信号φr−によって動作状
態にされ、メインアンプMAの出力信号に対応したデー
タ信号外部端子Doutへ送出する。なお、通常動作モ
ードにおける書込み動作なら、そのときの上記タイミン
グ信号φrwによってデータ出力バッファDOBの出力
(Dout )はハイインピーダンス状態される。
In the case of a read operation in normal operation, the data output buffer DOB is activated by the timing signal φr-, and sends a data signal corresponding to the output signal of the main amplifier MA to the external terminal Dout. Note that in the case of a write operation in the normal operation mode, the output (Dout) of the data output buffer DOB is placed in a high impedance state by the timing signal φrw at that time.

上記共通相補データ線CD、CDは、データ入カバソフ
ァDrBの出力端子が結合されている。
The common complementary data lines CD, CD are connected to the output terminal of the data input sofa DrB.

書込み動作ならば、データ入カバソファDrBは、タイ
ミング信号φr−によって動作状態にされ、外部端子D
inから供給された書込み信号に従った相補書込み信号
を上記共通相補データ線CD、CDに伝える。これによ
り、選択されたメモリセルへの書込みが行われる。なお
、読み出し動作なら、上記タイミング信号φrwによっ
てデータ人カバソファDrBの出力はハイインピーダン
ス状態にされる。高速読み出し試験に対応させるため、
特に制限されないが、上記増幅回路AMPは、書き込み
動作のときにも動作され、データ人カバソファDIBと
ともに作動して、複数の相補データ線を駆動できるよう
な大きな電流能力を持つようにされる。すなわち、相補
データ線を多重選択して、同じ書き込み信号を1つのワ
ード線に結合される全メモリセルに同時書き込みを可能
とするようにされる。
In the case of a write operation, the data input cover sofa DrB is activated by the timing signal φr-, and the external terminal D
A complementary write signal according to the write signal supplied from in is transmitted to the common complementary data lines CD, CD. As a result, writing to the selected memory cell is performed. Note that in the case of a read operation, the output of the data driver sofa DrB is brought into a high impedance state by the timing signal φrw. In order to support high-speed readout tests,
Although not particularly limited, the amplifier circuit AMP is operated also during a write operation, and operates together with the data buffer sofa DIB to have a large current capacity capable of driving a plurality of complementary data lines. That is, multiple complementary data lines are selected to enable simultaneous writing of the same write signal to all memory cells coupled to one word line.

アドレス選択用MOSFETQmと情報記憶用キャパシ
タCsとからなるダイナミック型メモリセルへの書込み
動作において、情報記憶用キャパシタCsにフルライト
を行うため、言い換えるならば、アドレス選択用MO3
F已TQm等のしきい値電圧によって情報記憶用キャパ
シタCsへの書込みハイレベルが低下してしまわないよ
うにするため、ワード線選択タイミング信号φX゛によ
って起動されるワード線ブートストラップ回路BSTが
設けられる。このワード線ブートストラップ回路BST
は、ワード線選択タイミング信号ψXを受け、ワード線
選択タイミング信号φXのハイレベルを電源電圧Vcc
以上の高レベルとする。
In a write operation to a dynamic memory cell consisting of an address selection MOSFET Qm and an information storage capacitor Cs, full writing is performed to the information storage capacitor Cs.
In order to prevent the high level written to the information storage capacitor Cs from decreasing due to the threshold voltage of FTQm, etc., a word line bootstrap circuit BST activated by the word line selection timing signal φX is provided. It will be done. This word line bootstrap circuit BST
receives the word line selection timing signal φX and sets the high level of the word line selection timing signal φX to the power supply voltage Vcc.
or higher level.

上述した各種タイミング信号は、次のタイミング発生回
路TGにより形成される。タイミング発生回路TOは、
上記代表として示された主要なタイミング信号等を形成
する。すなわち、このタイミング発生回路TGは、外部
端子から供給されたアドレスストローブ信号RAS及び
CASと、ライトイネーブル信号WEを受けて、上記一
連の各種タイミングパルスを形成する。
The various timing signals described above are generated by the following timing generation circuit TG. The timing generation circuit TO is
The main timing signals etc. shown as the representative above are formed. That is, this timing generation circuit TG receives address strobe signals RAS and CAS supplied from external terminals and a write enable signal WE, and forms the series of various timing pulses described above.

回路記号REFCで示されているのは、自動リフレッシ
ュ回路であり、リフレッシュアドレスカウンタ等を含ん
でいる。この自動リフレッシュ回路REFCは、特に制
限されないが、アドレストスロープ信号RASとCAS
を受ける論理回路を持ち、かかる論理回路により、ロウ
アドレスストローブ信号RASがロウレベルにされる前
にカラムアドレスストローブ信号CASがロウレベルに
されたとき、それをリフレッシュモードとして判定する
。アドレスカウンタ回路は、上記ロウアドレスストロー
ブ信号RASをカウント用クロックとして受け、リフレ
ッシュアドレス信号aQl 〜am’ を形成する。こ
のリフレッシュアドレス信号aO°〜am’ は、上記
ロウアドレスバッファR−ADBを介してロウアドレス
デコーダ回路R−DCRI及びR−DCR2に伝えられ
る。このため、リフレッシュ制御回路REFCは、リフ
レッシュモードのとき、上記アドレスバッファR−AD
Bの切り換えを行う制御信号φrfを発生する。
The circuit symbol REFC is an automatic refresh circuit and includes a refresh address counter and the like. This automatic refresh circuit REFC is connected to address slope signals RAS and CAS, although not particularly limited.
This logic circuit determines that when the column address strobe signal CAS is set to low level before the row address strobe signal RAS is set to low level, it is a refresh mode. The address counter circuit receives the row address strobe signal RAS as a counting clock and forms refresh address signals aQl to am'. The refresh address signals aO° to am' are transmitted to the row address decoder circuits R-DCRI and R-DCR2 via the row address buffer R-ADB. Therefore, in the refresh mode, the refresh control circuit REFC controls the address buffer R-AD.
A control signal φrf for switching B is generated.

これによって、リフレッシュアドレス信号aO。This causes the refresh address signal aO.

〜am’ に対応された一本のワード線選択によるリフ
レッシュ動作が実行される(CASビフオワ−RASリ
フレッシュ)。
A refresh operation is performed by selecting one word line corresponding to ~am' (CAS before-RAS refresh).

第2図には、上記ダイナミック型RAMにおけるデータ
の入力及び出力系回路の一実施例の回路図が示されてい
る。なお、同図に示した回路記号は、上記第1図の回路
素子に付したものと重複したものがあるが、それぞれ別
個のものであると理解されたい。
FIG. 2 shows a circuit diagram of an embodiment of the data input and output circuit in the dynamic RAM. Although some of the circuit symbols shown in this figure are the same as those given to the circuit elements in FIG. 1 above, it should be understood that they are different from each other.

共通相補データ線CD、CDは、メイアンプMAの入力
端子に結合されている。メインアンプMAは、特に制限
されないが、一対の初段差動増幅回路DFAIと第2段
差動増幅回路DFA2から構成される。一対の初段差動
増幅回路DFAIのうちの一方は、Nチャンネル差動増
幅MOSFETQ?、Q8と、そのドレインと電源電圧
Vccとの間に設けられたPチャンネル負荷MOS F
 ETQ5.Q6及び上記差動増幅MOSFETQ7゜
Q8の共通ソースと回路の接地電位点との間に設けられ
たNチャンネル型のパワースイッチMOSFETQ13
とにより構成される。上記負荷MOSFETQ5.Q6
は、電流ミラー形態にされることによってアクティブ負
荷回路を構成する。上記初段差動増幅回路DFALの他
方は、上記類似のNチャンネル差動増幅MOSFETQ
II、Q12とPチャンネル負荷MOSFETQ9.Q
IOにより構成され、上記差動増幅MOSFETQ11
、Q12の共通ソースは、上記一方の差動増幅MOSF
ETQ7.Q8の共通ソースと共通化され、上記パワー
スイッチMOSFETQ13によりその動作の制御が行
われる。
Common complementary data lines CD, CD are coupled to the input terminal of main amplifier MA. Main amplifier MA is composed of a pair of first-stage differential amplifier circuit DFAI and second-stage differential amplifier circuit DFA2, although this is not particularly limited. One of the pair of first-stage differential amplifier circuits DFAI is an N-channel differential amplifier MOSFETQ? , Q8, and a P-channel load MOS F provided between its drain and power supply voltage Vcc.
ETQ5. N-channel power switch MOSFET Q13 provided between the common source of Q6 and the differential amplification MOSFET Q7゜Q8 and the ground potential point of the circuit.
It is composed of The above load MOSFET Q5. Q6
constitutes an active load circuit by being placed in a current mirror configuration. The other side of the first stage differential amplifier circuit DFAL is an N-channel differential amplifier MOSFETQ similar to the above.
II, Q12 and P-channel load MOSFET Q9. Q
The above differential amplification MOSFETQ11
, Q12's common source is one of the above differential amplification MOSFs.
ETQ7. It is shared with the common source of Q8, and its operation is controlled by the power switch MOSFET Q13.

上記一方の差動増幅回路における反転入力端子としての
NチャンネルMOSFETQ7のゲートと、他方の差動
増幅回路における非反転入力端子としてのNチャンネル
MOSFETQI 1のゲートは、共通相補データ線C
Dに結合されている。
The gate of N-channel MOSFET Q7 as an inverting input terminal in one differential amplifier circuit and the gate of N-channel MOSFET QI1 as a non-inverting input terminal in the other differential amplifier circuit are connected to a common complementary data line C.
It is connected to D.

また、上記一方の差動増幅回路における非反転入力端子
としてのNチャンネルMOSFETQ8のゲートと、他
方の差動増幅回路における反転入力端子としてのNチャ
ンネルMO3FBTQI 2のゲートは、上記共通相補
データ線CDに結合されている。
Furthermore, the gate of N-channel MOSFET Q8 as a non-inverting input terminal in one differential amplifier circuit and the gate of N-channel MO3FBTQI 2 as an inverting input terminal in the other differential amplifier circuit are connected to the common complementary data line CD. combined.

上記一対の初段差動増幅回路DFAIによって一対の出
力信号が形成される。この一対の出力信号は、上記初段
差動増幅回路と類似の回路によって構成された第2段差
動増幅回路DFA2の一対の入力端子に供給される。こ
の第2段差動増幅回路DFA2における各回路素子は、
上記初段増幅回路DFA1のそれと同様であるので回路
記号とその説明を省略する。
A pair of output signals are formed by the pair of first-stage differential amplifier circuits DFAI. This pair of output signals is supplied to a pair of input terminals of a second-stage differential amplifier circuit DFA2 configured by a circuit similar to the first-stage differential amplifier circuit. Each circuit element in this second stage differential amplifier circuit DFA2 is as follows:
Since it is similar to that of the first stage amplifier circuit DFA1, the circuit symbol and its explanation will be omitted.

上記メインアンプMAは、そのパワースイッチMOSF
ETQ13等のゲートに供給されるタイミング信号φI
IIaによって活性化される。
The main amplifier MA above has its power switch MOSF
Timing signal φI supplied to the gate of ETQ13 etc.
Activated by IIa.

データ出力回路DOBは、特に制■されないが、ナンド
(NAND)ゲート回路C1,G2により構成されたラ
ッチ回路が設けられる。その一対の入力端子と電源電圧
Vccとの間には、上記タイミング信号φmaによって
制御されるPチャンネル型のプリチャージMOSFET
Q14.Q15が設けられる。上記MOSFETQ14
とG15は、メイアンプMAが非動作状態のとき、タイ
ミング信号φmaによってオン状態にされて、上記入力
端子をハイレベル(論理“1″″)にする。このため、
上記ラッチ回路は情報保持状態とされる。ラッチ回路の
出力信号は、それぞれナントゲート回路G3とCMOS
インバータ回路IVI及びナントゲート回路G4とCM
OSインバータ回路IV2を介してプッシュプル形態の
Nチャンネル出力MOSFETQ16及びG17のゲー
トにそれぞれ伝えられる。上記ナントゲート回路G3.
G4の他方の入力には、出力タイミング信号φr−が供
給される。この信号φr−がハイレベル(論理“1″)
の時、これに応じてナントゲート回路G3.G4がゲー
トを開いてCMOSインバータ回路IVI。
Although not particularly restricted, the data output circuit DOB is provided with a latch circuit constituted by NAND gate circuits C1 and G2. A P-channel precharge MOSFET controlled by the timing signal φma is connected between the pair of input terminals and the power supply voltage Vcc.
Q14. Q15 is provided. Above MOSFETQ14
and G15 are turned on by the timing signal φma when the main amplifier MA is in the non-operating state, and set the input terminal to a high level (logic "1""). Therefore,
The latch circuit is placed in an information holding state. The output signals of the latch circuit are Nant gate circuit G3 and CMOS, respectively.
Inverter circuit IVI and Nant gate circuit G4 and CM
The signals are transmitted via the OS inverter circuit IV2 to the gates of push-pull type N-channel output MOSFETs Q16 and G17, respectively. The above Nant gate circuit G3.
The output timing signal φr- is supplied to the other input of G4. This signal φr- is at high level (logic “1”)
In response to this, the Nant gate circuit G3. G4 opens the gate and CMOS inverter circuit IVI.

IV2及び出力MOSFETQI 6.Ql 7を介し
てその入力信号を外部端子Doutへ送出させる。
IV2 and output MOSFET QI 6. The input signal is sent to the external terminal Dout via Ql7.

なお、上記タイミング信号φrWが回路の接地電位のよ
うなロウレベルなら、ナントゲート回路G3゜G4の出
力は共にハイレベルになり、インバータ回路IVI、I
V2の出力を共にロウレベルにさせる。これにより、出
力MOSFETQI 6とG17は共にオフ状態にされ
、その出力をハイインピーダンス状態にさせる。なお、
上記外部出力端子Doutは、後述するデータ入力回路
DIBの入力端子が結合される外部入力端子Dinと共
通化するものであってもよい。
Note that if the timing signal φrW is at a low level such as the ground potential of the circuit, the outputs of the Nant gate circuits G3 and G4 will both be at a high level, and the inverter circuits IVI and I
Both outputs of V2 are set to low level. This turns both output MOSFETs QI 6 and G17 off, causing their outputs to go into a high impedance state. In addition,
The external output terminal Dout may be shared with an external input terminal Din to which an input terminal of a data input circuit DIB, which will be described later, is coupled.

外部入力端子Dinは、データ入力回路DIBの入力端
子に接続される。このデータ入力回路DIBは、タイミ
ング信号φr−により活性化され、外部入力端子Din
に供給された書き込みデータ信号と同相の書き込み信号
と逆相の書き込み信号を形成する。上記の相補の書き込
みデータ信号は、マルチプレクサを構成するNチャンネ
ル伝送ゲートMOSFETQIとG2を介して上記共通
相補データ線CD、CDに供給される。
External input terminal Din is connected to an input terminal of data input circuit DIB. This data input circuit DIB is activated by the timing signal φr-, and the external input terminal Din
A write signal that is in phase with the write data signal supplied to the write data signal and a write signal that is in opposite phase are formed. The complementary write data signals are supplied to the common complementary data lines CD and CD via N-channel transmission gate MOSFETs QI and G2 forming a multiplexer.

上記マルチプレクサを構成する伝送ゲートMOSFET
Q1.Q2は、そのゲートに供給される書き込み制御信
号Wによって、書き込みモードのときにオン状態にされ
る。書き込み動作モードのとき、上記データ入力回路D
IBにより形成された書き込み信号−が共通相補データ
線CD、CD及びこのとき選択されているカラムスイッ
チ回路を通して相補データ線に伝えられ、ワード線が選
択状態にされたメモリセルに対して書き込み動作が行わ
れる。
Transmission gate MOSFET that constitutes the above multiplexer
Q1. Q2 is turned on in write mode by a write control signal W supplied to its gate. In the write operation mode, the data input circuit D
A write signal generated by IB is transmitted to the complementary data line through the common complementary data lines CD and the column switch circuit selected at this time, and a write operation is performed on the memory cell whose word line is in the selected state. It will be done.

上記共通相補データ線CD、CDには、ラッチ回路から
なる増幅回路AMPが設けられている。
The common complementary data lines CD, CD are provided with an amplifier circuit AMP consisting of a latch circuit.

増幅回路AMPは、前記センスアンプSAと同様に、P
チャンネルMOSFETQ20.G22と、Nチャンネ
ルMO5FETQ21.G23とからなるCMOSイン
バータ回路の入力と出力とが交差接続されてなるラッチ
回路で構成され、その−対の入出力ノードが上記共通相
補データ線CD。
Like the sense amplifier SA, the amplifier circuit AMP has P
Channel MOSFET Q20. G22 and N-channel MO5FETQ21. The input and output nodes of the CMOS inverter circuit G23 are cross-connected to form a latch circuit, and the input/output node of the pair is connected to the common complementary data line CD.

CDに結合されている。また、上記ラッチ回路には、そ
の動作タイミングを制御するためにPチャンネルMOS
FETQ24を通して電源電圧Vccが供給され、Nチ
ャンネルMOSFETQ25を通して回路の接地電圧V
ssが供給される。これらのバ”)−ス4 ッ+MOS
FETQ24.G25のゲートには、動作サイクルにお
いて増幅回路AMPを活性化させるようにロウレベル、
ハイレベルにされる相補タイミングパルスφpal、φ
pa゛ が印加される。この相補タイミングパルスφp
a′φpa° は、例えば、センスアンプのタイミング
パルスφpa2及びφpa2に対してそれぞれの変化開
始タイミングが遅延された信号とされる。適当な遅延時
間の設定によって、上記相補タイミングパルスφpa”
、φpa゛ は、カラムスイッチ回路の選択動作により
共通相補データ線CD、CDに選択されたデータ線から
の読み出し信号が伝えられた後に増幅回路AMPを活性
化するレベルにされる。
Combined with CD. The latch circuit also includes a P-channel MOS to control its operation timing.
Power supply voltage Vcc is supplied through FETQ24, and circuit ground voltage V is supplied through N-channel MOSFETQ25.
ss is supplied. These buses”)−4+MOS
FETQ24. A low level signal is applied to the gate of G25 to activate the amplifier circuit AMP during the operation cycle.
Complementary timing pulses φpal, φ set to high level
pa' is applied. This complementary timing pulse φp
For example, a'φpa° is a signal whose change start timing is delayed with respect to timing pulses φpa2 and φpa2 of the sense amplifier. By setting an appropriate delay time, the complementary timing pulse φpa''
, φpa' are set to a level that activates the amplifier circuit AMP after a read signal from the selected data line is transmitted to the common complementary data lines CD, CD by the selection operation of the column switch circuit.

この実施例では、以下に説明する理由によってデータの
読み出し速度を充分速くできる。
In this embodiment, the data read speed can be made sufficiently high for the reasons explained below.

先ず、メインアンプMAの入力に供給される読み出し信
号は、上記ラッチ形態の増幅回路AMPによって直流的
にも増幅されることになる。それ故、その入力信号のレ
ベルが増幅回路AMPの増幅動作に伴い大きくなり、等
価的にメインアンプMAの増幅動作を速くする。これに
より、読み出し動作の高速化が可能になる。
First, the read signal supplied to the input of the main amplifier MA is also DC-amplified by the latch-type amplifier circuit AMP. Therefore, the level of the input signal increases with the amplification operation of the amplifier circuit AMP, equivalently speeding up the amplification operation of the main amplifier MA. This makes it possible to speed up the read operation.

また、上記のように共通相補データ線CD、  CDに
対してもラッチ形態の増幅回路が設けられることに対応
して、カラム選択タイミングを早くできる。すなわち、
従来のダイナミック型RAMでは、センスアンプSAの
増幅動作により相補データ線のレベル差が十分太き(さ
れた後にカラム選択動作を行う必要があったが、この実
施例では共通相補データ線CD、CD側にもセンスアン
プと同様な増幅回路AMPが設けられるものであるから
、その増幅動作に必要なレベルが形成されると直ちにカ
ラム選択動作を行うことができるものである。また、相
補データ線及び共通相補データ線における信号がそれぞ
れラッチ形態の増幅回路により増幅されるものであるか
ら、データ線及び相補データ線が高速にハイレベルとロ
ウレベルに拡大するものとなる。これにより、上記メイ
ンアンプMAでの増幅時間が短くなることと相俟って、
読み出し動作の高速化が可能になる。
Furthermore, since latch-type amplifier circuits are provided for the common complementary data lines CD and CD as described above, the column selection timing can be made faster. That is,
In a conventional dynamic RAM, it was necessary to perform a column selection operation after the level difference between the complementary data lines was made sufficiently large by the amplification operation of the sense amplifier SA, but in this embodiment, the common complementary data lines CD, CD Since an amplifier circuit AMP similar to the sense amplifier is provided on the side as well, the column selection operation can be performed immediately after the level necessary for the amplification operation is established.Furthermore, the complementary data line and Since the signals on the common complementary data line are each amplified by a latch-type amplifier circuit, the data line and the complementary data line expand to high level and low level at high speed.As a result, the main amplifier MA Coupled with the shortening of the amplification time,
It becomes possible to speed up the read operation.

さらに、データ読み出しの速度を制限する要因としてノ
イズがあり、ノイズが大きい場合、信号レベルがノイズ
に対して充分大きくなるまで読み出しの実行ができない
こととなるが、この実施例の場合、ノイズが小さいこと
により高速の読み出しが可能になる。すなわち、上記の
ようなCMOSラッチ回路をセンスアンプSA及び増幅
回路AMPとして利用する場合、相補データ線及び共通
相補データ線のレベルがハイレベルとロウレベルとに高
速に変化するため、NチャンネルMOSFETとPチャ
ンネルMOS F ETとを通して流れる比較的大きな
貫通電流が流れる時間を短くできる。これにより、電源
線や接地線に発生するノイズレベルが低減されるととも
に低消費電力化が可能になる。
Furthermore, noise is a factor that limits the speed of data readout; if the noise is large, readout cannot be performed until the signal level becomes sufficiently large compared to the noise; however, in the case of this example, the noise is small. This enables high-speed reading. That is, when using the CMOS latch circuit as described above as the sense amplifier SA and the amplifier circuit AMP, the levels of the complementary data line and the common complementary data line change rapidly between high level and low level, so the N-channel MOSFET and P The time period during which a relatively large through current flows through the channel MOS FET can be shortened. As a result, the noise level generated in the power supply line and the ground line is reduced, and power consumption can be reduced.

また、共通相補データ線CD、CDにラッチ形態の増幅
回路AMPを設ける構成では、書き込み動作のときにも
増幅回路AMPを動作状態にし、データ入カバソファD
IBの書き込み駆動能力を補助する機能を持たせること
ができる。これにより、データ人カバソファDIBを構
成する素子サイズを大きくすることなく、テストモード
に備えて複数からなるデータ線に一括して同じデータを
書き込む機能を設けることができる。
Furthermore, in the configuration in which the latch-type amplifier circuit AMP is provided on the common complementary data lines CD, CD, the amplifier circuit AMP is kept in the operating state even during a write operation, and the data input cover sofa D
It is possible to provide a function to assist the write driving ability of the IB. This makes it possible to provide a function to write the same data all at once to a plurality of data lines in preparation for a test mode without increasing the size of the elements constituting the data driver sofa DIB.

上記の実施例から得られる作用効果は、下記の通りであ
る。すなわち、 (1)カラムスイッチ回路を介してメモリセルが結合さ
れた相補データ線に接続される共通相補データ線に対し
て、所定のタイミング信号により活性化されるラッチ形
態の増幅回路を設けることにより、共通相補データ線に
伝えられた読み出し信号が上記増幅回路により直流的に
も増幅されるから等価的にメインアンプの増幅動作を高
速化することができるという効果が得られる。
The effects obtained from the above examples are as follows. That is, (1) By providing a latch-type amplifier circuit activated by a predetermined timing signal for a common complementary data line connected to a complementary data line to which memory cells are coupled via a column switch circuit. Since the read signal transmitted to the common complementary data line is also amplified in direct current terms by the amplifying circuit, an effect can be obtained that the amplifying operation of the main amplifier can equivalently be speeded up.

(2)上記のように共通相補データ線CD、CDに対し
てもラッチ形態の増幅回路が設けられることに対応して
、カラム選択タイミングを早くできるとともに、データ
線及び相補データ線が高速にハイレベルとロウレベルに
拡大して上記メインアンプMAでの増幅時間が短くなる
ことと相俟って、読み出し動作の高速化が可能になると
いう効果が得られる。
(2) Corresponding to the fact that a latch-type amplifier circuit is provided for the common complementary data lines CD and CD as described above, the column selection timing can be made faster, and the data lines and complementary data lines can go high at high speed. In combination with the amplification time in the main amplifier MA being shortened by expanding the signal to the low level and the low level, the effect of increasing the speed of the read operation can be obtained.

(3)相補データ線及び共通相補データ線のレベルがハ
イレベルとロウレベルとに高速に変化するため、センス
アンプや増幅回路を構成するNチャンネルMOS F 
ETとPチャンネルMOSFETとを通して流れる比較
的大きな貫通電流が流れる時間を短くできる。これによ
り、電源線や接地線に発生するノイズの低減と低消費電
力化が可能になるという効果が得られる。
(3) Since the levels of the complementary data line and the common complementary data line change rapidly between high and low levels, the N-channel MOS F that constitutes the sense amplifier and amplifier circuit
The time period during which a relatively large through current flows through the ET and the P-channel MOSFET can be shortened. As a result, it is possible to reduce noise generated in the power supply line and the ground line and to reduce power consumption.

(4)共通相補データ線CD、CDにラッチ形態の増幅
回路AMPを設ける構成では、書き込み動作のときにも
増幅回路AMPを動作状態にし、データ入カバソファD
IBの書き込み駆動能力を補助する機能を持たせること
ができるるから、データ入カバソファDIBを構成する
素子サイズを大きくすることなく、テストモードに備え
て複数からなるデータ線に一括して同じデータを書き込
む機能付加することができるという効果が得られる。
(4) In the configuration in which the latch-type amplifier circuit AMP is provided on the common complementary data lines CD, CD, the amplifier circuit AMP is kept in the operating state even during a write operation, and the data input cover sofa D
Since it is possible to provide a function to assist the writing drive capacity of the IB, it is possible to write the same data all at once to multiple data lines in preparation for test mode without increasing the size of the elements that make up the data input cover sofa DIB. The effect is that a writing function can be added.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本願発明は前記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、センスアンプ
は、CMO3回路の他、そのゲートとドレインが交差結
合されたMOSFETを単位回路するものであってもよ
い。この場合、相補データ線には、アクティブリストア
回路が設けられる。メモリセルの読み出し基準電圧は、
前記のようにハーフプリチャージ電圧を用いるものの他
、ダミーセルによって基準電圧を形成するものとしても
よい。アドレス信号は、ロウ系とカラム系のそれぞれ独
立した端子から供給するものであってもよい。このよう
にダイナミック型RAMを構成する各回路の具体的構成
は種々の実施形態を採ることができる。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained based on Examples above, the present invention is not limited to the above-mentioned Examples, and it goes without saying that various changes can be made without departing from the gist thereof. Nor. For example, the sense amplifier may be a unit circuit of MOSFETs whose gates and drains are cross-coupled, in addition to the CMO3 circuit. In this case, the complementary data line is provided with an active restore circuit. The read reference voltage of the memory cell is
In addition to using the half precharge voltage as described above, the reference voltage may be formed using a dummy cell. The address signal may be supplied from independent terminals for the row system and the column system. As described above, the specific configuration of each circuit configuring the dynamic RAM can take various embodiments.

この発明は、上記ダイナミック型RAMのような読み出
し方式を採る半導体記憶装置に広く利用することができ
る。
The present invention can be widely used in semiconductor memory devices that employ a read method such as the dynamic RAM described above.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本願において開示される発明のうちの代表的なものによ
って得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りであ
る。すなわち、カラムスイッチ回路を介してメモリセル
が結合された相補データ線に接続される共通相補データ
線に対して、所定のタイミング信号により活性化される
ラッチ形態の増幅回路を設けることにより、共通相補デ
ータ線に伝えられた読み出し信号が上記増幅回路により
直流的にも増幅されるから等価的にメインアンプの増幅
動作を高速化することができる。
A brief explanation of the effects obtained by typical inventions disclosed in this application is as follows. That is, by providing a latch-type amplifier circuit activated by a predetermined timing signal for a common complementary data line connected to a complementary data line to which memory cells are coupled via a column switch circuit, a common complementary Since the read signal transmitted to the data line is also amplified in direct current terms by the amplification circuit, the amplification operation of the main amplifier can equivalently be speeded up.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、この発明が適用されたダイナミック型RAM
の一実施例を示す回路図、 第2図は、そのメインアンプ及びデータ出力回路とデー
タ入力回路の一実施例を示す回路図である。 MARY・・メモリアレイ、PC・・プリチャージ回路
、USA・・単位回路、SA・・センスアンプ、AMP
・・増幅回路、MA・・メインアンプ、C−5W・・カ
ラムスイッチ、R,C−ADB・・アドレスバッファ、
R−DCR・・ロウアドレスデコーダ、C−DCR・・
カラムアドレスデコーダ、TG・・タイミング発生回路
、REFC・・自動リフレッシュ回路、DOB・・デー
タ出力ハッファ、DIB・・データ人カバソファ、VB
G・・基板バイアス発生回路 第2図
Figure 1 shows a dynamic RAM to which this invention is applied.
Circuit Diagram Showing One Embodiment FIG. 2 is a circuit diagram showing one embodiment of the main amplifier, data output circuit, and data input circuit. MARY...Memory array, PC...Precharge circuit, USA...Unit circuit, SA...Sense amplifier, AMP
・・Amplification circuit, MA・・Main amplifier, C-5W・・Column switch, R, C-ADB・・Address buffer,
R-DCR...Row address decoder, C-DCR...
Column address decoder, TG...timing generation circuit, REFC...automatic refresh circuit, DOB...data output huffer, DIB...data person cover sofa, VB
G...Substrate bias generation circuit Figure 2

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)カラムスイッチ回路を介してメモリセルが結合され
た相補データ線に接続される共通相補データ線と、この
共通相補データ線の信号を増幅して出力回路に伝えるメ
インアンプと、上記共通相補データ線に入出力ノードが
結合され、所定のタイミング信号により活性化されるラ
ッチ形態の増幅MOSFETを含む増幅回路とを備えて
なることを特徴とする半導体記憶装置。 2)上記相補データ線には、複数からなるダイナミック
型メモリセルの入出力ノードと、その記憶情報を増幅す
るラッチ形態の増幅MOSFETを含むセンスアンプが
設けられるものであることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の半導体記憶装置。 3)上記増幅回路とセンスアンプは、ラッチ形態のCM
OSインバータ回路を含むものであることを特徴とする
特許請求の範囲第2項記載の半導体記憶装置。
[Claims] 1) A common complementary data line connected to the complementary data line to which memory cells are coupled via a column switch circuit, and a main amplifier that amplifies the signal of this common complementary data line and transmits it to the output circuit. and an amplifier circuit including a latch-type amplification MOSFET whose input/output nodes are coupled to the common complementary data line and which is activated by a predetermined timing signal. 2) The complementary data line is provided with a sense amplifier including an input/output node of a plurality of dynamic memory cells and a latch-type amplification MOSFET that amplifies the stored information. The semiconductor memory device according to item 1. 3) The above amplifier circuit and sense amplifier are latch type CMs.
3. The semiconductor memory device according to claim 2, wherein the semiconductor memory device includes an OS inverter circuit.
JP1140734A 1989-06-02 1989-06-02 Semiconductor memory device Pending JPH035992A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0684373A (en) * 1992-01-30 1994-03-25 Samsung Electron Co Ltd Data output circuit of semiconductor memory device
US7278700B2 (en) 2004-06-09 2007-10-09 Canon Kabushiki Kaisha Printing apparatus and printing method

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