JPS63147516A - 圧力スイング吸着方法及び装置 - Google Patents

圧力スイング吸着方法及び装置

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JPS63147516A
JPS63147516A JP62150431A JP15043187A JPS63147516A JP S63147516 A JPS63147516 A JP S63147516A JP 62150431 A JP62150431 A JP 62150431A JP 15043187 A JP15043187 A JP 15043187A JP S63147516 A JPS63147516 A JP S63147516A
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gas
purity
desorption
adsorption
adsorption tower
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JP62150431A
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Ichiro Funada
一郎 船田
Toshio Mita
三田 敏雄
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Kobe Steel Ltd
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Kobe Steel Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は混合ガスから特定成分ガスを分離して回収する
圧力スイング吸着装置(以下単にPSA装置という)及
び圧力スイング吸着方法(PSA法という)に関し、詳
細には回収率低下を伴なわずに回収ガス純度を極めて高
レベルのものにすることのできるPSA装置及び方法に
関するものである。以下においてはその代表例としてN
2及びo2混合ガスからN2ガスを高純度(例えば99
.999%以上)で回収するPSA装誼及び方法につい
て説明するが、本発明の適用対象はこれによって限定解
釈されてはならない。
[従来の技術] 空気を原料ガスとしてPSA装買に導入しN2ガスを濃
縮回収する方法を大別すると、02ガスを吸着剤に吸着
させて除去する方法と、N2ガスを吸着剤に選択的に吸
着させしかる後脱看回収する方法の2つに分類される。
このうち後者はぜオライド系の吸着剤を使用し、N2ガ
ス吸着後の吸着塔を真空ポンプ等によって減圧すること
により高純度N2ガスを脱着回収する方法であり、以下
においてはこの方法及びこれに利用されるPSA装置に
ついて説明する。
第2図は3塔式のPSA装置を示す概略説明図であって
、前処理装置(図示せず)に接続される原料ガス(加圧
空気)供給管1には自動開閉弁(以下単に弁という)V
+〜V、を介して吸着塔3a、3b、3cが夫々接続さ
れ、各塔の底部には弁V4〜V6を会して排ガス廃棄管
4が連結される。また排ガス廃棄管4の途中(弁v4〜
v6介設点より上流側)からは脱着用管5a、5b。
5Cが分岐され、夫々弁V、〜v9を介してそれより下
流側で合流され、合流された脱着用管5には真空ポンプ
6が設けられて製品ガスホルダ9に連結される。製品ガ
スホルダ9には製品ガス回収管2が設けられると共に、
製品ガスの一部を洗浄用として抜き出す洗浄用管8が配
設され、該洗浄用管8は分岐された後弁V13〜VI5
を介して吸着塔3a、3b、3cの各頂部に連結される
。尚各吸着塔3a、3b、3cを直列結合する連結管1
0a、10b、10cが弁VIONV+2を介して夫々
設けられる。
次に上記PSA装置による高純度N2ガスの回収方法を
説明する。原料ガス供給管1から供給される加圧空気は
吸着塔3a〜3cのいずれかに導入され、吸着剤にN2
を選択的に吸着させ、該吸着剤に吸着されなかったガス
は排カス廃棄管4より糸外へ排出する。こうして吸着剤
の破過寸前まで吸着を行なって吸着工程を完了した吸着
塔では該吸着塔内の死空間に不純成分が閉じ込められて
いるので、製品ガスホルダ9内の高純度カスを洗浄ガス
として洗浄用管8経出で導入し、不純成分をパージして
吸着塔内のN2?IA度を高めておく。
尚洗浄排ガス中には前記不純成分の他高濃度のN2が含
まれており、そのまま廃棄するとN2回収率を低下させ
ることになる。そこて連結管10a〜10cを利用して
他の吸着塔へ導入し、N2ガスを再吸着させる様にして
いる。こうして洗浄の終了した吸着塔は真空ポンプ6を
介して製品ガスホルダ9と連通し、真空ポンプ6の減圧
作用によってN2を脱着して回収する。
[発明が解決しようとする問題点] 例えば吸着塔3a内の吸着剤に吸着されていたN2を脱
着させたい場合には、吸着塔3aに連通ずる弁のうちV
+ 、VI3.V12.V4及びVIOを閉鎖してV7
のみを解放し、真空ポンプ6の減圧引込み作用によって
N2ガスを製品ホルダ9内へ回収貯留する。
ところが該吸着塔3aには色々の配管が連通されており
、これら配管内にはN2純度の低いガスが云留しており
、単に真空ポンプ6を減圧させたたけではこの残留ガス
も製品ガスホルダ9内へ回収されてしまう。また前記吸
着塔3a内の吸着剤にはN 2の他に若干ながら02も
残存吸着されておつ、脱着回収されてくるN2ガス濃度
は99.999%までとするのが限度であり、回収ガス
中に混入する酸素4度を10ppm  (N2 濃度は
99.999%)より少なくするためには、前期した洗
浄工程において多量の製品N 2ガスを使用して吸着剤
に共吸着されている02や配管中の残留成分なN2に習
換する等して排除しなければならす、N2の回収率を犠
牲にしなければならないという問題があった。
そこで本発明者らは高純度(gg、999%以上)の)
12製品ガスを回収できる技術を確立すべく種々研究を
積み重ねた結果、本発明のPSA装置及びPSA方法を
完成させるに至った。
[問題点を解決前る為の手段コ 上記目的を達成し得た本発明方法は、全脱着工程のうち
少なくとも初期時間帯の脱着ガスは他の吸着塔の洗浄用
とし、その後脱着工程終期に至るまでの全ガスまたは終
期時間帯を除く中間期の脱着ガスのみを製品ガスとして
回収する点を要旨とし、また本発明装置は吸着塔に接続
された脱着カス配管を分岐させ、夫々に高純度ガスホル
タ及び低純度ガスホルダを接続してなる供を要旨とする
ものである。
[作用] 第3図はある吸着塔の脱着工程における不純024度の
経時変化を概念的に示すグラフであり、第4図は同じく
脱着工程における流量変化を概念的に示すグラフである
。これらのグラフから明らかなように、脱着されるガス
流量は時間の経過と共に急速に低減し、一方不純024
度は脱着初期と終期で高いことが分かった。特に脱着初
期における脱着ガスはN2純度が低く且つガス量も多い
ので、この時期の回収ガスが全回収ガスのN2純度に重
大な悪影響を与えることが予想される。そこで少なくと
もこの脱着初期時間帯の脱着カスを別の容器に回収すれ
ば、脱着工程中期又は中期及び終期に回収されるガスは
高純度を維持できる。尚終期の回収ガスもN2純度が低
くなっているが回収量自体が少ないので、これを回収ガ
ス中に混入させても全回収ガスのN2純度に対してそれ
ほど重大な影響を与えることはない。但し終期ガスを回
収ガス中に加えるか否かは回収目標純度に応じて定めれ
ば良いことである。この様に脱着工程時の脱着ガスを高
純度ガスと低純度ガスに分けて取り出すことにより、従
前よりも高純度のガスが得られることとなったのである
。また上記の様にして分けられた低純度ガスについては
、吸着塔の洗浄用ガスとして利用できるので、高純度ガ
スの回収率を低下させることがなく、総体的に見た特定
成分の回収率は従前の技術に比較して低下することはな
い。
また該方法に使用するPSA装置としては脱着ガスを低
純度ガス及び高純度ガスに分けて回収できる様に、脱着
用ガス配管を分岐して低純度ガスホルダ及び高純度ガス
ホルダを接続すれば良い。
さらに低純度ガスを洗浄用ガスとして利用するために、
少なくとも該低純度ホルダと洗浄用管を連結しておくこ
とが推奨される。
[実施例コ 第1図は本発明PSA装置の実施例を示す概略説明図で
あるが、この他該実施例に適宜設計変更を加えたもので
あっても構わない。
第2図に示したPSA装置と相違する点は、真空ポンプ
6を設けた脱着用管5に高純度ガスホルダ9aと低純度
ガスホルダ9bを並設した点にある。即ち脱着用管5に
弁V2+を介して低純度ガスホルダ9bを設けると共に
弁VI8を介して高純度カスホルダ9aを設け、ざらに
弁V19を介してバイパス管11を配設する。また高純
度ガスホルダ9a、低純度ガスホルダ9b及びバイパス
管11にはV17.V2゜及びVI6を介して洗浄用管
8を連結する。尚上記バイパス管11は、第6図の様に
高純度ガスホルダ9aと低純度ガスホルダ9bを並列的
に配設する場合には、設けなくても良い。
また真空ポンプ6を密閉容器12中に配設すると共に、
該容器12を連通管13(破線で示す)経由で高純度ガ
スホルダ9a(時によっては低純度ガスホルダ9bでも
良い)に接続して容器12内を高純度N2ガスで満たし
ておけば真空ポンプ6の作動によフて該ポンプの微少隙
間から外部の空気が脱着ガス中に混入するのを防止する
ことができる。・尚該密閉客器12を高純度ガスホルダ
又は低純度ガスホルダとして兼用しても構わない。
上記2つのホルダの作動手順を以下に述べる。吸着塔の
脱着工程初期の一定時間内は弁V21を開放し、真空ポ
ンプ6から送給されるカスを低純度ガスホルダ9b内へ
導入する。また脱着終期時間イ(トにはバイパス管11
又は低純度ガスホルダ9bを介して脱着ガスを洗浄用管
8に導入し、吸着塔の洗浄ガスとして利用しても良い。
即ち第5図は3塔式吸着塔における工程順序を示してお
り、脱着終期に取出されるガスは矢印A、〜A3に示さ
れる様に他の吸着塔へ洗浄ガスとして送給される。
一方脱着工程中間期には弁viaを開放し、真空ポンプ
6から送給される高純度N、ガスを高純1度ガスホルダ
9a内へ導入する。
上記実施例ではタイマーによる切換を行なったが脱着用
管5に濃度検出器を設けておき、該検出器の検出値によ
って02濃度が低い値を検出した時に脱着ガスを高純度
ガスホルダ9aににプ人する様に構成しても構わないし
、或は流量検出器を設けておき、第4図のグラフに沿っ
て変化する流量によって脱着ガスのルートを交換する方
法であっても良い。
実施例1 第1図に示す構造のPSA装置を試作し前処理工程によ
って処理されたN2ガス(79%)及び02ガス(21
%)の混合ガスからN2ガスを選択回収する実験を行な
った。吸着塔の形状は内径450mm 、高さ200m
mのものを使用し、吸着剤は合成ゼオライト5A型を使
用した。
混合ガスは吸着圧力4.0にg/cm2Gとし、708
m’/hの流量で吸着塔へ供給し、脱着圧力は0.1K
g/cm2Gに設定し、吸着塔1塔の1工程サイクル時
間(吸着開始から次回の吸着開始までの時間)を3分と
した。
その結果高純度ガスホルダ及び低純度ガスホルダに回収
された全N2ガスの回収率は、37.4%となり、しか
も高純度ガスホルダに回収されるN2ガスはこれとは別
に全回収N2ガスの42%となり、そのN2ガス濃度は
99.9993%を達成した。
尚このときの高純度ガスホルダへのN2回収は、1塔の
脱着工程全所要時間60秒のうち中間期35秒間とした
実施例2 実施例1と同様のPSA装置を用い60 Nm3/hで
原料空気を供給し、低純度ガス及び高純度ガスを合わせ
て42 N+n3/h回収した。全脱着工程60秒のう
ち脱着工程初期の10秒間及び脱着工程終期の29秒間
は脱着回収ガスを低純度ガスホルダへ回収し、該回収ガ
スを洗浄工程の洗浄ガスとして利用した。この結果高純
度ガスホルダシこ回収されるN2ガスは純度99.99
92%を達成しく従来法では99.998%とするのが
限界であった)またこのときの回収量は20 Nm’/
hであった。
上記高純度ガスホルダ内のN2ガス純度は深冷分離法に
よるN 2ガス濃縮回収に匹敵し、液体窒素の原料ガス
として十分適用されるものとなった。上記した例ではN
2ガスの回収について説明したが、その他H2ガスやC
oガスの回収においても適用されることは言うに及ばな
い。
[発明の効果] 本発明によって製品ガスの回収率を低減させることなく
高純度のガスを回収できる様になった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に利用するPSA装置の実施例を示す概
略説明図、第2図は従来のPSA装置の例を示す概略説
明図、第3図は脱着工程における不純o2/A度変化を
経時的に示すグラフ、第4図は脱着工程における脱着ガ
ス流量変化を示すグラフ、第5図は3塔式吸着塔の工程
順序を示す説明図、第6図は本発明PSA装置の他の実
施例を示す一部説明図である。 1・・・原料ガス供給管 2・・・製品ガス回収管3a
、3b、3c・・・吸着塔  4・・・排ガス廃棄管5
・・・脱着用管    6・・・真空ポンプ8・・・洗
浄用管    9・・・製品ガスホルダ9a・・・高純
度ガスホルダ 9b・・・低純度ガスホルダ 10a、10b、10c ・=連結管 11・・・バイパス管   12・・・密閉容器■、〜
’/23  自動開閉弁 第5図 に擢O轄略 鼠 肥 堝   □

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)2以上の吸着塔を併設し、混合ガス中の特定成分
    をいずれかの吸着塔に吸着させ、次いで減圧脱着させる
    工程を包含する圧力スイング吸着方法において、全脱着
    工程のうち少なくとも初期時間帯の脱着ガスは他の吸着
    塔の洗浄用とし、その後脱着工程終期に至るまでの全ガ
    スまたは終期時間帯を除く中間期の脱着ガスのみを製品
    ガスとして回収することを特徴とする圧力スイング吸着
    方法。
  2. (2)減圧脱着は真空ポンプを用いて行ない、該真空ポ
    ンプを特定成分純度の高いガス雰囲気中に保護する特許
    請求の範囲第1項に記載した圧力スイング吸着方法。
  3. (3)吸着塔から脱着されたガスを回収する圧力スイン
    グ吸着装置において、吸着塔に接続された脱着ガス配管
    を分岐させ、夫々に高純度ガスホルダ及び低純度ガスホ
    ルダを接続してなることを特徴とする圧力スイング吸着
    装置。
JP62150431A 1986-07-09 1987-06-16 圧力スイング吸着方法及び装置 Granted JPS63147516A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10549886 1986-07-09
JP61-105498 1986-07-09

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63147516A true JPS63147516A (ja) 1988-06-20
JPH0149530B2 JPH0149530B2 (ja) 1989-10-25

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ID=14409266

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JP62150431A Granted JPS63147516A (ja) 1986-07-09 1987-06-16 圧力スイング吸着方法及び装置

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS643003A (en) * 1987-06-25 1989-01-06 Kobe Steel Ltd Process for producing high-purity nitrogen by pressure-swing adsorption and apparatus therefor
JPH0238431U (ja) * 1988-08-29 1990-03-14

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JPS5344160A (en) * 1976-10-05 1978-04-20 Nippon Hoso Kyokai <Nhk> Parallel coding circuit

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