JPS6314403B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6314403B2
JPS6314403B2 JP1406280A JP1406280A JPS6314403B2 JP S6314403 B2 JPS6314403 B2 JP S6314403B2 JP 1406280 A JP1406280 A JP 1406280A JP 1406280 A JP1406280 A JP 1406280A JP S6314403 B2 JPS6314403 B2 JP S6314403B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
record
electrode
temperature plasma
low
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP1406280A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS56111106A (en
Inventor
Kyoshi Imada
Susumu Ueno
Yasuhide Nishina
Hirokazu Nomura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP1406280A priority Critical patent/JPS56111106A/en
Priority to GB8102537A priority patent/GB2070340B/en
Priority to US06/230,070 priority patent/US4410784A/en
Priority to FR8102313A priority patent/FR2475560B1/en
Priority to DE19813104243 priority patent/DE3104243A1/en
Priority to NL8100575A priority patent/NL8100575A/en
Publication of JPS56111106A publication Critical patent/JPS56111106A/en
Publication of JPS6314403B2 publication Critical patent/JPS6314403B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/12Chemical modification
    • C08J7/123Treatment by wave energy or particle radiation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/14Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29KINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
    • B29K2027/00Use of polyvinylhalogenides or derivatives thereof as moulding material
    • B29K2027/06PVC, i.e. polyvinylchloride
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29LINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS B29C, RELATING TO PARTICULAR ARTICLES
    • B29L2017/00Carriers for sound or information
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2327/00Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers
    • C08J2327/02Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C08J2327/04Characterised by the use of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing chlorine atoms
    • C08J2327/06Homopolymers or copolymers of vinyl chloride

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は塩化ビニル系樹脂製レコード盤の改質
方法に関するものであり、該レコード盤の表面特
性を改質することにより、帯電防止性、耐摩耗性
等を改良することを目的とするものである。 現在、市販されているレコード盤は帯電性が著
しく、ほこり等を盤面に吸着し、ノイズの発生等
が著しくなるという問題点を有する。これを改良
する方法として、帯電防止剤を練り込んだり、塗
布したりする方法が提案されているが、前者はレ
コード盤の成形加工性を著しく損う上に効果が低
く、また後者は持続性に乏しいほか、レコード盤
とのなじみが悪いために均一に塗布することが困
難であるという欠点を有する。このなじみを向上
させることを目的として若干の溶剤等を塗布剤に
混合すると、ノイズの発生等音質に著しい悪影響
がもたらされる。 本発明者らはレコード盤等の塩化ビニル系樹脂
成形品を低温プラズマで処理することによりその
表面を改質するための研究を以前から重ねてきた
が、この場合にレコード盤を電極間にセツトして
低温プラズマ処理すると、盤面の部分部分におい
て処理効果にむらを生じる傾向があり、全面に十
分な処理効果をもたらすべく強力に処理すると、
どうしても過剰な処理部分を生じ、これが逆にノ
イズ発生の増加をまねくという問題点がある。 本発明はかかる技術的課題をふまえ研究を重ね
た結果完成されたもので、これは複数個の電極を
平行に2列に配列してなり、一方の電極列の各電
極を高周波電源入力側に、他方の電極列の各電極
をアース側にそれぞれ接続してなる内部電極放電
型低温プラズマ発生装置内で、塩化ビニル系樹脂
製レコード盤を、前記電極列間を軸回転させつつ
移動させながら10トル以下の無機ガスの低温プラ
ズマで処理することを特徴とするレコード盤の改
質方法に関するものである。 本発明の方法はレコード盤の帯電防止性、耐摩
耗性等の向上に特に威力が発揮され、これによれ
ばレコード盤の音質に悪影響を与えることなく帯
電防止性、耐摩耗性向上の効果が全面均一に付与
される。またこの方法によればレコード盤の低温
プラズマ処理がより容易にかつ確実に行われると
いう注目すべき効果が得られる。 以下本発明の方法を詳細に説明する。 本発明の方法で使用される内部電極放電型低温
プラズマ発生装置は、内部を減圧とすることがで
きる容器中に前記した2つの電極列を設置した構
成からなる装置であつて、第1図および第2図は
この電極列配置の具体的態様と処理しようとする
成形品(レコード盤)の移動手段を概略的に示し
たものである。 第1図は棒状の電極1の複数本を2列にほぼ平
行に4本づつ配列した構成で、それぞれの電極列
でと付したものは高周波電源入力側に、また
と付したものはアース側にそれぞれ接続する。こ
の結果一方の電極列は高周波電源入力側に他方の
電極列はアース側となつて、両電極列で相対向す
る電極は入力側とアース側の組合せとなる。この
2つの電極列間で相対向する電極の間隔は十分な
処理ができる距離とし、実験により決められる。
一方各電極列で一列に並んでいる電極の各間隔は
電極列の全体の長さが、その間でレコードが1回
以上回転(自転)をし得る距離となるように定め
ることが望ましい。 第1図中は両電極列間に低温プラズマ処理し
ようとするレコード盤を移動させるための装置で
あつて。3はレコード盤を示す。4は駆動モータ
ー、5,5′は動力伝達機構である。この動力伝
達機構5′に設けられたアーム6は駆動により電
極列間にこのアームがほぼ水平となる位置まで回
転し、これによりアーム6の先端に回転自在に取
付けられたレコード盤3が電極列間に移動する。
この移動操作は何回かくり返される。もちろんこ
の移動操作はプラズマ処理時間(数秒〜数分)と
の関係で定められるべきである。動力伝達機構
5′とレコード盤3を取付けた軸7とをベルト8
で接続し、電極列間に移動する際レコード盤は自
転(軸回転)されるようにしてある。この自転機
構を設けることによりレコード盤はより均一に低
温プラズマ処理される。なお、電極にはその温度
コントロールのための熱媒体(水)の入口9およ
び出口9′が設けられている。 第2図は電極の形状およびレコード盤の移動手
段を別の態様としたものであり、11は複数個の
穴が設けられた板状の電極、12は絶縁板、1
3,13′はレコード盤3を自転させながら移動
させるためのレール機構である。この図で各電極
列における電極の数は絶縁板を介して5個並べら
れており、それらの各電極はと付したものを入
力側、と付したものをアース側にそれぞれ接続
する。この結果電極の基本的配列は第1図と同様
となる。 使用される電極の材質については、導電性のも
のであれば特に問題はなく、たとえば鉄、ステン
レス、銅、アルミニウム等が例示される。その形
状については棒状、平板状、平板に穴をあけたも
のあるいは金網状等、種々の構造のものが考えら
れるが、ガスを通過せしめることを可能としかつ
冷却可能な形状が好ましい。この冷却は処理の効
果を均一に行わしめるためと、また電極に生じる
熱のために対象成形品(レコード盤)の変形を防
止するためであり、冷却媒体によつて60℃以下に
冷却することが好ましい。 電極特に入力側の電極はホーローまたはガラス
等でコートしておくことが好ましく、金属が露出
していると、この部分でのスパーク等によりノイ
ズの発生を助長する。 本発明が提案する方法によつてレコード盤は十
分なぬれ性と帯電防止性を付与されるが、さらに
好ましくはプラズマ処理後活性化されたレコード
盤表面を0.001〜50%の界面活性剤を含有する水
性液で後処理して界面活性剤をレコード盤表面に
固定化することにより永続的な帯電防止効果を付
与せしめることが可能となる。使用する界面活性
剤としてはカチオン系、アニオン系、ノニオン
系、両性等いずれも使用可能であるが、帯電防止
効果としてはカチオン系が最も好ましい。 後処理の方法としてはスプレー、含浸、ハケ塗
り等いずれの方法でも可能であるが、実用的には
スプレー塗布が最も好ましい。また塗布する場合
レコード盤に対する湿潤性を向上せしめるために
メタノール、エタノール等の溶剤を添加すること
も可能である。このようにして処理されたレコー
ド盤は十分に親水化しているがゆえに、界面活性
剤は均一に分布され、永続的な帯電防止能を示す
と共にノイズ等の悪影響を生じることはない。 低温プラズマ処理のためのプラズマ発生条件と
しては、低温プラズマ発生装置内に10トル以下の
無機ガスを流しながら、電極間に13.56MHz、数
W〜数KWの電力を印加すればよく、プラズマ処
理時間は印加電圧によつても相違するが、一般に
は数秒から数分とすることで十分である。 なお、プラズマ処理の手段には上記の方法以外
にも種々あり、たとえば放電周波数帯としては低
周波、マイクロ波などを用いることができ、プラ
ズマ発生様式もグロー放電のほか、コロナ放電、
火花放電、無声放電なども採用することができ
る。 無機ガス(無機性あるいは不活性ガス)として
は、ヘリウム、ネオン、アルゴン、窒素、亜酸化
窒素、二酸化窒素、酸素、空気、塩素、塩化水
素、一酸化炭素、二酸化炭素、水素などが例示さ
れ、これらのガスは単独で使用してもよいし混合
して使用してもよい。プラズマ発生装置内におけ
るこれらガスの圧力は0.001〜10トル(好ましく
は0.01〜1トル)とすることにより目的のプラズ
マを良好に発生させることができる。 このようにしてプラズマ処理することにより、
レコード盤の表面は親水化され、帯電防止剤が使
用された場合にはそれとの相乗効果により顕著な
帯電防止効果が得られるほか、プラズマ処理によ
り形成される表面架橋層は安定剤、帯電防止剤等
内部添加剤の表面にじみ出しを抑制し、上記効果
を永続的ならしめると共に耐摩耗性を向上させし
かもノイズを減少させるという利点が与えられ
る。 本発明は塩化ビニル系樹脂製レコード盤の表面
特性改質を目的とするものであるが、このレコー
ド盤製造に使用される塩化ビニル系樹脂としては
ポリ塩化ビニルのほか塩化ビニルを主体とする各
種の共重合体が包含され、この共重合体のコモノ
マーとしては酢酸ビニル、エチレン、プロピレ
ン、アクリル酸もしくはメタクリル酸またはそれ
らのエステルが例示される。なお、これらの共重
合体には該コモノマーが同時に2種以上使用され
たものならびに塩化ビニルを主体とする各種のグ
ラフト共重合体はもちろん包含される。 これらの塩化ビニル系樹脂からレコード盤を得
るにあたつては、必要に応じ可塑剤、帯電防止
剤、安定剤、滑剤等の各種添加剤が配合される。
可塑剤としてはフタル酸エステル、脂肪族二塩基
酸エステル、グリコールエステル、脂肪酸エステ
ル、りん酸エステル、クエン酸エステル系の可塑
剤、さらにはエポキシ系可塑剤、ポリエステル系
可塑剤、ウレタン系可塑剤、あるいは反応性可塑
剤等が例示され、また帯電防止剤としては第一ア
ミン化合物、第三アミン化合物、第四アンモニウ
ム化合物、ピリジン誘導体よりなるカチオン系界
面活性剤、石けん、硫酸化油、硫酸化エステル
油、硫酸化アミド油、オレフインの硫酸エステル
塩類、脂肪族アルコール硫酸エステル塩、アルキ
ル硫酸エステル塩、脂肪酸エチルスルホン酸塩、
アルキルスルホン酸塩、アルキルナフタレンスル
ホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、コハ
ク酸エステルスルホン酸、りん酸エステル等より
なるアニオン界面活性剤、多価アルコールの脂肪
酸エステル、脂肪族アルコールのエチレンオキサ
イド付加物、脂肪酸のエチレンオキサイド付加
物、脂肪族アミノ化合物もしくは脂肪族アミド化
合物のエチレンオキサイド付加物、アルキルフエ
ノールのエチレンオキサイド付加物、アルキルナ
フトールのエチレンオキサイド付加物、多価アル
コールの部分的脂肪酸エステルのエチレンオキサ
イド付加物、ポリエチレングリコール等のノニオ
ン界面活性剤、カルボン酸誘導体、イミダゾリン
誘導体等の両性界面活性剤が例示される。 さらに安定剤としてはステアリン酸カルシウ
ム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カドミウ
ム、ステアリン酸鉛、ステアリン酸バリウム等の
金属石けん類、ジブチルすずジラウレート、ジ―
n―オクチルすずジマレエート、ジ―n―オクチ
ルすずメルカプタイドのような有機すず化合物
類、三塩基性硫酸塩、二塩基性亜リン酸鉛のよう
な鉛系安定剤、および各種の複合安定剤が:滑剤
としてはブチルステアレートのようなエステル
系、エチレンビスステアロアマイドのような脂肪
族アミド、高級脂肪酸およびそのエステル、ある
いはポリエチレンワツクスがそれぞれ例示され
る。 また、その他塩化ビニル系樹脂の成形に使用さ
れる各種添加剤たとえば充てん剤、抗酸化剤、紫
外線吸収剤、帯電防止剤、無滴剤、顔料、染料、
架橋助剤等が配合されることも差支えない。 本発明の方法により帯電防止性を付与されたレ
コード盤は、外観上の変化がなく、かつまた処理
効果の耐久性、持久性にすぐれている。 つぎに、本発明の実施例および比較例をあげ
る。 実施例 1 塩化ビニル―酢酸ビニル共重合体 100重量部 エポキシ変性大豆油 1.0〃 ジブチルすずメルカプタイド 1.0〃 ステアリン酸カルシウム 0.3〃 上記組成からなるコンパウンドを用いて、レコ
ード成型機によりプレヒート140℃、プレス温度
165℃でレコード盤を作成した。このレコード盤
を第1図に示した電極配列機構を内蔵した内部電
極放電型低温プラズマ発生装置内でつぎのように
して低温プラズマ処理した。 プラズマ発生装置内にアルゴンガスを通気しな
がら圧力を0.15トルに調整保持し、電極に500W
の高周波電力を与えて放電させることにより低温
プラズマを発生させ、アーム6の作動によりレコ
ード盤が両電極列間に10秒滞在するように動かし
て処理した。また、この際レコード盤を5回転
(自転)させた。 つぎに、この低温プラズマ処理したレコード盤
の表面にカチオン系界面活性剤の希釈水溶液を塗
布し、水洗し、風乾した。こうして処理したレコ
ード盤(試料1−3)について諸物性を測定した
結果を、下記の試料1−1および1−2について
調べた結果と共に第1表に示した。 試料1−1:試料1−3と同様にしてプレス成型
して得たレコード盤を低温プラズマ処理せ
ずにカチオン系界面活性剤の希釈水溶液処
理のみを行つた。 試料1−2:試料1−3と同様にしてプレス成型
して得たレコード盤を高周波電源入力側電
極とアース側電極との間に固定し、アルゴ
ンガスの圧力および印加電力を試料1−3
と同様にして10秒間低温プラズマ処理を行
い、さらに同様にカチオン系界面活性剤の
希釈水溶液処理を行つた。 ただし、第1表に示した試料1−2、および1
−3のデータはレコード盤の入力側面について測
定した。
The present invention relates to a method for modifying vinyl chloride-based resin records, and its purpose is to improve antistatic properties, abrasion resistance, etc. by modifying the surface characteristics of the records. be. Currently, commercially available record discs have a problem in that they are highly electrostatically charged, attract dust and the like to the disc surface, and generate significant noise. As a method to improve this, methods have been proposed to incorporate or apply antistatic agents, but the former significantly impairs the molding processability of records and is less effective, and the latter is less effective. In addition to poor compatibility with records, it has the disadvantage of being difficult to apply evenly. If a certain amount of solvent or the like is mixed into the coating agent for the purpose of improving this familiarity, significant adverse effects on sound quality such as generation of noise will be brought about. The present inventors have been conducting research on modifying the surface of vinyl chloride resin molded products such as vinyl records by treating them with low-temperature plasma. When low-temperature plasma treatment is performed, the treatment effect tends to be uneven in some parts of the board surface, and if the treatment is performed strongly to achieve a sufficient treatment effect on the entire surface,
There is a problem in that excessive processing inevitably occurs, which in turn leads to an increase in noise generation. The present invention was completed as a result of repeated research in consideration of such technical problems, and consists of a plurality of electrodes arranged in two parallel rows, with each electrode of one row of electrodes connected to the high-frequency power input side. In an internal electrode discharge type low-temperature plasma generator in which each electrode of the other electrode row is connected to the ground side, a record made of vinyl chloride resin is moved between the electrode rows while rotating the axis for 10 minutes. The present invention relates to a method for modifying a record disc, which is characterized in that it is treated with low-temperature plasma of an inorganic gas of less than Torr. The method of the present invention is particularly effective in improving the antistatic properties and abrasion resistance of vinyl records. According to this method, the antistatic properties and abrasion resistance can be improved without adversely affecting the sound quality of vinyl records. Applied uniformly over the entire surface. Furthermore, this method has the remarkable effect that the low-temperature plasma treatment of records can be carried out more easily and reliably. The method of the present invention will be explained in detail below. The internal electrode discharge type low-temperature plasma generator used in the method of the present invention is a device consisting of the two electrode arrays described above installed in a container that can have a reduced pressure inside. FIG. 2 schematically shows a specific embodiment of this electrode array arrangement and means for moving the molded product (record disc) to be processed. Figure 1 shows a configuration in which a plurality of rod-shaped electrodes 1 are arranged in two rows of four electrodes approximately parallel to each other, and in each electrode row, the electrodes marked with and are on the high-frequency power input side, and those marked with and are on the ground side. Connect to each. As a result, one electrode row is on the high frequency power input side and the other electrode row is on the ground side, and the electrodes facing each other in both electrode rows are a combination of the input side and the ground side. The distance between the opposing electrodes between these two electrode rows is a distance that allows sufficient processing, and is determined through experiments.
On the other hand, it is desirable that the intervals between the electrodes arranged in a row in each electrode row be determined so that the entire length of the electrode row is a distance that allows the record to rotate (rotate) one or more times. Reference numeral 2 in FIG. 1 is a device for moving a record to be subjected to low-temperature plasma treatment between both electrode rows. 3 indicates a vinyl record. 4 is a drive motor, and 5 and 5' are power transmission mechanisms. The arm 6 provided in the power transmission mechanism 5' is driven to rotate to a position where the arm is approximately horizontal between the electrode rows, and as a result, the record disc 3 rotatably attached to the tip of the arm 6 is rotated between the electrode rows. move between.
This movement operation is repeated several times. Of course, this moving operation should be determined in relation to the plasma processing time (several seconds to several minutes). A belt 8 connects the power transmission mechanism 5' and the shaft 7 to which the record 3 is attached.
When the record is moved between electrode rows, it rotates on its own axis (rotates on its axis). By providing this rotation mechanism, records can be more uniformly treated with low-temperature plasma. The electrode is provided with an inlet 9 and an outlet 9' for a heat medium (water) to control its temperature. FIG. 2 shows another example of the shape of the electrode and the means for moving the record, in which 11 is a plate-shaped electrode provided with a plurality of holes, 12 is an insulating plate, 1
Reference numerals 3 and 13' denote rail mechanisms for moving the record 3 while rotating it. In this figure, the number of electrodes in each electrode row is five arranged with an insulating plate in between, and the electrodes marked with and are connected to the input side, and those marked with are connected to the ground side. As a result, the basic arrangement of the electrodes is the same as that shown in FIG. There is no particular problem with the material of the electrode used as long as it is electrically conductive, and examples include iron, stainless steel, copper, and aluminum. Various structures can be considered for the shape, such as a rod shape, a flat plate shape, a flat plate with holes, or a wire mesh shape, but a shape that allows gas to pass through and can be cooled is preferable. This cooling is done to ensure that the treatment effect is uniform and to prevent the molded product (record) from being deformed due to the heat generated in the electrodes, and must be cooled to below 60℃ using a cooling medium. is preferred. It is preferable that the electrodes, especially the input side electrodes, be coated with enamel or glass. If the metal is exposed, sparks and the like in this area will promote the generation of noise. The method proposed by the present invention imparts sufficient wettability and antistatic properties to the record, and more preferably the surface of the activated record after plasma treatment contains 0.001 to 50% surfactant. By post-treating with an aqueous solution to fix the surfactant on the surface of the record, it is possible to impart a permanent antistatic effect. The surfactant to be used may be cationic, anionic, nonionic, amphoteric, etc., but cationic surfactants are most preferred for their antistatic effect. As a post-treatment method, any method such as spraying, impregnation, brushing, etc. can be used, but spraying is most preferable from a practical standpoint. Furthermore, when coating, it is also possible to add a solvent such as methanol or ethanol to improve the wettability to the record. Since the vinyl record treated in this manner is sufficiently hydrophilic, the surfactant is uniformly distributed, exhibits permanent antistatic ability, and does not cause any adverse effects such as noise. The plasma generation conditions for low-temperature plasma processing are as follows: while flowing an inorganic gas of 10 torr or less into the low-temperature plasma generator, a power of 13.56 MHz and several watts to several kW may be applied between the electrodes, and the plasma processing time varies depending on the applied voltage, but generally a few seconds to several minutes is sufficient. In addition, there are various means for plasma treatment other than the above-mentioned methods. For example, low frequency, microwave, etc. can be used as the discharge frequency band, and the plasma generation mode includes not only glow discharge but also corona discharge,
Spark discharge, silent discharge, etc. can also be employed. Examples of inorganic gases (inorganic or inert gases) include helium, neon, argon, nitrogen, nitrous oxide, nitrogen dioxide, oxygen, air, chlorine, hydrogen chloride, carbon monoxide, carbon dioxide, hydrogen, etc. These gases may be used alone or in combination. By setting the pressure of these gases in the plasma generator to 0.001 to 10 torr (preferably 0.01 to 1 torr), the desired plasma can be generated satisfactorily. By performing plasma treatment in this way,
The surface of the record is made hydrophilic, and if an antistatic agent is used, a synergistic effect with it will provide a remarkable antistatic effect, and the surface crosslinked layer formed by plasma treatment is a stabilizer and antistatic agent. This has the advantage of suppressing surface oozing of internal additives, making the above effects permanent, improving wear resistance, and reducing noise. The purpose of the present invention is to improve the surface characteristics of records made of vinyl chloride resin, but the vinyl chloride resins used in the manufacture of vinyl records include polyvinyl chloride and various other vinyl chloride-based resins. Examples of the comonomer of this copolymer include vinyl acetate, ethylene, propylene, acrylic acid or methacrylic acid, or esters thereof. Incidentally, these copolymers include those in which two or more of the above comonomers are used at the same time, as well as various graft copolymers mainly composed of vinyl chloride. When producing records from these vinyl chloride resins, various additives such as plasticizers, antistatic agents, stabilizers, and lubricants are added as necessary.
Examples of plasticizers include phthalate esters, aliphatic dibasic acid esters, glycol esters, fatty acid esters, phosphate esters, citric ester plasticizers, as well as epoxy plasticizers, polyester plasticizers, urethane plasticizers, Examples of antistatic agents include primary amine compounds, tertiary amine compounds, quaternary ammonium compounds, cationic surfactants made of pyridine derivatives, soaps, sulfated oils, and sulfated esters. oil, sulfated amide oil, olefin sulfate ester salts, fatty alcohol sulfate ester salts, alkyl sulfate ester salts, fatty acid ethyl sulfonates,
Anionic surfactants consisting of alkyl sulfonates, alkylnaphthalene sulfonates, alkylbenzene sulfonates, succinate sulfonic acids, phosphate esters, etc., fatty acid esters of polyhydric alcohols, ethylene oxide adducts of aliphatic alcohols, fatty acids Ethylene oxide adducts of aliphatic amino compounds or aliphatic amide compounds, ethylene oxide adducts of alkylphenols, ethylene oxide adducts of alkylnaphthols, ethylene oxide adducts of partial fatty acid esters of polyhydric alcohols , nonionic surfactants such as polyethylene glycol, and amphoteric surfactants such as carboxylic acid derivatives and imidazoline derivatives. Furthermore, as stabilizers, metal soaps such as calcium stearate, zinc stearate, cadmium stearate, lead stearate, barium stearate, dibutyltin dilaurate, di-
Organotin compounds such as n-octyltin dimaleate, di-n-octyltin mercaptide, lead-based stabilizers such as tribasic sulfates, dibasic lead phosphite, and various composite stabilizers: Examples of lubricants include esters such as butyl stearate, aliphatic amides such as ethylene bisstearamide, higher fatty acids and their esters, and polyethylene wax. In addition, various other additives used in molding vinyl chloride resins such as fillers, antioxidants, ultraviolet absorbers, antistatic agents, anti-drop agents, pigments, dyes,
A crosslinking aid or the like may also be added. The vinyl record that has been given antistatic properties by the method of the present invention has no change in appearance and has excellent durability and durability of the treatment effect. Next, examples of the present invention and comparative examples will be given. Example 1 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer 100 parts by weight Epoxy-modified soybean oil 1.0〃 Dibutyltin mercaptide 1.0〃 Calcium stearate 0.3〃 Using a compound consisting of the above composition, preheating was performed at 140°C using a record molding machine at a pressing temperature.
A record was created at 165℃. This record was subjected to low-temperature plasma treatment in the internal electrode discharge type low-temperature plasma generator equipped with the electrode arrangement mechanism shown in FIG. 1 in the following manner. Adjust and maintain the pressure at 0.15 torr while venting argon gas into the plasma generator, and apply 500 W to the electrodes.
A low-temperature plasma was generated by applying high-frequency power to generate a discharge, and arm 6 was operated to move the record so that it remained between both electrode rows for 10 seconds for processing. Also, at this time, the record was rotated five times (rotated). Next, a dilute aqueous solution of a cationic surfactant was applied to the surface of this low-temperature plasma-treated record, washed with water, and air-dried. The results of measuring various physical properties of the thus treated record (Sample 1-3) are shown in Table 1 together with the results of the examination of Samples 1-1 and 1-2 below. Sample 1-1: A record obtained by press molding in the same manner as Sample 1-3 was treated only with a diluted aqueous solution of a cationic surfactant without undergoing low-temperature plasma treatment. Sample 1-2: A record obtained by press molding in the same manner as Sample 1-3 was fixed between the high-frequency power input side electrode and the earth side electrode, and the argon gas pressure and applied power were applied to Sample 1-3.
A low-temperature plasma treatment was performed for 10 seconds in the same manner as above, and a diluted aqueous solution treatment of a cationic surfactant was further performed in the same manner. However, samples 1-2 and 1 shown in Table 1
-3 data was measured on the input side of the record.

【表】 実施例 2 実施例1と同様にしてプレス成型して得たレコ
ード盤を、第2図に示した内部電極放電型低温プ
ラズマ発生装置によりつぎの条件で低温プラズマ
処理し、さらにカチオン系界面活性剤の希釈水溶
液処理を行つた。 通気ガス……アルゴンガス、0.1トル 印加電力……1.0KW プラズマ処理時間……5秒 レコード盤をレール機構13,13′によ
り5秒を要して両電極列間を通過させた。 このようにして処理したレコード盤(試料2−
2)について諸物性を測定した結果を、下記の試
料2−1について調べた結果と共に第2表に示し
た。 試料2−1:試料2−2と同様にしてプレス成型
して得たレコード盤を高周波電源入力側電
極とアース側電極との間に固定し、アルゴ
ンガスの圧力および印加電力を試料2−2
と同様にして5秒間低温プラズマ処理を行
い、さらに同様にカチオン系界面活性剤の
希釈水溶液処理を行つた。 ただし、第2表に示したデータはいずれもレコ
ード盤の入力側面について測定した。
[Table] Example 2 A record obtained by press molding in the same manner as in Example 1 was subjected to low temperature plasma treatment under the following conditions using the internal electrode discharge type low temperature plasma generator shown in FIG. A diluted aqueous solution treatment of a surfactant was performed. Venting gas: Argon gas, 0.1 Torr Applied power: 1.0 KW Plasma treatment time: 5 seconds The record was passed between the two electrode rows using the rail mechanisms 13 and 13' for 5 seconds. Record treated in this way (Sample 2-
The results of measuring various physical properties of 2) are shown in Table 2 together with the results of examining Sample 2-1 below. Sample 2-1: A record obtained by press molding in the same manner as Sample 2-2 was fixed between the high-frequency power input side electrode and the earth side electrode, and the argon gas pressure and applied power were applied to Sample 2-2.
A low temperature plasma treatment was performed for 5 seconds in the same manner as above, and a diluted aqueous solution treatment of a cationic surfactant was further performed in the same manner. However, all the data shown in Table 2 were measured on the input side of the record.

【表】 実施例 3 プラズマ発生条件を下記のとおりとしたほかは
実施例1に準じて低温プラズマ処理し、カチオン
系界面活性剤の希釈水溶液処理した。 通気ガス…アルゴンガス、0.3トル 印加電力…1.0KW プラズマ処理時間…3秒 レコード盤の回転数…5回/5秒 こうして処理したレコード盤(試料3−2)に
ついて諸物性を測定した結果を、下記の試料3−
1について調べた結果と共に第3表に示した。 試料3−1:試料3−2と同様にしてプレス成型
して得たレコード盤を高周波電源入力側電
極とアース側電極との間に固定し、アルゴ
ンガスの圧力および印加電力を試料3−2
と同様にして3秒間低温プラズマ処理を行
い、さらに同様にカチオン系界面活性剤の
希釈水溶液処理を行つた。 ただし、第1表に示したデータはいずれもレコ
ード盤の入力側面について測定した。
[Table] Example 3 Low-temperature plasma treatment and treatment with a dilute aqueous cationic surfactant solution were performed in the same manner as in Example 1, except that the plasma generation conditions were as follows. Ventilation gas: Argon gas, 0.3 torr Applied power: 1.0KW Plasma treatment time: 3 seconds Record rotation speed: 5 times/5 seconds The results of measuring various physical properties of the record treated in this way (sample 3-2) are as follows: Sample 3 below
The results are shown in Table 3 along with the results of the investigation regarding No. 1. Sample 3-1: A record obtained by press molding in the same manner as Sample 3-2 was fixed between the high-frequency power input side electrode and the earth side electrode, and the argon gas pressure and applied power were applied to Sample 3-2.
A low-temperature plasma treatment was performed for 3 seconds in the same manner as above, and a dilute aqueous solution treatment of a cationic surfactant was further performed in the same manner. However, all the data shown in Table 1 were measured on the input side of the record.

【表】 実施例 4 プラズマ発生条件を下記のとおりとしたほかは
実施例1に準じて低温プラズマ処理し、カチオン
系界面活性剤の希釈水溶液処理した。 通気ガス……アルゴンガス、0.2トル 印加電力……500W プラズマ処理時間……20秒、30秒、1分、3分 プラズマ処理時間内におけるレコード盤の回転
(自転)……5回 このようにして処理した改レコードについて諸
物性を測定したところ、第4表に示すとおりの結
果が得られた。
[Table] Example 4 Low-temperature plasma treatment and treatment with a dilute aqueous cationic surfactant solution were performed in the same manner as in Example 1, except that the plasma generation conditions were as follows. Venting gas: Argon gas, 0.2 Torr Applied power: 500W Plasma treatment time: 20 seconds, 30 seconds, 1 minute, 3 minutes Rotation (rotation) of the record within the plasma treatment time: 5 times In this way When the various physical properties of the treated vinyl records were measured, the results shown in Table 4 were obtained.

【表】 実施例 5 実施例1と同様にしてプレス成型して得たレコ
ード盤を、第1図に示した内部電極放電型低温プ
ラズマ発生装置によりつぎの条件で低温プラズマ
処理し、さらにカチオン系界面活性剤の希釈水溶
液処理を行つた。 通気ガス……アルゴンガス、0.2トル 印加電力……500W プラズマ処理時間……10秒 プラズマ処理時間内におけるレコード盤の回転
(自転)回数 試料5−1……0回転 試料5−2……1回転 試料5−3……5回転 試料5−4……10回転 このようにして処理した各レコードについて諸
物性を測定したところ、第5表に示すとおりの結
果が得られた。
[Table] Example 5 A record obtained by press molding in the same manner as in Example 1 was subjected to low temperature plasma treatment under the following conditions using the internal electrode discharge type low temperature plasma generator shown in FIG. A diluted aqueous solution treatment of a surfactant was performed. Ventilation gas...Argon gas, 0.2 Torr Applied power...500W Plasma treatment time...10 seconds Number of rotations (rotations) of the record within the plasma treatment time Sample 5-1...0 rotation Sample 5-2...1 rotation Sample 5-3...5 rotations Sample 5-4...10 rotations When various physical properties were measured for each record treated in this way, the results shown in Table 5 were obtained.

【表】【table】

【表】【table】 【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の方法に使用される内部電極放
電型低温プラズマ発生装置における電極の配列お
よびレコード盤移動手段の概略を示したものであ
り、また第2図は電極の配列およびレコード盤移
動手段の他の態様を示したものである。 1,11…電極、…レコード盤移動手段、3
…レコード盤、4…駆動モーター、5,5′…動
力伝達機構、6…アーム、12…絶縁板、13,
13′…レール機構、24…懸垂移動機構。
Figure 1 schematically shows the arrangement of electrodes and the means for moving the record in the internal electrode discharge type low temperature plasma generator used in the method of the present invention, and Figure 2 shows the arrangement of the electrodes and the means for moving the record. This figure shows another aspect of the means. 1, 11... Electrode, 2 ... Record moving means, 3
...Record, 4...Drive motor, 5,5'...Power transmission mechanism, 6...Arm, 12...Insulating plate, 13,
13'...Rail mechanism, 24...Suspension movement mechanism.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 複数個の電極を平行に2列に配列してなり、
一方の電極列の各電極を高周波電源入力側に、他
方の電極列の各電極をアース側にそれぞれ接続し
てなる内部電極放電型低温プラズマ発生装置内
で、塩化ビニル系樹脂製レコード盤を、前記電極
列間を軸回転させつつ移動させながら10トル以下
の無機ガスの低温プラズマで処理することを特徴
とするレコード盤の改質方法。
1 Consisting of multiple electrodes arranged in two parallel rows,
In an internal electrode discharge type low temperature plasma generator in which each electrode of one electrode row is connected to the high-frequency power input side and each electrode of the other electrode row is connected to the ground side, a record made of vinyl chloride resin is A method for modifying a record, comprising treating it with low-temperature plasma of an inorganic gas of 10 torr or less while rotating and moving between the electrode rows.
JP1406280A 1980-02-07 1980-02-07 Improving method for record disc Granted JPS56111106A (en)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1406280A JPS56111106A (en) 1980-02-07 1980-02-07 Improving method for record disc
GB8102537A GB2070340B (en) 1980-02-07 1981-01-28 Method for surface properties of a disclike shaped article of a vinyl chloridebased resin
US06/230,070 US4410784A (en) 1980-02-07 1981-01-29 Method for modifying surface properties of a disc-like shaped article of a vinyl chloride-based resin
FR8102313A FR2475560B1 (en) 1980-02-07 1981-02-06 PROCESS FOR MODIFYING SURFACE PROPERTIES OF PVC RESIN DISC-LIKE ARTICLES USING LOW TEMPERATURE PLASMA
DE19813104243 DE3104243A1 (en) 1980-02-07 1981-02-06 Process for modifying the surface properties of disc-shaped mouldings of vinyl chloride-based synthetic engineering resins
NL8100575A NL8100575A (en) 1980-02-07 1981-02-06 METHOD FOR CHANGING THE SURFACE PROPERTIES OF A DISK-SHAPED ARTICLE OF A VINYL CHLORIDE BASED PLASTIC

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1406280A JPS56111106A (en) 1980-02-07 1980-02-07 Improving method for record disc

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS56111106A JPS56111106A (en) 1981-09-02
JPS6314403B2 true JPS6314403B2 (en) 1988-03-30

Family

ID=11850595

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1406280A Granted JPS56111106A (en) 1980-02-07 1980-02-07 Improving method for record disc

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS56111106A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63110004A (en) * 1986-10-28 1988-05-14 Miura Kogyo Kk Non-slip tire
JPS63123307U (en) * 1987-02-05 1988-08-11
JP3029444U (en) * 1995-01-04 1996-10-01 恰 高橋 Snow tire

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63110004A (en) * 1986-10-28 1988-05-14 Miura Kogyo Kk Non-slip tire
JPS63123307U (en) * 1987-02-05 1988-08-11
JP3029444U (en) * 1995-01-04 1996-10-01 恰 高橋 Snow tire

Also Published As

Publication number Publication date
JPS56111106A (en) 1981-09-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4344981A (en) Method for modifying surface properties of a shaped article of a silicone
JPS59140233A (en) Surface treatment of synthetic resin molding
JPS6314403B2 (en)
US4410784A (en) Method for modifying surface properties of a disc-like shaped article of a vinyl chloride-based resin
EP0661103A1 (en) Method for coating golf balls
US4364970A (en) Method for improving surface properties of shaped articles of polyvinyl chloride resins
JPS6037814B2 (en) Method for modifying vinyl chloride resin molded products
JPH0351731B2 (en)
JPH04272834A (en) Manufacture of long molded article
JPS6037818B2 (en) Processing method for vinyl chloride resin molded products
JP2935786B2 (en) Corona discharge treatment method
DE2930434C2 (en) Method of making records
JPS6314404B2 (en)
JPH04135937U (en) Corona discharge treatment equipment
JPH05339398A (en) Equipment for corona discharge treatment
JPS62179531A (en) Molding for corona discharge treatment
US2844498A (en) Method and means for surfacehardening of steel
JP3115707B2 (en) Stamper surface treatment method
JPH11106830A (en) Heat treatment of steel wire
JPS6257431A (en) Corona discharge treatment of molded resin article and apparatus therefor
JPS6037815B2 (en) Surface treatment method for vinyl chloride resin molded products
GB2052525A (en) Method for the preparation of shaped articles of vinyl chloride based resin with improved surface properties
JPH05214130A (en) Antistatic surface modification of pvc
JPS6037816B2 (en) Surface treatment method for vinyl chloride resin molded products
JPH07237124A (en) Surface processing method of mold