JPS63138693A - エレクトロルミネツセント螢光体パネル - Google Patents

エレクトロルミネツセント螢光体パネル

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JPS63138693A
JPS63138693A JP61282170A JP28217086A JPS63138693A JP S63138693 A JPS63138693 A JP S63138693A JP 61282170 A JP61282170 A JP 61282170A JP 28217086 A JP28217086 A JP 28217086A JP S63138693 A JPS63138693 A JP S63138693A
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JP
Japan
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layer
panel
phosphor
powder
electrode
Prior art date
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Pending
Application number
JP61282170A
Other languages
English (en)
Inventor
アロン ベチト
マルカム ヘンリー ヒグトン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
FUOSUFUAA PROD CO Ltd
Original Assignee
FUOSUFUAA PROD CO Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は交流電圧(ACEL)で動作可能であるがDC
EL動作として知られた1方向型圧動作用に主として設
計されたエレクトロルミネッセント (EL)蛍光体(
発光体)装置、パネル及びディスプレーに関する。
〔従来の技術及び問題点〕
ACEL操作が可能な厚膜粉末DCELパネルは従来、
(a)例えば、酸化錫の透明前方電極膜を例えばガラス
の透明絶縁基板上に堆積し、 (b)マンガンのような活性剤でドープし、粘結剤中に
浮遊した銅で前方電極に被覆した硫化亜鉛(ZnS)の
ような蛍光体粒子を含む活性層;この層は代表的には1
0−15μm厚さく以下“厚膜”装置)、を塗布し、 (c)活性層上に例えばアルミニウムの黒い電極膜を堆
積し、そして (d)所定時間、電極膜に1方向電圧を印加し、それに
よって正にバイアスされた前方電極の領域で蛍光体粒子
から剥離され代表的には1−2μm厚さの高抵抗、高光
出力層を形成する工程からなる方法によって作られる。
薄い発光層を残す剥離されないリン光体粒子の比較的厚
い層は高導電制御層を構成する。
上記製造方法の最終工程(d)は“forming″と
して知られ英国特許第1,300,548号により詳細
に記されている。もち論電極は特定のディスプレーを作
るためにいかなる所定の形状にも配置され例えば、もし
も電極が相互に直交するストリップを有するならば活性
蛍光体要素のマトリックス又は“ドツト”が規定され、
その各々が従来の電子技術を用いながらアドレスされそ
して駆動されアルファ数特性を形成する。そのような方
法を用いながら、我々はモニタディスプレーとしてコン
ピュータと共に使用するのに適当でしかも従来の大きな
カソード光管モニタディスプレーに代わる2000特性
DCELパネルを設計し製造した。
全てが粉末パネルの欠点はディスプレー要素はまもなく
光出力のみを作るだけで、最も高い周囲の光の条件を除
いて許容されるもののディスプレーの使用寿命を通して
保持されない。更に又蛍光体材料の静止状態の色が灰色
の非常に明かるい色合いなので高い光出力レベルが十分
なディスプレーコントラストを得るように要求される。
上記粉末パネルは“self−healing”として
知られ、すなわち銅被覆粉末背面層、制御層はそのよう
なホソトスポントでの!!ill離や“forcein
g”によって、欠陥や弱い所での過剰電流密度による突
発破壊から薄い高抵抗発光“形成”層を保護する。
高価で時間を要する操作を必要としないで再生技術を得
るため複合薄膜粉末エレクトロルミネッセントパネルが
提塞された(C,J、AIderら、Displays
、1980年1月、191ページ、“A Corspo
s:teZnS Th1n Film Powder 
Electroluminescent Pane1″
参照)。そのパネルはハイブリッド構造であり従来のD
CELパネルの発光形成層に相当するrJvが銅被覆蛍
光背面層、すなわち制御層で被覆される。
その薄膜はMn  ドープのZnSのような半絶縁性活
性剤ドープ蛍光体であり、2000人ないしIumの厚
さが代表的である。この発光膜はパネルの透明前方電極
上にスパッタリング、蒸着、電気泳動メッキやその地裁
板上に薄膜を堆積する周知方法によって堆積される。従
来の制御層と背面電橋が発光膜上に周知方法で塗布され
真空蒸着される。制御層は該装置によって発せられた光
が薄膜から出るのでMnを含有する必要がない。米国特
許第4.137.481号は使用前に形成電流の適用を
要しても、要さなくともよいハイブリッドパネルを記載
する。形成電流が必要ならば従来の厚膜DCELパネル
に必要とされる電流密度より小さな電流密度で形成がな
されている。
ハイブリッドDCULパネルは過剰電流密度により生ず
る欠陥や弱い部分の突発的破壊を厚膜粉末のみのDCE
Lと同じ方法でその形成特性を保持することによって制
御層で保護される。しかしながら、従来の制御層を用い
ている周知のハイブリッドパネルは種々に使用中地の形
成の影響を受は時間と共に明かるさを劣化させる。また
そのような周知のハイブリッド装置によって得られたコ
ントラストは悪い。
本発明の目的は操作寿命の間、改良された明かるさが保
持され、コントラストを増大させる薄膜粉末複合EL(
ハイブリッド)パネルを提供することである。
本発明の他の目的は周知の粉末DCHLパネルより製造
コストが安い薄膜粉末複合パネルを提供することである
本発明は蛍光体以外の材料が活性剤ドープの蛍光体の第
1層に供給された電流を制御する特性を有する。従って
コントロール用に用いられる材料の選択は非常に大きく
、それらが有する他の有利な特性のために選択されうる
。特に本発明によれば暗い色相を有する材料が選択され
、それはパネルのコントラストが非常に改良されその読
み安さが向上する。
蛍光体は必ずしも比較的大きなバンドギャップを有する
ことは要しないかそうでなければそれらが蛍光性でなく
その結果、灰色を有する蛍光体となる。このように本発
明は制御層に暗色を有する材料を用いることによって周
知技術と異なる。
暗色制御層のために選ばれた材料も十分に導電性があり
他の電極を使用しないでパネルに必要な電流を流す。こ
れは電極配設のコストを下げ、従って製造コストを下げ
る。
多重的にアドレスするのに適当な周知のパネルにおいて
2組の電極は各々導電材料の薄い平行ストリップからな
る。1&lIの電極は他の組の電極に直交して伸びそし
てピクセル(pixel)が各組の電極間にはさまれる
領域に形成される。
パネル背面、すなわち透明基板から離れたパネルの側面
の電極組はアルミニウムの真空蒸着により通常形成され
る。しかしながら、もしも導電材料が導電層に選ばれる
ならば、背面の電極組は、制御層が前方透明電極膜のス
トリップに直交して走る突部に形成されるなら、なくと
もよい。これは薄い器具で均一に堆積した制御層に溝を
刻むことにより達成される。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明によれば1方向及び/又は交流電圧操作に共に適
当なエレクトロルミネッセント蛍光体パネル又は装置が
透明絶縁基板、第1透明電極膜、好ましくは5ミクロン
より小さな平均厚さの自己活性化又は活性剤ドープの絶
縁性又は半絶縁性蛍光体の第1層及び例えば金属酸化物
、硫化物又は他のカルコゲナイドのような遷移、希土類
又は他の化合物から選択される導電性又は半導電性暗色
粉末を有する第2層を連続した順序で含む。
本発明によればその他の局面において1方向及び/又は
交流電圧操作に共に適当なエレクトロルミネッセントパ
ネルが透明絶縁基板、第1透明電極膜、好ましくは5ミ
クロンより小さな平均厚さの自己活性化又は活性剤ドー
プの半絶縁性蛍光体の第1層、2ミクロンより小、例え
ば1ミクロンより小の平均厚さの黒又は暗色材料の第2
層及び制御層を有する第3の層を連続した順序で含む。
上記制御層は銅被覆の従来の制御層や粘結剤中に浮遊し
た活性化蛍光体粉末や酸化物、硫化物又は他のカルコゲ
ナイドのような遷移、希土類又は他の金属化合物から選
択された導電性又は半導電性暗色材料を有する高コント
ラスト制御層でよい。
以下薄膜中間層と称する、すく前に述べた第2の層は例
えばZnTe (暗褐色) 、CdTe (黒) 、C
d5e(黒/褐色)、又は(例えばPbS、CuO,M
nO2,Tb4O7゜1i uz Q 2 + P r
 02又はCezSzの酸化物硫化物又は他のカルコゲ
ナイドの遷移金属又は希土類金属の化合物のような他の
適当な暗色材料でよい。
〔実施例〕
以下本発明の実施例を添付図面に基づいて説明する。
先ず第1図によれば参照数字lで示されたパネルは例え
ば、ガラス基板の上面部にスパッタリングすることによ
り堆積された透明錫酸化物又はインジウム錫酸化物電極
2を含む。電極2は所定のディスプレーの型による所定
の形状又はパターンにエッチされる。例えば所定のディ
スプレーはドツトマトリックスディスプレーでよく、そ
の場合所定の“ドツト”(pixel)サイズで決めら
れた間隔の複数の平行ストリップの形を取る。
5ミクロンの厚さを超えない自己活性又は活性剤ドープ
の蛍光体の半絶縁性薄膜4は電極2上に堆積される。例
えばその膜はMnで活性化されたZnSでよくその場合
ディスプレーは動作で黄色を示す。代りの色はZnS内
のMn以外の活性剤、及びMnを有する他の格子及び希
土類金属のような活性剤を用いることにより影響される
。例えばまた使用される他の蛍光体格子はアルカリ性硫
化物BaS、CaS及びSrS、LaF3とYFIのよ
うなフン化物及びY2O3のような酸化物又は他の適当
な蛍光体である。
粉末制御層5は薄膜5上に堆積される。制御層は黒色が
好ましいが暗い色でよく遷移金属、希土類金属又は、酸
化物、硫化物又は他のカルコゲナイドのような他の金属
化合物から選択される。例えばそれはPbS、 PbO
,MnO2+ Tt140++ EuZO3+ Pr0
z又はCezS:+でよい。
アルミニウム電極6は例えばM間層6への蒸着によって
nt積される。この電極は電極2に対応又は関連する形
状を描き所定のディスプレーパターンを形成する。例え
ばドントマトリックスディスプレーが要求されるならば
電極6は電極2のストリップに相互に直交する複数の平
行なストリップを形成しそれによって2組のストリップ
の交差がディスプレーピクセルを規定する。
電極2は正か負にバイアスされる。動作中DC又はAC
電圧、代表的には20及び200vが電極6と2に印加
される。光が”を橋形状で決められたパターンに薄膜4
から発せられる。薄膜4の発光領域と非発光領域間の対
比が黒又は黒ずんだ粉末制御層5を用いることによって
増大されそれによりディスプレーは比較的高度の周囲の
光の条件と数フットランバート(fL)だけのディスプ
レー明かるさ、代表的には4−15fL(メートル法で
1 f L = 3.4272ニド)でも観測者によっ
て読まれる。
そのようないくつかのパネルが作られテストされた。そ
れらはそれぞれ良好なコントラスト増の黄色と緑のディ
スプレーを製造した。全ての場合制御層5は黒MnO□
粉末であった。そのようなパネルの第1グループでは層
4はMnで活性化されたZnSを含み、第2グループで
は薄膜層4はTbF、で活性化したZnSを含んだ。Z
nS 薄膜/Mn0z粉末パネルは一定電圧動作でパル
スDC励起下の電流制御及び輝度維持に対して極めて安
定である。
これらの黄色発色ディスプレーの実施例は例えば1つの
場合0.05と0.02%W/W効率間で2400時間
作動以上の1%効率サイクルで10μsパルスの43V
パルスDC励起下の8fLのほとんど一定の輝度を示す
ものが作られた。他の場合対応図面は12「し、55V
、10.czs、1%、5000時間及び0.02%で
あった。そして14000時間で輝度は10fLであっ
た。第2グループの場合11fLが3000時間作動以
上で達成された。ZnSがTbF3で活性化される緑発
色ZnS薄膜/MnO□は77vパルスDC励起テ24
00時間後、3−4fLの輝度を作った。
達成された最高の効率は15fLで0.12%W/Wに
なった。最高の輝度は10μs励起パルスで200fL
であった。
第2図で示されたパネルは背面電極6が省略され且つ粉
末層5が溝8によって分離された分離突部に構成された
以外は第1図で示されたパネルと同じで回し番号は同じ
部分を示すために用いられた。電気接続(図示せず)は
粉末層5の各突部7に作られる。
第2図に示された例は多数のアドレスのために意図され
透明電極膜2は溝8に直交して(又は交差に)走るスト
リップに形成される。
同じ参照番号は同じ物を示す第3図によればパネル1は
ガラス基板3の表面に置かれた透明錫酸化物又はインジ
ウム錫酸化物電極2を含む。
5ミクロンの厚さを超えない自己活性又は活性剤リンド
ープの絶縁性の薄膜4が電極2上に堆積される。膜4に
ついて上で述べられた全てがここで適用される。
1ミクロンを超えない厚さの黒膜中間[15が薄膜発光
層4上に堆積される。i15の実際の厚さはその材料の
色に依存する。暗色/!JA色であればあるほど薄いの
がよい。中間層15は例えばZnTe (暗褐色) 、
CdTe (黒) 、CdSe (黒/褐色)、カルコ
ゲナイド(黒)又は5bzSff(黒/褐色)又は他の
適当な暗色材料でよい。もしも黒であるならばそれは0
.05−0.1ミクロンだけの厚さである。
中間層15はコントラスト増大と、制御層5と関連した
電流特性との組合せを可能にする。
制御層5は例えばZnS/Mnの粘結剤中に浮遊した活
性銅被覆蛍光体粉末の従来層である。その層は粘結剤中
に浮遊した不活性銅被覆蛍光体粉末でも、第1図と第2
図に関連して上記したタイプの酸化マグネシウムの高コ
ントラスト層でもよい。
制御層5は中間層15に堆積される。
第1図と第2図のようにアルミニウム電極6は例えば蒸
着により制御層5上に堆積される。この電極6はまた電
極2に対応した又は関連した形をとるために機械的に刻
みを入れ、所定のディスプレーパターンを形成してもよ
い。例えばドントマトリソクスディスプレーが要求され
るならば電極6は電極2のストリップに相互に直交する
複数の平行なストリップの形をとり、それによって2組
のストリップの交点はディスプレーpixelを規定す
る。もしも制御層5が導電性ならば電極6は省略でき制
御層に直接電力を供給するために装置が設けられる。
動作では普通20から200 V間のDC又はAC電圧
が電極6と2に印加される。
電極2は正か負にバイアスされる。光が電極形状によっ
て決められたパターンに薄い膜4から放出される。ll
1i4の発光領域と非発光領域間のコントラストは黒い
中間層15によって増大され、それによってディスプレ
ーは比較的高い周囲の光条件でも数ランバートだけ、代
表的には4−8fLのディスプレー輝度でも観測者によ
って読まれる。黒い中間層の存在は輝度と効率を減らす
がこれは改良されたコントラスト比で補償されるより多
い。
しかしながら中間層としてカルコゲナイドガラスに対し
て、0.01−0.02%W/Wの効率を持つ80fL
以上の輝度レベルが実際達成された。
14:Iのコントラスト比が1000ルクスの周囲光条
件50fLat’度と報告されている。
第4図に示されたパネルは背面電極が省略され且つ粉末
層5が溝8で分離された分離突部7に形成されているこ
とを除いて第3図に示したのと同じで同じ参照番号は同
じものを示す。電気接続(図示せず)は粉末層5の各突
部7になされている。
第4図に示された実施態様は第2図のそれと同じように
X−Yマトリックスに多重アドレスされるようになって
おり、透明電極膜2が溝8に直交して走るストリップで
形成される。
黒ブラック中間層15は導電性、半導電性又は絶縁性で
もよい。もしもそれが導電性ならば溝8はもちろん中間
層を通して伸びる必要がある。もしも中間層が半絶縁性
ならば同じことが当てはまるがこれはその層の導電性に
依存する。
中間層15は自己補正特性を存する材料すなわち印加電
流に応答する導電性を変化させる材料から作ってもよい
が制御粉末N5が中間層15を通し作用しこれらの特性
を得るので必要がない。この場合中間層は制御層5が該
中間層を介して作用するように十分に薄くしなければな
らないが中間層が黒色を失なう程薄くない。
最後に制御層が1体物の粉末層である必要がないことは
注目すべきことである。それは交互層に作られた複合多
層構造でよく最初の薄層は必要な導電性及び/又は色の
二酸化マンガンであり、制御層を作り上げる連続層は異
なった成分例えば耐火物からなり、アルミニウムとして
導電性であり分離Al電極薄層の供給が除かれる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るEL装置又はパネルの断面図であ
り、第2図はl変形を示す第1図と同し断面図であり、
第3図は本発明の他のELパネルの断面図であり、第4
図は本発明の更に他のELパネルの断面図である。 2・・・電極、       3・・・ガラス基板、4
・・・半絶縁性薄膜、  5・・・制御層、6・・・ア
ルミニウム電極、 7・・・分離突部、     8・・・溝、15・・・
中間層。 以下余白 FIG、2 FIG、4

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)1方向及び/又は交流電圧操作に共に適当なエレク
    トロルミネツセント蛍光体において、透明絶縁基板、第
    1透明電極膜、自己活性化又は活性剤ドープの絶縁性又
    は半絶縁性蛍光体の第1層及び半導電性又は半導電性暗
    色制御層である第2の層を連続した順序で含むエレクト
    ロルミネツセント蛍光体パネル。 2)第2の層の粉末が遷移金属酸化物、遷移金属、硫化
    物、希土類金属酸化物、金属又は希土類金属硫化物、金
    属カルコゲナイド又は金属酸化物又はそれらの混合物か
    らなる群から選択される特許請求の範囲第1項記載のパ
    ネル。 3)第2の層の粉末が非発光蛍光体材料及び不活性剤ド
    ープの蛍光体材料又はそれらの混合物からなる群から選
    択される特許請求の範囲第1項記載のパネル。 4)制御層のバンドギヤツプが2eVより小、好ましく
    は1.8eVより小である特許請求の範囲第1項記載の
    パネル。 5)第2の層が溝によつて互に分離された分離突部内に
    形成される特許請求の範囲第1項記載のパネル。 6)前記第1の層及び第2の層の間に2ミクロンより小
    さな、好ましくは1ミクロンより小さな平均厚さの黒又
    は暗色材料の中間層が介在する特許請求の範囲第1項記
    載のパネル。 7)前記中間層がZnTe,CdTe,CdSeカルコ
    ゲナイドガラス及びSb_2S_3から選択された材料
    を含む特許請求の範囲第6項記載のパネル。
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