JPS63134549A - タイル焼成法およびタイル焼成炉 - Google Patents

タイル焼成法およびタイル焼成炉

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JPS63134549A
JPS63134549A JP27984486A JP27984486A JPS63134549A JP S63134549 A JPS63134549 A JP S63134549A JP 27984486 A JP27984486 A JP 27984486A JP 27984486 A JP27984486 A JP 27984486A JP S63134549 A JPS63134549 A JP S63134549A
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JP
Japan
Prior art keywords
tile
gas
product
semi
finished
Prior art date
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Pending
Application number
JP27984486A
Other languages
English (en)
Inventor
戸田 増実
行雄 尾崎
岩城 克弘
光井 健治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shinagawa Refractories Co Ltd
Original Assignee
Shinagawa Refractories Co Ltd
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Publication date
Application filed by Shinagawa Refractories Co Ltd filed Critical Shinagawa Refractories Co Ltd
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はセラミックス製多孔体表面からガスを噴出させ
て、タイル半成品を浮上・搬送しながら、タイル半成品
を順次予熱・焼成・冷却して製品として抽出するタイル
焼成法およびその焼成炉に関する。
従来の技術 この種従来練術では、(1)棚板を介してタイル半成品
を積上げた台車をプッシャーにより装入するトンネルキ
ルン方式。(2)回転するローラー上にタイル半成品を
乗せて搬送するローラーハースキルン方式が知られてい
る。前記トンネルキルン方式では棚板と接触しているタ
イル半成品の下面、またローラーハースキルンではロー
ラーと接触しているタイル半成品の下面への熱の伝達が
他の部分に比べて十分でなく、どうしても焼成不十分と
なルやすい傾向がある。
発明が解決しようとする問題点 前述の如き従来方式の欠陥である、棚板あるいはローラ
ーと接触しているタイル半成品下面への熱の伝達が、タ
イル半成品の他の部分に比べて悪く、焼成不十分となり
、欠陥品の発生が多く、タイル半成品全体への熱伝達の
均等性を確保することが必要である。
問題点を解決するための手段 本発明者等は前記した如き従来方式の諸欠陥を改良すべ
く槍々検肘、実験の結果、本発明のタイル焼成法及び該
焼成法に適用し得る焼成炉の開発に成功したものであ)
、本発明焼成法は、セラミックス裂多孔体表面から所望
ガスを噴出させてタイル半成品を浮上、搬送しながら、
該タイル半成品を予熱・焼成・冷却して、製品として抽
出することを特徴とするタイル焼成法であ夛、この焼成
法に適用するタイル焼成炉は、予熱帯側にタイル半成品
装入口を、冷却帯側に焼成タイル搬出口を具備するトン
ネルキルン型焼成炉の底部に、垂直方向に対し僅かな傾
斜角を有する多数のガス噴出孔を具備するセラミックス
製多孔体を上面に有するガス浮上・搬送装置を配設した
構成からなるものである。
即ち、本発明では被焼成品であるタイル半成品をガス(
予熱ガス、燃焼ガスあるいは冷却ガス〕によシ浮上させ
乍ら予熱帯→焼成帯→冷却帯へと 。
搬送、移動させ、タイル半成品全面を均一に予熱、焼成
並びに冷却させてむらのない焼成処理を行ない、品質並
びに表面仕上シの均一なタイル製品を得るものである。
添付図面KT5す本発明焼成炉の一例に基づき本発明の
詳細な説明する。
第1図は本発明焼成炉の縦断面図、第2図は第1図のA
−Aiに沿った横断面図、第3図はガス浮上・搬送装置
の部分拡大横断面図、第4図は前記ガス浮上、搬送装置
へのガス供給配管系統図である。
図示の如く本発明タイル焼成炉1は、焼成炉天井2及び
焼成炉壁3からなるトンネルキルン型で、予熱帯5側に
タイル半成品装入口5′を、冷却帯7側に焼成タイル搬
出ロア′を具備している。
タイル焼成炉lの底部に・はガス浮上・搬送装置4が配
設してあシ、該ガス浮上・搬送装置の詳細は第2図及び
第3図に示しである。図示の如く最上面にセラミックス
製多孔板23が配設してあ夛、該多孔板23全面からガ
スを均質かつ迅速に噴出させるために、該多孔板23支
持用鋼製フレーム27内に、順次下方に向って耐熱鋼製
ススーサー28、ハニカム構造体24、空洞25を介し
てステンレス鋼製ガス拡散板2龜を配設し、前記フレー
ム27底面には混合ガス配管1oが取シ付けてあり、該
配管10は後述するガス供給配管系に接続しである。
前記セラミックス製多孔板23に穿孔された多数のガス
噴出細孔29はタイル半成品又は焼成品8を浮上させる
と共に1これら処理品を所定方向(矢印で図示)に移行
・搬送するために、垂直方向に対し僅かに傾斜した角度
で穿孔しである。
第4図図示のガス供給配管系は、細流ターボ7アン16
に連通ずる空気制御弁15を有する空気配管17と、空
燃比例制御弁18、ガス遮断弁19及びガス減圧弁20
を図示の関係位置に有するガス配管21が可燃ガス源2
2に連通してあり、空気配管17とガス配管21とがガ
スミキサー14に接続してあシ、ガスミキサー14で生
成された混合ガス13を前記混合ガス配管10に送気す
る構成としである。
前述の如き構成からなる本発明タイル焼成炉によるタイ
ル半成品8の焼成処理を以下に説明する。
セラミックス製多孔体23から成るガス浮上・搬送装置
4の春画から、ガス(温風)を放出させながらタイル8
を浮上輸送させ、焼成帯6へ到達すると、燃焼ガスで浮
上焼成し、焼成終了すると、ガス(温風)を放出させて
冷却帯7内で浮上輸送し製品として取シ出す構造となっ
ている。前記焼成炉1の炉床の一単位は例えば300 
x 300 x 100(酊)のセラミックス製多孔板
23を組み合わせて構成される。前述の如く、ガス浮上
・搬送装置4は、ガスを多孔板23全面から均一かつ速
やかに吐出するため、拡散板26、空洞25、アルミニ
ウム製ハニカム24およびセラミックス製多孔板23か
らなっておシ、拡散板26でガスを拡散させ、空洞25
およびハニカム24によシガスの流れを整える。即ち、
ガス浮上・搬送装置4の下から1段目でガスを拡散させ
、2段目以降で整流する。1段目の高さは、50絽で空
洞になっておシ、1段目と2段目の間には、厚み0.8
vxのステンレス鋼製の板26を挟んでいる。この板に
は、直径0.5nの穴が全面に穿孔されてお)空隙″4
(開孔率)は全表面の25%となっている。2段目の高
さは200龍の空洞25となっておシ、拡散板26の穴
から吐出したガスを整流する。3段目はアルミニウム族
のハニカム構造24で高さは100朋、目の大きさは5
0X50mm、4段目がセラミックス製多孔板23で、
3段目と4段目の間には、厚み10mのステンレス鋼製
スペーサ28が挟んである。このスは−サ28はガス流
を整流させるために図示の如く挿入する。流@ 60 
?分の細流ターボファンから供給される空気あるいは可
燃ガスと混合し、燃焼させたガスを多孔板表面23から
吐出させ、タイルを0.5n程度浮上させるものである
前記セラミックス製多孔板23は進行方向に約2°傾斜
した0、5φ(wm )の細孔29を5朋ピツチで穿孔
した板である。タイルの移動速度は500 ””/11
rv゛炉長は25絽番である。
実施例 タイルサイズ: 300 x 300 x 8 (1,
4Kg)焼成温度: 1200”C(32時間で常温か
ら1200°Cまで昇温) 予熱(16時間)→焼成(16時間)→冷却(16時間
)炉圧:1.0〜1.5 m Aq−(僅かに正圧)発
明の効果 l)燃焼ガスで浮上搬送しながら焼成するため、タイル
全面均一にむらなく焼成できた。
2)セラミックス製多孔板に穿孔した細孔の傾斜角度を
小さくシ、ゆつくシと連続的に輸送する構造としたため
コンパクト化できた。
3)予熱帯あるいは冷却帯に設置されているガス浮上装
置よシ、燃焼排ガスを回収し、これに、冷風を加えて、
温度調整した温風を吐出させれば、タイルの急熱急冷を
避け、じつくシ予熱したり、あるいは徐冷することか可
能となった。
【図面の簡単な説明】
第1図は本廃明焼成炉の縦断面図、第2図は第1図のA
−Aiに沿った横断面図、第3図はガス浮上・搬送装置
の部分拡大横断画図、第4図は前記ガス浮上・搬送装置
へのガス供給配管系統図である。 図中の記号は次の通り。 l・・・タイル焼成炉、 2・・・焼成炉天井、 3・
・・焼成炉壁、 4・・・ガス浮上・搬送装置、 5・
・・焼成炉予熱帯、 6・・・焼成帯、 7・・・冷却
帯。 8・・・タイル、 9・・・空気配管、 10・・・混
合ガス配管、 11・・・空気配管、 12・・・断熱
フェルト。 13・・・混合ガス、  14・・・ガスミキサー、 
 15・・・空気制御弁、  16・・・軸流ターボフ
ァン、 17・・・空気配管、 18・・・空燃比例制
御弁、 19・・・ガス遮断弁、 20・・・ガス減圧
弁、 21・・・ガス配管、 22・・・可燃ガス源、
 23・・・セラミックス製多孔板、 24・・・アル
ミニウム袈ハニカム。 25・・・空洞、 26・・・ガス拡散板、 27・・
・フレーム、 28・・・スば一す、 29・・・細孔
。 第3図 手続補正書輸発) 昭和62年 9月17日

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)セラミックス製多孔体表面から所望ガスを噴出さ
    せてタイル半成品を浮上、搬送しながら、該タイル半成
    品を予熱・焼成・冷却して、製品として抽出することを
    特徴とするタイル焼成法。
  2. (2)セラミックス製多孔体表面から所望ガスを噴出さ
    せてタイル半成品を浮上、搬送しながら、該タイル半成
    品を予熱・焼成・冷却して、製品として抽出するタイル
    焼成炉において、予熱帯側にタイル半成品装入口を、冷
    却帯側に焼成タイル搬出口を具備するトンネルキルン型
    焼成炉の底部に、垂直方向に対し僅かな傾斜角を有する
    多数のガス噴出孔を具備するセラミックス製多孔体を上
    面に有するガス浮上搬送装置を配設したことを特徴とす
    るタイル焼成炉。
JP27984486A 1986-11-26 1986-11-26 タイル焼成法およびタイル焼成炉 Pending JPS63134549A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008007319A (ja) * 2006-06-30 2008-01-17 Myotoku Ltd 浮上搬送ユニット
JP2008180433A (ja) * 2007-01-24 2008-08-07 Ngk Insulators Ltd 平板状部材の熱処理炉

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5623671U (ja) * 1979-07-30 1981-03-03

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