JPS63131521A - ドライエツチング装置 - Google Patents

ドライエツチング装置

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JPS63131521A
JPS63131521A JP61278184A JP27818486A JPS63131521A JP S63131521 A JPS63131521 A JP S63131521A JP 61278184 A JP61278184 A JP 61278184A JP 27818486 A JP27818486 A JP 27818486A JP S63131521 A JPS63131521 A JP S63131521A
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JP
Japan
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electrode
electrostatic chuck
tray
cooling water
wafer
Prior art date
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Application number
JP61278184A
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English (en)
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JPH0469811B2 (ja
Inventor
Hidetaka Jo
城 英孝
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Tokuda Seisakusho Co Ltd
Original Assignee
Tokuda Seisakusho Co Ltd
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Publication date
Application filed by Tokuda Seisakusho Co Ltd filed Critical Tokuda Seisakusho Co Ltd
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  • Drying Of Semiconductors (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明はドライエツチング装置に係り、特に放電電極を
改良したドライエツチング装置に関する。
(従来の技術) 一般に、真空容器の内部に放電電極を配置し、この放電
電極に高電圧を印加してグロー放電あるいはプラズマ放
電を発生させ、半導体ウェハのエツチングを行なうドラ
イエツチング装置が多く用いられている。
上記のような装置においては、放電電極を真空容器の上
面に設置し、この電極内に冷却水通路を設け、ウェハを
上記電極下面に静電チャックにより固定してウェハを冷
却しながらエツチングを行なうようにしている。
(発明が解決しようとする問題点) しかし、発明者らは、放電が安定し均一なエツチングを
行なうことができることから、放電電極を真空容器の下
方に配置し、この電極の上面につエバを載置してエツチ
ングを行なうドライエツチング装置を開発した。そのた
め、上記従来の電極をそのまま適用することができず、
しかも、発明者らは、直接ウェハを搬送せず、ウェハを
トレーの上に載置してエツチングを行なうことも同時に
開発したが、トレーの存在によりウェハを固定する静電
チャックの電源の供給手段等が聞届となっていた。
本発明は上記した点に鑑みてなされたもので、電極を下
方に配置しトレーを用いた場合でも確実に静電チャック
用電源および冷却水を供給することができるドライエツ
チング装置を提供することを目的とするものである。
〔発明の構成〕
(問題点を解決するための手段) 上記目的を達成するため本発明に係るドライエツチング
装置は、真空容器内部に底面を貫通する昇降シャフトを
昇降自在に設け、この昇降シャフトの上面に、内部に冷
却水通路を有するとともに、中心部に静電チャック用電
源を供給する導電ピンおよびこの導電ピンの上下端部に
接続され外部に露出する導電ばねをそれぞれ付する放電
電極を固着し、上記真空容器の底面に、搬送装置により
搬送され、ウェハを載置し上記上部の導電ばねに接触す
る静電チャック用電極が下面に露出したトレーを支持す
るピンを上記電極を貫通して設け、上記昇降シャフトの
内部に上記冷却水通路に冷却水を導入、排出する配管お
よび上記下部の導電ばねに接続される静電チャック用電
線を挿通して構成されている。
(作 用) 本発明によれば、冷却水の導入、排出配管および静電チ
ャック用電源の電線を昇降シャフトの内部に挿通させる
ことにより、昇降動作する電極に冷却水を供給し、かつ
、電極の導電ばねおよび導電ピンに静電チャック用電源
を供給することができ、さらに、上記導電ばねにより静
電チャックを有するトレーの静電チャック用電極に電源
を供給することができ、トレー上のウェハを雄実に静電
チャックにより固定することができるものである。
(実施例) 以下、本発明の実施例を第1図乃至第3図を参照して説
明する。
第1図および第2図は本発明の一実施例を示したもので
、上板が脱着自在とされた真空容器1の内部上方には、
内方に突出する突出部2が形成され、この真空容器1の
下面には、軸支部材3が固着されている。この軸支部材
3には、中心に貫通孔4を有し上端に平板部5が一体に
形成された昇降シャフト6が軸支されており、この昇降
シャフト6の下端部には、エアシリンダ7が接続され、
このエアシリンダ7の駆動により上記昇降シャフト6を
昇降自在としている。上記昇降シャフト6の平板部5の
上面には、冷却板として機能する電極8が固着されてお
り、この電極8の内部には、冷却水通路9が設けられ、
上記電極8の中央部には、下面に開口し上記冷却水通路
9に連通ずる冷却水導入口10および冷却水排出口11
がそれぞれ設けられている。さらに、第3図に示すよう
に、上記電極8の中心部には、中心に導電ピン12が挿
入された絶縁棒13が埋設されており、この絶縁棒13
の上下端部には、上記導電ピン12に接続された導電ば
ね14,14が接続されている。
また、上記昇降シャフト6の貫通孔4内には、上記電極
8の導入口10および排出口11に接続された冷却水の
導入管15および排出管16がそれぞれ挿通されるとと
もに、端部が上記下方の導電ばね14に接触する静電チ
ャック用電線17が挿通されている。
また、上記真空容器1の下面には、上記昇降シャフト6
の平板部5および電極8を貫通するピン(本実施例では
4本)18.18・・・が取付けられており、真空容器
1の側面には、トレー19に載置されたウェハ20を搬
送する搬送口21が形成されている。このトレー19の
上面には、誘電体膜22で被覆された静電チャック用電
極23が接着され、この電極23は、トレー19の中心
部を貫通して下面に露出している。
本実施例においては、図示しない搬送装置によりトレー
19に載置されたウェハ20を搬送口21から真空容器
1内に搬送し、第1図に示すように、上記ビン18の上
に載置する。そして、上記エアシリンダ7を駆動して昇
降シャフト6を上昇させ、上記トレー19を電極8上に
載せるとともに、第2図に示すように、このトレー19
の周縁部が真空容器1の突出部2に当接するまでトレー
19を上昇させトレー19を押付ける。この状態で上記
導電ばね14と上記トレー19の静電チャック用電極2
3とが接触し、静電チャック用電線17を介して電圧を
印加することにより、ウェハ20はトレー19上に静電
的に固定される。一方、上記突出部2とトレー19とに
より真空容器1の上方に1つの室が形成される。このと
き、上記導電ばね14は、トレー19の重量により容易
に縮む程度の付勢力を有するように形成されている。そ
して、上記電極8に高電圧を印加することにより、ウェ
ハ20の上面に放電を発生させ、ウェハ20のドライエ
ツチングを行なうようにしている。
エツチングが終了したら、昇降シャフト6を下降させ、
トレー19をビン18上に保持させる。
これにより、トレー19の電極23への通電がなくなり
、静電チャックは解除される。
したがって、本実施例においては、ウェハ20を確実に
静電チャックにより固定することができ、しかも、トレ
ー19を突出部2に押付けることによりトレー19と電
極8が密着す゛るので、電極8内の冷却水通路9を流れ
る冷却水により効率よくウェハ20の冷却を行なうこと
ができる。
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明に係るドライエツチング装置は
、冷却水の導入、排出配管および静電チャック用電源の
電線を昇降シャフトの内部に挿通させるようにしたので
、昇降動作する電極に冷却水を供給し、かつ、電極の導
電ばねおよび導電ビンに静電チャック用電源を供給する
ことができる。
さらに、上記導電ばねにより静電チャックを有するトレ
ーの静電チャック用電極に電源を供給することができ、
トレー上のウェハを確実に静電チャックにより固定する
ことができる等の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第3図はそれぞれ本発明の一実施例を示した
もので、第1図および第2図はそれぞれ縦断面図、第3
図は電極中央部分の縦断面図である。 1・・・真空容器、6・・・昇降シャフト、8・・・電
極、9・・・冷却水通路、10・・・冷却水導入口、1
1・・・冷却水排出口、12・・・導電ビン、14・・
・導電ばね、15・・・導入管、16・・・排出管、1
7・・・静電チャック用電線、18・・・ビン、19・
・・トレー、20・・・ウェハ、23・・・静電チャッ
ク用電極。 出願人代理人  佐  藤  −雄 n ir:i :’; : :’+°″゛、’、u−1
+ 74二T7なし)61 図 も3図 手続補正書 昭和61年12月22日

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 真空容器内部に底面を貫通する昇降シャフトを昇降自在
    に設け、この昇降シャフトの上面に、内部に冷却水通路
    を有するとともに、中心部に静電チャック用電源を供給
    する導電ピンおよびこの導電ピンの上下端部に接続され
    外部に露出する導電ばねをそれぞれ有する放電電極を固
    着し、上記真空容器の底面に、搬送装置により搬送され
    、ウェハを載置し上記上部の導電ばねに接触する静電チ
    ャック用電極が下面に露出したトレーを支持するピンを
    上記電極を貫通して設け、上記昇降シャフトの内部に上
    記冷却水通路に冷却水を導入、排出する配管および上記
    下部の導電ばねに接続される静電チャック用電線を挿通
    したことを特徴とするドライエッチング装置。
JP61278184A 1986-11-21 1986-11-21 ドライエツチング装置 Granted JPS63131521A (ja)

Priority Applications (1)

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JP61278184A JPS63131521A (ja) 1986-11-21 1986-11-21 ドライエツチング装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP61278184A JPS63131521A (ja) 1986-11-21 1986-11-21 ドライエツチング装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63131521A true JPS63131521A (ja) 1988-06-03
JPH0469811B2 JPH0469811B2 (ja) 1992-11-09

Family

ID=17593756

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JP61278184A Granted JPS63131521A (ja) 1986-11-21 1986-11-21 ドライエツチング装置

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5221403A (en) * 1990-07-20 1993-06-22 Tokyo Electron Limited Support table for plate-like body and processing apparatus using the table
KR100286622B1 (ko) * 1994-12-28 2001-05-02 고지마 마타오 정전척 및 그 사용방법
KR100765189B1 (ko) 2006-11-30 2007-10-15 세메스 주식회사 기판 이송 방법과 기판 처리 방법 및 장치
US7829387B2 (en) 2005-12-06 2010-11-09 Denso Corporation Electronic apparatus and method of manufacturing the same

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KR100765189B1 (ko) 2006-11-30 2007-10-15 세메스 주식회사 기판 이송 방법과 기판 처리 방법 및 장치

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JPH0469811B2 (ja) 1992-11-09

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