JPS63128535A - X線源 - Google Patents

X線源

Info

Publication number
JPS63128535A
JPS63128535A JP27476986A JP27476986A JPS63128535A JP S63128535 A JPS63128535 A JP S63128535A JP 27476986 A JP27476986 A JP 27476986A JP 27476986 A JP27476986 A JP 27476986A JP S63128535 A JPS63128535 A JP S63128535A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser
generating
target
efficiency
ray
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP27476986A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiichi Iwamatsu
誠一 岩松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP27476986A priority Critical patent/JPS63128535A/ja
Publication of JPS63128535A publication Critical patent/JPS63128535A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Lasers (AREA)
  • X-Ray Techniques (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はレーザー・プラズマX線源のレーザー照射構成
に関する。
〔従来の技術〕
従来、レーザー・プラズマX線源は1本のレーザー光線
をターゲットに照射するのが通例であったO 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかし、上記従来技術によると、xm発生効率が悪く(
10%程度)、且つレーザー光源に大型の装置を必要と
する等の問題点があった。
本発明はかかる従来技術の問題点をなくシ、小型で高効
率のXII源を提供する事を目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
上記問題点を解決するために、本発明はレニザー・プラ
ス1118発生装置に於て、少くとも一つのレーザー光
線を二つ以上に分割して□、ターゲットの一点に集光す
る手段をとる。
〔実施例〕
以下、本発明の実施例を第1図により詳述する。
第1図において、1はレーザー発生源、2はレーザー、
3はプリズム(またはビームスプリッタ等でも良い)、
4は反射鏡、5,6は分割されたレーザー、7はレーザ
ー通過窓、8は容器、9はターゲ7)、10はxi、1
゛1はX#i1通過窓である。
このようにレーザー発生源1から出力されたレーザー2
は、プリズム3によりレーザー5に分けられ、さらに反
射鏡4によりレーザー6に分けられる@そしてレーザー
通過窓7を通ってターゲット9に照射され、ピンチ効果
によりX@10が、X線通過窩11から出力される。
いま、アルミニウム、ターゲットにエキシマ・レーザー
を照射してアルミニウムのプラズマヲ発生させてピンチ
させ、xlflJを発生させると、エキシマ・レーザー
を一方向から照射させた場合、X線化効率が10%程度
であるのに対し、エキシマ・レーザーを2つに分割して
アルミニウム・ターゲットに照射すると、アルミニウム
・プラズマの発生効率の上昇と共に、レーザー光線の光
圧が増加し、プラズマのピンチ現象が起り易くなり、そ
れに伴うX線発生効率が20%以上となる。
〔発明の効果〕
本発明の如く、ターゲット材に対し複数個のレーザー・
ビーム照射によりプラズマ−ピンチを起す方式をとると
、X線の発生効率を上げる効果があると共に、レーザー
発生装置も小型ですむという効果もある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例によるxi源を示す概略図で
ある。 1・・・レーザー発生源   2・・・レーザー3・・
・プリズム(またはビームスプリッタ)4・・・反射鏡 5.6・・・分割されたレーザー 7・・・レーザー通過窓   8・・・容器9・・・タ
ーゲット     10・・・X@11・・X線通過窓 以  上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. レーザー光線をターゲットに照射し、ターゲット材のプ
    ラズマを発生させると共に、該プラズマのピンチ現象に
    よりX線を発生させるX線源に於て、少くとも一つのレ
    ーザー光線を反射鏡等の光学系により二つ以上に分割し
    て、ターゲットに一点に集光する事を特徴とするX線源
JP27476986A 1986-11-18 1986-11-18 X線源 Pending JPS63128535A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27476986A JPS63128535A (ja) 1986-11-18 1986-11-18 X線源

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP27476986A JPS63128535A (ja) 1986-11-18 1986-11-18 X線源

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63128535A true JPS63128535A (ja) 1988-06-01

Family

ID=17546316

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP27476986A Pending JPS63128535A (ja) 1986-11-18 1986-11-18 X線源

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63128535A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08167753A (ja) * 1994-12-15 1996-06-25 Nec Corp X線予備電離放電励起ガスレーザ装置及びその発振方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08167753A (ja) * 1994-12-15 1996-06-25 Nec Corp X線予備電離放電励起ガスレーザ装置及びその発振方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1719218A2 (en) Laser multiplexing
SE9601547L (sv) Laser-plasma röntgenkälla utnyttjande vätskor som strålmål
KR920005414A (ko) 반도체레이저용 합파장치
EP0696408A1 (en) Laser-excited x-ray source
EP1191796A3 (en) Optical apparatus and projection type display apparatus
JP2000299197A (ja) X線発生装置
JPS63128535A (ja) X線源
JP2002321081A (ja) レーザ照射装置及びレーザ照射方法
JPS5455184A (en) Semiconductor laser light source unit
US4140577A (en) Photodetachment process for beam neutralization
CA2046472A1 (en) Image display apparatus
JP2751119B2 (ja) 平行光作成装置
JPH05138385A (ja) レーザ加工方法及びその装置
RU95120007A (ru) Способ генерации лазерного гамма-излучения и устройство для его осуществления
JP2008112855A (ja) レーザ光照射装置およびレーザ光照射方法
GB1361530A (en) Gas laser generator
JP7301992B2 (ja) 空気イオン化表示装置
JPS63128536A (ja) X線源
JPS62186219A (ja) 半導体レ−ザ−装置
JP2940050B2 (ja) レーザー装置
JPS59212183A (ja) レ−ザ−ビ−ムスキヤニング装置
JPH05288899A (ja) X線光学系
JPS6360868B2 (ja)
JPS6429877A (en) Energy modulating device for semiconductor laser
FR2349831A1 (fr) Dispositif permettant d'effectuer des etudes spectrochimiques, en particulier des microanalyses spectrales par laser