JPS6312644A - 熱可塑性樹脂成形体の表面処理方法 - Google Patents
熱可塑性樹脂成形体の表面処理方法Info
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- JPS6312644A JPS6312644A JP15412886A JP15412886A JPS6312644A JP S6312644 A JPS6312644 A JP S6312644A JP 15412886 A JP15412886 A JP 15412886A JP 15412886 A JP15412886 A JP 15412886A JP S6312644 A JPS6312644 A JP S6312644A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は熱可塑性樹脂成形体の表面処理方法に関するも
のである。さらに詳しくいえば、本発明は、例えばポリ
カーボネートなどの熱可塑性樹脂成形体に対し、優れた
耐光性や耐候性を効果的に付与しうる、該成形体の表面
処理方法に関するものである。
のである。さらに詳しくいえば、本発明は、例えばポリ
カーボネートなどの熱可塑性樹脂成形体に対し、優れた
耐光性や耐候性を効果的に付与しうる、該成形体の表面
処理方法に関するものである。
熱可塑性樹脂、例えばポリオレフィン、ポリ塩化ビニル
、スチレン系樹脂、ポリカーボネート、熱可塑性ポリエ
ステル、ポリアミドなどは、フィルムや各種成形品など
として、多くの分野において幅広く用いられている。
、スチレン系樹脂、ポリカーボネート、熱可塑性ポリエ
ステル、ポリアミドなどは、フィルムや各種成形品など
として、多くの分野において幅広く用いられている。
これらの熱可塑性樹脂は、一般に太陽光線にさらすと、
そのエネルギー特に紫外線のもつ高エネルギーにより、
例えばキノンや二重結合の生成、主鎖の切断、架橋構造
の形成および酸化物の生成などの構造変化を引き起こし
、クランクの発生、強度の低下、着色などの劣化現象を
起こすという欠点があり、そのため、特に屋外で使用す
る場合には、耐光性や耐候性が重要な問題となる。
そのエネルギー特に紫外線のもつ高エネルギーにより、
例えばキノンや二重結合の生成、主鎖の切断、架橋構造
の形成および酸化物の生成などの構造変化を引き起こし
、クランクの発生、強度の低下、着色などの劣化現象を
起こすという欠点があり、そのため、特に屋外で使用す
る場合には、耐光性や耐候性が重要な問題となる。
したがって、従来、該熱可塑性樹脂に、その重合段階あ
るいは混練時辷紫外線吸収剤を添加することによって、
耐光性および耐候性を付与する方法がとられている。し
かしながら、このような添加方法においては、樹脂全体
に紫外線吸収剤が分散されるために、多量に添加する必
要があり、添加量の割には効果が十分に発揮されないと
いう問題がある。
るいは混練時辷紫外線吸収剤を添加することによって、
耐光性および耐候性を付与する方法がとられている。し
かしながら、このような添加方法においては、樹脂全体
に紫外線吸収剤が分散されるために、多量に添加する必
要があり、添加量の割には効果が十分に発揮されないと
いう問題がある。
そこで、このような問題を解決するために、有機溶媒に
紫外線吸収剤を溶解させた溶液で、熱可塑性樹脂成形体
の表面を処理する方法が試みられている。この方法にお
いては、該成形体の表面を荒らすことなく、紫外線吸収
剤をその表面層へ十分に含浸させうるような溶媒を選択
することが重要であり、例えばポリカーボネート成形体
の表面処理において、該溶媒として、脂肪族低級ハロゲ
ン化炭化水素と脂肪族低級アルコールまたはハロゲン置
換脂肪族低級アルコールとの混合溶媒を用いる方法(特
公昭53−7945号公報)、あるいはアクリル酸エス
テルとヒドロキシエーテルとの混合溶媒を用いる方法(
特開昭55−145740号公報)などが提案されてい
る。
紫外線吸収剤を溶解させた溶液で、熱可塑性樹脂成形体
の表面を処理する方法が試みられている。この方法にお
いては、該成形体の表面を荒らすことなく、紫外線吸収
剤をその表面層へ十分に含浸させうるような溶媒を選択
することが重要であり、例えばポリカーボネート成形体
の表面処理において、該溶媒として、脂肪族低級ハロゲ
ン化炭化水素と脂肪族低級アルコールまたはハロゲン置
換脂肪族低級アルコールとの混合溶媒を用いる方法(特
公昭53−7945号公報)、あるいはアクリル酸エス
テルとヒドロキシエーテルとの混合溶媒を用いる方法(
特開昭55−145740号公報)などが提案されてい
る。
しかしながら、前者の方法においては、溶媒としてハロ
ゲンを含有しているものを用いているので、該成形体表
面の膨潤が激しく、そのために接触時間を短時間にコン
トロールする必要がある上、紫外線吸収剤の含浸量も少
なくて、耐光性および耐候性が十分でないなどの欠点が
ある。また後者の方法においては、このような欠点はあ
る程度改良されてはいるものの、まだ十分に満足しうる
ちのではない。
ゲンを含有しているものを用いているので、該成形体表
面の膨潤が激しく、そのために接触時間を短時間にコン
トロールする必要がある上、紫外線吸収剤の含浸量も少
なくて、耐光性および耐候性が十分でないなどの欠点が
ある。また後者の方法においては、このような欠点はあ
る程度改良されてはいるものの、まだ十分に満足しうる
ちのではない。
本発明は、このような従来の熱可塑性樹脂成形体の表面
処理方法が有する欠点を克服し、作用が温和で成形体の
表面を荒らすことなく、紫外線吸収剤をその表面層に十
分に含浸することができて、該熱可塑性樹脂成形体に優
れた耐光性および耐候性を付与しうる表面処理方法の提
供を目的とするものである。
処理方法が有する欠点を克服し、作用が温和で成形体の
表面を荒らすことなく、紫外線吸収剤をその表面層に十
分に含浸することができて、該熱可塑性樹脂成形体に優
れた耐光性および耐候性を付与しうる表面処理方法の提
供を目的とするものである。
〔問題点を解決するための手段〕〕
本発明者らは前記目的を達成するために鋭意研究を重ね
た結果、特定の混合溶媒を用いた紫外線吸収剤含有液で
、熱可塑性樹脂成形体の表面を処理することにより、そ
の目的を達成しうろことを見い出し、この知見に基づい
て本発明を完成するに至った。
た結果、特定の混合溶媒を用いた紫外線吸収剤含有液で
、熱可塑性樹脂成形体の表面を処理することにより、そ
の目的を達成しうろことを見い出し、この知見に基づい
て本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、熱可塑性樹脂成形体の表面を、環
状エーテル10〜50重量%と該熱可塑性樹脂に対する
貧溶媒90〜50重量%との混合液を溶媒とする紫外線
吸収剤含有液で処理することを特徴とする熱可塑性樹脂
成形体の表面処理方法を提供するものである。
状エーテル10〜50重量%と該熱可塑性樹脂に対する
貧溶媒90〜50重量%との混合液を溶媒とする紫外線
吸収剤含有液で処理することを特徴とする熱可塑性樹脂
成形体の表面処理方法を提供するものである。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明方法で用いられる熱可塑性樹脂成形体としては、
例えばポリカーボネート、熱可塑性ポリエステル、スチ
レン系樹脂、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフェニ
レンサルファイド、ポリフェニレンエーテル、メタクリ
ル酸エステル重合体、ポリ塩化ビニルなどの成形体が挙
げられる。前記の熱可塑性ポリエステルとしては、例え
ばポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタ
レートなどがあり、またスチレン系樹脂としては、例え
ばポリスチレン、ゴム変性ポリスチレン、スチレン−無
水マレイン酸共重合体などがある。さらにポリオレフィ
ンとしては、例えばポリエチレン、エチレン−プロピレ
ン共重合体、エチレン−ブテン−1共重合体、エチレン
−ヘキセン共重合体、エチレン−オクテン−1共重合体
、ポリプロピレン、プロピレン−エチレン共重合体、プ
ロピレン−ブテン−1共重合体、ポリブテン−1、ポリ
4−メチルペンテン−1などがある。
例えばポリカーボネート、熱可塑性ポリエステル、スチ
レン系樹脂、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフェニ
レンサルファイド、ポリフェニレンエーテル、メタクリ
ル酸エステル重合体、ポリ塩化ビニルなどの成形体が挙
げられる。前記の熱可塑性ポリエステルとしては、例え
ばポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタ
レートなどがあり、またスチレン系樹脂としては、例え
ばポリスチレン、ゴム変性ポリスチレン、スチレン−無
水マレイン酸共重合体などがある。さらにポリオレフィ
ンとしては、例えばポリエチレン、エチレン−プロピレ
ン共重合体、エチレン−ブテン−1共重合体、エチレン
−ヘキセン共重合体、エチレン−オクテン−1共重合体
、ポリプロピレン、プロピレン−エチレン共重合体、プ
ロピレン−ブテン−1共重合体、ポリブテン−1、ポリ
4−メチルペンテン−1などがある。
これらの熱可塑性樹脂成形体は、例えば射出成形、押出
成形、中空成形、圧縮成形、真空成形、トランスファー
成形など、いかなる成形方法によって得られたものであ
ってもよく、またその形状についても特に制限はなく、
任意の形状のものを用いることができるが、特にポリカ
ーボネート成形体に対して、本発明方法を適用すること
が好ましい。
成形、中空成形、圧縮成形、真空成形、トランスファー
成形など、いかなる成形方法によって得られたものであ
ってもよく、またその形状についても特に制限はなく、
任意の形状のものを用いることができるが、特にポリカ
ーボネート成形体に対して、本発明方法を適用すること
が好ましい。
本発明方法に用いられる紫外吸収剤は、狭義の紫外線吸
収剤と耐光安定剤とに大別することができる。紫外線は
10〜400mμの波長を有し、可視光線よりわずかに
波長が短いが、この紫外線のうち、10〜290mμ程
度のものは大気上層中に吸収され、問題となるのは29
0〜400mμの範囲のもので、その光エネルギーは極
めて大きい。狭義の紫外線吸収剤は、この高エネルギー
をもつ紫外線を吸収し、無害のエネルギーに転換し、再
副射することによって、プラスチックの耐光性や耐候性
を向上させるものである。
収剤と耐光安定剤とに大別することができる。紫外線は
10〜400mμの波長を有し、可視光線よりわずかに
波長が短いが、この紫外線のうち、10〜290mμ程
度のものは大気上層中に吸収され、問題となるのは29
0〜400mμの範囲のもので、その光エネルギーは極
めて大きい。狭義の紫外線吸収剤は、この高エネルギー
をもつ紫外線を吸収し、無害のエネルギーに転換し、再
副射することによって、プラスチックの耐光性や耐候性
を向上させるものである。
これに対し、耐光安定剤は、それ自体は紫外線をほとん
ど吸収しないが、紫外線によって生じる活性遊離基を効
率よく捕捉することにより、プラスチックの耐光性や耐
候性を向上させるものである。
ど吸収しないが、紫外線によって生じる活性遊離基を効
率よく捕捉することにより、プラスチックの耐光性や耐
候性を向上させるものである。
(裏、
狭義の紫外線吸収剤として冨−例えば2−ヒドロキシ−
4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メ
トキシ−2′−カルボキシベンゾフェノン、2−ヒドロ
キシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロ
キシ−4−ステアリロキシベンゾフェノン、2−ヒドロ
キシ−4−ドブシロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキ
シ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン、2−ヒ
ドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−メタクリロキシ)プ
ロポキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキ
シ−4′−メチルベンゾフエノン、2−ヒドロキシ−4
−ベンゾイロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−5
−クロロベンゾフェノンなどのモノヒドロキシベンゾフ
ェノン系、2゜4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2.
2′−ジヒドロキシベンゾフェノン、2.2’−ジヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2.2’−ジヒ
ドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、2,
2゛−ジヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノ
ンなどのジヒドロキシベンゾフェノン系、0−ベンゾイ
ル安息香酸、2.2’。
4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メ
トキシ−2′−カルボキシベンゾフェノン、2−ヒドロ
キシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロ
キシ−4−ステアリロキシベンゾフェノン、2−ヒドロ
キシ−4−ドブシロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキ
シ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン、2−ヒ
ドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−メタクリロキシ)プ
ロポキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキ
シ−4′−メチルベンゾフエノン、2−ヒドロキシ−4
−ベンゾイロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−5
−クロロベンゾフェノンなどのモノヒドロキシベンゾフ
ェノン系、2゜4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2.
2′−ジヒドロキシベンゾフェノン、2.2’−ジヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2.2’−ジヒ
ドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、2,
2゛−ジヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノ
ンなどのジヒドロキシベンゾフェノン系、0−ベンゾイ
ル安息香酸、2.2’。
4.4゛−テトラヒドロキシベンゾフェノンなどのその
他ベンゾフェノン系、2−(2’−ヒドロキシ−5゛−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒ
ドロキシ−5”−tert−ブチルフェニル)ベンゾト
リアゾール、2− <2’−ヒドロキシ−5’−ter
t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
、2−(2”−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−
5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾー
ル、2−(2’−ヒドロキシ−3′、5′−ジーter
t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′
−ヒドロキシ−3′、5’−ジーtert−ブチルフェ
ニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−
ヒドロキシ−3’、5′−ジ−ペンチルフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−(2゛−ヒドロキシ−4′−オク
トキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒ
ドロキシ−5′−シクロへキシルフェニル)ベンゾトリ
アゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3′、5′−ジメ
チルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2゛−ヒド
ロキシ−3゛−メチル−5′−tert−ブチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール系、
フェニルサリシレート、4−tert−プチルフェニル
サリシレート、4−オクチルフェニルサリシレート、ビ
スフェノールA−ジーサリシレートなどのサリシレート
系、レゾルシノール−モノベンゾエート、2.4−ジー
tert−ブチルフェニル−3′、5゛−ジーtert
−ブチルー4−ヒドロキシベンゾエートなどのベンゾエ
ート系、2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸エ
チル、2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸2−
エチルヘキシルなどのシアノアクリレート系、α−シア
ノ−β−メチル−β−(p−メトキシフェニル)クロト
ン酸メチルなどのクロトン酸誘導体、N−(2−エチル
フェニル)−N’−(2−エトキシ−5−tert−ブ
チルフェニル)シュウ酸ジアミドなどのシュウ酸アニリ
ド誘導体、マロン酸エステルなどが挙げられる。
他ベンゾフェノン系、2−(2’−ヒドロキシ−5゛−
メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒ
ドロキシ−5”−tert−ブチルフェニル)ベンゾト
リアゾール、2− <2’−ヒドロキシ−5’−ter
t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール
、2−(2”−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−
5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾー
ル、2−(2’−ヒドロキシ−3′、5′−ジーter
t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′
−ヒドロキシ−3′、5’−ジーtert−ブチルフェ
ニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−
ヒドロキシ−3’、5′−ジ−ペンチルフェニル)ベン
ゾトリアゾール、2−(2゛−ヒドロキシ−4′−オク
トキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒ
ドロキシ−5′−シクロへキシルフェニル)ベンゾトリ
アゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3′、5′−ジメ
チルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2゛−ヒド
ロキシ−3゛−メチル−5′−tert−ブチルフェニ
ル)ベンゾトリアゾールなどのベンゾトリアゾール系、
フェニルサリシレート、4−tert−プチルフェニル
サリシレート、4−オクチルフェニルサリシレート、ビ
スフェノールA−ジーサリシレートなどのサリシレート
系、レゾルシノール−モノベンゾエート、2.4−ジー
tert−ブチルフェニル−3′、5゛−ジーtert
−ブチルー4−ヒドロキシベンゾエートなどのベンゾエ
ート系、2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸エ
チル、2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリル酸2−
エチルヘキシルなどのシアノアクリレート系、α−シア
ノ−β−メチル−β−(p−メトキシフェニル)クロト
ン酸メチルなどのクロトン酸誘導体、N−(2−エチル
フェニル)−N’−(2−エトキシ−5−tert−ブ
チルフェニル)シュウ酸ジアミドなどのシュウ酸アニリ
ド誘導体、マロン酸エステルなどが挙げられる。
一方、耐光安定剤としては、例えば(2,2”−チオビ
ス(4−tert−オクチルフェノラド))−n−ブチ
ルアミン・ニッケル(II)、(2,2′−チオビス(
4−tert−オクチルフェノラド))−トリエタノー
ルアミン・ニッケル(n)、[2,2’−チオビス(4
−tert−オクチルフェノラド)〕−〕シクロヘキシ
ルージェタノールアミンニッケル(II) 、(2,2
’−チオビス(4−tert−オクチルフェノラド))
−2−エチルヘキシルアミン・ニッケル(■)、ビス(
3,5−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシベンジ
ルホスホリック7シツド)モノエチルエステルのニッケ
ル塩などのニッケル錯体系、4−ベンゾイロキシ−2,
2,6,6−テトラメチルビペリジン、ビス(2,2,
6,6−テトラメチル−4−ピペリジン)セバケートな
どのヒンダードアミン系などが挙げられる。
ス(4−tert−オクチルフェノラド))−n−ブチ
ルアミン・ニッケル(II)、(2,2′−チオビス(
4−tert−オクチルフェノラド))−トリエタノー
ルアミン・ニッケル(n)、[2,2’−チオビス(4
−tert−オクチルフェノラド)〕−〕シクロヘキシ
ルージェタノールアミンニッケル(II) 、(2,2
’−チオビス(4−tert−オクチルフェノラド))
−2−エチルヘキシルアミン・ニッケル(■)、ビス(
3,5−ジーtert−ブチルー4−ヒドロキシベンジ
ルホスホリック7シツド)モノエチルエステルのニッケ
ル塩などのニッケル錯体系、4−ベンゾイロキシ−2,
2,6,6−テトラメチルビペリジン、ビス(2,2,
6,6−テトラメチル−4−ピペリジン)セバケートな
どのヒンダードアミン系などが挙げられる。
これらの紫外線吸収剤は、それぞれ単独で用いてもよい
し、2種以上組み合わせて用いてもよく、またこれらの
中で、特にベンゾフェノン系およびサリシレート系が好
適である。
し、2種以上組み合わせて用いてもよく、またこれらの
中で、特にベンゾフェノン系およびサリシレート系が好
適である。
本発明方法において、これらの紫外線吸収剤の含有液に
用いられる溶媒は環状エーテルと該熱可塑性樹脂に対す
る貧溶媒との混合液であり、環状エーテルとしては、例
えばテトラヒドロフラン、1.4−ジオキサン、2−メ
チルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、プロピ
レンオキシド、トリオキサンなどが挙げられるが、これ
らの中でテトラヒドロフランおよび1,4−ジオキサン
が好ましい。
用いられる溶媒は環状エーテルと該熱可塑性樹脂に対す
る貧溶媒との混合液であり、環状エーテルとしては、例
えばテトラヒドロフラン、1.4−ジオキサン、2−メ
チルテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、プロピ
レンオキシド、トリオキサンなどが挙げられるが、これ
らの中でテトラヒドロフランおよび1,4−ジオキサン
が好ましい。
一方、貧溶媒としては、例えば炭素数1〜5の低級アル
コールや、エチレングリコール、プロピレングリコール
、ブチレングリコールなどの二価アルコール、グリセリ
ンのような三価アルコールなどが挙げられる。
コールや、エチレングリコール、プロピレングリコール
、ブチレングリコールなどの二価アルコール、グリセリ
ンのような三価アルコールなどが挙げられる。
前記の環状エーテルと貧溶媒との割合は、重量基準で1
0:90ないしso:soの範囲で選ばれる。該環状エ
ーテルが貧溶媒との混合溶媒に対して10重量%未満で
は、紫外線吸収剤が成形体の表面層へ十分に含浸しない
ため、所望の耐光性および耐候性が得られず、一方90
重量%を越えると該成形体の表面が溶解しす旨て、荒れ
るので好ましくない。環状エーテルと貧溶媒との好適の
割合は、使用する熱可塑性樹脂成形体の樹脂の種類によ
って異なり、例えばポリカーボネート成形体を用いる場
合は、重量基準で20=80ないし30 : 70の範
囲で選ぶことが好ましい。
0:90ないしso:soの範囲で選ばれる。該環状エ
ーテルが貧溶媒との混合溶媒に対して10重量%未満で
は、紫外線吸収剤が成形体の表面層へ十分に含浸しない
ため、所望の耐光性および耐候性が得られず、一方90
重量%を越えると該成形体の表面が溶解しす旨て、荒れ
るので好ましくない。環状エーテルと貧溶媒との好適の
割合は、使用する熱可塑性樹脂成形体の樹脂の種類によ
って異なり、例えばポリカーボネート成形体を用いる場
合は、重量基準で20=80ないし30 : 70の範
囲で選ぶことが好ましい。
本発明方法で用いる紫外線吸収剤含有液中の紫外線吸収
剤の好適な含有量については、使用する熱可塑性樹脂成
形体の樹脂の種類によって異なるが、通常前記の混合溶
媒100重攪部に対して、紫外線吸収剤0.1〜5重量
%、好ましくは0.5〜2重量%の割合で含有させるこ
とが望ましい。このようにして調製された紫外線吸収剤
含有液は、紫外線吸収剤が完全に溶解した均一な溶液状
であってもよいし、微粒子が均一に分散した分散液状で
あってもよいが、成形体の表面層に紫、外線吸収剤を効
果的に含浸させるためには、溶液状の方が好ましい。
剤の好適な含有量については、使用する熱可塑性樹脂成
形体の樹脂の種類によって異なるが、通常前記の混合溶
媒100重攪部に対して、紫外線吸収剤0.1〜5重量
%、好ましくは0.5〜2重量%の割合で含有させるこ
とが望ましい。このようにして調製された紫外線吸収剤
含有液は、紫外線吸収剤が完全に溶解した均一な溶液状
であってもよいし、微粒子が均一に分散した分散液状で
あってもよいが、成形体の表面層に紫、外線吸収剤を効
果的に含浸させるためには、溶液状の方が好ましい。
本発明方法においては、熱可塑性樹脂成形体の表面を、
前記の紫外線吸収剤含有液で処理するが、処理方法とし
ては、該成形体を紫外線吸収剤含有液中に浸漬する方法
、あるいは成形体の表面に、紫外線吸収剤含有液を注ぎ
かける方法、スプレーする方法、ローラー塗布する方法
などが挙げられるが、これらの中で浸漬法が好適である
。
前記の紫外線吸収剤含有液で処理するが、処理方法とし
ては、該成形体を紫外線吸収剤含有液中に浸漬する方法
、あるいは成形体の表面に、紫外線吸収剤含有液を注ぎ
かける方法、スプレーする方法、ローラー塗布する方法
などが挙げられるが、これらの中で浸漬法が好適である
。
この浸漬法を採用する場合、好適な浸漬時間は、該成形
体の樹脂の種類や溶媒の種類によって異なり、例えばポ
リカーボネート成形体を用い、かつン容媒としてテトラ
ヒドロフランとエチレングリコールとの混合溶媒を用い
る場合には、室温で10秒〜10分、好ましくは0.5
〜3分程度である。
体の樹脂の種類や溶媒の種類によって異なり、例えばポ
リカーボネート成形体を用い、かつン容媒としてテトラ
ヒドロフランとエチレングリコールとの混合溶媒を用い
る場合には、室温で10秒〜10分、好ましくは0.5
〜3分程度である。
このようにして、浸漬処理などを施したのち、乾燥処理
を行うが、この乾燥処理は真空乾燥による方法、加熱乾
燥による方法のいずれの方法を用いてもよいが、ポリカ
ーボネート成形体の場合は、90〜100℃の温度にお
いて、5〜10分間乾燥することが好ましい。
を行うが、この乾燥処理は真空乾燥による方法、加熱乾
燥による方法のいずれの方法を用いてもよいが、ポリカ
ーボネート成形体の場合は、90〜100℃の温度にお
いて、5〜10分間乾燥することが好ましい。
このような表面処理を行うことによって、熱可塑性樹脂
成形体の表面を荒らすことなく、紫外線吸収剤が該成形
体の表面層に十分に含浸し、該成形体に耐光性および耐
候性が付与される。
成形体の表面を荒らすことなく、紫外線吸収剤が該成形
体の表面層に十分に含浸し、該成形体に耐光性および耐
候性が付与される。
次に実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本
発明はこれらの例によってなんら限定されるものではな
い。
発明はこれらの例によってなんら限定されるものではな
い。
実施例1
ポリカーボネート樹脂〔タフロンA3000、出光石油
化学(株)製〕の角板(厚さ3m、縦24寵、横60a
s)を、テトラヒドロフランとエチレングリコールとの
混合溶媒(テトラヒドロフラン25重量部、エチレング
リコール75重量部)に対し、紫外線吸収剤として、2
−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン1.
0重量部を溶解させた紫外線吸収剤含有液に1分30秒
間浸漬させたのち、90℃のオープン中で5分間加熱乾
燥した。
化学(株)製〕の角板(厚さ3m、縦24寵、横60a
s)を、テトラヒドロフランとエチレングリコールとの
混合溶媒(テトラヒドロフラン25重量部、エチレング
リコール75重量部)に対し、紫外線吸収剤として、2
−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン1.
0重量部を溶解させた紫外線吸収剤含有液に1分30秒
間浸漬させたのち、90℃のオープン中で5分間加熱乾
燥した。
紫外″”hsvJL収剤の含浸量を調べるために吸光度
を測定し、また耐候性を調べるためにYIを測定した(
Y [aとする)。次に、サンシャインウェザ−メータ
で、83℃、420時間露光後のYlを測定した(Y
[bとする)。露光前後のYTO差を△YI (YI
a−Ylb)として、耐候性を評価した。その結果を別
表に示す。
を測定し、また耐候性を調べるためにYIを測定した(
Y [aとする)。次に、サンシャインウェザ−メータ
で、83℃、420時間露光後のYlを測定した(Y
[bとする)。露光前後のYTO差を△YI (YI
a−Ylb)として、耐候性を評価した。その結果を別
表に示す。
実施例2〜8、比較例1〜6
実施例1において、溶媒系、紫外線吸収剤の種類および
濃度、浸漬時間を種々変えた以外は、実施例1と同様に
実施し、耐候性を評価した。その結果を別表に示す。比
較例1は表面が白化し、耐候性の測定は不可能であった
。
濃度、浸漬時間を種々変えた以外は、実施例1と同様に
実施し、耐候性を評価した。その結果を別表に示す。比
較例1は表面が白化し、耐候性の測定は不可能であった
。
(以下余白)
〔注〕
T HF テトラヒドロフラン
Do 14−ジオキサン
ECエチレングリコール
a:2−ヒドロキシ−4−η−オクトキシベンb:4−
t−プチルフェニルサリシレートR C:2.4−ジヒドロキシベンゾフェノンH 〔発明の効果〕 本発明の熱可塑性樹脂成形体の表面処理方法は、特定の
混合溶媒を用いた紫外線吸収剤含有液で、該成形体の表
面を処理する方法であって、その表面を荒らすことなく
、紫外線吸収剤を表面層に十分含浸させることができる
ので、従来の熱可塑性樹脂の重合段階や混練時に紫外線
吸収剤を添加する方法に比べて、少ない紫外線吸収剤の
量で、該成形体に耐光性および耐候性を有効に付与する
ことができる。
t−プチルフェニルサリシレートR C:2.4−ジヒドロキシベンゾフェノンH 〔発明の効果〕 本発明の熱可塑性樹脂成形体の表面処理方法は、特定の
混合溶媒を用いた紫外線吸収剤含有液で、該成形体の表
面を処理する方法であって、その表面を荒らすことなく
、紫外線吸収剤を表面層に十分含浸させることができる
ので、従来の熱可塑性樹脂の重合段階や混練時に紫外線
吸収剤を添加する方法に比べて、少ない紫外線吸収剤の
量で、該成形体に耐光性および耐候性を有効に付与する
ことができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、熱可塑性樹脂成形体の表面を、環状エーテル10〜
50重量%と該熱可塑性樹脂に対する貧溶媒90〜50
重量%との混合液を溶媒とする紫外線吸収剤含有液で処
理することを特徴とする熱可塑性樹脂成形体の表面処理
方法。 2、熱可塑性樹脂がポリカーボネートである特許請求の
範囲第1項記載の表面処理方法。 3、紫外線吸収剤含有液が、溶媒100重量部に対し、
紫外線吸収剤0.1〜5重量部を含有するものである特
許請求の範囲第1項または第2項記載の表面処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15412886A JPH0717768B2 (ja) | 1986-07-02 | 1986-07-02 | 熱可塑性樹脂成形体の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15412886A JPH0717768B2 (ja) | 1986-07-02 | 1986-07-02 | 熱可塑性樹脂成形体の表面処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6312644A true JPS6312644A (ja) | 1988-01-20 |
JPH0717768B2 JPH0717768B2 (ja) | 1995-03-01 |
Family
ID=15577515
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15412886A Expired - Lifetime JPH0717768B2 (ja) | 1986-07-02 | 1986-07-02 | 熱可塑性樹脂成形体の表面処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0717768B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002066548A1 (fr) * | 2001-02-21 | 2002-08-29 | Toray Industries, Inc. | Article en sulfure de polyphenylene |
CN100398588C (zh) * | 2001-02-21 | 2008-07-02 | 东丽株式会社 | 聚苯硫醚构件 |
-
1986
- 1986-07-02 JP JP15412886A patent/JPH0717768B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002066548A1 (fr) * | 2001-02-21 | 2002-08-29 | Toray Industries, Inc. | Article en sulfure de polyphenylene |
CN100398588C (zh) * | 2001-02-21 | 2008-07-02 | 东丽株式会社 | 聚苯硫醚构件 |
US8097048B2 (en) | 2001-02-21 | 2012-01-17 | Toray Industries, Inc. | Polyphenylene sulfide member and method for producing the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0717768B2 (ja) | 1995-03-01 |
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