JPS63122694A - 2−アミノ−4−ホスフイニルブタン酸の製造法 - Google Patents
2−アミノ−4−ホスフイニルブタン酸の製造法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
- C07F9/553—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07F9/5537—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having one nitrogen atom as the only ring hetero atom the heteroring containing the structure -C(=O)-N-C(=O)- (both carbon atoms belong to the heteroring)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/30—Phosphinic acids R2P(=O)(OH); Thiophosphinic acids, i.e. R2P(=X)(XH) (X = S, Se)
- C07F9/301—Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
五泉よユ丑里立匪
本発明はよく知られた除草剤である2−アミノ−4−(
ヒドロキシメチルホスフィニル)ブタン酸及び他の生物
学的活性化合物の新規製造方法、及びその方法の中間体
として有用な化合物に関する。
ヒドロキシメチルホスフィニル)ブタン酸及び他の生物
学的活性化合物の新規製造方法、及びその方法の中間体
として有用な化合物に関する。
従未の技術 び問題点
当該分野でホスフィノスリシン又はグルフオシネートと
して知られる化合物L−2−アミノ−4−(ヒドロキシ
メチルホスフィニル)ブタン酸は発芽しつつある苗、及
び成熟しつつある及び定着した木本性及び草本性植物の
生長を制御するのに有用な、有効な広範囲スペクトルを
有する植物毒剤である。その化合物は式 によって表わすことができる。
して知られる化合物L−2−アミノ−4−(ヒドロキシ
メチルホスフィニル)ブタン酸は発芽しつつある苗、及
び成熟しつつある及び定着した木本性及び草本性植物の
生長を制御するのに有用な、有効な広範囲スペクトルを
有する植物毒剤である。その化合物は式 によって表わすことができる。
Rがメチルであるホスフィノスリシンは自然界で生ずる
L−グルタメートのホスフィン酸類似体である。その活
性は酵素グルタミンシンセターゼを不活性化する能力に
帰せられ、結局生体内でのアンモニアのアミノ酸及びピ
リミジン類へのとり込みを阻止する。ホスフィノスリシ
ンははじめ2つの異なるストレプトミセス属菌種から単
離されたが、ホスフィノスリシンのラセミ体のP−エチ
ル類似体はかなり前に製造され、かつグルタミンシンセ
ターゼを阻害することが示されていた。
L−グルタメートのホスフィン酸類似体である。その活
性は酵素グルタミンシンセターゼを不活性化する能力に
帰せられ、結局生体内でのアンモニアのアミノ酸及びピ
リミジン類へのとり込みを阻止する。ホスフィノスリシ
ンははじめ2つの異なるストレプトミセス属菌種から単
離されたが、ホスフィノスリシンのラセミ体のP−エチ
ル類似体はかなり前に製造され、かつグルタミンシンセ
ターゼを阻害することが示されていた。
ラップらの米国特許第4,168,963号明細書は初
期に記述されたホスホノスリシンの製造方法に関する。
期に記述されたホスホノスリシンの製造方法に関する。
この方法はアセタミドマロン酸ジアルキルエステルと2
−ハロエチルメチルホスフィン酸アルキルエステル又は
メチルビニルホスフィン酸アルキルエステルとの塩基触
媒反応、及び3−(アルコキシメチルホスフィニル)プ
ロパノイックアルデヒドのストレッカー合成を含む。
−ハロエチルメチルホスフィン酸アルキルエステル又は
メチルビニルホスフィン酸アルキルエステルとの塩基触
媒反応、及び3−(アルコキシメチルホスフィニル)プ
ロパノイックアルデヒドのストレッカー合成を含む。
ミノワらの米国特許第4,510,102号明細書は別
の初期に記述されたホスフィノスリシン製造方法に関す
る。この方法は臭素化中間体の低収率及び不安定性によ
って特徴づけられる方法である、ジエチルメチルホスホ
ナイトと4−ブロモ−2−トリフルオロアセタミドブタ
ン酸メチルとのMichaelis −Arbuzov
反応を包含する。ミノワらはハロゲン化ビニルマグネシ
ウムとハロゲン化アルキルメチルホスフィニルとのカッ
プリング、それにより得られるメチルビニルホスフィン
酸アルキルに対するアルキルグリシネート(alkyl
glycinatos )のあるシッフ塩基の塩基触
媒付加(base −cutalyzodadditi
on )、及びそれに続く加水分解を含むホスフィノス
リシンの新規製造法をさらに開示している。
の初期に記述されたホスフィノスリシン製造方法に関す
る。この方法は臭素化中間体の低収率及び不安定性によ
って特徴づけられる方法である、ジエチルメチルホスホ
ナイトと4−ブロモ−2−トリフルオロアセタミドブタ
ン酸メチルとのMichaelis −Arbuzov
反応を包含する。ミノワらはハロゲン化ビニルマグネシ
ウムとハロゲン化アルキルメチルホスフィニルとのカッ
プリング、それにより得られるメチルビニルホスフィン
酸アルキルに対するアルキルグリシネート(alkyl
glycinatos )のあるシッフ塩基の塩基触
媒付加(base −cutalyzodadditi
on )、及びそれに続く加水分解を含むホスフィノス
リシンの新規製造法をさらに開示している。
ミノワらの米国特許第4,499,027号明細書はア
ルキルグリシネートと光学活性2−ヒドロキシピナン−
3−オンとから製造したあるシッフ塩基のメチルビニル
ホスフィン酸アルキルに対する塩基触媒付加を含むホス
フィノスリシンの光学的に純粋な異性体の新規製造法を
開示している。
ルキルグリシネートと光学活性2−ヒドロキシピナン−
3−オンとから製造したあるシッフ塩基のメチルビニル
ホスフィン酸アルキルに対する塩基触媒付加を含むホス
フィノスリシンの光学的に純粋な異性体の新規製造法を
開示している。
これら及び他の方法はホスフィノスリシンの製造に用い
ることができるが、それらの方法は最終目的生成物を得
るのに必要とされる強塩基及びl又は苛酷な条件の使用
によって特徴づけられる。このように、ホスフィノスリ
シン、そのP−エチル類似体、及び他のボスフィニルブ
タン酸を高収率で強塩基もしくは苛酷な条件の使用なし
に生産する方法に対する必要性が依然として残っている
。
ることができるが、それらの方法は最終目的生成物を得
るのに必要とされる強塩基及びl又は苛酷な条件の使用
によって特徴づけられる。このように、ホスフィノスリ
シン、そのP−エチル類似体、及び他のボスフィニルブ
タン酸を高収率で強塩基もしくは苛酷な条件の使用なし
に生産する方法に対する必要性が依然として残っている
。
問題点を解決するだめの手段
これら及び他の利点は式
ROOC−CH−CH2−CH2−X
l
(式中、Rは1から約6個の炭素原子を有するアルキル
、及びアリールよりなる群から選ばれ、Xは塩素、臭素
及びヨウ素よりなる群から選ばれる)で表わされるラセ
ミ4−ハロー2−フタリミドブチレートと式 %式%(2) (式中、R1はメチル又はエチルであり、各R2は1か
ら6個の炭素原子を有するアルコキシ、アリールオキシ
、及び1から12個の炭素原子を有するトリアルキルシ
リルオキシ基よりなる群から選ばれる)で表わされるリ
ン化合物とを反応条件下において中間化合物を生成させ
、ついで中間化合物を加水分解してホスフィニルブタン
酸を生成させる工程によるホスフィニルブタン酸を製造
する方法によって達成される。
、及びアリールよりなる群から選ばれ、Xは塩素、臭素
及びヨウ素よりなる群から選ばれる)で表わされるラセ
ミ4−ハロー2−フタリミドブチレートと式 %式%(2) (式中、R1はメチル又はエチルであり、各R2は1か
ら6個の炭素原子を有するアルコキシ、アリールオキシ
、及び1から12個の炭素原子を有するトリアルキルシ
リルオキシ基よりなる群から選ばれる)で表わされるリ
ン化合物とを反応条件下において中間化合物を生成させ
、ついで中間化合物を加水分解してホスフィニルブタン
酸を生成させる工程によるホスフィニルブタン酸を製造
する方法によって達成される。
式
(式中、R及びR2は上記と同義である)で表わされる
、かかる方法のための新規中間体も提供される。
、かかる方法のための新規中間体も提供される。
本発明方法で出発物質として有用な4.ハロー2−フタ
リミドブチレートはこの分野で公知である。
リミドブチレートはこの分野で公知である。
この化合物は適当な溶媒、例えばジメチルホルムアミド
巾約100°Cでフタルイミドカリウムと2−ブロモブ
チロラクトンとを反応させることによって製造できる結
晶性2−フタリミドブチロラクトンから2段階を経て製
造することができる。2−7タリミドブチロラクトンは
あるフタリミドを含んでいるであろうが、次の段階では
それでも有用である。しかしながら、必要の場合、水l
アセトン混合物から2回の再結晶によって約75%の収
率で精製することができる。
巾約100°Cでフタルイミドカリウムと2−ブロモブ
チロラクトンとを反応させることによって製造できる結
晶性2−フタリミドブチロラクトンから2段階を経て製
造することができる。2−7タリミドブチロラクトンは
あるフタリミドを含んでいるであろうが、次の段階では
それでも有用である。しかしながら、必要の場合、水l
アセトン混合物から2回の再結晶によって約75%の収
率で精製することができる。
このラクトンを氷酢酸及び無水ハロゲン化水素酸(an
hydrous hydrohalide acid)
に溶解し、24時間静置することによって4−ハロー2
−フタリミドブタン酸を得ることができる。この酸は非
塩基性エステル化操作によりエステル化することができ
る。塩基性反応条件の使用はかかる条件下でラクトンが
再び生ずることが見い出されたのでさけるべきである。
hydrous hydrohalide acid)
に溶解し、24時間静置することによって4−ハロー2
−フタリミドブタン酸を得ることができる。この酸は非
塩基性エステル化操作によりエステル化することができ
る。塩基性反応条件の使用はかかる条件下でラクトンが
再び生ずることが見い出されたのでさけるべきである。
適当な操作はジアゾアルカンによるエステル化、ジアル
キルカルボジイミドの存在下でのアルコールによる処理
、アルキルスルホン酸もしくは鉱酸触媒を含有するアル
コール溶液によるエステル化、及び酸触媒を含有するト
リアルキルオルトエステル(trial)cyl or
tlxoesters )による処理を包含する。
キルカルボジイミドの存在下でのアルコールによる処理
、アルキルスルホン酸もしくは鉱酸触媒を含有するアル
コール溶液によるエステル化、及び酸触媒を含有するト
リアルキルオルトエステル(trial)cyl or
tlxoesters )による処理を包含する。
当業者に思い浮かぶように、4−ハロ。2−フタリミド
ブチレートのエステル部分は広範囲に変化させることが
できる。エステル部分は1〜約6個の炭素原子を有する
アルキル、例えばメチル、エチル、イソプロピル、又は
環状アルキル基、例えばシクロヘキシルからなる群から
選ぶことができる。エステル部分はベンジル又は他の不
活性基で置換したアルキル基であってもよい。エステル
部分ζゴスアリールであってもよく、例えばフェニル基
又は置換フェニル基であってもよい。アルキル基が好ま
しく、メチルもしくはエチルのような低級アルキル基が
特に好ましい。
ブチレートのエステル部分は広範囲に変化させることが
できる。エステル部分は1〜約6個の炭素原子を有する
アルキル、例えばメチル、エチル、イソプロピル、又は
環状アルキル基、例えばシクロヘキシルからなる群から
選ぶことができる。エステル部分はベンジル又は他の不
活性基で置換したアルキル基であってもよい。エステル
部分ζゴスアリールであってもよく、例えばフェニル基
又は置換フェニル基であってもよい。アルキル基が好ま
しく、メチルもしくはエチルのような低級アルキル基が
特に好ましい。
このハロー2−フタリミドブチレートはつぎに3価のリ
ン化合物と共に反応条件下に置き、ラセミ4−ホスフィ
ニルブチレートを生成させる。一般にこの反応条件は無
水のベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン等の非加
水分解性非ハロゲン化溶媒中で4−ハロー2−フタリミ
ドブチレートと1〜2モル当量の3価のリン化合物とを
加熱することを包含する。温度はおよそ室温から約12
5°Cの範囲とすることができるが、室温では反応は非
常に緩慢であり、過度に高い温度は分解を伴なう。溶媒
の沸点又はより低い温度(かかる温度は通常約125°
C以下である)が満足な結果を示す。湿気は反応条件か
ら締め出す必要があり、又酸化的に不安定な3価リン化
合物の場合には酸素を除外する必要がある。
ン化合物と共に反応条件下に置き、ラセミ4−ホスフィ
ニルブチレートを生成させる。一般にこの反応条件は無
水のベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン等の非加
水分解性非ハロゲン化溶媒中で4−ハロー2−フタリミ
ドブチレートと1〜2モル当量の3価のリン化合物とを
加熱することを包含する。温度はおよそ室温から約12
5°Cの範囲とすることができるが、室温では反応は非
常に緩慢であり、過度に高い温度は分解を伴なう。溶媒
の沸点又はより低い温度(かかる温度は通常約125°
C以下である)が満足な結果を示す。湿気は反応条件か
ら締め出す必要があり、又酸化的に不安定な3価リン化
合物の場合には酸素を除外する必要がある。
3価リン化合物は式
%式%(2)
(式中、R1はメチル又はエチルであり、各R2は1〜
約6個の炭素原子を有するアルコキシ、アリールオキシ
、及び1〜12個の炭素原子を有するトリアルキルシリ
ルオキシ基よりなる群から選ばれる。
約6個の炭素原子を有するアルコキシ、アリールオキシ
、及び1〜12個の炭素原子を有するトリアルキルシリ
ルオキシ基よりなる群から選ばれる。
好適なアルコキシ基はメトキシ、エトキシ、イソプロピ
ルオキシ、ブトキシ等、及びシクロヘキシルオキシ等の
環状アルキルオキシ基を包含する。
ルオキシ、ブトキシ等、及びシクロヘキシルオキシ等の
環状アルキルオキシ基を包含する。
このアルコキシ基は例えばフェニル基等で置換されてい
てもよい。アリールオキシ基はフェノキシ基、又はアル
キル等で置換したフェノキシ基を包含する。好適なトリ
アルキルシリルオキシ基はトリメチルシリルオキシ、ト
リエチルシリルオキシ、エチルジメチルシリルオキシ等
を包含し、この基の炭素原子の総数は3から12個もし
くはそれ以上を変化させることができる。もつとも約1
2個よりも大きな炭素原子を有するトリアルキルシリル
オキシ基の使用には利点がない。アルコキシ基、特にメ
トキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ及びブトキシが
好適に使用される。
てもよい。アリールオキシ基はフェノキシ基、又はアル
キル等で置換したフェノキシ基を包含する。好適なトリ
アルキルシリルオキシ基はトリメチルシリルオキシ、ト
リエチルシリルオキシ、エチルジメチルシリルオキシ等
を包含し、この基の炭素原子の総数は3から12個もし
くはそれ以上を変化させることができる。もつとも約1
2個よりも大きな炭素原子を有するトリアルキルシリル
オキシ基の使用には利点がない。アルコキシ基、特にメ
トキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ及びブトキシが
好適に使用される。
これらの反応条件下に式
(式中、R,R1及びR2は前記と同義である)で表わ
される中間体が形成される。
される中間体が形成される。
本発明の処理において、上記中間体はついで加水分解し
て、Rの値に応じて目的とするホスフィノスリシン、そ
のP−エチル類似体又は他のホスフィニルブタン酸とす
る。加水分解は当業者に知られた、中間体中のすべての
エステル及びアミド基を同時にもしくは段階的に加水分
解的に開裂して目的とする最終生産物をえることができ
るいずれの操作をも意味する。これに限定される訳では
ないが、好適な加水分解操作は塩酸、硫酸等の強鉱酸の
濃水溶液と共の加熱;水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等のアルカリ金属水酸化物水溶液によろけん化とそれ
に続く加水分解;フタロイル基のヒドラジツリシス又は
同様なアミン仲介開裂とそれに続く加水分解;アルコー
ル性媒体中でのアルカリボロハイドライド塩によるフタ
ロイル基の開裂とそれに続く酸加水分解;トリアルキル
シリルハライドによるホスフィン酸エステルの開裂とそ
れに続くカルボキシレートエステル基及びフタロイル基
の加水分解を包含する。しかしながら、操作が簡単なこ
と及び望ましくない副生物を除去できることから、塩酸
もしくは硫酸等の強鉱酸の濃水溶液と共の加熱が好まし
く、塩酸の使用が特に好ましい。酸加水分解の温度は当
業者による常套的実験によって決定することができるが
、約75°C以上の温度を用いるのが好ましい。
て、Rの値に応じて目的とするホスフィノスリシン、そ
のP−エチル類似体又は他のホスフィニルブタン酸とす
る。加水分解は当業者に知られた、中間体中のすべての
エステル及びアミド基を同時にもしくは段階的に加水分
解的に開裂して目的とする最終生産物をえることができ
るいずれの操作をも意味する。これに限定される訳では
ないが、好適な加水分解操作は塩酸、硫酸等の強鉱酸の
濃水溶液と共の加熱;水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ム等のアルカリ金属水酸化物水溶液によろけん化とそれ
に続く加水分解;フタロイル基のヒドラジツリシス又は
同様なアミン仲介開裂とそれに続く加水分解;アルコー
ル性媒体中でのアルカリボロハイドライド塩によるフタ
ロイル基の開裂とそれに続く酸加水分解;トリアルキル
シリルハライドによるホスフィン酸エステルの開裂とそ
れに続くカルボキシレートエステル基及びフタロイル基
の加水分解を包含する。しかしながら、操作が簡単なこ
と及び望ましくない副生物を除去できることから、塩酸
もしくは硫酸等の強鉱酸の濃水溶液と共の加熱が好まし
く、塩酸の使用が特に好ましい。酸加水分解の温度は当
業者による常套的実験によって決定することができるが
、約75°C以上の温度を用いるのが好ましい。
本発明の別の態様においては、4−ハロー2−フタリミ
ドブチレートは式 %式%2) (式中、R2は1〜6個の炭素原子を有するアルコキシ
、アリールオキシ、及び1〜12個の炭素原子を有する
トリアルキルシリルオキシから選ばれる)で表わされる
3配位リン化合物と一緒にして式(式中、R及びR2は
前記と同義である)で表わされる新規中間体を生成させ
る。好ましいR2はアルコキシであり、メトキシ及びエ
トキシが特に好ましい。
ドブチレートは式 %式%2) (式中、R2は1〜6個の炭素原子を有するアルコキシ
、アリールオキシ、及び1〜12個の炭素原子を有する
トリアルキルシリルオキシから選ばれる)で表わされる
3配位リン化合物と一緒にして式(式中、R及びR2は
前記と同義である)で表わされる新規中間体を生成させ
る。好ましいR2はアルコキシであり、メトキシ及びエ
トキシが特に好ましい。
この新規中間体は既知のグルタミン酸塩性神経伝達(g
lutamatergic newotransmis
sion )の拮抗薬であるラセミ2−アミノ−4−ホ
スホノ酪酸(DL−APBA )及び他の有用なアミノ
酸の製造に有用である。
lutamatergic newotransmis
sion )の拮抗薬であるラセミ2−アミノ−4−ホ
スホノ酪酸(DL−APBA )及び他の有用なアミノ
酸の製造に有用である。
本発明は以下の本発明を限定するものではない実施例に
よってさらに説明される。すべての実施例において、I
HNMRスペクトルは連続波分光計上で60 MHzで
記録され、シフトはテトラメチルシランから下方のpp
mとして表わした。31PNMRスペクトルはプロトン
照射及び外部重水素ロック(external deu
terium 1ock )を用いるフーリエ変換分光
計上で40 MHzで記録され、シフトは85%H3P
O4から下方のppmとして表わした。
よってさらに説明される。すべての実施例において、I
HNMRスペクトルは連続波分光計上で60 MHzで
記録され、シフトはテトラメチルシランから下方のpp
mとして表わした。31PNMRスペクトルはプロトン
照射及び外部重水素ロック(external deu
terium 1ock )を用いるフーリエ変換分光
計上で40 MHzで記録され、シフトは85%H3P
O4から下方のppmとして表わした。
実施例I
DL−4−ブロモ−2−(1,3−ジヒドロ−01,3
−ジオキソ−2H−イソインドール−2−イル)ブタン
酸ジメチルホルムアミド中100°Cでのやや過剰の2
−ブロモ−4−ブチロラクトンとフタリミドカリウムと
の反応によってラクトンを調製また。このラクトン(1
15,5g、 0.5モル)を氷酢酸1500 mlに
懸濁し、無水臭化水素酸の定常流を機械撹拌混合物中を
通して出発物質が溶解するまで(約1時間)とさらに1
時間通じた。12時間静置後、溶液を減圧上蒸発操作に
付し、残渣をジエチルエーテルに溶解し、中性の木炭と
共に煮沸し、濾過し、ヘキサンで希釈した。再結晶して
目的物を大きなプリズム晶として得た( 148g、
95%)、m、 p、 121−123°C0IHNM
R(CDC13):2.75 (2H,q、J =3.
5)、 3.45 (2H,m)。
−ジオキソ−2H−イソインドール−2−イル)ブタン
酸ジメチルホルムアミド中100°Cでのやや過剰の2
−ブロモ−4−ブチロラクトンとフタリミドカリウムと
の反応によってラクトンを調製また。このラクトン(1
15,5g、 0.5モル)を氷酢酸1500 mlに
懸濁し、無水臭化水素酸の定常流を機械撹拌混合物中を
通して出発物質が溶解するまで(約1時間)とさらに1
時間通じた。12時間静置後、溶液を減圧上蒸発操作に
付し、残渣をジエチルエーテルに溶解し、中性の木炭と
共に煮沸し、濾過し、ヘキサンで希釈した。再結晶して
目的物を大きなプリズム晶として得た( 148g、
95%)、m、 p、 121−123°C0IHNM
R(CDC13):2.75 (2H,q、J =3.
5)、 3.45 (2H,m)。
5.20(IH,t、J =4)、7.80(4H,m
)。
)。
元素分析(C1□H1oBrNo4):計算値 C4
6,18,H3,23,N 4.49;実測値 C4
6,24,H3,26,N 4.49゜実施例2 DL−本ブロモ−2−(1,3−ジヒドロ−1,3−ジ
オキソ−2H−イソインドール−2−イル)ブタン酸メ
チル実施例1の目的物(30g、96ミリモル)のエー
テル性溶液をOoCに冷却し、氷酢酸の滴下によって脱
色される黄色が消えなくなるまで過剰のエーテル性ジア
ゾメタンで処理した。ヘキサンで希釈し、再結晶して大
きなプリズム晶として目的物を得た(29.7g、95
%)、m、p、 41−43°C01HNMR(CDC
1a) :2.77 (2H,q、J=3−5)−3,
37(2H1m)。
6,18,H3,23,N 4.49;実測値 C4
6,24,H3,26,N 4.49゜実施例2 DL−本ブロモ−2−(1,3−ジヒドロ−1,3−ジ
オキソ−2H−イソインドール−2−イル)ブタン酸メ
チル実施例1の目的物(30g、96ミリモル)のエー
テル性溶液をOoCに冷却し、氷酢酸の滴下によって脱
色される黄色が消えなくなるまで過剰のエーテル性ジア
ゾメタンで処理した。ヘキサンで希釈し、再結晶して大
きなプリズム晶として目的物を得た(29.7g、95
%)、m、p、 41−43°C01HNMR(CDC
1a) :2.77 (2H,q、J=3−5)−3,
37(2H1m)。
3.70(3H,s)、5.12(IH,t、J=3.
5 )、7.78(4H,m)。
5 )、7.78(4H,m)。
元素分析(C,H1□BrN04) :計算値 C,
47,87; H,3,71; N、 4.29;実測
値 C,47,98; H,3,72; N、4.2
B。
47,87; H,3,71; N、 4.29;実測
値 C,47,98; H,3,72; N、4.2
B。
実施例3
DL−4−ブロモ−2−(1,3−ジヒドロ−1,3−
ジオキソ−2H−イソインドール−2−イル)ブタン酸
メチル濃塩酸50m1を含有する3/2,2.2−ジメ
トキシプロパンlメタノール1.Oe中の実施例1の目
的物(x= Br )(200g 、 0.64モル)
の溶液を64時間静置し、ついで溶媒を真空で蒸発させ
た。残渣をエーテルと飽和重炭酸ナトリウム水溶液との
間で分配し、有機相をブラインで洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、濾過し、真空で蒸発させて、黄色油とし
て粗目的物を得た(229g)。この物質をエーテル中
のシリカゲルで処理、して極性不純物を除去し、エーテ
ル性濾液を中性木炭と一緒に煮沸し、濾過し、ヘキサン
で希釈した。実施例2に記述の再結晶の後、純粋な目的
物を得た(153g、73%)。次の反応のために十分
な純度の追加の目的物を最初の母液からさらに結晶化を
行うことにより得ることができた。
ジオキソ−2H−イソインドール−2−イル)ブタン酸
メチル濃塩酸50m1を含有する3/2,2.2−ジメ
トキシプロパンlメタノール1.Oe中の実施例1の目
的物(x= Br )(200g 、 0.64モル)
の溶液を64時間静置し、ついで溶媒を真空で蒸発させ
た。残渣をエーテルと飽和重炭酸ナトリウム水溶液との
間で分配し、有機相をブラインで洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、濾過し、真空で蒸発させて、黄色油とし
て粗目的物を得た(229g)。この物質をエーテル中
のシリカゲルで処理、して極性不純物を除去し、エーテ
ル性濾液を中性木炭と一緒に煮沸し、濾過し、ヘキサン
で希釈した。実施例2に記述の再結晶の後、純粋な目的
物を得た(153g、73%)。次の反応のために十分
な純度の追加の目的物を最初の母液からさらに結晶化を
行うことにより得ることができた。
実施例4
DL−2−(1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−2
H−イソインドール−3−イル)−4−ヨードブタン酸
メチル乾燥アセトン250m1中の実施例3の目的物(
6,52g、20ミリモル)及びヨウ化ナトリウム(7
,49g、50ミリモル)の溶液を12時間加熱還流し
た。真空下溶媒を蒸発させ、残渣をエーテルと飽和重炭
酸ナトリウムとの間で分配した。有機相をブラインで洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、真空下で部
分的に蒸発させた。ヘキサンで希釈し、再結晶して大き
なプリズム晶として目的物を得た(7.24 g、 9
7%)、m、p、 57−59°C0IHNMR(CD
Cl2) :2.85 (2H,m) 、 3.25
(2H,m) 、 3.74(3H,m)、5.08(
IH,t、J=3.5)、7.82(4H,m)。
H−イソインドール−3−イル)−4−ヨードブタン酸
メチル乾燥アセトン250m1中の実施例3の目的物(
6,52g、20ミリモル)及びヨウ化ナトリウム(7
,49g、50ミリモル)の溶液を12時間加熱還流し
た。真空下溶媒を蒸発させ、残渣をエーテルと飽和重炭
酸ナトリウムとの間で分配した。有機相をブラインで洗
浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、真空下で部
分的に蒸発させた。ヘキサンで希釈し、再結晶して大き
なプリズム晶として目的物を得た(7.24 g、 9
7%)、m、p、 57−59°C0IHNMR(CD
Cl2) :2.85 (2H,m) 、 3.25
(2H,m) 、 3.74(3H,m)、5.08(
IH,t、J=3.5)、7.82(4H,m)。
元素分析(C13H,lN04) :
計算値 C,41,85; H,3,24; N 3
.75;実測値 C,41,91; H,3,36;
N 3.81゜実施例5 DL−2−(1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−2
H−イソインドール−2−イル)−4−(エトキシメチ
ルホスフィニル)ブタン酸メチル 実施例3の目的物(6,52g、20ミリモル)及びジ
エチルメチルスルホナイト(5,44g、40ミリモル
)の乾燥トルエン30m1中への溶液を乾燥窒素雰囲気
中16時間加熱還流した。反応の進行は定期的にサンプ
リングしてIH及び31P NMRに付すことによって
監視した。トルエンを真空蒸発させ、残渣を800C1
1mmHgで加熱して揮発性のホスフィネート類を除去
した。4/1酢酸エチルlイソプロパツールを用いる、
粗目的物のシリカゲルクロマトグラフィーは未反応出発
物質(1,90g )及び無色シロップとしての純粋な
目的物(4,87g、回収された出発物質に基づいて9
7%)を示した。
.75;実測値 C,41,91; H,3,36;
N 3.81゜実施例5 DL−2−(1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−2
H−イソインドール−2−イル)−4−(エトキシメチ
ルホスフィニル)ブタン酸メチル 実施例3の目的物(6,52g、20ミリモル)及びジ
エチルメチルスルホナイト(5,44g、40ミリモル
)の乾燥トルエン30m1中への溶液を乾燥窒素雰囲気
中16時間加熱還流した。反応の進行は定期的にサンプ
リングしてIH及び31P NMRに付すことによって
監視した。トルエンを真空蒸発させ、残渣を800C1
1mmHgで加熱して揮発性のホスフィネート類を除去
した。4/1酢酸エチルlイソプロパツールを用いる、
粗目的物のシリカゲルクロマトグラフィーは未反応出発
物質(1,90g )及び無色シロップとしての純粋な
目的物(4,87g、回収された出発物質に基づいて9
7%)を示した。
IHNMR(CDCl2) : 1.30 (3H,t
、 J=3) 、 1.50 (3H,d。
、 J=3) 、 1.50 (3H,d。
J=7) 、 1.65−2.80 (4H,m)、
3.75 (3H,s) 、 4.10 (2H。
3.75 (3H,s) 、 4.10 (2H。
quin、 J=3) 、 4.95 (IH,t、
J =3.5)、7.92 (4H,m)、31PNM
R(CDCl2) :54.25゜元素分析(C16H
2oN06P+1.2H20):計算値 C51,2
6,H6,02,N 3.74;実測値 C51,2
5,H5,73,N 3.60゜この化合物の構造は次
のごとく表わすことができる。
J =3.5)、7.92 (4H,m)、31PNM
R(CDCl2) :54.25゜元素分析(C16H
2oN06P+1.2H20):計算値 C51,2
6,H6,02,N 3.74;実測値 C51,2
5,H5,73,N 3.60゜この化合物の構造は次
のごとく表わすことができる。
実施例6
DL−2−アミノ−4−(ヒドロキシメチルホスフィニ
ル)ブタン酸(DL−ホスフィノスリシン)氷酢酸5m
lを含有する6N塩酸60m1中の実施例5の目的物(
4,30g 、 12.2ミリモル)の溶液を24時間
加熱還流した。真空上溶媒を蒸発させ、冷水を加えてト
リチュレートし、沈殿したフタル酸を ・除去し、水
の蒸発後の泡として粗塩酸塩を得た。
ル)ブタン酸(DL−ホスフィノスリシン)氷酢酸5m
lを含有する6N塩酸60m1中の実施例5の目的物(
4,30g 、 12.2ミリモル)の溶液を24時間
加熱還流した。真空上溶媒を蒸発させ、冷水を加えてト
リチュレートし、沈殿したフタル酸を ・除去し、水
の蒸発後の泡として粗塩酸塩を得た。
この物質を0°Cのメタノール10m1に溶解し、プロ
ピレンオキシド(1,43g、24ミリモル)を加え、
得られる溶液を0°Cで12時間静置した。沈殿した目
的物を濾過し、水と共沸させ、真空にして白色の泡とし
て純粋なりL−ホスフィノスリシン(1,90g 。
ピレンオキシド(1,43g、24ミリモル)を加え、
得られる溶液を0°Cで12時間静置した。沈殿した目
的物を濾過し、水と共沸させ、真空にして白色の泡とし
て純粋なりL−ホスフィノスリシン(1,90g 。
86%)を得た。
IHNMR(D20) : 1.46 (3H,d、
J=’l)、 1.55−2.45 (4H。
J=’l)、 1.55−2.45 (4H。
m)、4.00(LH,t、J =3)、31P NM
R(D20):50.07゜元素分析(C5H1□No
4P + 0.7H20) :計算値 C31,00
,H6,97,N 7.23;実測値 、 C30,8
1,H6,71,N 7.05゜実施例7 DL −4−(ジェトキシホスフィニル)−2−(1,
3−ジヒ、ドロー1,3−ジオキソ−2H−イソインド
ール−2−イル)ブタン酸メチル 湿気から保護された、亜リン酸トリエチル50m1−中
の実施例3の目的物(5,0g 、 15.3ミリモル
)の溶液を125°Cで16時間加熱した。80°C,
ITorrでの加熱によって溶媒及び揮発性ホスホネー
ト類を除去し、酢酸エチルを用いる、残渣のシリカゲル
クロマトグラフィーにより無色油として精製ホスホネー
ト(5,50g、94%)を得た。
R(D20):50.07゜元素分析(C5H1□No
4P + 0.7H20) :計算値 C31,00
,H6,97,N 7.23;実測値 、 C30,8
1,H6,71,N 7.05゜実施例7 DL −4−(ジェトキシホスフィニル)−2−(1,
3−ジヒ、ドロー1,3−ジオキソ−2H−イソインド
ール−2−イル)ブタン酸メチル 湿気から保護された、亜リン酸トリエチル50m1−中
の実施例3の目的物(5,0g 、 15.3ミリモル
)の溶液を125°Cで16時間加熱した。80°C,
ITorrでの加熱によって溶媒及び揮発性ホスホネー
ト類を除去し、酢酸エチルを用いる、残渣のシリカゲル
クロマトグラフィーにより無色油として精製ホスホネー
ト(5,50g、94%)を得た。
IHNMR(CDCl2) : 1.30 (6H,t
、J = 3) 、1.35−2.87 (4H。
、J = 3) 、1.35−2.87 (4H。
m)、 3.72 (3H,s )、 4.08 (4
H,quin、 J=3)、 4.87 (IH,t。
H,quin、 J=3)、 4.87 (IH,t。
J =3)、 7.80 (4H,m)、 31P N
MR(CDC13): 30.08゜元素分析(C1□
H2□No7P + 0.6H20) :計算値 C
,51,80; H,5,93; N、 3.55;実
測値 C,51,78; H,5,67; N、 3
.56゜実施例8 DL−2−(1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−2
H−イソインドール−2−イル)−4−(ジメトキシホ
スフィニル)ブタン酸メチル 実施例7に記述した方法による実施例3の目的物と亜リ
ン酸トリメチルとの反応により、小さなプリズム晶とし
てホスホネートを得、エーテル−酢酸エチルから再結晶
した。m、 p、 93−95°C0IHNMR(CD
C13) :1.45−2.85 (4H2m) 、3
−64 (6H2d、 J=5 )、 3.66 (3
H,s) 、、4.82 (LH,t、 J =3)
、7.69 (4H。
MR(CDC13): 30.08゜元素分析(C1□
H2□No7P + 0.6H20) :計算値 C
,51,80; H,5,93; N、 3.55;実
測値 C,51,78; H,5,67; N、 3
.56゜実施例8 DL−2−(1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−2
H−イソインドール−2−イル)−4−(ジメトキシホ
スフィニル)ブタン酸メチル 実施例7に記述した方法による実施例3の目的物と亜リ
ン酸トリメチルとの反応により、小さなプリズム晶とし
てホスホネートを得、エーテル−酢酸エチルから再結晶
した。m、 p、 93−95°C0IHNMR(CD
C13) :1.45−2.85 (4H2m) 、3
−64 (6H2d、 J=5 )、 3.66 (3
H,s) 、、4.82 (LH,t、 J =3)
、7.69 (4H。
m)、 31P NMR(CDC13): 32.68
。
。
元素分析(C工、H18No7P) :計算値 C,
50,71; H,5,11; N、 3.94;実測
値 C,50,71; H,5,14; N、 3.
88゜実施例9 DL−2−アミノ−4−(ジヒドロキシホスフィニル)
ブタン酸(DL−2−アミノ−4−ホスホノ酪酸、DL
−APBA ) 氷酢酸5mlを含有する濃塩酸50m1中の、実施例7
からのホスホネート生産物(1,75g 、4.6ミリ
モル)の溶液を24時間加熱還流した。真空下溶媒を蒸
発させ、冷水を用いてトリチュレートし、沈殿したフタ
ル酸を除去し、水を蒸発した後の泡として粗塩酸塩を得
た。この物質を0°Cのメタノール15m1に溶解し、
プロピレンオキシド(0,44g、7.7ミリモル)を
加え、得られる溶液を0°Cで12時間静置した。沈殿
した目的物を濾過し、水と共沸させ、ついで結晶化して
無色プリズム晶として純粋なりL −APBA (0,
70g 、 84%)を得た。m、 p、210−21
3°C0 IHNMR(D20): 2.05 (4H,m)、
4.09 (IH,m ) 、31PNMR(D20)
: 24.47゜ 元素分析(04H1oNo、P + 1.0H20)
:計算値 C,23,89; H,6,01; N、
6.96;実測値 C,23,85; H,6,0
2; N、 6.94゜実施例10 1−(1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−2H−イ
ソインドール−2−イル)シクロプロパン酸メチル乾燥
テトラヒドロフラン30m1中の実施例3の目的物(R
=CHa2.X =Br −15−Og 、46−0
ミリモル)ノ溶液を乾燥テトラヒドロフラン60m1中
のヘキサン洗浄水素化ナトリウム(50%油懸濁液、2
.65 g 、 55.2ミリモル)の懸濁液に滴下し
た。得られる混合物を12時間撹拌し、エーテルとブラ
インとの間で分配し、有機相をブラインで洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥し、濾過し、真空中で蒸発させて白
色固体として粗目的物(10,5g)を得た。エーテル
−ヘキサンから再結晶して小さなプリズム晶として精製
エステル(10,2g 、 86%)を得た。m、p、
139−141C0 IHNMR(CDC13)’、 1.60 (4H,t
vvo dd、 J =973−1575)。
50,71; H,5,11; N、 3.94;実測
値 C,50,71; H,5,14; N、 3.
88゜実施例9 DL−2−アミノ−4−(ジヒドロキシホスフィニル)
ブタン酸(DL−2−アミノ−4−ホスホノ酪酸、DL
−APBA ) 氷酢酸5mlを含有する濃塩酸50m1中の、実施例7
からのホスホネート生産物(1,75g 、4.6ミリ
モル)の溶液を24時間加熱還流した。真空下溶媒を蒸
発させ、冷水を用いてトリチュレートし、沈殿したフタ
ル酸を除去し、水を蒸発した後の泡として粗塩酸塩を得
た。この物質を0°Cのメタノール15m1に溶解し、
プロピレンオキシド(0,44g、7.7ミリモル)を
加え、得られる溶液を0°Cで12時間静置した。沈殿
した目的物を濾過し、水と共沸させ、ついで結晶化して
無色プリズム晶として純粋なりL −APBA (0,
70g 、 84%)を得た。m、 p、210−21
3°C0 IHNMR(D20): 2.05 (4H,m)、
4.09 (IH,m ) 、31PNMR(D20)
: 24.47゜ 元素分析(04H1oNo、P + 1.0H20)
:計算値 C,23,89; H,6,01; N、
6.96;実測値 C,23,85; H,6,0
2; N、 6.94゜実施例10 1−(1,3−ジヒドロ−1,3−ジオキソ−2H−イ
ソインドール−2−イル)シクロプロパン酸メチル乾燥
テトラヒドロフラン30m1中の実施例3の目的物(R
=CHa2.X =Br −15−Og 、46−0
ミリモル)ノ溶液を乾燥テトラヒドロフラン60m1中
のヘキサン洗浄水素化ナトリウム(50%油懸濁液、2
.65 g 、 55.2ミリモル)の懸濁液に滴下し
た。得られる混合物を12時間撹拌し、エーテルとブラ
インとの間で分配し、有機相をブラインで洗浄し、硫酸
マグネシウムで乾燥し、濾過し、真空中で蒸発させて白
色固体として粗目的物(10,5g)を得た。エーテル
−ヘキサンから再結晶して小さなプリズム晶として精製
エステル(10,2g 、 86%)を得た。m、p、
139−141C0 IHNMR(CDC13)’、 1.60 (4H,t
vvo dd、 J =973−1575)。
3.60 (3H,s ) 7.65 (4H,m )
元素分析(C工、H□□No4): 計算値 C,63,67; H,4,52; N、
5.71;実測値 C,63,68; H,4,56
; N、 5.67゜実施例11 1−アミノシクロプロパンカルボン酸(ACC)6N
MCI 200 ml中の実施例1Oからのエステル(
1o、o g 、 40.8ミリモル)の溶液を12時
間加熱還流した。真空下溶媒を蒸発させ、冷水でトリチ
ュレートし、沈殿したフタル酸を除去して白色固体とじ
で粗目的物を得た。水−アセトンから再結晶して小さな
針状晶としてACC塩酸塩(5,30g、95%)を得
た。m、 p、 220−222°C01HNMR(D
20):1.40(m)。
元素分析(C工、H□□No4): 計算値 C,63,67; H,4,52; N、
5.71;実測値 C,63,68; H,4,56
; N、 5.67゜実施例11 1−アミノシクロプロパンカルボン酸(ACC)6N
MCI 200 ml中の実施例1Oからのエステル(
1o、o g 、 40.8ミリモル)の溶液を12時
間加熱還流した。真空下溶媒を蒸発させ、冷水でトリチ
ュレートし、沈殿したフタル酸を除去して白色固体とじ
で粗目的物を得た。水−アセトンから再結晶して小さな
針状晶としてACC塩酸塩(5,30g、95%)を得
た。m、 p、 220−222°C01HNMR(D
20):1.40(m)。
元素分析(C4H8CINO□):
計算値 C,34,47; H,5,93; N、
10.05; C1,25,44;実測値 C,34
,39; H,5,93; N、 10.10; C1
,25,27゜わずかに塩基性のダウエックス WGR
−2樹脂30gを含有する水100m1中のACC塩酸
塩(2,75g、20ミリモル)の溶液を3時間撹拌し
た。濾過及び真空下での溶媒の蒸発により白色固体とし
て粗ACCを得た。水−エタノールから再結晶して小さ
な平板結晶として精製ACCを得た。m、 p、 23
1−233’001HNMR(D20):1.25(m
)。
10.05; C1,25,44;実測値 C,34
,39; H,5,93; N、 10.10; C1
,25,27゜わずかに塩基性のダウエックス WGR
−2樹脂30gを含有する水100m1中のACC塩酸
塩(2,75g、20ミリモル)の溶液を3時間撹拌し
た。濾過及び真空下での溶媒の蒸発により白色固体とし
て粗ACCを得た。水−エタノールから再結晶して小さ
な平板結晶として精製ACCを得た。m、 p、 23
1−233’001HNMR(D20):1.25(m
)。
元素分析(C4H7NO2):
計算値 C,45,11; H,7,19; N、
13.15 ;実測値 C,44,80; H,7,
13; N、 13.03 。
13.15 ;実測値 C,44,80; H,7,
13; N、 13.03 。
本発明は特定の態様によって特に詳細に記述したが、こ
れは車に例示として掲げたものであり、別の態様及び操
作技術は本開示のもとに当業者にとって明らかであろう
。例えば、中間体のフタロイル基はアルキル、アリール
もしくはハロゲン置換基で置き代えることができ、又は
同様に置換したアルカンジオイル(alkandioy
l )もしくは縮合二環もしくは多環芳香族基、例えば
ナフタレンジオイル等によって置き代えることができる
。かくのごとく、記述した発明の精神を外れることなく
修飾が可能である。
れは車に例示として掲げたものであり、別の態様及び操
作技術は本開示のもとに当業者にとって明らかであろう
。例えば、中間体のフタロイル基はアルキル、アリール
もしくはハロゲン置換基で置き代えることができ、又は
同様に置換したアルカンジオイル(alkandioy
l )もしくは縮合二環もしくは多環芳香族基、例えば
ナフタレンジオイル等によって置き代えることができる
。かくのごとく、記述した発明の精神を外れることなく
修飾が可能である。
Claims (7)
- (1)ラセミ体のホスフィノスリシン又はそのP−エチ
ル類似体を製造する方法において、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは1から約6個の炭素原子を有するアルキル
、又はアリールであり、Xは塩素、臭素及びヨウ素より
なる群から選ばれる)で表わされるラセミ4−ハロ−2
−フタリミドブチレートと式R^1−P−(R^2)_
2 (式中、R^1はメチル又はエチルであり、R^2は1
から6個の炭素原子を有するアルコキシ、アリールオキ
シ、及び1から12個の炭素原子を有するトリアルキル
シリルオキシ基よりなる群から選ばれる)で表わされる
リン化合物とを反応条件下において中間化合物を生成さ
せ、ついで中間化合物を加水分解してホスフィニルブタ
ン酸を生成させる工程より成る、上記製造法。 - (2)リン化合物はジエチルメチルホスホナイトである
、特許請求の範囲第1項記載の方法。 - (3)4−ホスフィニルブタノエートのRはアルキルで
ある、特許請求の範囲第1項記載の方法。 - (4)R^1はメチルである、特許請求の範囲第3項記
載の方法。 - (5)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは1から6個の炭素原子を有するアルキル、
又はアリールであり、R^2は1から6個の炭素原子を
有するアルコキシ、アリールオキシ及び1から12個の
炭素原子を有するトリアルキルシリルオキシ基よりなる
群から選ばれる)で表わされる化合物。 - (6)R^2はアルコキシである、特許請求の範囲第5
項記載の化合物。 - (7)R^2はメトキシ又はエトキシである、特許請求
の範囲第6項記載の化合物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US92292886A | 1986-10-24 | 1986-10-24 | |
US922928 | 1986-10-24 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63122694A true JPS63122694A (ja) | 1988-05-26 |
Family
ID=25447809
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62268010A Pending JPS63122694A (ja) | 1986-10-24 | 1987-10-23 | 2−アミノ−4−ホスフイニルブタン酸の製造法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0265412B1 (ja) |
JP (1) | JPS63122694A (ja) |
AT (1) | ATE73457T1 (ja) |
DE (1) | DE3777325D1 (ja) |
ES (1) | ES2003066A4 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IL101539A (en) | 1991-04-16 | 1998-09-24 | Monsanto Europe Sa | Mono-ammonium salts of the history of N phosphonomethyl glycyl which are not hygroscopes, their preparations and pesticides containing |
GB0226550D0 (en) | 2002-11-14 | 2002-12-18 | Givaudan Sa | Organic compounds |
GB0227363D0 (en) * | 2002-11-25 | 2002-12-31 | Givaudan Sa | Organic compounds |
CN111019982B (zh) * | 2019-12-23 | 2021-10-15 | 浙江大学 | 一种利用羟基酸脱氢酶制备l-草铵膦的方法 |
CN113248537B (zh) * | 2020-02-11 | 2023-06-06 | 利尔化学股份有限公司 | 草铵膦的制备方法 |
CN114805433B (zh) * | 2021-05-13 | 2023-11-28 | 永农生物科学有限公司 | 不含结晶水的l-草铵膦铵盐晶体形式及固体粉末 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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DE2963836D1 (en) * | 1978-05-25 | 1982-11-18 | Meiji Seika Kaisha | Process for producing alkyl 4-(alkoxy methyl phosphinoyl)butyrates and alkyl-(2-amino-4-(alkoxy methyl phosphinoyl)) butyrates |
JPS58131993A (ja) * | 1982-01-29 | 1983-08-06 | Meiji Seika Kaisha Ltd | ビニルホスフィン酸誘導体の製造法 |
-
1987
- 1987-10-21 ES ES87870147T patent/ES2003066A4/es active Pending
- 1987-10-21 EP EP87870147A patent/EP0265412B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-10-21 AT AT87870147T patent/ATE73457T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-10-21 DE DE8787870147T patent/DE3777325D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-10-23 JP JP62268010A patent/JPS63122694A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ES2003066A4 (es) | 1988-10-16 |
DE3777325D1 (de) | 1992-04-16 |
EP0265412B1 (en) | 1992-03-11 |
EP0265412A3 (en) | 1989-09-06 |
EP0265412A2 (en) | 1988-04-27 |
ATE73457T1 (de) | 1992-03-15 |
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