JPS63120707A - ビニルビフエニル誘導体の重合体 - Google Patents

ビニルビフエニル誘導体の重合体

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JPS63120707A
JPS63120707A JP26669286A JP26669286A JPS63120707A JP S63120707 A JPS63120707 A JP S63120707A JP 26669286 A JP26669286 A JP 26669286A JP 26669286 A JP26669286 A JP 26669286A JP S63120707 A JPS63120707 A JP S63120707A
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JP
Japan
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polymer
refractive index
reaction
vinylbiphenyl
vinyl
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JP26669286A
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English (en)
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Masayoshi Tabata
昌祥 田畑
Nobuo Kushibiki
信男 櫛引
Yoko Yoshinaga
吉永 曜子
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Canon Inc
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Canon Inc
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 交え立1 本発明は、高屈折率であり且つ透明性に優れた新規なビ
ニル重合体に関する。
背景技術 従来、商業的規模で製造されている透明な高分子として
は、ポリメチルメタアクリレート、ポリカーボネート等
が挙げられるが、この両者に共通の欠点として吸水、吸
湿による内蔵水による屈折率の変化が挙げられる。この
ため、これらは、高精度の光学材料としては適さないも
のであった。
又、高分子化合物は、一般にガラスに比し屈折率が低い
ため、高屈折率化の試みがおこなわれてきたが、それで
も得られるものの多くは、屈折率が1.6又は、それ以
下のものであった。又、その多くが複数の千ツマ−を、
型に注入し、熱、光等によって硬化成形するものであり
、重合収縮、反応による歪による屈折率の不均一性を有
する等の問題も生じていた。
又、従来の高屈折率化樹脂の多くは、ポリカーボネート
と類似するもの或いは、アクリル酸話導体の重合体であ
るため、上述した屈折率の変化以外にも、吸水、吸湿に
伴う問題は、依然として、未解決であフだ。
^qaとl囮 上述した事情に鑑み、本発明の主要な目的は、環境条件
の変化に拘らず安定且つ均質で、屈折率が高く、透明性
に優れたビニル重合体を提供することを目的とする。
Rm票 本発明者等は、上述の目的で研究した結果、吸水、吸湿
等に対して安定で透明な性質を有するビニルビフェニル
重合体のビフェニル環に適切な置換基を導入した構造の
ビニルビフェニル誘導体の重合体は、吸湿等に対する安
定性、透明性を維持しつつ高屈折率化が可能であり、本
発明の目的に特に適合した重合体を与えることを知見し
た。
すなわち、本発明のビニルビフェニル誘導体の重合体は
、下記一般式(I) [ここでXは塩素または臭素;aおよびbは、それぞれ
011または2、Cは1〜3の整数であり、b+cは1
〜5の整数である。Yは、−CH3、−OH,−OR,
−SR,−5ORまたは一5o2Rであ)て、更にRは
、炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基または芳香族炭化
水素基を示す] である繰り返し単位を有し、n=10以上であることを
特徴とするものである。
明の 体的説明 本発明の重合体は、上述の構造を有するものであり、吸
湿安定性、透明性に加えて、特に高屈折率を有すること
を特徴とする。例えば、最も基本的な構造を有するもの
として4−ビニル−4′−アルコキシビフェニル重合体
は、屈折率1.65を与える。更に、これにXとして、
塩素または臭素を導入することにより、1.70以上の
屈折率が得られる。
なお後記する本発明のビニルビフェニル誘導体の重合体
例では、いずれも1.6以上の屈折率が得られることが
確認されている。
上記した本発明の重合体は、対応するビニルビフェニル
話導体のビニル重合によるほか、モノフェニル重合体の
ビフェニル化による方法がある。
以下、これらの方法について順次述べる。
[ビニル重合法] まず、本発明の重合体に対応するビニルビフェニル話導
体モノマーは、一般に、例えば、対応するビフェニルメ
チルケトン話導体から以下の反応工程に従って得ること
ができる(−例として、4′−置換体の製造例を示すが
、他の置換体も同様に得ることができる) 上記のようにして得られたビニルビフェニル銹導体千ツ
マ−を、公知の重合法により重合することにより本発明
の重合体が得られる。より具体的には、以下の重合法が
採用可能である。
ラジカル重合法 有機過酸物(ラウリルパーオキシド、ベンゾイルパーオ
キシド等)、アゾ化合物(アゾビスイソブチロニトリル
等)、過硫酸塩(過硫酸ナトリウム等)の開始剤の存在
下での、あるいは、増感剤の有無に依らず光、放射線等
の重合開始法による、溶液均一重合、けんだく重合、乳
化重合等が適用される。
カチオン重合 カチオンの重合に用いられる重合開始剤、例えばB F
 s OE t 2 、Z n OCJZ2 、 T 
i C114等のルイス酸の存在下、あるいは光、放射
線等の照射下での溶液重合法が適用される。
ラジカル重合、カチオン重合によって得られるポリマー
構造単位として、下記にその代表的な例を示す。
[高分子反応] 前述したように別法として、予めクロルまたはブロム等
のハロゲン化スチレンの重合体を用い、これを脱ハロゲ
ン化カップリングする方法が採用でき、これにより本発
明のビニルビフェニル誘導体の重合体が得られる。
カップリング剤として、例えば、モノハロゲン化モノア
ルコキシベンゼンを用いる場合を例にとると、これをリ
チオ(Lithio)錯体化して用いる方法(下記(i
) と、第四オニウム塩からなる相関B勤触媒と脱ハロ
ゲン化試薬の存在下、直接ハロゲン化スチレン重合体と
脱ハロゲン化カップリングする方法(下記(fi))と
がある。これら反応は、まとめて下記(j)および(i
t)のごとく表わすことができる。
リチオ錯体を用いる反応(i)においては、副生物とし
て、LiXが生成するが、これは、反応に用いつる溶媒
の多くに対し不溶性であり容易に系外に除去できる。ま
たリチオ錯体を形成する有機リチウム化合物としてはn
−BuLi以外にも、フェニルリチウム、アミルリチウ
ム等の他のアルキル化リチウム化合物あるいはLi金属
等も用いられる。リチオ錯体をポリハロゲン化スチレン
と反応させる際、これを分離してから用いる必要は無く
、ハロゲン化アルコキシベンゼンとn −BuLiの反
応液にハロゲン化ポリスチレンを加えれば良い、リチオ
錯体はハロゲン化ポリスチレンの反応当量より過剰に存
在させ、反応を速やかならしめることは、通常おこなわ
れる方法であり、その過剰の程度は反応温度その他の反
応条件とのかね合いで決められるが、一般に1〜5当量
の範囲が適当である。
反応(ii)においては、アルコキシベンゼン説導体は
、二量化する欠点があるが、ポリマーを溶解する溶媒と
、アルコキシベンゼン訪導体を溶解する溶媒を組み合せ
、相関移動触媒である第4オニウム塩を用いる事により
、低温でしかも効率良く反応が進行する。
反応(if)において、NiX2Pφ3 (φはフェニ
ル基)とZnとの比は、モル比で1/4程度に設定され
るのが好ましいが、一般に1/2〜1/6程度の範囲が
好適に使用可能である。
第4オニウム塩の、Rとしては、メチル、エチル、ブチ
ル、ベンジル等、他にオニウム塩以外では15−クラウ
ン−5,18−クラウン−6等のクラウン化合物が挙げ
られる。第4オニウム塩の添加量としては、Niに対し
、4倍モル程度が好ましいが、その他の反応条件によっ
て例えば0゜5〜20倍モル量程度に変更することは一
向に差し支えない。加えるハロゲン化アルコキシベンゼ
ンの量はポリマーのハロゲン化フェニルに対し、2〜1
0モル倍の範囲で適宜選択される。
上記の高分子反応によって得られるポリマー構造単位の
例としては、先に重合反応について例示したもののほか
、下記に示するものが挙げられる。
なお、本発明のビニルビフェニル話導体の重合体は、L
H−NMRにより容易に構造確認される。
C旦、CH2が1〜2 p p m ベンゼン環のプロトン、6〜7.5ppm。
これらは何れも重合体の立体規則性の差異に起因する分
裂を示しているが、OCH,は3.5〜4ppm、用い
る置換基によフてプロトンのピークは異なるが、一般に
容易に同定される。
周知の事であるが、’HNMRによるスペクトルの強度
から反応率を求めることもできる。
では、全CH,CH2に対しCH3の強度比よりクロル
、又はブロムスチレンポリマーに対する反応の際の導入
率が求められ、従ってその量比が等しくなるように反応
を制御することにより反応完遂が示唆される。
上記一連の反応により生成したポリマーは、反応系に応
じた適宜の方法により回収されるが、簡便にはメタノー
ルで沈澱させた後、メチルエチルケトンで溶解させ、メ
タノールで沈澱させる等の操作によって回収可能である
このようにして、本発明の重合体は、重合度nが10以
上、好ましくは50〜tooooの重合度として得られ
る。
得られた本発明の重合体は、その優れた光学特性を生か
して、加圧、射出、押し出し成型等の方法により、レン
ズ、プリズム等の光学素子に成形されるほか、その透明
性を生かした各種成形材料としても用いられる。
^rhoと凱屡 上述したように、本発明のビニルビフェニル誘導体の重
合体は、従来の光学材料重合体に比べて、著しく高い屈
折率を示すだけでなく、吸湿性が少なく、環境条件の変
化による屈折率の変動が小さいという、光学材料として
極めて優れた特性を示す。
以下、実施例により、本発明を更に具体的に説明する。
衷7iff生± ベンゼン25m1に、4−ビニル−2′−メトキシビフ
ェニル2gを溶解し、アゾビスイソブチロニトリル0.
02gを加え、真空ラインを用いて脱気したのち、封管
し、80℃に5時間加熱した。アンプルを開封し、多量
のメタノールに投入し、生成した沈澱を濾別し、乾燥後
秤量した。ポリマーは1.2g得られた。
THFに溶解し、GPC(ゲルパーミェーションクロマ
トグラフィー)により分子量(スチレン換算)を求めた
ところ12000であった。
このポリマー40mgを重水素化クロロホルム0.4.
mlLに溶解し、室温でパリアンVXR−30ONMR
スペクトロメーターを用い、LH−NMRを測定したと
ころ、3.65ppmにOCH3が観測され、1〜2p
pmに観測されたCH,CH2のピークの総和とほぼ等
しかった。
L五ヱユ 4−ビニル−2′−メトキシビフェニル2gの代りに、
4−ビニル−2′−メチルチオビフェニル2gを用いた
他は、実施例1と同様の操作をおこなったところ、0.
8gのポリマーが得られた。ポリマーの分子量は、96
00であった。
実」1皿」− p−クロルスチレン10gを、4QOmiのベンゼンに
溶解し、アゾビスイソブチロニトリルo、08gを加え
、N2ガスで酸素を置換した後、75℃に加温して5時
間反応させた。反応物を多量のメタノールにそそぎ、生
成したポリ−p−クロルスチレンの沈澱を濾過し乾燥し
た。
トルエン25℃で、該ポリマーの固有粘度を測定したと
ころ分子量は12000であった。
100mjZのトルエンに、O−クロルアニソール4g
および1.8gのブチルリチウムを加え約2時間N2気
流下で攪拌した後、4Aのグラスフィルターを通して、
沈澱物(LiCJl)を分離し、濾液を別の容器に穆し
換えた後、上記で得たポリ−p−クロルスチレン2gを
トルエン100mjlに溶解した、溶液を混合し、20
℃で6時間反応させた。−晩放置後、多量のメタノール
に反応溶液をそそぎ、ポリマーを沈澱させた。ポリマー
を、ジメトキシエタンで抽出し、抽出液をメタノールに
そそぎ、沈澱させ乾燥させた。実施例1と同様にLHN
MRスペクトルを測定したところ、同様にOCH3が1
〜2ppmに観測された。
及m (Nユ p−クロルスチレンの代りにp−ブロムスチレンを用い
て実施例3と同様の方法で合成したポリ(p−ブロムス
チレン)、および0−ブロムアニソールを用いた他は、
実施例3と同様の方法でビニルビフェニル話導体ポリマ
ーを合成し、実施例3と同様の方法で’H−NMRを測
定したところ、OC,!i3のピークが観測された。
Li1 0−クロルアニソールの代りに、0−クロロチオアニソ
ールを用いた他は、実施例3と同様に反応をおこないポ
リ2′−メチルチオ−ビフェニルを得た。
五五皇至 1−クロロ−2,4,6−トリメチルベンゼン4.6g
を、脱水したトルエン50n+Jlに溶解し、プチルリ
チリウム溶液(30重2t/容積%n−ヘキサン溶液)
6.4m℃を加え、約2時間乾燥し、N2気流下で攪拌
後、4Aのグラスフィルターを用いて沈澱物を濾別し、
その溶液に実施例3で得たポリ(p−クロルスチレン)
2.75g加えて25℃で6時間攪拌した。その後、多
量のメタノールに反応溶液をそそぎ、ポリマーを沈澱さ
せた。この沈澱物を塩化メチレンに溶解しメタノールか
ら再沈澱させた。
元素分析値:C:92.9   Hニア、1゜tH−N
MR測定を行ったところ2.2〜2゜3ppmにCH3
ビークが観測された。
L五■ユ 実施例1.2.6で得られたポリマーについてJIS 
 K7209の方法に従って給水率を測定した。用いた
試料は、各ポリマーの塩化メチレン溶?夜からキャスト
した。
結果は表1にまとめた。
表1 実施例1、実施例2のポリマーについて、塩化メチレン
(260nm以上における吸光度0)に溶解し、日本分
光(株)製UVDEC−650で吸光度を測定した。得
られたスペクトルを添付図面に示した。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施例によるポリマー溶液の分光吸光度
曲線である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 下記一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ [ここでXは塩素または臭素;aおよびbは、それぞれ
    0、1または2、cは1〜3の整数であり、b+cは1
    〜5の整数である。Yは、−CH_3、−OH、−OR
    、−SR、−SORまたは−SO_2Rであって、更に
    Rは、炭素数1〜18の脂肪族炭化水素基または芳香族
    炭化水素基を示す] である繰り返し単位を有し、n=10以上であることを
    特徴とするビニルビフェニル誘導体の重合体。
JP26669286A 1986-06-06 1986-11-11 ビニルビフエニル誘導体の重合体 Pending JPS63120707A (ja)

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GB8713365A GB2192189B (en) 1986-06-06 1987-06-08 Polymer of vinyl-biphenyl derivative adapted for optical use
US07/371,647 US5082358A (en) 1986-06-06 1989-06-22 Polymer of vinyl-biphenyl derivative adapted for optical use

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008195793A (ja) * 2007-02-09 2008-08-28 Mitsubishi Chemicals Corp 新規化合物、架橋重合体粒子および吸着剤

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JP2008195793A (ja) * 2007-02-09 2008-08-28 Mitsubishi Chemicals Corp 新規化合物、架橋重合体粒子および吸着剤

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