JPS63119438A - 新規不飽和イノソ−ス誘導体およびその製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ＣＩｌ、ＯＲ’ （式中、Ｒ１は水酸基の保護基を示す。）で表わされる
新規不飽和イノソース誘導体およびその製造法に関する
しのである。

バリエナミンおよびパリオールアミン、およびそれらの
Ｎ−置換誘導体［Ｊ、　Ａｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ、　３
５巻、１６−２４−１６２６頁（１９８２年）；Ｊ。

八ｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ、　　３　７　巻、　　１３０
１−１３０７　頁（１９８４年）；特開昭５７−２００
３５］はα−グルコシダーゼ阻害活性を有し、人や動物
の過血糖症状およびこれに起因する種々の疾病、例えば
、糖尿病、肥満症、高脂血症などの予防剤や治療剤とし
て有用な化合物であり、前記新規不飽和イノソース誘導
体［１］はパリエナミン、パリオールアミンおよびそれ
らのＮ−置換誘導体の製造原料として重要な化合物であ
る。

俊米ｑ斑斂 本発明者らは先にバリエナミン、パリオールアミン等の
擬似アミノ糖およびそれらのＮ−置換誘導体が強いα−
グルコシダーゼ阻害活性を示すこと［Ｊ、　Ａｎｔｉｂ
ｉｏｔｉｃｓ、　　３５巻、１６２４−１６２６頁（１
９８２年）；　Ｊ、　Ａｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ、　３７
巻。

１３０１−１３０７頁（１９８４年）；特開昭５７−２
００３５］；バリエナミン、パリオールアミンはストレ
プトミセス・ハイグロスコピクス・サブスピーシス・リ
モネウス　（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓｈｙｇｒｏｓｃ
ｏｐｉｃｕｓ　　５ｕｂｓｐ、　ｌｉｍｏｎｅｕｓ）の
培養液から単離し得ること［Ｊ、　　Ａｎｔｉｂｉｏｔ
ｉｃｓ、　３７巻。

１３０１−１３０７頁（１９８４年）］；バリエナミン
はバリダマイシンあるいはバリドキシルアミンを微生物
分解に付すことによって製造し得ること［特開昭５７−
５４５９３．特開昭５８−１５２４９６］；パリオール
アミンはバリエナミンを原料として合成し得ること［Ｃ
ａｒｂｏｈｙｄｒ、　　Ｒｅｓ、。

１４０巻、１８０−２００頁（１９８５年）；特開昭５
７−１７９１７４１を見出した。

一方、ＤＬ−バリエナミンの化学合成による製造法とし
てはＤＬ−１，２，３−）ソー０−アセチル−（１，３
／２，４．６）−４−ブロモ−６−プロモメチルー１．
２．３−シクロヘキサントリオールを中間体として経由
する方法［Ｔ、　Ｔｏｙｏｋｕｎｉら。

Ｂｕｌｌ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、　Ｊｐｎ、、　５６
巻、１１６１−１１７０頁（１９８３年）］および］Ｄ
Ｌ−２．３−ジー〇−アセチル１．７−０−ペンノリデ
シー（１゜３．４／２，５．６）−４−アジド−６−（
ヒドロキシメチル）−１，２，３，５−シクロヘキサン
テトロールを中間体として経由する方法［Ｓ、　Ｏｇａ
ｖａら。

Ｊ、　Ｏｒｇ、　Ｃｈｅｍ、、　４８巻、１２０３−１
２０７頁（１９８３年）コが報告されているが、これら
の方法はいずれもＤＬ体の光学分割の工程が未開発であ
る。光学活性な天然型のＤ−バリエナミンの化学合成に
よる製造法としては、Ｌ−（−）−クエブラチトール（
ｑｕｅｂｒａｃｈｉｔｏｌ）からの合成法［Ｈ。

Ｐａｕｌｓｅｎ、　Ｆ、　Ｒ，Ｈｅ１ｋｅｒ、　Ｊｕｓ
ｔｕｓ　Ｌｉｅｂｉｇｓ　　Ａｎｎ。

Ｃｈｅｍ、、　１９８１年、２１８０−２２０３頁］が
報告されているが、工程数が多く、バリエナミンの工業
的製造法としては必ずしも適した方法ではない。

その外、Ｄ−グルコースからｌ　Ｉ）−（１，３，６／
２）−４−ベンゾイルオキシメチル−６−ブロモ−１，
２，３−トリーＯ−ベンジルー４−シクロヘキセン−１
，２，３−トリオールおよびそのＩＤ−（１，３／２，
６）−異性体を経由してＮ−置換パリエナミン誘導体を
合成する方法［Ｎ、　５ａｋａｉｒｉ、　ＩＩ。

Ｘｕｚｕｈａｒａ、　Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　　Ｌｅ
ｔｔ、、　２３巻、５３２７−５３３０頁（１９８２年
）］や、ＤＬ−１，２゜３−トリー〇−アセチル−（１
，３／２．４）−４−ブロモ−６−メチレン−１，２，
３−シクロヘキサントリオールを経由してＤＬ−ペンタ
−Ｎ、０−アセチルパリオールアミンを合成する方法［
Ｓ。

Ｏｇａｗａら、　Ｃｈｅｍ、　Ｌｅｔｔ、、　　ｌ　５
８１−１５８２頁（１９８５年）］が報告されている。

発明が解決しようとする問題点 前述したように、これまで報告されているバリエナミン
の化学合成による製造法は立体異性体の分割の工程の開
発を必要としたり、原料の入手が困難であったり、工程
数が多い等の理由のため、工業的製造法として適した方
法とは言い難い。−方、バリエナミン（あるいは、パリ
オールアミン）そのものを直接発酵法によって製造する
方法は最も直裁的な方法ではあるが、現時点ではまだ収
量の面で工業的製造法としては充分ではない。また、バ
リダマイノンあるいはバリドキシルアミンを微生物分解
することによってバリエナミンを製造する方法もあるが
、この場合原料であるバリグマイシンあるいはバリドキ
シルアミンの構成成分の一部のみしかバリエナミンの製
造の目的に利用できないという欠点がある。従ってこれ
らの公知の製造法に比して工業的に有利なバリエナミン
の製造法の出現が強く望まれていた。

問題点を解決するための手段 そこで本発明者らは、前述の問題点を解決するため鋭意
研究を重ねた結果、入手が容易で且つ安価なり一グルコ
ースあるいはそれから容易に製造し得るＤ−グルコノ−
１，５−ラクトン（Ｄ−グルコン酸　δ−ラクトン）を
出発原料として、まず、一般式 （式中、Ｒ１は水酸基の保護基を、Ｒ″は炭化水素残基
を示す。）で表わされる新規化合物を製造することに成
功し、更に、この化合物［１１］を塩基で処理すること
により、バリエナミン合成の重要な中間体となりうる一
般式 （式中、Ｒ１は水酸基の保護基を示す。）で表わされる
新規不飽和イノソース誘導体を得ることに成功した。

なお、バリエナミンからのバリオールアミンの製造法は
本発明者によって既に確立されており（特開昭５７−１
７９１７４）、化合物［１］および化合物［■］はとも
にパリオールアミンおよびそのＮ−置換誘導体の製造原
料として重要な化合物である。

以下に化合物［１］の製造法および化合物［Ｎからのバ
リエナミンの製造法について具体的に説明するとともに
その製造工程式を図１および図２に示す。なお、各式中
、Ｒ１は水酸基の保護基を、Ｒ２は炭化水素残基を、Ｒ
３は有機スルホニル基の有機残基を示す。

図１ ［［１］　　０Ｒ”　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　「ｌコ　０Ｒ”図２ 一般式［Ｉ］、一般式［ＩＩ］および図１１図２に示し
たその他の各式において、ｎｌで示される水酸基の保護
基としては、糖の化学で水酸基の保護基として用いられ
る保護基のうち、例えばエーテル型保護基、アセタール
型保護基、ケタール型保護基、オルトエステル型保護基
等が有利に用いられる。

エーテル型保護基としては例えば、ハロゲン。

炭素数１〜５の低級アルコキシル基、ベンジルオキシ基
、フェニル基で置換されていてもよい炭素数１〜５の低
級アルキル基；炭素数２〜４のアルケニル基；炭素数１
〜５の低級アルキル基、フェニル基、ベンジル基等が置
換基であるトリ置換シリル基；炭素数１〜５の低級アル
コキシル基、ニトロ基で置換されていてもよいベンジル
基：炭素数１〜５の低級アルコキシル基：ハロゲンで置
換されていてもよいテトラヒドロピラニル括またはテト
ラヒドロフラニル基等が用いられる。

上記のハロゲンとしてはふっ素、塩素、臭素。

よう素が、炭素数１〜５のアルキル基としては、例えば
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル。

ブチル、イソブチル、　５ｅｃ−ブチル、　ｔｅｒｔ−
ブチル、ペンデル、イソペンチル、ネオペンチル基等が
、炭素数１〜５のアルコキシル基としては例えばハロゲ
ンで置換されていてもよいメトキシル。

エトキシル、プロポキシル、ブトキシル、ペンチルオキ
シ、ビニルオキシ、アリルオキシ基等が、炭素数２〜４
のアルケニル基としてはビニル、アリル、イソプロペニ
ル、ｌ−プロペニル、ｌ−ブテニル、２−ブテニル、３
−ブテニル等が用いられる。

エーテル型保護基を更に具体的に示せば、メチル、メト
キシメチル、ペンチルオキンメチル。

ｔｅｒｔ−ブトキシメチル、２−メトキシエトキシメチ
ル、２，２．２−トリクロロメトキシメチル、エヂル、
ｌ−エトキシエヂル、ｌ−メチル−１−メトキシエヂル
、２，２．２−４リクロロエチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル。

５ｅｃ−ブチル、　ｔｅｒｔ−ブチル、エトキシエチル
。

トリフェニルメチル、ｐ−メトキシフェニルジフェニル
メチル；アリル；トリメチルシリル、　ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリル、　ｔｅｒｔ−ブチルジフェニルシリ
ル：ベンジル、ｐ−メトキシベンジル、ｐ−ニトロベン
ジル、ｐ−クロロベンジル；テトラヒドロピラニル、３
−ブロモテトラヒドロピラニル、４−メトキシテトラヒ
ドロピラニル、テトラヒドロフラニル等である。

アセタール型、ケタール型およびオルトエステル型保護
基は好ましくは１〜１０の炭素数からなる。その具体例
を示せば、メチレン、エヂリデン。

１−ｔｅｒｔ−ブチルエチリデン、１−フェニルエチリ
デン、２，２．２−）リクロロエチリデン；イソプロピ
リデン、ブチリデン。シクロペンチリデン。

ンクロへキソリデン、シクロへブチリデン；ベンジリデ
ン、ｐ−メトキシベンシリ、テン。２．４−ジブロモメ
トキシベンジリデン、ｐ−ジメチルアミノベンノリテン
。０−ニトロペンジリデン：メトキノメヂレン、エトキ
シメチレン、ジメトキシメチレン、１−メトキシエヂリ
デン、ｌ、２−ジメトキシエヂリデン等である。

化合物中のｌ’（ｌで示される水酸基の保護基の種類は
すべて同じであってもよいし、２種以上の異なった保護
基を含んでいてもよい。また、例えば、環状アセタール
型、環状ケタール型、環状オルトエステル型保護基の場
合のように２つの水酸基を一つの保護基で保護してもよ
い。

一般式［１１］において、Ｒ２で示される炭化水素残基
としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル等のアルキル基、フェニル等のアリール
基、ベンノル等のアラルキル基等が挙げられるが、炭素
数１〜・１の低級アルキル基が便宜に用いられる。

化合物［ＩＩは、例えば、図１に示す様にグルコノ−１
，５−ラクトン誘導体（１）を出発原料として下記の工
程１〜４、すなわち、 工程ｌ 一般弐〇０３Ｐ（０）（ＯＲ’：Ｌ　［ＩＩ［コ（式中
、Ｒ２は炭化水素残基を示す。）で表わされるメチルホ
スホン酸エステルを塩基、例えば、ｎ−ブチルリチウム
で処理して得られるホスホナートカルボアニオンをグル
コノ−１，５−ラクトン誘導体（１）と反応させてｌ−
デオキシ−１−ホスポリルーＤ−グルコ−２−へプチュ
ロピラノース誘導体（２）を製造する工程、 工程２ 化合物（２）のへミケタールを形成しているカルボニル
基をアルコールに還元することによってピラノース環を
開環してヘプチトール誘導体（３）を製造する工程、 工程３ 化合物（３）の２位および６位の水酸基を酸化して１−
デオキシ−１−ホスホリル−Ｄ−キシロ−２，６−ヘブ
トジウロース誘導体［ｎ］を製造する工程、 工程４ 化合物［Ｉ［］を塩基で処理することによって４Ｌ−４
，６１５−トリヒドロキシ−３−ヒドロキシメチル−２
−シクロヘキセノン誘導体［Ｉｌを製造する工程、 を経て合成することができる。

バリエナミンおよびその誘導体は、例えば、図２に示す
様に化合物［Ｉｌを原料として下記の工程５−９、すな
わち、 工程５ 化合物［１］のカルボニル基をアルコールに還元してＩ
Ｌ−（１，３／２．４）−５−ヒドロキシメチル−５−
シクロヘキセン−１，２，３，４−テトロール誘導体（
４）を製造する工程、 工程６ 化合物（４）の１位の水酸基を有機スルホニル化して化
合物（５）を製造する工程、 工程７ 化合物（５）の有機スルホニルオキシ基をアジド基で置
換してアジド誘導体（６）を製造する工程、工程８およ
び９ 化合物（６）のアジド基をアミノ基に還元し、必要なら
ば水酸基の保護基を脱離せしめることによりバリエナミ
ンおよびその誘導体を製造する工程、を経て合成するこ
とができる。

更に、工程２および工程３の代わりに化合物（２）を水
素化ナトリウム、カリウム　ｊｅｒｔ−ブトキシド等の
塩基で処理することによってヘミケタール型として存在
しているカルボニル基をエノチート型に変換してピラノ
ース環を開環させた後、水酸基の酸化反応に付すことに
よっても化合物［１１］を合成することができる［　Ｉ
ｌ、　−Ｊ、　Ａｌｔｅｎｂａｃｈｅｔ　ａｌ、、Ｔｅ
ｔｒａｈｅｄｒｏｎ　　Ｌｅｔｔｅｒｓ、　２６巻、６
３２９−６３３２頁（１９８５年）参照］。

また、工程５〜８の代わりに、化合物［１］にヒドロキ
シルアミン（あるいは０−メチルヒドロキシルアミンや
Ｏ−ベンジルヒドロキシルアミン等のＯ−置換ヒドロキ
シルアミン）を反応させて得られるオキシム（あるいは
Ｏ−アルキルオキシムやＯ−アラルキルオキシム）を還
元反応に付すことによっても化合物（７ａ）を製造する
ことができる。オキシム類のヒドロキシイミノ基のアミ
ノ基への還元反応は、シクリトール部分の水酸基が保護
された状態で行なってもよいし、あるいは水酸基を脱離
さけた後に還元して、化合物（７ｂ）を直接製造しても
よい。還元反応は、例えば、水素化アルミニウムリチウ
ム等の金属水素錯化合物を用いて行なうことができる。

工程ｌにおいて用いられる一般式［Ｉ［Ｉｌで表わされ
るメチルホスホン酸エステルの具体例としては、例えば
、メチルホスホン酸のジメチルエステル。

ジエチルエステル、ジプロピルエステル、ジブチルエス
テル等の炭素数１〜４のジアルキルエステル、ジフェニ
ルエステル等のジアリールエステル、ジベンジルエステ
ル等のジアラルキルエステル等が挙げられる。その外、
一般式［ＩＩ［］の（ｏ　Ｒ’）、部分が（ＣｓＨｓ）
ｔであるメヂルンフェニルホスフィンオキシド、［（Ｃ
Ｈ３）ｚＮ］ｙであるメチルホスホン酸ビス（ツメチル
アミド）等を用いる方法もメチルポスホン酸エステルを
用いる方法の範躊に含まれる。反応は通常−７８〜４０
’Ｃで、特に反応の初期において一７８℃程度にまで冷
却して行なわれ、好ましくは、アルゴン、窒素等の不活
性ガスの雰囲気中で行なわれる。反応時間は反応温度に
よっても異なるが、通常３０分ないし３時間の範囲であ
る。

工程２および工程５におけるカルボニル基のアルコール
への還元反応に用いられる還元試薬としては金属水素錯
化合物やジボランおよび置換ジボラン等が挙げられる。

具体的には、例えば、水素化はう素ナトリウム、水素化
はう素カリウム、水素化はう素すヂウム、水素化はう素
亜鉛、水素化トリメトキシはう素ナトリウム、水素化ト
リー５ｅｃ−ブチルはう素カリウム、水素化トリーｓｅ
ｃ　−ブチルはう素すヂウム、水素化トリー５ｅｃ−ブ
チルはう素ナトリウム、水素化トリジアミルはう素カリ
ウム、水素化トリアミルはう素リチウム等の水素化はう
素金属、例えば、シアノ水素化はう素ナトリウム、水素
化シアノはう素テトラーｎ−ブチルアンモニウム等のシ
アノ水素化はう素アルカリ金属、例えば、水素化アルミ
ニウムリチウム。

水素化トリメトキシアルミニウムリチウム、水素化トリ
（ｔｅｒｔ−ブトキシ）アルミニウムリチウム等の水素
化アルミニウムアルカリ金属、例えば、２゜３−ジメチ
ル−２−ブチルボラン、ビス−３−メチル−２−ブチル
ボラン、ジイソピノカンフェニルボラン、ジシクロヘキ
シルボラン、９−ボラビシクロ［３，３，１］ノナン、
ＮＢ−エナントラン（Ｎ　Ｂ　−Ｅｎａｎｔｒａｎｅ）
、　Ｎ　Ｂ−エナントライド（ＮＢ−Ｅｎａｎｔｒｉｄ
ｅ）等のアルキルボラン、例えば、ジメチルアミンボラ
ン、水素化はう素テトラメチルアンモニウム等のアルキ
ルアミノボラン等が挙げられる。また、工程５における
ような、α、β−不飽和ケトンのカルボニル基をアルコ
ールに還元する場合の好ましい方法としては、例えば、
塩化セリウム（■）、塩化サマリウム（■）、塩化ユー
ロピウム（ＩＩＩ）等の希土類元素のハロゲン化物の存
在下に、例えば、水素化はう素ナトリウム等の水素化は
う素アルカリ金属を用いて還元する方法が挙げられる。

これらの還元反応の温度は還元剤の種類によって差異が
あるが、通常−３０〜４０℃で、場合によっては、特に
反応の初期においては、−７８℃程度にまで冷却して行
なわれ、また場合によっては８０°Ｃ程度にまで加熱し
て行なわれる。反応時間も還元剤の種類や反応温度によ
って差異があるが、通常数分ないし２４時間程度反応さ
せることによって目的を達することができる。

工程３における、ヘプチトール誘導体（３）の保護され
ていない水酸基を酸化してヘプトジウロース誘導体［ｎ
］を製造する反応は、糖類あるいは多価アルコールの第
二級水酸基をカルボニル基に酸化するための反応条件が
用いられる。例えば、ジメチルスルホキシドと無水トリ
フルオロ酢酸、ジメチルスルホキシドと無水酢酸、ジメ
チルスルホキシドと五酸化りん、ジメチルスルホキシド
と三酸化硫黄−ビリジン錯体、ジメチルスルホキシドと
オキサリルクロリド等のジメチルスルホキシドとその活
性化試薬、好ましくはジメチルスルホキシドと（Ｈｌ（
水トリフルオロ酢酸を用いて酸化する方法か用いられる
。また、二酸化クロム−ピリジン錯体、ジクロム酸ピリ
ジニウム、酸化ルテニウム（■）等を用いて酸化する方
法を用いてもよい。

反応条件は用いる酸化剤の種類によって異なるが、反応
溶媒としては、例えば、ジクロロメタン。

クロロホルム、ベンゼン、トルエン、ジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、無水酢酸等が、単独また
は混合溶媒として用いられ、反応は通常、−１０〜４０
℃で、場合によっては、特に反応の初期において、−７
８℃程度にまで冷却して行なわれる。反応時間は１時間
ないし２４時間程度である。

工程４におけるホスホリルージケトース誘導体［ＩＩＩ
を塩基で処理して分子内開環反応に付し、不飽和イノソ
ース誘導体［Ｉ］を製造する反応は分子内ウイッティッ
ヒ（ｗ＋ｔｔｉｇ）反応あるいはワズヮースーエモンズ
（Ｗａｄｓｗｏｒｔｈ　−Ｅｍｍｏｎｓ）反応［参考文
献：Ｗ、Ｓ、　Ｗａｄｓｗｏｒｔｈ、　Ｊｒ、、　Ｏｒ
ｇａｎｉｃ　Ｒｅａｃｔｉｏｎ、　２　＝ｉ巻、７３−
２５３頁（１９７７年）：　Ｋ、　Ｂ、　Ｂｅｃｋｅｒ
。

Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、　３６巻、　１７１７−１７
４５頁（１９８０年）；Ｗ、　Ｓ、　Ｗａｄｓｗｏｒｔ
ｈ、　Ｊｒ６．　ａｎｄ　Ｗ、　Ｄ。

Ｅｍｍｏｎｓ、　Ｊ、　Ａｍｅｒ、　Ｃｈｅｍ、　Ｓａ
ｃ、、　８３巻、１７３３−１７３８頁（１９６１年）
］として知られている反応に属するしのであり、これら
の反応について知られている方法が有利に用いられる。

化合物［［１］の化合物［１１への分子内閉環反応にお
いて用いられる塩基としては、例えば、炭酸カリウム、
炭酸ナトリウム１重炭酸カリウム等のアルカリ金属の塩
、水酸化カリウム、水酸化ナトリラム等の水酸化アルカ
リ金属、水素化ナトリウム。

水素化カリウム、水素化リチウム等の水素化アルカリ金
属、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコ
キシド、ブチルリチウム、プロピルリチウム等のアルキ
ルアルカリ金属等が挙げられる。また、化合物［１１］
の化合物［同への塩基を用いる分子内閉環反応のうち、
好ましい方法としては、例えば、１８−クラウン−６、
ジベンゾ−１８−クラウン−６、ジシクロへキシル−１
８−クラウン−６，１５−クラウン−５等のクラウンエ
ーテルの存在下に、塩基として炭酸カリウム。

炭酸ナトリウム等の炭酸アルカリ金属を用いる方法が挙
げられる［参考文献：Ｐ、＾、Ａｒ１５ｔｏｆｆ。

５ｙｎｔｈｅｔｉｃ　　Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ、
　１３巻、１４５−１５０頁（１９８３年）］。反反応
媒は用いる塩基の種類によっても異なるが、例えば、ベ
ンゼン。

トルエン等の芳香族炭化水素、テトラヒドロフラン、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、エチルエーテル
等のエーテル類等が有利に用いられる。反応温度も用い
られる塩基や反応溶媒の種類によって異なるが、通常、
１０℃ないし溶媒の沸騰点の範囲で、場合によっては、
特に反応の初期においては一７８°Ｃ程度にまで冷却し
て行なわれる。反応時間は反応温度によっても異なるが
通常１〜１８時間の範囲である。

工程６の擬似不飽和糖誘導体（４）の保護されていない
水酸基を有機スルホニル化して化合物（５）を製造する
方法としては、例えば、化合物（４）を一般式Ｒ’−８
ｏｔ−Ｘで表わされるハロゲン化スルホニル［式中、Ｘ
は塩素、臭素、よう素などのハロゲンを、Ｒ３は低級ア
ルキル基、塩素、臭素。

よう素、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニトロ基
等で置換されていてもよいフェニル基、ベンノル基、ナ
フチル基、イミダゾリル基を示す。］、好ましくは、例
えば塩化メタンスルホニル、塩化ｐ−トルエンスルホニ
ル、塩化イミダゾリルスルホニルと反応させる方法、更
に詳細には、不飽和シクリトール誘導体１モルに対して
ハロゲン化スルホニル１モル以上、好ましくは１．２〜
３モルを有機塩基（例えば、トリエチルアミン等の三級
アミン、ピリジン等）、および場合によってはジメチル
ホルムアミド、ベンゼン、トルエン、アセトン等の不活
性溶媒の存在下において、通常−３０〜４０℃で、場合
によっては、特に反応の初期においては一５０℃程度に
まで冷却下に、また場合によっては８０℃程度にまで加
熱して反応させる方法が挙げられる。

工程７の有機スルホニル誘導体（５）からアジド誘導体
（６）を製造する方法としては例えば、ベンゼン、トル
エン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドな
どの単一の有機溶媒、あるいはこれらの有機溶媒および
水の任意の組み合わせの混合溶媒中で、例えば、有機ス
ルホニル誘導体（５）をアジ化ナトリウム、アジ化リチ
ウムなどのアジ化アルカリ金属、あるいは、アジ化テト
ラ−ｎ−ブチルアンモニウムなどのアジ化テトラ低級ア
ルキルアンモニウムと、通常、−１０〜１２０℃の範囲
で、１〜２４時間反応さ仕る方法が用いられる。

工程８における、アジド誘導体（６）を還元してバリエ
ナミン誘導体（７）を製造する方法としては、例えば、
水素化アルミニウムリチウム、水素化トリメトキシアル
ミニウムリチウム、水素化トリＱｅｒｔ−ブトキシ）ア
ルミニウムリチウム等の水素化アルミニウム金属を用い
て還元する方法が用いられる。更に詳細には、例えば、
化合物（６）をテトラヒドロフラン、エチルエーテル等
の溶媒中で、還元剤として水素化アルミニウムリチウム
を用いて、−３０〜４０℃で１〜３時間反応させること
によって化合物（７ａ）を製造することができる。

その外、アジド化合物中に二重結合が存在している場合
に、アジド基を選択的にアミノ基に還元する方法として
、水素化はう素ナトリウム、水素化はう素リチウム等の
水素化はう素アルカリ金属を用いて、場合によっては臭
化へキサデンルトリブチルホスホニウム等の相転位触媒
（ｐｈａｓｅ−ｔｒａｎｓｆｅｒ　　ｃａｔａｌｙｓｔ
）の存在下に還元する方法；プロパン−１，３−ジチオ
ールとトリエチルアミンを用いろ方法：塩化第一クロム
（ＣｒＣ１ｆ）を用いる方法、ピリジン−水中で硫化水
素で還元する方法；トリフェニルホスフィンを用いる方
法；リンドラ−（Ｌｉｎｄｌａｒ）触媒を用いて接触還
元する方法などが挙げられる。

化合物（７ａ）の水酸基の保護基を除去する必要のある
場合には、用いた保護基の種類に応じて、公知の常用さ
れている脱保護法を用いて行なうことができる。

例えば、水酸基の保護基としてテトラヒドロピラニル基
を用いた場合には、酸を用いて、例えば、酢酸と水の混
合溶液中で、通常、３０〜８０℃で、３〜８時間加水分
解することによってパリエナミン（７ｂ）を製造するこ
とができる。

パリオールアミンは、化合物（７ａ）および化合物（７
ｂ）より、例えば、図３に示した方法で製造することが
できる。すなわち、化合物（７ａ）あるいは化合物（７
ｂ）に一般式Ｒ’−０−Ｃｏ−Ｚ（式中、Ｚはハロゲン
原子、活性エステルの残基あるいは炭酸エステルの残基
を示す。）で表わされるカルボニル化剤を反応させてＮ
−アシル誘導体（８）を合成する工程、化合物（８）を
ハロゲン化剤、例えば臭素と反応さＵ゛て環状カルバメ
ート誘導体（９）を合成する工程、還元的脱ハロゲン化
剤、例えば、水素化はう素ナトリウムで還元して化合物
（ｌＯ）を合成する工程、化合物（１０）の環状カルバ
メート結合を加水分解して化合物（ｌｌａ）またはパリ
オールアミン（ｌｌｂ）を製造する工程、および、もし
必要ならば化合物（ｌｌａ）の水酸基の保護基を脱離せ
しめる工程を経由して製造することができる［Ｃａｒｂ
ｏｈｙｄ、　Ｒｅｓ、、　　１４０巻、１８５−２００
頁（１９８５年）参照］。

なお、図３の各式中、Ｒ４は水素原子または水酸基の保
護基を、Ｒ５はアルキル、アリールまたはアラルキルな
どの炭化水素残基を、Ｘはハロゲン原子を示す。またＲ
４で示される水酸基の保護基としては、Ｒ１で示される
水酸基の保護基として上記したものが同様に用いられる
。

図３ 図１３図２および図３に示した不飽和イノソース誘導体
［＋］をはじめとする各化合物は自体公知の手段、例え
ば、濃縮、減圧濃縮、ろ過、遠心分離、乾燥、凍結乾燥
、吸着、脱着、各種溶媒に対する溶解度の差を利用する
方法（例えば、溶媒抽出、転溶、沈澱、結晶化、再結晶
など）、クロマトグラフィー（例えば、イオン交換樹脂
、活性炭。

ハイポーラスポリマー、セファデックス、セファデック
スイオン交換体、セルローズ、イオン交換セルローズ、
シリカゲル、アルミナなどを用いるクロマトグラフィー
）などにより単離、精製できる。

発明の効果 バリエナミンおよびパリオールアミンのＮ−置換誘導体
、取り分はパリオールアミンのＮ−置換誘導体、例えば
、Ｎ−［２−ヒドロキシ−１−（ヒドロキンメヂル）エ
チル］パリオールアミンは強いα−グルコシダーゼ阻害
作用を有し、炭水化物の代謝を抑制するので、血糖上昇
抑制作用を有しており、過血糖症状および過血糖に起因
する種々の疾患、例えば、糖尿病、肥満症、高脂血症等
の治療および予防に有用な化合物である。

本発明の不飽和イノソース誘導体［Ｎは上記のようにバ
リエナミン、およびバリエナミンを経由するパリオール
アミンおよびそれらのＮ−置換誘導体の製造原料として
重要な化合物であるが、この不飽和イノソース誘導体［
＋］をＤ−グルコースあるいはＤ−グルコースから安価
に、且つ容易に製造し得るＤ−グルコノ−１，５−ラク
トンを原料として化合物［１１］を経由して製造するこ
とに成功した。

以下に、参考例および実施例を挙げて本発明を更に具体
的に説明するが本発明の範囲はこれに限定されるもので
はない。なお、参考例、実施例で用いた混合溶媒の混合
比は、特にことわらない限りは容積比（ｙ／ｖ）で示し
た。

参考例１ ２．３，４．６−チトチー０−（テトラヒドロピラニル
）−Ｄ−グルコノ−１，５−ラクトンＤ−グルコノー１
．５−ラクトン（２０ｇ）をＮ。

Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（５０ｍ９）に溶
解し、ｐ−トルエンスルホン酸（０，５ｇ）を加えて氷
水で冷却下に３，４−ジヒドロ−２０−ビラン（１００
ｍｌりを滴下し、２時間攪拌後、更に室温で１時間攪拌
した。反応液を酢酸エチル（１，２Ｑ）と水（０，４１
２）の混合液に加え、酢酸エチル層を分離し、飽和炭酸
水素ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、減圧濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
ト（１，５１２）に付し、トルエンで洗浄後、トルエン
・酢酸エチル（９：Ｉ）で溶出した。溶出画分を減圧濃
縮し、更に減圧下に乾燥して２，３，４．６−チトチー
０−（テトラヒドロピラニル）−Ｄ−グルコノ−１，５
−ラクトン（５４，７ｇ）を得た。

ｅａｔ Ｉ　Ｒ：　ｖ　　　　１７６５ｃｍ−’ｌ１ａＸ 元素分析：　　ＣｚａＨａ＊Ｏ＋。

計算値（％）：Ｃ，６０，６８；　Ｈ，８，２３実験値
（％）：Ｃ，８１，２１；　Ｈ，８，１７参考例２ ３．４，５．７−テトラ−０−ベンジル−１−デオキシ
−１−（ジメトキシホスホリル）−Ｄ−グルコ−２−ヘ
プチュロピラノース ジメチル　メチルホスホナート（４，４ｄ）をテトラヒ
ドロフラン（５０ｄ）に溶解し、アルゴン気流中冷却下
（−７０〜−７８℃）にｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキ
サン溶液（１，７Ｍ溶液、＋７ｄ）を滴下し、３０分間
攪拌した。更に反応液を同温度に冷却下、２．３，４．
６−テトラ−０−ベンジルーＤ−グルコノ−１，５−ラ
クトン（５，３ｇ）のテトラヒドロフラン（２５ｄ）溶
液を滴下し、３０分間攪拌後、冷却浴を除いて反応温度
が０℃に上昇するまで攪拌した。反応液を水冷した１０
％（Ｗ／■）塩化アンモニウム溶液（１００ｄ）と酢酸
エチル（３００ｄ）の混合液に加え、酢酸エチル層を分
離し、水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧ａ縮
した。残留物をシリカゲルカラムクロマト（４００ｄ）
に付し、トルエン・酢酸エチル（２：　Ｉ　）で溶出し
た。溶出画分を減圧濃縮し、更に減圧下に乾燥して３，
４，５．７−テトラ−０−ベンジル−１−デオキシ−１
−（ジメトキシホスホリル）−Ｄ−グルコ−２−へプチ
ュロピラノース（＋３．０ｇ）を得た。

［αコ２６−１２．５°　（ｃ＝　　１　　、　　ＣＨ
Ｃ１３）’Ｈ−Ｎ１ｖｌｒｔ（ＣＤ　Ｃ１３）δ：　１
．６９（ｄｄ、Ｊ＝１５．１９Ｈｚ）および２Ｊ２（ｄ
ｄ、Ｊ＝　１５．１８１１ｚ）　（各ｉ１１．−　ＣＩ
ＩｔＰ−）　。

３、６０（３Ｈ，ｄ、　Ｊ　＝　１ｌｌｌｚ、−０ＣＨ
３）　、　３．６６（３１１，ｄ、　Ｊ＝　１１ｆｉｚ
、　　ＱＣＴｏ） 元素分析：　　Ｃ３７１１４ｓＯｓＰ 計算値（％）：Ｃ，６７，０６；　Ｈ，６，５４実験値
（％）：Ｃ，６７，１５；　Ｈ，６，５４参考例３ ３．４．５．７−チトチー０−（テトラヒドロピラニル
）−１−デオキソ−１−（ジメトキシホスホリル）−Ｄ
−グルコ−２−へプヂュロピラノースジメヂル　メチル
ホスホナート（＋５．３１．Ｉｌ）をエチルエーテル（
３００ｄ）に溶解し、アルゴン気流中冷却下（−７０〜
−７８°Ｃ）にｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液
（１，６Ｍ溶液、８４ｄ）を滴下し、３０分間攪拌した
。更に反応液を同温度に冷却下、２．３．４．６−チト
チー０−（テトラヒドロピラニル）−Ｄ−グルコノ−１
，５−ラクトン（２３，２ｇ）のエチルエーテル（８０
ＴｎＩｌ）溶液を滴下し、１時間儂拌後、冷却浴を除い
て反応温度が０℃に上昇するまで攪拌した。反応液を、
水冷した１０％（ｗ／ｖ）塩化アンモニウム溶液（２５
０りとエチルエーテル（＋２０ｄ）の混合液に加え、エ
チルエーテル層を分離し、水層をエチルエーテルで抽出
した。抽出液を集め、水洗し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮し、更に減圧下に乾燥して３，４，５
．７−チトチー０−（テトラヒドロピラニル）−１−デ
オキシ−１−（ジメトキシホスホリル）−Ｄ−グルコ−
２−へプチュロピラノース（２６，６ｇ）を得た。

［ａ　］　Ｄ＋　３４　、６°（Ｃ＝　１　、　ＣＨＣ
１３）’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：　３．７２（６１
１，ｄ、Ｊ＝１２■２゜−０ＣＩＩ、　Ｘ　２） 元素力′ｇ′ｒ：　　ＣｔｅＨｓ＋Ｏ＋ｓＰ計算値（％
）：Ｃ，５４，５４；　Ｈ，８，０５実験値（％）：Ｃ
，５４，８３，Ｈ，８，１８参考例４ ３．４，５．７−テトラ−０−ベンジル−１−デオキシ
−１−（ジメトキシホスホリル）−Ｄ−グリセロ−Ｄ−
ギューローへブチトールおよび１，３゜４．５−テトラ
−Ｏ−ベンジル−７−ジオキシ−７−（ジメトキシホス
ホリル）−Ｄ−グリセロ−し−ギューローへブチトール ３．４，５．７−チトチーＯ−ベンジルー１−デオキシ
−１−（ジメトキシホスホリル）−Ｄ−グルコ−２−ヘ
ブチュロビラノース（１３，８ｇ）をテトラヒドロフラ
ン（１４０ｄ）に溶解し、水素化はう素ナトリウム（１
，４ｇ）を加えて室温で一夜攪拌した。反応液を威圧濃
縮し、残留物を酢酸エチル（５００ｄ）と水（３００ｄ
）に分配した。酢酸エチル層を水洗し、無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥後、減圧濃縮した。残留物をシリカゲルカラ
ムクロマト（５５０ｄ）に付し、トルエン・アセトン（
２：１）で溶出した。溶出画分を減圧濃縮し、更に減圧
下に乾燥して３，４，５．７−テトラ−０−ベンジル−
１−デオキシ−１−（ジメトキシホスホリル）−〇−グ
リセローＤ−ギューローへブチトールと１゜３．４．５
−テトラ−０−ベンジル−７−ジオキシ−７−（ジメト
キシホスホリル）−Ｄ−グリセロ−し−ギューローへブ
チトールの混合物（１２，４ｇ）を得た。

［ｉ２］Ｄ＋１．７°（ｃ＝　Ｉ　、　ＣＨＣＩｓ）＋
ｆ−Ｉ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：　１．５〜２．３　
（２１１，ｍ、　−Ｃ１ｌ、Ｐ−）、３．０４（２■、
ブロードｓ、−０Ｈｘ　２）、３．６３および３．６６
（合計６Ｈ，ｄ、Ｊ＝１１Ｈｚ、　　０ＣＲ３Ｘ２）元
素分析：　　Ｃ３７Ｈ，５０，Ｐ 計算値（％）：Ｃ，６８，８６，Ｈ，８，８２，Ｐ、４
．６６実験値（％）：Ｃ，６６，９１，Ｈ，６，９３，
Ｐ、４．８１参考例５ ３．４，５．７−チトチー０−（テトラヒドロピラニル
）−１−デオキシ−１−（ジメトキシホスホリル）−Ｄ
−グリセロ−Ｄ−ギューローへブチトールおよび１．３
．４．５−テトラ−０−（テトラヒドロピラニル）−７
−ジオキシ−７−（ジメトキシホスホリル）−Ｄ−グリ
セロ−Ｌ−ギューローへブチトール ３．４，５．７−チトチー０−（テトラヒドロピラニル
）−１−デオキシ−１−（ジメトキシホスホリル）−Ｄ
−グルコ−２−ヘプチュロビラノース（２６，６ｇ）を
エチルｓ、−７−／ｌ／（３００＋Ｊ）ｌ：溶解し、水
素化はう素ナトリウム（３，０ｇ）を加えて室温で一夜
攪拌した。不溶物をろ去し、エチルエーテルで洗浄後、
ろ液と洗液を集めて１０％（Ｖ／　Ｖ）塩化ナトリウム
溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、威圧濃
縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマト（ＩＱ）に
付し、トルエン・アセトン（１：Ｉ）で溶出した。溶出
画分を減圧濃縮し、更に減圧下に乾燥して３，４，５．
７−チトチー０−（テトラヒドロピラニル）＝！−デオ
キシー１−（ジメトキシホスホリル）−Ｄ−グリセロ−
Ｄ−ギューローへブチトールと１．’３，４．５−テト
ラー０−（テトラヒドロピラニル）−７−ジオキシ−７
−（ジメトキシホスホリル）−Ｄ−グリセロ−し−ギュ
ーローへブチトールの混合物（＋ｉａ、８ｇ）を得た。

［α］２６＋　＋　２．６°（ｃ＝　ｌ　、　ＣＨＣ１
Ｇ）元素分析：　　ＣｚｓＨｓ３０１３Ｐ 計算値（％）：Ｃ，５４，３６，Ｈ，８，３４実験値（
％）：Ｃ，５４，７３；　ｌ−Ｔ、８．５７参考例６ ３．４，５．７−テトラ−０−ベンジル−１−デオキシ
−１−（ジメトキシホスホリル）−Ｄ−キシロ−２，６
−へプトジウロース ジメチルスルホキシド（８、１ｄ）のジクロロメタン（
８７ｄ）溶液を−６５〜−７５℃に冷却し、この溶液に
無水トリフルオロ酢酸（９，８３１ｎ１．）のジクロロ
メタン（４０ｄ）溶液を滴下し、３０分間攪拌後、３，
４，５．７−チトチーＯ−ベンジルー１−デオキシ−１
−（ジメトキシホスホリル）−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ギュ
ーローへブチトールと１゜３．４．５−テトラ−Ｏ−ベ
ンジル−７−ジオキシ−７−（ジメトキシホスホリル）
−Ｄ−グリセロ−し−ギューローへブチトールの混合物
（１１，６ｇ）のジクロロメタン（８０ｄ）溶液を滴下
し、同温度で１時間攪拌した。更に反応液を同温度に冷
却下にトリエチルアミン（２３，２ｄ）を滴下し、３０
分間攪ｒＰ後、冷却浴を除いて反応温度が０℃に上昇す
るまで攪拌した。反応液を水冷したジクロロメタン（３
００成）と２Ｎ塩酸（２５０成）の混合液に加え、ジク
ロロメタン層を分離し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液で
洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した
。残留物をシリカゲルカラムクロマト（５００１Ｒ１）
に付しトルエン・酢酸エチル（１：１）で溶出した。溶
出画分を減圧濃縮し、更に減圧下に乾燥して３，４，５
．７−テトラ−０−ベンジル−１−デオキシ−１−（ジ
メトキシホスホリル）−Ｄ−キシロ−２，６−ヘブトジ
ウロース（ｚ、５ｇ）を得た。

［α］２３−２８．５°（ｃ＝　１　、　ＣＨＣ１３）
Ｉ　ｎ：ｖ　””１３１？３３．１７０４ｃｍ−’　（
Ｃ＝Ｏ）ａｘ 元素分析：　Ｃ５，Ｉ］４ＩＯ０Ｐ 計算値（％）：ｃ、ａ７．ｚ６；　Ｈ，６，２５，Ｐ、
４．６９実験値（％）：Ｃ，６７，７０；　Ｈ，６，３
２，Ｐ、４．６９参考例７ ３．４，５．７−チトチー０−（テトラヒドロピラニル
）−１−デオキシ−１−（ジメトキシホスホリル）−Ｄ
−キシロ−２，６−へブトジウロースジメチルスルホキ
シド（９，４ｄ）のジクロロメタン（１００ｄ）溶液を
−６５〜−７５°Ｃに冷却し、この溶液に無水トリフル
オロ酢酸（ｔ２．３ｄ）のジクロロメタン（５０Ｍｌ）
溶液を滴下し、３０分間攪拌後、３，４．５．７−チト
チー０−（テトラヒドロピラニル）−１−デオキシ−１
−（ジメトキシホスホリル）−Ｄ−グリセロ−Ｄ−ギュ
ーローへブチトールと１．３，４．５−テトラ−０−（
テトラヒドロピラニル）−７−ジオキシ−７−（ジメト
キシホスホリル）−Ｄ−グリセロ−し−ギューローへブ
チトールの混合物（１４，０ｇ）のジクロロメタン（７
（ｈＪ）溶液を滴下し、同温度で１時間攪拌した。

更に反応液を同温度に冷却下にトリエチルアミン（２７
，５滅）のジクロロメタン（５０滅）溶液を滴下し、３
０分間攪拌後、冷却浴を除いて反応温度ｈ＜ｏ℃に上昇
するまで攪拌した。反応液を水冷したジクロロメタン（
２００滅）と２Ｎ塩酸（２００戒）の混合液に加え、ジ
クロロメタン層を分離し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液
で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧ａ縮した
。残留物をシリカゲルカラムクロマト（５ＱＯｙＪ）に
付し、トルエン・アセトン（２：ｌ）で溶出した。溶出
画分を減圧濃縮し、更に減圧下に乾燥して３，４．５．
７−チトチー０−（テトラヒドロピラニル）−１−デオ
キシ−１−（ジメトキシホスホリル）−Ｄ−キシロ−２
，６−へプトジウロース（１２，４ｇ）を得た。

［α］２６＋　３９．３’　（ｃ＝　ｌ　、　ＣＨＣｌ
３）ｅａｔ Ｉ　ｎ　：　シ１７３８ｃｍ−’（Ｃ＝　０）ａｘ 参考例８ ３．４．５．７−チトチーＯ−ベンジルー１−デオキシ
−１−（ジメトキシホスホリル）−Ｄ−グルコ−２−へ
プチュロピラノース ｎ−ブチルリチウムのｎ−ヘキサン溶液（１，６モル溶
液、６８．８ｄ）を、ジメチル　メチルホスホナート（
１３，６５ｇ）のテトラヒドロフラン（２００ｈ４）溶
液に、アルゴン気流中−７０〜−７５℃で滴下した。こ
の溶液に、２，３，４．６−テトラ−０−ベンジルーＤ
−グルコノ−１，５−ラクトン（２９，６ｇ）のテトラ
ヒドロフラン（１５０々ｌ）溶液を滴下し、同温度で１
時間攪拌した後、冷却浴を除き、反応温度が０℃に上昇
するまで攪拌した。この反応液に、水冷した１０％（Ｗ
／Ｖ）塩化アンモニウム溶液（４００ｄ）を加え、生じ
た油状物を酢酸エチル（１，２Ｒ）で抽出した。抽出液
を２Ｎ塩酸と飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。残留物にエ
チルエーテル−石油エーテル（１：３，４００ｄ）を加
え、−夜冷蔵庫中に放置して３．４，５．７−チトチー
Ｏ−ベンジルー！−デオキシ−１−（ジメトキシホスホ
リル）−Ｄ−グルコ−２−へブヂュロピラノース（３３
，１ｇ）を白色結晶として得た。

融点　１１２〜１１３℃ ［α］　　　　　　　−１５，６°　（Ｃ＝　　Ｉ　　
、　　ＣＩ（Ｃ１，）Ｉ　Ｒ（ＫＢｒ）：　３２２６ｃ
ｍ−’　（ＯＨ）；　Ｃ＝Ｏの吸収（１７００〜１８０
０ｃｍ″″１）は認められない。

元素分析：Ｃ５ｔＨ４３０ｓＰ 計算値（％）：Ｃ，６７，０６；　Ｈ，６，５４，Ｐ、
４．６７実験値（％）：Ｃ，６７，０９；　Ｈ，６，３
９，Ｐ、４．８２参考例９ ４Ｌ−４，６１５−）−リ（ベンジルオキシ）−３−（
ベンジルオキシメチル）−２−シクロへキセノン　オキ
シム ４Ｌ−４，６１５−トリ（ベンジルオキシ）−３−（ベ
ンジルオキシメチル）−２−シクロヘキセノン（２，０
ｇ）のジメチルスルホキンド（１０Ｔｎ１．）溶液に塩
酸ヒドロキシルアミン（２，０ｇ）を加え、室温で２４
時間攪拌した。反応液を酢酸エチル（２５゜ｄ）と水（
１５０ｄ）に分配し、有機溶媒層を２Ｎ塩酸と飽和炭酸
水素ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、減圧濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマ
ト（２５０ｄ）に付し、トルエン−酢酸エチル（１０：
ｌ）で溶出した。溶出画分（４５０〜８００ｄ）を減圧
濃縮乾固して、オキシム（１，２７ｇ）を無色シロップ
として得た。

元素分析：Ｃａ５ＨｓｓＮＯｓ 計算値（％）：Ｃ，７６，４８；　Ｈ，６，４２，Ｎ、
２．５５実験値（％）：Ｃ，７６，６６、Ｈ，８，３２
，Ｎ、２．３５実施例１ ４Ｌ−４，６１５−トリ（ベンジルオキシ）−３＝（ベ
ンジルオキシメチル）−２−シクロヘキセノン ３．４，５．７−テトラ−０−ベンジル−１−デオキノ
ー１−（ジメトキシホスホリル）−Ｄ−キシロ−２，６
−ヘブトジウロース（１２，５ｇ）をトルエン（５００
成）に溶解し、１８−クラウン−６（２００ｍｇ）と炭
酸カリウム（８，０ｇ）を加えて室温で一夜攪拌後、不
溶物をろ去し、トルエンで洗浄した。ろ液と洗液を集め
、２Ｎ塩酸と飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。残留物をシ
リカゲルカラムクロマト（５００１ｎ１）に付し、トル
エン・酢酸エチル（２０：１）で溶出した。溶出画分を
減圧濃縮し、更に減圧下に乾燥して４Ｌ−４，６１５−
トリ（ベンジルオキシ）−３−（ベンジルオキシメチル
）−２−シクロヘキセノン（５，７ｇ）を得た。

［α］Ｄ　−１２，２°（ｃ＝　１　、　ＣＨ０１３）
■旧、　ＣｌｌＣｌ°１６９４ｃｍ−’　（Ｃ＝Ｏ）ａ
ｘ ’　ＨＮ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　Ｃ１３）δ　：　６．１７〜
６．２５（ｌ１１．ｍ。

２−Ｃ１１） 元素分析；Ｃ３ｓＩＩ、４０゜ 計算値（％）：Ｃ，７８，６３；　Ｈ，６，４１実験値
（％）：Ｃ，７ｇ、８３；　Ｈ，６，２７実施例２ ４Ｌ−４，６１５−トリ（テトラヒドロピラニルオキシ
）−３−（テトラヒドロピラニルオキシメチル）−２−
シクロヘキセノン ａ）　　３，４，５．７−チトチー０−（テトラヒドロ
ピラニル）−１−デオキシ−１−（ジメトキシホスホリ
ル）−Ｄ−キシロ−２，６−ヘブトジウロース（１２，
１ｇ）をトルエン（５００ｄ）に溶解し、１８−クラウ
ン−６（２００ｍｇ）と炭酸カリウム（８，０ｇ）を加
えて室温で一夜攪拌した。不溶物をろ去し、トルエンで
洗浄後、ろ液と洗液を集め、２Ｎ塩酸と飽和炭酸水素ナ
トリウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
減圧濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマト（５
００ｄ）に付し、トルエン・酢酸エチル（３：１）で溶
出した。溶出画分を減圧、１３縮し、更に減圧下に乾燥
して４Ｌ−４゜６１５−）す（テトラヒドロピラニルオ
キシ）−３−（テトラヒドロピラニルオキシメチル）−
２−シクロヘキセノン（７，５ｇ）を得た。

ｂ）　３，４，５．７−チトチー０−（テトラヒドロピ
ラニル）−１−デオキシ−１−（ジメトキシホスホリル
）−Ｄ−グルコ−２−ヘプチュロピラノース（６，３ｇ
）をトルエン（５０ｄ）に溶解し、水素化ナトリウム（
２７０ｍｇ）を加えて室温で２時間攪拌後、不溶物をろ
去した。ジメチルスルホキシド（３，４ｄ）をジクロロ
メタン（２５ｄ）に溶解し、冷却下（−６５〜−７５°
Ｃ）に無水トリフルオロ酢酸（５，０ｄ）のジクロロメ
タン（２５ＭＬ）溶液を滴下し、３０分間攪拌後、同温
度で上記のトルエン溶液を滴下し、１時間攪拌した。更
に同温度でトリエチルアミン（１０ｄ）のジクロロメタ
ン（３０成）溶液を滴下し、１０分間攪拌後、冷却浴を
除いて反応温度が１０℃に上昇するまで攪拌した。

反応液を水冷したジクロロメタン（２００ｔｎｌ）と水
（１００ｒｄ）の混合液に加え、ジクロロメタン層を分
離し、水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮
した。残留物をトルエン（７０りに溶解し、１８−クラ
ウン−６（１００ａ＋ｇ）と炭酸カリウム（２，０ｇ）
を加えて室温で８時間攪拌後、反応液に酢酸エチル（１
５０ｍＱ）と水（５０ｄ）を加えた。

有機溶媒層を分離し、２Ｎ塩酸と飽和炭酸水素ナトリウ
ム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃
縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマト（２００ｄ
）に付し、トルエン・酢酸エチル（４：１）で溶出した
。溶出画分を減圧濃縮し、更に減圧下に乾燥して４Ｌ−
４，６１５−トリ（テトラヒドロピラニルオキシ）−３
−（テトラヒドロピラニルオキシメチル）−２−シクロ
ヘキセノン（１，３ｇ）を得た。

［α］２６　＋２．３°（ｃ　＝　１　、　ＣＨＣ１３
）Ｉ　Ｒ：　ν”ＩＣ１ｌＣ１３ｌ６９０’　（Ｃ＝Ｏ
）ａＸ ’　ＨＮ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　Ｃ１３）δ　：　６．１４〜
６．２５（ｉｌｌ、ｍ。

２−Ｃ１１） 元素分析：　　Ｃｔ　？　Ｈ４＊　Ｏｓ計算値（％）：
Ｃ，６３，５１：　Ｈ，８，２９実験値（％）：Ｃ，６
３，９４，Ｈ，８，３６実施例３ ＩＬ−（１，３／２．４）−２，３，４−トリー〇−ベ
ンジル−５−（ベンジルオキシメチル）−５−シクロヘ
キセン−１，２，３，４−テトロール塩化第一セリウム
（７４５ｍｇ）のメタノール溶液（１５ｄ）に水素化は
う素ナトリウム（２２０ｍｇ）を−７０〜−７８℃に冷
却下に加え、１時間攪拌した。この溶液に、４　Ｌ−４
，６１５−１−リ（ベンジルオキシ）−３−（ベンジル
オキシメチル）−２−シクロヘキセノン（１，０ｇ）の
エタノール−テトラヒドロフラン（１：１．　　ｌ　Ｏ
ｔｄ、’）溶液を一７０〜＝７８℃で滴下し、同温度で
１時間攪拌した。反応液に水冷した０、２Ｎ塩酸（５０
ｄ）と酢酸エチル（１００ｄ）を加え、氷水で冷却下に
約１０分間攪拌した。酢酸エチル層を分離し、飽和炭酸
水素ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾
燥後、減圧濃縮した。残留物にエチルエーテル−石油エ
ーテル（１：２０．５０Ｔｎ１．）を加え、−夜冷蔵庫
中に放置してｌｔ、−（１，３／２．４）−２，３゜４
−トリー〇−ベンジル−５−（ベンジルオキシメチル）
−５−シクロヘキセン−１，２，３，４−テトロールの
白色結晶（７５０ｍｇ）を得た。

融点　７４〜７５℃ ［αコＤ　　−６６，９°　（ｃ　＝　１　　、　　Ｃ
Ｔ−Ｉ　Ｃ＋３）’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ＋３）δ　：　
１．８５〜２．０５（ｉｌｌ、ｍ。

−０１１）、３．５６（Ｉｌｌ、ｄｄｊ＝７．４１１ｚ
、９．８１１ｚ、２−ＣＨ）。

３．８５（ｉｌｌ　、　ｄｄ、　Ｊ　＝　７．１ｌｌｚ
、９．８１１ｚ、　３−　Ｃｔ（）　、　３．９０（ｉ
ｌｌ。

ブロードｄ、Ｊ＝　１２．２１１２）および４．２４（
Ｉｌｌ、ブロードｄ、Ｊ＝　１２．２１１ｚ）（ＣＨｔ
Ｏ）、４．２７〜４．３４（２１１，ｍ、１−ＣＩ＋お
よび４−Ｃ１１）、４．４３〜４．９８（８１１，ｍ、
Ｐｈｃｔ１２−ｘ４　）。

５．７２（ｉｌｌ、ブロードｓ、６−　Ｃｌ１）、７．
２４〜７．３５（２０１１，ｍ。

Ｃａ１ｌｓ　　ｘ４）。

元素分析：　Ｃｓ５Ｈ３ｅＯ５ 計算値（％）：Ｃ，７８Ｊ３：　Ｈ，６，７６実験値（
％）：Ｃ，７８，２４；　Ｈ，６，６４実施例４ １ｔ、−（１，３／２．４）−２，３，４−トリー〇−
（テトラヒドロピラニル）−５−（テトラヒドロピラニ
ルオキシメチル）−５−シクロヘキセン＝１゜２，３．
４−テトロール ４Ｌ−４，６１５−トリ（テトラヒドロピラニルオキン
）−３−（テトラヒドロピラニルオキシメチル）−２−
シクロヘキセノン（２５ｇ）をメタノール（２５０ｄ）
に溶解し、−１０〜−１５℃に冷却下に水素化はう素ナ
トリウム（２，５ｇ）を加え、同温度で２，５時間攪拌
した。反応液を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチル（ＩＱ
）と１５％（Ｖ／　Ｖ）塩化ナトリウム溶液（５００ｄ
）に分配した。水層を酢酸エチル（５００ｄ）で抽出し
、酢酸エチル層を集め、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸
ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮した。残留物をシリカゲ
ルカラムクロマト（１，１ｆ２）に付し、カラムをトル
エン・酢酸エチル（２：１）で洗浄後、トルエン・酢酸
エチル（３：２）で溶出した。溶出画分を減圧濃縮し、
更に減圧下に乾燥してＩＬ−（１，３／２．４）−２，
３，４−ドリー〇−（テトラヒドロピラニル）−５−（
テトラヒドロピラニルオキシメチル）−５−シクロヘキ
セン−１，２，３，４−テトロール（１３，６ｇ）を得
た。

［αコＤ　　＋２．９’　　（Ｃ＝１．　　Ｃ１（Ｃ１
３）元素分析：　　Ｃ，、Ｈ４４０゜ 計算値（％）：Ｃ，６３，２６；　Ｈ，８，６５実験値
（％）：Ｃ，６３，６７、Ｈ，８，６３実施例５ ＩＬ−（１，３／２．４）−２，３，４−）リー〇−ベ
ンジル−１−０−（イミダゾリルスルホニル）−５−（
ベンジルオキシメチル）−５−シクロヘキセン−１，２
，３，４−テトロール ｌ　Ｌ−（１，３／２．４）−２，３，４−トリー〇−
ベンジル−５−（ベンジルオキシメチル）−５−シクロ
ヘキセン−１，２，３，４−テトロール（２，５ｇ）を
ＤＭＦ（２Ｑｄ）に溶解し、−６０℃に冷却下に塩化ス
ルフリル（０，７９ｄ）を滴下後、−４０〜−４５℃で
３０分間攪拌した。反応液を再び一６０℃に冷却し、イ
ミダゾール（３，３ｇ）を加えた後、−１０℃で１時間
攪拌した。反応液を水冷した酢酸エチル（１００りと水
（１００ｄ）の混合液に加えた後、酢酸エチル層を分離
し、水層を酢酸エチル（５０ｄ）で抽出した。抽出液を
集め、２Ｎ塩酸と飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し
、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧島縮した。残留物
をシリカゲルカラムクロマト（１５０ｄ）に付し、トル
エン・酢酸エチル（２０：Ｉ）で溶出した。

溶出画分を減圧濃縮し、更に減圧下に乾燥してＩＬ−（
１，３／２．４）−２，３，４−トリー〇−ベンジル−
１−０−（イミダゾリルスルホニル）−５−（ベンノル
オキシメチル）−５−シクロヘキセン−１，２，３，４
−テトロール（１，６ｇ）を得た。

［α］２６−１６．７°（Ｃ＝１、ＣｌＣｌ５）元素分
析：　　Ｃ３ａ　Ｈｓ　＠Ｎ　ｔ　Ｏｑ　Ｓ計算値（％
）：Ｃ，６ｇ、４５；　Ｈ，５，４７；Ｎ、４．２Ｑ；
Ｓ、４．８１ 実験値（％）：Ｃ，６＆、９２；　Ｈ１５，９３，Ｎ、
３．９９゜Ｓ、４．９１１ 実施例６ １　Ｌ−（１，３／２．４）−１−０−（イミダゾリル
スルホニル）−２，３，４−）す〜０−（テトラヒドロ
ピラニル）−５−（テトラヒドロピラニルオキシメチル
）−５−シクロヘキセン−１，２，３，４−テトロール ＩＬ−（１，３／２，４）−２，３，４−トリー〇−（
テトラヒドロピラニル）−５−（テトラヒドロピラニル
オキシメチル）−５−シクロヘキセン＝１゜２．３．４
−テトロール（１１，３ｇ）をＩ）　Ｍ　Ｆ（１００滅
）に溶解し、−６０℃以下に冷却下に塩化スルフリル（
４，３ｄ）を滴下後、−４０〜＝４５℃で３０分間攪拌
した。反応液を再び一６０℃以下に冷却してイミダゾー
ル（１４，５５ｇ）を加え、０〜５℃で一夜攪拌後、更
に室温で３時間攪拌した。反応液を、水冷した酢酸エチ
ル（１ｅ）と水（２５０ｄ）の混合液に加え、酢酸エチ
ル層を分離し、水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
減圧濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマト（５
５０ｄ）に付し、トルエン・酢酸エチル（５：りで溶出
した。溶出画分を減圧Ｄｔ縮し、更に減圧下に乾燥して
ｔ　Ｌ−（１，３／２．４）−１−０−（イミダゾリル
スルホニル）−２，３，４−トリー〇−（テトラヒドロ
ピラニル）−５−（テトラヒドロピラニルオキシメチル
）−５−シクロヘキセン−１，２，３，４−テトロール
（８，５ｇ）を得た。

［αコ２４　　　　　ｓ、ｏｏ　（ｃ＝　　１　　、　
　ＣＨＣｌａ）元素分析：Ｃ３゜Ｈ４ｓ　Ｎ　ｔ　Ｏ＋
　ＩＳ計算値（％）：Ｃ，５６，０６；　Ｈ，７，２１
，Ｎ、４．３６゜Ｓ、４．９９ 実験値（％）：Ｃ，５５，８９；　Ｉ−１，７，３４，
Ｎ、４．１８゜Ｓ、５．３３ 実施例７ １Ｌ−（１，３／２，４）−１−０−（メタンスルホニ
ル）−２，３，４−トリー〇−（テトラヒドロピラニル
）−５−（テトラヒドロピラニルオキシメチル）−５−
シクロヘキセン−１，２，３，４−テトロール ＩＬ−（１，３／２．４）−２，３，４−トリー〇−（
テトラヒドロピラニル）−５−（テトラヒドロピラニル
オキシメチル）−５−シクロヘキセン−１゜２．３．４
−テトロール（２，５５ｇ）をピリジン（２０ｄ）に溶
解し、−２０〜−３０°Ｃに冷却下メタンスルホニルク
ロリド（０，７７ｄ）を滴下後、０〜５℃で一夜攪拌し
た。反応液を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチルと水に分
配した。酢酸エチル層を２Ｎ塩酸と飽和炭酸水素ナトリ
ウム溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧
濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマト（２５０
成）に付し、トルエン・酢酸エチル（４：１）で溶出し
た。溶出画分を減圧ａ縮後、更に減圧下に乾燥してＩＬ
−（１，３／２．４）−１−０−（メタンスルホニル）
−２，３，４−）リ−０−（テトラヒドロピラニル）−
５−（テトラヒドロピラニルオキシメチル）−５−シク
ロヘキセン−１，２，３，４−テトロール（１，２１ｇ
）を得た。

実施例８ １　Ｄ−（１，３，６／２）−１，２，３−トリー〇−
（テトラヒドロピラニル）−６−アジド−４−（テトラ
ヒドロピラニルオキシメチル）−４−シクロヘキセン−
１，２，３−）リオール ＩＬ−（１，３／２．４）−１−０−（イミダゾリルス
ルホニル）−２，３，４−トリー〇−テトラヒドロピラ
ニル−５−（テトラヒドロピラニルオキシメチル）−５
−シクロヘキセン−１，２，３，４−テトロール（１，
７ｇ）をトルエン（３５旙）に溶解し、テトラ−ｎ−ブ
チルアンモニウムアジド（１，７ｇ）を加え、加熱還流
下に２時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（＋００ｄ）
を加え、水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃
縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマト（１５０＋
Ｊ）に付し、トルエン・酢酸エチル（４：Ｉ）で溶出し
た。溶出画分を減圧濃縮し、更に減圧下に乾燥してｌ　
Ｄ−（１。

３．６／２）−１，２，３−トリー〇−（テトラヒドロ
ピラニル）−６−アジド−４−（テトラヒドロピラニル
オキシメチル）−４−シクロヘキセン−１゜２．３−１
−リオール（８８０ｍｇ）を得た。

［α　コ２４　　　＋６２．６　　°　　（ｃ＝　　ｌ
　　、　　　Ｃ）［Ｃｌａ）ｅａｔ Ｉ　ｎ：　　ｖ　　　　　２１００ｃｍ−’　（アジド
基）ａｘ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）δ　：５．８１（ＩＨ，ブロ
ードＳ。

５−ＣＨ） 元素分析：　　Ｃ＊　？　Ｈ４３Ｎ　ｓ　Ｏｓ計算値（
％）：Ｃ，６０，３２，Ｈ，８，０６：Ｎ、７．８２；
実験値（％）：Ｃ，６Ｇ、７８；　Ｈ，８，３２，Ｎ、
７．５９゜実施例９ ＩＤ−（１，３，６／２）−１，２，３−トリー〇−テ
トラヒドロピラニル）−６−アジド−４−（テトラヒド
ロピラニルオキシメチル）−４−フクロヘキセン−１，
２，３−１リオール Ｉ　Ｌ−（１，３／２．４）−１−０−（メタンスルホ
ニル）−２，３，４−トリー〇−（テトラヒドロピラニ
ル）−５−（テトラヒドロピラニルオキシメチル）−５
−シクロヘキセン−１，２，３，４−テトロール（１，
１ｇ）をＤＭＦ（２０りに溶解し、アジ化ナトリウム（
２５０ｍｇ）を加えて、８０℃で３時間攪拌した。反応
液を減圧濃縮し、残留物を酢酸エチルと水に分配した。

酢酸エチル層を水洗し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
減圧濃縮した。残留物をシリカゲルカラムクロマト（ｌ
ｏａｄ）に付し、トルエン・酢酸エチル（４：Ｉ）で溶
出した。溶出両分を減圧濃縮し、更に減圧下に乾燥して
ＩＤ−（１，３，６／２）−１，２，３−）−リ−０−
（ｙトラヒドロピラニル）−６−アジド−４−（テトラ
ヒドロピラニルオキシメチル）−４−シクロヘキセン−
１，２，３−トリオール（１，０ｇ）を得た。

実施例１０ ＋Ｄ−（１，３，６／２）−）リー０−（テトラヒドロ
ピラニル）−６−アミノ−４−（テトラヒドロピラニル
オキシメチル）−４−シクロヘキセン−１，２，３−ト
リオール［テトラ−０−（テトラヒドロピラニル）バリ
エナミン］ ＩＤ−（１，３，６／２）−１，２，３−トリー〇−（
テトラヒドロピラニル）−６−アジド−５−（テトラヒ
ドロピラニルオキシメチル）−４−シクロヘキセン−１
，２，３−）リオール（８８０ｍｇ）をテトラヒドロフ
ラン（４７ｄ）に溶解し、氷水で冷却下に水素化アルミ
ニウムリチウム（２８０ｍｇ）を少しづつ加えた後、同
温度で３０分間、更に室温で１．５時間攪拌した。反応
液を氷水で冷却し、メタノール（約ｔｏｙ）、更に水（
約１０ｄ）を滴下した後、生じた不溶物をろ去し、メタ
ノールで洗浄した。ろ液と洗液を集めて減圧濃縮し、残
留物を酢酸エチルと水に分配した。酢酸エチル層を水洗
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧ａ　Ｋｎ　Ｌ、
更に減圧下に乾燥してテトラ−０−（テトラヒドロピラ
ニル）バリエナミン（７００ｍｇ）を得た。

実施例！！ Ｉ　Ｄ−（１，３，６／２）−６−アミノ−４−（ヒド
ロキシメチル）−４−シクロヘキセン−１，２゜３−ト
リオール　［バリエナミンコ テトラ−０−（テトラヒドロピラニル）バリエナミン（
７００ｍｇ）を８０％酢酸（３５ｄ）に溶解し、５０℃
で５時間攪拌した。反応液を減圧濃縮し、残留物をダウ
エックス５０ＷＸ８（Ｉ（＋型、１３０蔵）のカラムク
ロマトに付した。カラムを水洗後、０．５Ｎアンモニア
水で溶出し、溶出画分を減圧濃縮した。残留物をダウエ
ックス１ｘ２（０１ｒ型、１８０ＴｎＩｌ）のカラムク
ロマトに付し、水で溶出した。溶出画分を減圧濃縮後、
凍結乾燥してバリエナミン（１８０ｍｇ）を得た。

［α］２’　　＋８７．６°（ｃ＝　１　、　ＨｔＯ）
’Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ！Ｏ）δ　：５．８９（ｌｔｌ、ｄｄ
、Ｊ＝　１．５゜４．５Ｈｚ、５−Ｃｌ１） １３ＣＮＭＲ（ＤｔＯ＋ＤＣ１）δ：５０．２（ｄ）、
６１．９（ｔ）。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１は水酸基の保護基を示す。）で表わされ
   る新規不飽和イノソース誘導体。 ２、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１は水酸基の保護基を、Ｒ＾２は炭化水素
   残基を示す。）で表わされる化合物を塩基で処理するこ
   とを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１は水酸基の保護基を示す。）で表わされ
   る新規不飽和イノソース誘導体の製造法。