JPS63114187A - 光束分割装置 - Google Patents
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- JPS63114187A JPS63114187A JP61260238A JP26023886A JPS63114187A JP S63114187 A JPS63114187 A JP S63114187A JP 61260238 A JP61260238 A JP 61260238A JP 26023886 A JP26023886 A JP 26023886A JP S63114187 A JPS63114187 A JP S63114187A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
- G03F7/70566—Polarisation control
-
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野）
本発明は光の可干渉性の低下を図った光束分割装置に関
し、特に可干渉性の良い光を用いＩＣ。
し、特に可干渉性の良い光を用いＩＣ。
ＬＳ ＩＳの微細パターンをシリコンウェハー等に焼付
ける場合に生じる干渉にょる悪影響の防止を図った光の
可干渉性の低下を図った光束分割装置に関するものであ
る。
ける場合に生じる干渉にょる悪影響の防止を図った光の
可干渉性の低下を図った光束分割装置に関するものであ
る。
従来よりＩＣ，ＬＳＩ等の電子回路の微細パターンをウ
ニ八面上に光りソグラフイ手法により焼付ける半導体製
造用の露光装置の光源としては主に超高圧水銀ランプあ
るいは超高圧Ｘｅ−Ｈｇランプが使われていた。ところ
が近時、光りソグラフイの使用波長である紫外域の光を
高出力で発振するレーザー（エキシマレーザ−等）が開
発され、半導体製造用の光装置の新しい光源として注目
されている。一般にレーザー光は高い輝度と指向性を有
するので、光源として使用すると集光光学系の高効率化
が達成されるか、レーザー光特有の強い干渉性が光りソ
グラフィにおいては欠点となっている。即ち、微細パタ
ーンが形成されているマスク面やウニへ面の不完全さや
照明光学系の光学特性及び光学系内の多重反射等により
マスク面やウニへ面上にランダムな干渉縞、所謂スペッ
クルが発生し、照明ムラや焼付は誤差を起こし微細パタ
ーン像の解像力を低下させていた。
ニ八面上に光りソグラフイ手法により焼付ける半導体製
造用の露光装置の光源としては主に超高圧水銀ランプあ
るいは超高圧Ｘｅ−Ｈｇランプが使われていた。ところ
が近時、光りソグラフイの使用波長である紫外域の光を
高出力で発振するレーザー（エキシマレーザ−等）が開
発され、半導体製造用の光装置の新しい光源として注目
されている。一般にレーザー光は高い輝度と指向性を有
するので、光源として使用すると集光光学系の高効率化
が達成されるか、レーザー光特有の強い干渉性が光りソ
グラフィにおいては欠点となっている。即ち、微細パタ
ーンが形成されているマスク面やウニへ面の不完全さや
照明光学系の光学特性及び光学系内の多重反射等により
マスク面やウニへ面上にランダムな干渉縞、所謂スペッ
クルが発生し、照明ムラや焼付は誤差を起こし微細パタ
ーン像の解像力を低下させていた。
この様なレーザ光特有の強い干渉性に起因する悪影響を
除去する為に、従来から種々の可干渉性の低下を図る為
の装置が考案されている。
除去する為に、従来から種々の可干渉性の低下を図る為
の装置が考案されている。
この種の装置として、各々の屈折率或いは長さが異なる
複数のファイバーを束ねたファイバ一部材の入射面に可
干渉性の良い光束を入射させ、このファインバ一部材の
射出面より射出する光束の可干渉性を低下させた装置が
ある。
複数のファイバーを束ねたファイバ一部材の入射面に可
干渉性の良い光束を入射させ、このファインバ一部材の
射出面より射出する光束の可干渉性を低下させた装置が
ある。
しかしながら、ファイバーの如き透光性の伝達部材を用
いる場合、照明時に使用する光束数が増加すると光束の
分割数だけ部材の数が必要となって装置が大型化し高価
となる。その上、可干渉性を低下させる為に各光束に光
路差を付与するには、夫々の部材の長さを変えるか、各
部材の屈折率を夫々異ならせる必要があり、容易に製作
することが出来なかった。
いる場合、照明時に使用する光束数が増加すると光束の
分割数だけ部材の数が必要となって装置が大型化し高価
となる。その上、可干渉性を低下させる為に各光束に光
路差を付与するには、夫々の部材の長さを変えるか、各
部材の屈折率を夫々異ならせる必要があり、容易に製作
することが出来なかった。
本発明の目的は、上記従来の装置の問題点に鑑み、小型
且つ製作容易な光束分割装置を提供することにある。
且つ製作容易な光束分割装置を提供することにある。
上記目的を達成する為に、本発明に係る光束分割装置は
、コヒーレント光束の光路中に該光路を横切る方向に沿
って複数の反射手段を設け、上記複数の反射手段で上記
コヒーレント光束を反射し複数の光束に分割する共に、
該複数の光束に互いに光路差を付与したことを特徴とし
ている。
、コヒーレント光束の光路中に該光路を横切る方向に沿
って複数の反射手段を設け、上記複数の反射手段で上記
コヒーレント光束を反射し複数の光束に分割する共に、
該複数の光束に互いに光路差を付与したことを特徴とし
ている。
更に具体的には、上記複数の反射手段は上記光束の進行
方向に対して夫々所定の角度を成して配され、この角度
に依存した方向へ分割した複数の光束を指向する。又、
上記反射手段の角度を変えることにより、分割した複数
の光束に付与する光路差を調整出来る。
方向に対して夫々所定の角度を成して配され、この角度
に依存した方向へ分割した複数の光束を指向する。又、
上記反射手段の角度を変えることにより、分割した複数
の光束に付与する光路差を調整出来る。
尚、本発明の更なる特徴、具体的構成例は以下の実施例
に詳細に記載する。
に詳細に記載する。
（実施例）
第１図は本発明に係る光束分割装置の一実施例を示す断
面図である。本装置の全体は、紙面垂直方向に所定の高
さを有し且つ図示する断面形状を持つ五角柱の部材から
構成されているものである。
面図である。本装置の全体は、紙面垂直方向に所定の高
さを有し且つ図示する断面形状を持つ五角柱の部材から
構成されているものである。
゛同図に於いて、１は第１のプリズム、２は第２のプリ
ズム、３は第３のプリズムを示す。
ズム、３は第３のプリズムを示す。
各プリズムは個別に光束人出射面を備えており、夫々の
光束人出射面で光束入射面Ａ、光束出射面Ｂを形成する
様に貼り合わされている。４１゜４２＋ ４３は夫々第
１のプリズム１、第２のプリズム２、第３のプリズム３
に形成された反射面で、各プリズムの光束入射面から入
射した光束を所定の角度（２α）で反射し光束出射面へ
指向する。５は本光束分割装置に入射するコヒーレント
光束で、その中心光束は光束入射面Ａに対して垂直に入
射する。１１．１２＋ ｉ３は本光束分割装置で分割
された複数の光束の夫々を示し、コヒーレント光束５の
進行方向とは異なる方向へ光束出射面Ｂから出射する。
光束人出射面で光束入射面Ａ、光束出射面Ｂを形成する
様に貼り合わされている。４１゜４２＋ ４３は夫々第
１のプリズム１、第２のプリズム２、第３のプリズム３
に形成された反射面で、各プリズムの光束入射面から入
射した光束を所定の角度（２α）で反射し光束出射面へ
指向する。５は本光束分割装置に入射するコヒーレント
光束で、その中心光束は光束入射面Ａに対して垂直に入
射する。１１．１２＋ ｉ３は本光束分割装置で分割
された複数の光束の夫々を示し、コヒーレント光束５の
進行方向とは異なる方向へ光束出射面Ｂから出射する。
又、光束ｉ１．ｉ２．ｉ３は互いに所定量の光路差を有
しており、互いにインコヒーレントな光束となっている
。
しており、互いにインコヒーレントな光束となっている
。
プリズム１，２．３の個々の光束人出射面は巾ｄを有し
ており、従って、本光束分割装置の光束入射面Ａと光束
入射面Ｂの巾は各々３ｄの大きさをもつ。又、これに併
せて本光束分割装置に入射するコヒーレント光束の巾（
径）もほぼ３ｄとなる様に光束径を規制されている。こ
れは光束の有効利用を図る為であり、実際には任意の光
束径の光束を入射させて構わない。
ており、従って、本光束分割装置の光束入射面Ａと光束
入射面Ｂの巾は各々３ｄの大きさをもつ。又、これに併
せて本光束分割装置に入射するコヒーレント光束の巾（
径）もほぼ３ｄとなる様に光束径を規制されている。こ
れは光束の有効利用を図る為であり、実際には任意の光
束径の光束を入射させて構わない。
プリズム１，２．３の各貼り合わせ面は、図中の破線で
光束入射側と光束出射側とに本光束分割装置の部位を区
分した際２、光束入射側ではコヒーレント光束５の進行
方向に平行で、光束出射側では反射膜４１＋ ２＋４
３で反射された分割光束１１．ｔ２＋ ｉ３の進行方
向に平行となる様に構成されている。
光束入射側と光束出射側とに本光束分割装置の部位を区
分した際２、光束入射側ではコヒーレント光束５の進行
方向に平行で、光束出射側では反射膜４１＋ ２＋４
３で反射された分割光束１１．ｔ２＋ ｉ３の進行方
向に平行となる様に構成されている。
プリズム１，２．３に形成された反射面４、。
４２ ＋ ４３は、該反射面に対する垂線とコヒーレ
ント光束５の進行方向との成す角度がαになる様に設定
されている。従って、この角度αに依存した方向、即ち
入射方向と２αの角度を成して分割光束１１＋ １２
＋ １３は反射される。
ント光束５の進行方向との成す角度がαになる様に設定
されている。従って、この角度αに依存した方向、即ち
入射方向と２αの角度を成して分割光束１１＋ １２
＋ １３は反射される。
又、後述する様に、分割光束ｉ１．ｔ２＋１３に互いに
付与される光路差Δｊもこの角度αに依存する。
付与される光路差Δｊもこの角度αに依存する。
本光束分割装置をコヒーレント光束５の光路中に配し、
コヒーレント光束５を本装置に入射させる。コヒーレン
ト光束５の光路は本装置の光束入射面Ａを構成する各プ
リズム１，２．３の光束入射面によって実質的に３つの
光路に分離される。プリズム１，２．３内に存する３つ
の光路の夫々を進行する光束は、各プリズム１，２．３
に形成され、光束入射面Ａから異なる距離に存する反射
面４１ ＋ ４２ ＋ ４３で夫々反射される。
コヒーレント光束５を本装置に入射させる。コヒーレン
ト光束５の光路は本装置の光束入射面Ａを構成する各プ
リズム１，２．３の光束入射面によって実質的に３つの
光路に分離される。プリズム１，２．３内に存する３つ
の光路の夫々を進行する光束は、各プリズム１，２．３
に形成され、光束入射面Ａから異なる距離に存する反射
面４１ ＋ ４２ ＋ ４３で夫々反射される。
反射面４１，４□、４．で反射された各光束はプリズム
１，２．３の内部を進行し、光束出射面Ｂから光路差が
生じた３つの分割光束１１＋１２＋１３として同方向に
出射する。
１，２．３の内部を進行し、光束出射面Ｂから光路差が
生じた３つの分割光束１１＋１２＋１３として同方向に
出射する。
ここで、各プリズム１，２．３が屈折率ｎの同一材料か
ら成り、ｊｍを分割光束ｉｎ（ｍ＝１．２．３）の光束
入射面Ａから光束出射面Ｂまでの光路長とすると、各分
割光束間の光路差Δｊは Δ ｊ ＝ ｊ ３ ｊ ２ ”ｊｚ −Ｊ＋ ＝ ２ ｎｄ ／ ｔ ａ ｎ ａ となる。従って、本光束分割装置に於いて、各分割光束
間に付与する光路差はｎ、ｄ、 αの３つのパラメー
タにより制御する。これらの３つのパラメータｎ、ｄ、
αは容易に変更可能である為、図示される如き小型且
つ簡便な装置で容易に所望の光路差を与えて可干渉性を
軽減出来る。即ち、Δｊがコヒーレント光束５のコヒー
レンス長以上の値となる様に適宜ｎ、ｄ。
ら成り、ｊｍを分割光束ｉｎ（ｍ＝１．２．３）の光束
入射面Ａから光束出射面Ｂまでの光路長とすると、各分
割光束間の光路差Δｊは Δ ｊ ＝ ｊ ３ ｊ ２ ”ｊｚ −Ｊ＋ ＝ ２ ｎｄ ／ ｔ ａ ｎ ａ となる。従って、本光束分割装置に於いて、各分割光束
間に付与する光路差はｎ、ｄ、 αの３つのパラメー
タにより制御する。これらの３つのパラメータｎ、ｄ、
αは容易に変更可能である為、図示される如き小型且
つ簡便な装置で容易に所望の光路差を与えて可干渉性を
軽減出来る。即ち、Δｊがコヒーレント光束５のコヒー
レンス長以上の値となる様に適宜ｎ、ｄ。
αを設定すれば良いのである。この様に、パラメータが
１個増えたことにより、従来の光ファイバー等を用いた
装置に比べ、更に自由な設計を可能とするもので、この
為に種々の仕様の光束分割装置を提供出来る。
１個増えたことにより、従来の光ファイバー等を用いた
装置に比べ、更に自由な設計を可能とするもので、この
為に種々の仕様の光束分割装置を提供出来る。
第２図は、本光束分割装置を構成するプリズムの一例を
示す図である。同図に示されたプリズムは第１図の装置
に於けるプリズム３である。
示す図である。同図に示されたプリズムは第１図の装置
に於けるプリズム３である。
図中、３１はプリズム３を構成する第１の光学部材、３
２は第２の光学部材で、両部材共通光性の部材から成り
同一屈折率を有するものである。
２は第２の光学部材で、両部材共通光性の部材から成り
同一屈折率を有するものである。
各光学部材３１．３２は図示される様な台形の断面形状
を有しており、四角柱の部材に斜面を設けるだけの筒車
な加工で製作出来る。又、本プリズム３は光学部材３２
の斜面と光学部材３１の底面の一部とを０面で真空接着
して容易に作成される。
を有しており、四角柱の部材に斜面を設けるだけの筒車
な加工で製作出来る。又、本プリズム３は光学部材３２
の斜面と光学部材３１の底面の一部とを０面で真空接着
して容易に作成される。
第３図は本光束分割装置の応用例を示し、第１図に示す
断面形状を有する光束分割装置を２個用いた装置の斜視
図である。
断面形状を有する光束分割装置を２個用いた装置の斜視
図である。
同図に於いて、１０は第１の光束分割装置、１１は第２
の光束分割装置を示し、１，２，３゜１’ 、２’ 、
３’ は夫々光束分割装置１０．１１を構成する第１．
第２．第３のプリズムを示している。又、５はコヒーレ
ント光束、６は本装置を通過後の出射光束、ｉ 、 ”
−１ｉ ｇは夫々分割された各光束を表わしている。
の光束分割装置を示し、１，２，３゜１’ 、２’ 、
３’ は夫々光束分割装置１０．１１を構成する第１．
第２．第３のプリズムを示している。又、５はコヒーレ
ント光束、６は本装置を通過後の出射光束、ｉ 、 ”
−１ｉ ｇは夫々分割された各光束を表わしている。
エキシマレーザ等のコヒーレントな光源から出射した長
方形断面を有するコヒーレント光束５は最初に光束分割
装置１０に指向される。光束分割装置１０は光束５をそ
の長方形断面の長辺に沿って３分割し、出射光束６の断
面図に示す（１１＋ １２＋ ｔｓ）の組と（１４
＋１５＋ｔａ）の組と（ｉ？ ＋ ｉａ ｒ １．
）の組の３組の光束が光束分割装置１０から進行方向を
９０゜曲げられて出射する。続いて、これらの３組の光
束は光束分割装置１１に入射し、光束５の長方形断面の
短辺に沿って３分割される。従って、光束分割装置１１
から出射する光束３４は’ｌ＋ Ｌ２＋ ｔ３．Ｌ
４＋ ｉｓ、ｉａ、 ｉｔ＋１８＋１９の９組の光
束に２次元的に分割され、全体の形状は出射光束６が示
す様な長方形を維持している。
方形断面を有するコヒーレント光束５は最初に光束分割
装置１０に指向される。光束分割装置１０は光束５をそ
の長方形断面の長辺に沿って３分割し、出射光束６の断
面図に示す（１１＋ １２＋ ｔｓ）の組と（１４
＋１５＋ｔａ）の組と（ｉ？ ＋ ｉａ ｒ １．
）の組の３組の光束が光束分割装置１０から進行方向を
９０゜曲げられて出射する。続いて、これらの３組の光
束は光束分割装置１１に入射し、光束５の長方形断面の
短辺に沿って３分割される。従って、光束分割装置１１
から出射する光束３４は’ｌ＋ Ｌ２＋ ｔ３．Ｌ
４＋ ｉｓ、ｉａ、 ｉｔ＋１８＋１９の９組の光
束に２次元的に分割され、全体の形状は出射光束６が示
す様な長方形を維持している。
この時、複数の分割光束ｉ、〜１９は、光束分割装置１
０．１１の内部で互いに所定の光路差を付与されている
為、互いにインコヒーレントな光束として出射する。
０．１１の内部で互いに所定の光路差を付与されている
為、互いにインコヒーレントな光束として出射する。
本実施例で示した装置は、２つの光束分割装置１０．１
１を第１図に示した断面が互いに直交する様に構成する
ことによりコヒーレント光束５を２次元的に分割するこ
と―成功している。
１を第１図に示した断面が互いに直交する様に構成する
ことによりコヒーレント光束５を２次元的に分割するこ
と―成功している。
この種の装置は、例えば互いにインコヒーレントな複数
の光束を用いて被照射面を照明する様な照明装置に好適
である。
の光束を用いて被照射面を照明する様な照明装置に好適
である。
本実施例で適用された光束分割装置１０．１１を構成す
るプリズム１，２，３．１’ 、２’ 。
るプリズム１，２，３．１’ 、２’ 。
３′の反射面の角度αは４５゛に設定されており、入射
したコヒーレント光束５は９０”進行方向を変えられて
、複数の分割光束となって各装置から出射する。
したコヒーレント光束５は９０”進行方向を変えられて
、複数の分割光束となって各装置から出射する。
第１図及び第３図に示す如き光束分割装置の光束人出射
面に反射防止膜等を形成すれば、更に光束損失を減少さ
せることが可能である。
面に反射防止膜等を形成すれば、更に光束損失を減少さ
せることが可能である。
又、上記各実施例ではコヒーレント光束を３分割する例
を挙げているが、第１図に於いて、更にプリズム、反射
面等の数を増やしたり、第３図の如く複数の光束分割装
置を組合わせることで所望の数の分割光束を得ることが
出来る。又、付与すべき光路差は、使用するプリズム材
料と、分割すべきコヒーレント光束及びその光束径と、
分割光束数が決まれば、前述の如く反射面の角度を適当
に設定することにより容易に得られる。
を挙げているが、第１図に於いて、更にプリズム、反射
面等の数を増やしたり、第３図の如く複数の光束分割装
置を組合わせることで所望の数の分割光束を得ることが
出来る。又、付与すべき光路差は、使用するプリズム材
料と、分割すべきコヒーレント光束及びその光束径と、
分割光束数が決まれば、前述の如く反射面の角度を適当
に設定することにより容易に得られる。
第４図は本発明に係る光束分割装置の他の実施例を示す
概略構成図である。図中、５はコヒーレント光束、ｉｌ
＝＋ ｔ２１ １３は分割され互いにインコヒーレン
ト化した分割光束を示し、上記実施例同様である。又、
７は、偏光ビームスプリッタ−１８は１／４波長板、９
．．９２゜９３は全反射ミラーである。又、全反射ミラ
ー９、と９２及び９２と９３のコヒーレント光束の進行
方向に沿う方向に於ける間隔は夫々ｄとしである。
概略構成図である。図中、５はコヒーレント光束、ｉｌ
＝＋ ｔ２１ １３は分割され互いにインコヒーレン
ト化した分割光束を示し、上記実施例同様である。又、
７は、偏光ビームスプリッタ−１８は１／４波長板、９
．．９２゜９３は全反射ミラーである。又、全反射ミラ
ー９、と９２及び９２と９３のコヒーレント光束の進行
方向に沿う方向に於ける間隔は夫々ｄとしである。
本実施例の光束分割装置は、第１図及び第２図に示され
た光束分割装置と異なり、プリズムによっては構成され
ていない。本光束分割装置は偏光ビームスプリッタ−７
と１／４波長板８と全反射ミラー９．．９２．９３とか
ら構成されており、全反射ミラー９１ ＋ ”２ ＋
９３ はコヒーレント光束５の光路を横切って配さ
れ、コヒーレント光束５の進行方向に垂直な反射面を備
えている。従って、各全反射ミラー９．，９２，９゜で
全反射されたコヒーレント光束５は元の光路を逆行する
ことになる。この際、コヒーレント光束５は複数の全反
射ミラー９１，９２．９３によって複数の光束ｉｌ＝
１２＋ １３に分割される。
た光束分割装置と異なり、プリズムによっては構成され
ていない。本光束分割装置は偏光ビームスプリッタ−７
と１／４波長板８と全反射ミラー９．．９２．９３とか
ら構成されており、全反射ミラー９１ ＋ ”２ ＋
９３ はコヒーレント光束５の光路を横切って配さ
れ、コヒーレント光束５の進行方向に垂直な反射面を備
えている。従って、各全反射ミラー９．，９２，９゜で
全反射されたコヒーレント光束５は元の光路を逆行する
ことになる。この際、コヒーレント光束５は複数の全反
射ミラー９１，９２．９３によって複数の光束ｉｌ＝
１２＋ １３に分割される。
本実施例の光束分割装置には所定の直線偏光光束を用い
る。例えば、コヒーレント光束５をｐ ＜ｍ光した光束
とすれば、このＰ （ｍ先光束は偏光ビームスプリッタ
−７を透過して１／４波長板８により円偏光に変換され
、全反射ミラー９、。
る。例えば、コヒーレント光束５をｐ ＜ｍ光した光束
とすれば、このＰ （ｍ先光束は偏光ビームスプリッタ
−７を透過して１／４波長板８により円偏光に変換され
、全反射ミラー９、。
９、．９３に入射する。全反射ミラー９．。
９２．９３で反射された反射円偏光光束は再度１／４波
長板を通過することによりＳ偏光光束に変換される。Ｓ
偏光光束と成った光束’Ｉ＋１２＋１３は偏光ビームス
プリッタ−７で反射し、光路を９０°折り曲げられて本
装置から出射する。この様に直線偏光光束と偏光ビーム
スプリッタ−と１７４波長板を組合わせて用いることに
より、光束の損失をなくし、コヒーレント光束の有効利
用が図れる。尚、コヒーレント光束５の強度が十分に有
り、光束の損失があっても構わない場合は、コヒーレン
ト光束５の光路中にはハーフミラ−と複数の全反射ミラ
ーとを配するだけで良い。
長板を通過することによりＳ偏光光束に変換される。Ｓ
偏光光束と成った光束’Ｉ＋１２＋１３は偏光ビームス
プリッタ−７で反射し、光路を９０°折り曲げられて本
装置から出射する。この様に直線偏光光束と偏光ビーム
スプリッタ−と１７４波長板を組合わせて用いることに
より、光束の損失をなくし、コヒーレント光束の有効利
用が図れる。尚、コヒーレント光束５の強度が十分に有
り、光束の損失があっても構わない場合は、コヒーレン
ト光束５の光路中にはハーフミラ−と複数の全反射ミラ
ーとを配するだけで良い。
又、本実施例に於いて各分割光束ｉｌ、１２＋１３間に
付与される光路差は、空気の屈折率が１であり且つ全反
射ミラー９ ｒ 、 ９２ 、９３がコヒーレント光束
５の進行方向に対して傾いていない為に、車に２ｄで表
わすことが出来る。
付与される光路差は、空気の屈折率が１であり且つ全反
射ミラー９ ｒ 、 ９２ 、９３がコヒーレント光束
５の進行方向に対して傾いていない為に、車に２ｄで表
わすことが出来る。
従って、２ｄがコヒーレント光束のコヒーレンス長より
長くなる様に全反射ミラー９１，９２゜９３の配置を設
定すれば良い。
長くなる様に全反射ミラー９１，９２゜９３の配置を設
定すれば良い。
以上、本実施例の光束分割装置はプリズム等の光学部品
は必要でなく、上述した如き簡単な構成を有する為極め
て有用である。
は必要でなく、上述した如き簡単な構成を有する為極め
て有用である。
以上説明した各実施例は本発明の一形態であり、この他
にも種々の形態の装置を構成し得ることは言うまでもな
い。
にも種々の形態の装置を構成し得ることは言うまでもな
い。
以上、本発明に係る光束分割装置は、コヒーレント光束
の光路中にこの光路を横切る方向に沿って複数の反射手
段を設けるという極めて簡便な構成により、光束分割、
及び分割した各光束のインコヒーレント化を達成し得る
装置である。
の光路中にこの光路を横切る方向に沿って複数の反射手
段を設けるという極めて簡便な構成により、光束分割、
及び分割した各光束のインコヒーレント化を達成し得る
装置である。
第１図は本発明に係る光束分割装置の一実施例を示す断
面図。 第２図は第１図の光束分割装置を構成するプリズムの一
例を示す図。 第３図は本光束分割装置の応用例を示す斜視図。 第４図は本発明に係る光束分割装置の他の実施例を示す
概略構成図。 １．２ 、 ３ −一−−−−−−プリズム４１．４□
、４．−−一反射面 ５−−−−−−−−−一−−−−−−コヒーレント光束
１１− １２ ＋ １３−−一互いにインコヒーレン
トな分割光束
面図。 第２図は第１図の光束分割装置を構成するプリズムの一
例を示す図。 第３図は本光束分割装置の応用例を示す斜視図。 第４図は本発明に係る光束分割装置の他の実施例を示す
概略構成図。 １．２ 、 ３ −一−−−−−−プリズム４１．４□
、４．−−一反射面 ５−−−−−−−−−一−−−−−−コヒーレント光束
１１− １２ ＋ １３−−一互いにインコヒーレン
トな分割光束
Claims (1)
- コヒーレント光束の光路中に該光路を横切る方向に沿っ
て複数の反射手段を設け、上記複数の反射手段で上記コ
ヒーレント光束を反射し複数の光束に分割すると共に該
複数の光束に互いに光路差を付与したことを特徴とする
光束分割装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61260238A JPS63114187A (ja) | 1986-10-30 | 1986-10-30 | 光束分割装置 |
| EP87309574A EP0266203B1 (en) | 1986-10-30 | 1987-10-29 | An illumination device |
| DE3750174T DE3750174T2 (de) | 1986-10-30 | 1987-10-29 | Belichtungseinrichtung. |
| US07/384,908 US4974919A (en) | 1986-10-30 | 1989-07-25 | Illuminating device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61260238A JPS63114187A (ja) | 1986-10-30 | 1986-10-30 | 光束分割装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63114187A true JPS63114187A (ja) | 1988-05-19 |
Family
ID=17345271
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61260238A Pending JPS63114187A (ja) | 1986-10-30 | 1986-10-30 | 光束分割装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63114187A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4964720A (en) * | 1987-10-30 | 1990-10-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
-
1986
- 1986-10-30 JP JP61260238A patent/JPS63114187A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4964720A (en) * | 1987-10-30 | 1990-10-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus |
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