JPS6310837Y2 - - Google Patents

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JPS6310837Y2
JPS6310837Y2 JP1985091586U JP9158685U JPS6310837Y2 JP S6310837 Y2 JPS6310837 Y2 JP S6310837Y2 JP 1985091586 U JP1985091586 U JP 1985091586U JP 9158685 U JP9158685 U JP 9158685U JP S6310837 Y2 JPS6310837 Y2 JP S6310837Y2
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roller
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roll coater
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Description

【考案の詳細な説明】[Detailed explanation of the idea]

[産業上の利用分野] 本考案は、平板状の基板の表面に塗布液を均一
に塗布することのできるロールコータに関するも
ので、例えば、塗布液を薄膜形成液とすれば、基
板の表面に薄膜を形成させる作業において使用す
ることができる。そして、本考案は、特に次に例
示するような薄膜の形成作業に利用して有用なも
のである。 例えば、前面板を通して表示部を観察する構造
の螢光表示管において外部の電界を遮蔽するため
前面板内面に設けられる透明導電膜や、基板を通
して表示部を観察する構造のいわゆる前面発光形
の螢光表示管において、陽極導体及び配線導体と
して陽極基板上に設けられる透明導電膜を形成す
るために、導電膜形成液の塗布装置として使用す
ることができる。 さらに、液晶表示装置の電極に使用する透明導
電膜、アルカリ成分の溶出を防ぐバリヤ用として
ガラス板表面に形成される透明酸化膜、そして、
板ガラスの表面に形成されて板ガラスを強化する
ための薄膜、さらに、反射防止や熱反射改善のた
め等、各種の特長を持たせるためにガラス板の表
面に被着される薄膜等を形成するための作業にお
いても、薄膜形成液の塗布装置として利用するこ
とができる。 [従来の技術] 例えばガラス等の基板の表面に薄膜を被着形成
させるために、基板の表面に薄膜形成液を塗布す
る装置としては、第9図に示す3本ロールによる
ロールコータが知られている。 従来のロールコータ1は、基板2を下面から支
えるバツクアツプローラ3と、基板2の上面に圧
着されて薄膜形成液4を該基板2上に転写するコ
ーテイングローラ5とを具備し、薄膜形成液4
は、ドクターローラ6上に注がれ、該ドクターロ
ーラ6によつて均一に伸ばされて前記コーテイン
グローラ5に供給されるように構成されている。 また、基板表面に薄膜形成液を塗布する他の手
段としては、デツピング法が知られている。デツ
ピング法は、基板の全体が入る大きさの槽を設
け、この中に薄膜形成液を満たし、基板を浸漬し
た後引き上げることによつて、基板の両面に薄膜
形成液を塗布する方法である。 [考案が解決しようとする問題点] 従来のロールコータは、薄膜形成液が不安定で
ある場合には適用することができない。例えば、
インジウム、スズ、チタン等を含有する有機金属
化合物(アルコキシ化合物)を、沸点が低く揮発
し易い有機溶剤に溶解した薄膜形成液の場合につ
いて考える。 液は、基板2上に薄膜として転写されるまで
に、ドクターローラ6とコーテイングローラ5の
間、及びコーテイングローラ5と基板2との間
で、2回の圧力を加えられる。さらに、液は、ド
クターローラ6に供給された段階から、溶剤成分
が揮発し続けているので、液はコーテイングロー
ラ5には均一に転写されない。従つて、コーテイ
ングローラ5に付着した液のうち、溶剤成分の揮
発していない部分は基板2に転写されるが、溶剤
成分の飛んでしまつた部分はコーテイングローラ
5に付着したまま残つて基板2には転写されな
い。そのため、基板2に転写された薄膜形成液は
不均一となつてしまう。 また、3本ロールによる従来のロールコータに
よれば、基板2をバツクアツプローラ3とコーテ
イングローラ5との間にはさむ必要があるため、
板厚の異なる基板を処理するときには、ローラ間
隔の調整を行なわなければならなかつた。 そこで、前述のように不安定な薄膜形成液を使
用する場合には、前述したデツピング法が適用さ
れている訳であるが、この方法によると基板全体
を浸漬しうるだけの液量が必要となり、経時変化
により劣化していく液量も増えるために経済的で
ないという問題点があつた。 また、浸漬後に、基板を液外に引き上げた際、
先に引き上げた基板上部から先に揮発が始まるこ
と、引き上げ後に基板表面を流れ落ちていく液が
基板の下方部分に溜まり易いこと等のために、付
着する薄膜形成液の厚さが一定にならないという
問題点があつた。 さらに、基板全体を浸漬するので、ロールコー
タ法による場合のように基板の片面だけに薄膜形
成液を付着させることができないという問題点が
あつた。 [考案の目的] 本考案は前記の問題点を解決するためになされ
たものであり、基板の片面のみに塗布液を均一に
塗布することができ、特に、薄膜の形成作業にお
いては不安定な薄膜形成液にも使用できると共に
薄膜形成液の使用量が少ない、経済的なロールコ
ータを提供することを目的とする。 [問題点を解決するための手段] 前記の目的を達成するため、本考案のロールコ
ータは、塗布液を入れる受け皿と、塗布液に一部
が浸漬して塗布液を外周面に付着させながら回転
する塗布ローラと、塗布ローラ上に基板を断続的
に移送させる移送ローラと、を具備するロールコ
ータにおいて、前記塗布ローラの外周面に、中央
部と外方部では付着量が異なるように、該塗布ロ
ーラの外周面に微小な凹部を形成して該塗布ロー
ラの表面状態を変化させたことを特徴としてい
る。 [作用] 塗布ローラは、受皿中の塗布液に一部分を浸漬
させて回転しているので、塗布液から上がつてく
る塗布ローラの外周面には常に塗布液が付着して
いる。 塗布ローラの外周面には溝や点状凹部等の微小
な凹部が複数形成されていて、表面状態が外周面
の中央部では凹凸状態が大きく外方部では凹凸状
態が小さくなつている。従つて、前述した外周面
に付着する塗布液の量は、外方部よりも中央部の
方が多くなつている。 ここで、移送ローラによつて、基板が前記塗布
ローラ上に送り出されるが、該基板の先端部が塗
布ローラの外周面最上部と接触すると、移送ロー
ラは一時駆動を停止する。 そして、基板の先端部と塗布ローラの最上部と
が接触した状態で、塗布ローラは回転し、塗布液
は塗布ローラの外周面に付着して汲み上げられて
いく。 塗布ローラの回転につれて、基板と塗布ローラ
の接触部より前方の隙間には、塗布の溜りが生じ
てくる。溜り部分の塗布液は、塗布ローラの回転
によつて基板との間に押しつけられるので、基板
が接触していない塗布ローラの外方向へ移動して
いく。ところが、塗布ローラの外周面に付着して
汲み上げられてくる塗布液の量は、元々中央部分
の方が多いので、前記溜り部分の形状は安定して
いる。すなわち、前記塗布液の溜り量は、塗布ロ
ーラのどの場所でも一定となつている。 前記溜りの液量が所定量に達したところで、移
送ローラは再び基板を移送しはじめる。基板の下
面は、前記塗布液の溜りに触れて塗布液が付着す
るが、付着した塗布液の一部は、基板と塗布ロー
ラとの接触部において塗布ローラの回転方向後方
に押し返されるので、基板の下面には塗布液が均
一に塗布されていくことになる。 [第1実施例] 以下、本考案の第1実施例について説明する。 第1図は、第1実施例のロールコータを表わす
平面図であり、第2図は、第1図の−線にお
ける拡大断面図である。 本実施例のロールコータ7は、ガラス製の基板
8に不安定な薄膜形成液を塗布した後、これを焼
成して薄膜を形成する薄膜形成装置の一部に組込
まれているものである。 図示しないが、前記薄膜形成装置は、基板8の
洗浄装置と、洗浄された基板8を加熱して乾燥さ
せる乾燥装置と、加熱によつて温度の上昇した基
板8を冷却する冷却装置と、基板8に薄膜形成液
を塗布するためのロールコータ7と、液が塗布さ
れた基板8を焼成するための加熱装置と、を具備
している。 さて、図において9は、前記冷却装置の隣に連
続して配設されたロールコータ7の移送ローラで
ある。 移送ローラ9は、図示しない駆動源によつて回
転駆動される複数の回転軸10に、各々一対のガ
イドローラ11,11が設けられて構成されてい
る。第1図に示すように、ガイドローラ11は、
基板8の両側部を支持して基板8を搬送する円板
形のローラ部11aと、ローラ部11aの外側端
面に設けられた皿状のガイド部11bとにより構
成されている。ガイド部11bの外径は、少くと
もローラ部11aの外径よりは大きく設定される
ことが好ましく、本実施例ではローラ部11aの
外周面上に載置される基板8の上面よりも、ガイ
ド部11bの外周面が回転軸10中心より外周方
に突出するように設定してあり、基板8の案内・
保持を確実にしている。また、ガイド部11bの
内側端面は、回転軸10中心より、外方に向けて
拡がるテーパ面に形成されている。移送中の基板
8が何らかの原因でローラ部11aから外れた場
合にも、基板8は両側部を前記テーパ面に案内さ
れるので、ローラ部11aの外周面上に戻り易く
なつている。また、一対のガイドローラ11,1
1の内少くとも一方は、回転軸10の方向に自在
にスライドさせて任意の位置に固定できるように
なつており、多様な寸法の基板8を案内・移送で
きるように構成されている。また、本実施例で
は、共通の回転軸10に一対のガイドローラ1
1,11を設けて移送ローラ9を構成したが、各
ガイドローラ11ごとに軸を設けて、それぞれ独
立して回転駆動するようにしてもよい。 また、移送ローラ9には、図示しない高さ調節
機構が設けられており、移送ローラ9は、基板8
の移送方向を水平状態に保ちながら、全体として
上下方向に移動され、後述する塗布ローラ13へ
の基板8の送り込み位置を任意に設定できるよう
に構成されている。 次に、前記移送ローラ9の移送方向隣部には、
受け皿12と塗布ローラ13が設けられている。 受皿12は、円筒を軸線方向に半分割した形状
をしており、基板8の移送方向と該軸線(長手方
向)とが直交する向きで、かつ、前記移送ローラ
9が基板8を移送してくる移送平面より下方の位
置に設けられている。図示しないが、受皿12に
は、駆動機構が取付けられており、清掃等の際に
は、前記位置から下方へ移動できるようになつて
いる。 また、受皿12の内部には、塗布液として薄膜
形成液14(以下、液14と略称する。)が溜め
られている。本実施例では、特に液14は、薄膜
形成成分を揮発性の有機溶剤に含有させた変質し
やすい液であるものとしている。図示はしない
が、受皿12の下部には、液14の自動供給装置
が供給管を介して接続されており、受皿12内の
液量が必要最小限の一定量に維持されるように構
成されている。また、受皿12の開口部の両側縁
には、液の揮発をおさえるために、つば状の覆い
12aが内側に向けて設けられている。 塗布ローラ13は、前記受皿12の開口部から
一部分が内方に入りこむと共に、受皿12の周壁
内面からはやや離れた位置に配設されており、塗
布ローラ13の一部分は、常に受皿12の内部に
収納されている液14に浸されるようになつてい
る。そして、塗布ローラ13の外周面最上部の位
置は、前記移送ローラ9によつて移送されてくる
基板8の下面よりも、やや上方となるように構成
されている。 また、塗布ローラ13は、駆動源15に連結さ
れ、作業順序に従つて自在に運転される構成とな
つている。 また、第3図に示すように、塗布ローラ13の
外周面16には、前記液14を付着させ、一時保
持するための凹部として、多数のほぼ一定な深さ
の縦溝17が形成されている。縦溝17は、外周
面16の周方向に沿い互いに平行に設けられてお
り、塗布ローラ13の中央部16aでは密に、外
方部16bでは比較的疎となるように形成されて
いる。そして、塗布ローラ13の両端部付近の外
周面16には、縦溝17がほとんど形成されてい
ない部分が設けられている。縦溝17の分布の疎
密は、中央部16aから両外方部16bにかけて
連続的に変化しているので、塗布ローラ13の外
周面16の表面状態も、付着量も、中央部16a
から外方部16bまで連続的に変化している。 なお、前記表面状態とは、塗布ローラ13の外
周面16のあらさ(即ち凹凸状態)を示すもので
あり、このあらさの大小は本実施例のように、凹
部(本実施例では縦溝17)の分布の疎密によつ
ても決るし、凹部自体の深さ(又は液14が保持
されるくぼみの容積)大小によつても決まる。例
えば、本実施例のように縦溝17の深さは一定と
し、分布を変えることによつて表面状態を変化さ
せてもよいし、また、塗布ローラ13の外周面1
6全体に均一な分布で凹部が形成されているが、
中央部16a付近の凹部ほど深さを大きく(保持
できる液14の量が多くなるように)して付着量
を大きくなるように表面状態を変化させてもよ
い。さらに、凹部の分布の疎密と、凹部の深さや
幅とを組合せて、それぞれ変化させることによつ
て、塗布ローラ13の外周面16の表面状態を変
化させてもよい。 そして、前記縦溝17は、塗布ローラ13を回
転させ、外周面16にヤスリやバイト等の工具を
あてることによつて容易に形成できる。この場
合、塗布ローラ13の回転速度、ヤスリの送り速
度、又はヤスリのあらさ等を変化させることによ
つて、縦溝17の深さ、形状、分布等を様々に変
えることができる。 また、塗布ローラ13の材質は、本実施例では
寿命の長い金属製とされているが、セラミツクス
等を用いてもよく、液14に侵されない材質であ
れば樹脂等を使用してもよい。 次に、前記塗布ローラ13の上方には、押えロ
ーラ18が設けられている。押えローラ18は、
図示しない駆動手段によつて下方に移動させるこ
とができ、塗布ローラ13上を移送されていく基
板8の上面を自重よつて押え、基板8の浮き上り
を防止するように構成されている。 次に、前記塗布ローラ13の回転方向隣部に
は、基板8を塗布ローラ13上から搬出するため
の排出側の移送ローラ19が設けられている。 移送ローラ19は、前記移送ローラ9と略同一
の構成とされ、下面に液14の薄膜が塗布された
基板8を、両側部のみを支えて案内・搬送できる
ように構成されている。そして、前述したよう
に、排出側の移送ローラ19の移送方向隣部に
は、加熱装置が連続して配設されており、下面に
液14が塗布された基板8は、移送ローラ19に
よつて加熱装置に送り込まれるように構成されて
いる。 本実施例では、基板8に塗布する液14が不安
定で変質しやすいものとされていると共に、薄膜
形成作業には大気中のちり等が障害になるので、
基板8及び液14は外気に直接さらされないよう
にすることが好ましい。例えば、ロールコータ7
を始め洗浄装置や乾燥装置等の基板8が移送され
る部分をカバー等で覆い、カバー内部の温度・湿
度等を自在に調節できるように構成すれば、外気
中の塵埃や水分を工程から排除して最適の環境条
件で一貫した薄膜形成作業を行なうことができ
る。 次に、以上説明した構成における作用ついて説
明する。 基板8は、洗浄装置によつて洗浄された後、乾
燥装置によつて加熱され水分を除去される。加熱
によつて温度の上昇した基板8は、冷却装置によ
つて冷却されながら搬送され、ロールコータ7の
移送ローラ9に送り込まれる。 移送ローラ9は、ガイドローラ11のローラ部
11aによつて基板8の両側部を支えながら基板
8を移送していく。従つて、移送中に、清浄な基
板8の上下両面が汚損されることはない。 次に、前記基板8は、塗布ローラ13の外周面
上部よりもやや低い位置から、塗布ローラ13に
送り込まれてくる。該基板8は、塗布ローラ13
の外周面16に対し、先端部の下縁辺で接触し、
移送ローラ9の駆動力によつて、塗布ローラ13
との接触を保ちつつやや傾きながら塗布ローラ1
3にのり上げていく。 基板8が塗布ローラ13と接触した時点から
は、第2図に示すように、基板8は、移送ローラ
9のある一対のガイドローラ11,11と塗布ロ
ーラ13とによつて、板の前後両端部のみで支え
られるようになる。従つて、基板8が歪んでいた
り、塗布ローラ13の回転軸が水平に保たれてい
ない場合でも、基板8の先端部と塗布ローラ13
とは確実に接触することになる。また、基板8の
後端部は一対のガイドローラ11のみによつて支
えられているので、移送ローラ9から基板8(及
び塗布ローラ13との接触部)に伝えられる振動
は最小限におさえられている。 基板8の先端部が塗布ローラ13の最上部にき
たところで、移送ローラ9の運転は一時停止され
るが、塗布ローラ13は回転を続けている。受皿
12に溜められた液14から上がつてくる塗布ロ
ーラ13の外周面には、常に液14が付着してお
り、この付着した液14は、第1図及び第2図に
示すように、基板8との接触部で回転方向前方に
せき止められる。そして、塗布ローラ13の回転
につれて、前記接触部より前方(塗布ローラ13
の回転方向前方)の、基板8と塗布ローラ13と
の隙間には、毛管現象によつて液14の溜り20
が生じてくる。 ここで、塗布ローラ13による液14の汲み上
げと、前記溜り20の形成ついて、第5図〜第7
図を参照してさらに詳しく説明する。 第5図に示すように、塗布ローラ13の外周面
16に付着して汲み上げられ、溜り20に入つた
液14は、塗布ローラ13の回転によつて基板8
との間に押しつけられるので、基板8が接触して
いない塗布ローラ13の外方部16bへと移動し
ていく傾向がある。 従つて、第6図に示すように、塗布ローラ13
の外周面16の表面状態が均一で、付着する液1
4の量が外周面16のどの部分でもほぼ一定であ
ると、基板8の両端付近には液14が多く集ま
り、相対的に基板8の中央部分は液14の量が少
くなつて、基板8の下側にできる溜り20全体の
形状が不均一になつてしまう。 ところが、本実施例の塗布ローラ13は、外周
面16に縦溝17が形成されているので、液14
の付着量は、塗布ローラ13の中央部16aが最
も多く、外方部16bへ行くほど少くなつてい
る。従つて、第7図に示すように、前述した溜り
20の内部における液14の移動によつて、溜り
20全体の形状は安定し、塗布ローラ13のどの
部分でも液14のたまる量がほぼ一定に保たれる
ようになる。そして、塗布ローラ13の両端部近
傍の外周面には、縦溝17がほとんど形成されて
いないため、液14の付着量が少ない部分もある
ので、外周面16を外方へ移動していく液14
は、塗布ローラ13の両端面へ次々と排出されて
いくことになる。 また、基板8が何らかの原因で塗布ローラ13
から離れて浮き上つてしまうと、基板8と塗布ロ
ーラ13との間には隙間ができてしまうので、溜
り20は一定の液量を保持できなくなり不安定に
なつてしまう。ところが、前述したように、本実
施例においては、基板8と塗布ローラ13との接
触が確保されていることや、基板8及び塗布ロー
ラ13との接触部に伝えられる振動が少いこと等
のため、塗布ローラ13の回転につれて、溜り2
0は円滑かつ安定的に成長し、前述したように一
定の液量となり基板8の移送方向についての幅が
一定な規則的形状となるものである。 さて、前記溜り20の液量が所定量に達したと
ころで、押えローラ18が下方に移動して基板8
の上面に接し、自重によつて基板8の歪等による
浮き上りを防止する。そして、移送ローラ9は再
び基板8を移送しはじめる。基板8の下面は、前
記液14の溜り20に触れて液14が付着する
が、付着した液14の一部は、基板8と塗布ロー
ラ13との接触部において、塗布ローラ13の回
転方向と逆方向に押し返されるので、基板8の下
面には液14が均一に塗布されていくことにな
る。 なお、本工程においては、液14に圧力をかけ
て基板8に転写するのではなく、塗布ローラ13
と基板8との隙間に液14の溜り20を形成さ
せ、該溜り0に基板8を接触させて液14を塗布
している。従つて受皿12中には、少くとも塗布
ローラ13の一部分が浸るだけの液量があればよ
く、受皿12中の液量は必要最小限の一定量が保
持されるように、自動供給装置を調整しておけば
よい。また、受皿12には覆い12aが設けられ
ており、液14の揮発は抑えられているので、常
に一定の品質の液14を塗着させることができる
と共に液14の歩留りはさらによくなり、低コス
トの薄膜形成作業を実現することができる。 次に、前記基板8は、排出側移送ローラ19に
よつて前方に送られ、塗布ローラ13から取出さ
れる。排出側の移送ローラ19は、基板8の両側
部に接触するだけなので、液14が塗布されたば
かりの基板8裏面を汚損することはない。また、
本実施例の液14は揮発成分を含んでいるので、
移送ローラ19によつて次工程へ運ばれていく間
に、基板8に塗布された液14はある程度乾燥す
ることになる。 次に、前記基板8は、加熱装置に送り込まれ
る。そして、、基板8の下面に付着している液1
4は加熱・乾燥され、均一な薄膜が形成されてい
く。 また、以上の実施例では、塗布液として変質し
やすい薄膜形成液を例にあげたが、この他安定し
た薄膜形成液はもちろん、各種の液体についても
本考案を適用できることは言うまでもない。 また、実施例中、塗布ローラ13の上方に1個
の押えローラ18を設けたが、自重の軽い基板を
処理する場合等には、基板8の浮上りを防止し、
基板8と塗布ローラ13との接触をより確実にす
るために、塗布ローラ13の前後に複数の押えロ
ーラを設けるようにしてもよい。 [第2実施例] 次に本考案の第2実施例について説明する。 この実施例は、塗布ローラ13の外周面16に
形成された凹部の形状と、外周面16の表面状態
の変化のつけ方は第1実施例と異なつている。そ
の他の構成及び作用は、第1実施例と略同一なの
で説明を省略する。 第4図に示すように、塗布ローラ21の外周面
22には、凹部としての横溝23が多数形成され
ている。横溝23は、塗布ローラ21の回転軸2
4と平行に設けられており、塗布ローラ21の中
央部の領域Aでは比較的狭い間隔で、外方部の領
域B,Bではやや間隔をあけて形成されている。
そして、塗布ローラ21の両端部付近の領域C,
Cには横溝23はほとんど形成されていない。横
溝23の分布の疎密は、中央部から両外方部にか
けて段階的に変化しているので、塗布ローラ21
の外周面22の表面状態も、付着量の多い領域A
から比較的付着量の少ない領域Cまで段階的に変
化している。 横溝23は、各領域ごとに適当な粒度のサンド
ペーパ等を使用して形成すればよく、横溝23の
深さと横溝23どうしの間隔(分布の密度)との
関係は第1実施例の項で説明した通り、様々に設
定することができる。 [第3実施例] 次に本考案の第3実施例ついて説明する。 この実施例は、塗布ローラの外周面に形成され
た凹部の形状が、第1実施例及び第2実施例とは
異なつており、外周面の表面状態の変化のつけ方
は第2実施例と同様に段階的とされている。その
他の構成及び作用は、第1実施例と略同一なので
説明を省略する。 図示はしないが、塗布ローラの外周面には、凹
部としてのローレツト溝が形成されている。ロー
レツト溝は、互いに交差する2方向の溝によつて
構成される網目状の溝であり、塗布ローラの中央
部の領域では比較的目を細かく、多数の溝を形成
し、外方部の領域ではやや目を粗くして形成され
ている。そして、塗布ローラの両端部付近の領域
にはローレツト溝はほとんど形成されていない。
ローレツト溝の目の大小は、中央部から両外方部
の各領域ごとに段階的に変化しているので、塗布
ローラの外周面の表面状態も、中央部の凹凸の多
い粗い領域から比較的滑かな外方部の領域まで段
階的に変化している。 ローレツト溝は、各領域ごとに適当な粒度のサ
ンドペーパ等を使用して形成すればよく、ローレ
ツト溝の深さとローレツト溝どうしの間隔(分布
の密度)との関係は第1実施例の項で説明した通
り、様々に設定することができる。 また、本実施例のローレツト溝のかわりに、塗
布ローラの回転軸に対して傾きをもつた斜め溝を
設けてもよい。 [第4実施例] 次に本考案の第4実施例について説明する。 この実施例は、塗布ローラの外周面に形成され
た凹部の形状が、第1実施例〜第3実施例とは異
なつており、外周面の表面状態の変化のつけ方は
第1実施例と同様に連続的とされている。その他
の構成及び作用は、第1実施例と略同一なので説
明を省略する。 図示はしなが、塗布ローラの外周面には、凹部
としてのほぼ深さの一定な不規則溝が形成されて
いる。不規則溝は、様々な方向の溝が様々な角度
で交差して構成されるもので、塗布ローラの中央
部では比較的密に、多数の溝が形成され、外方部
では比較的疎らに、間をあけて形成されている。
そして、塗布ローラの両端部付近は不規則溝はほ
とんど形成されていない。不規則溝分布の疎密
は、中央部から両外方部にかけて連続的に変化し
ているので、塗布ローラの外周面の表面状態も、
凹凸の多い中央部から比較的滑かな外方部まで連
続的に変化している。 また、不規則溝は、適当な粒度のサンドペーパ
で外周面を様々な方向にこすつて形成することが
でき、不規則溝の深さと分布の疎密との関係は第
1実施例の項で説明した通り、様々に設定するこ
とができる。 [第5実施例] 次に本考案の第5実施例ついて説明する。 この実施例は、塗布ローラの外周面に形成され
た凹部の形状が、第1実施例〜第4実施例とは異
なつており、外周面の表面状態の変化のつけ方は
第2実施例と同様に段階的とされている。その他
の構成及び作用は、第1実施例と略同一なので説
明を省略する。 図示はしないが、塗布ローラの外周面には、点
状(梨地状)の凹部が形成されている。該凹部
は、塗布ローラの中央部の領域では比較的大きく
形成されており、液の付着量が多くなるよに構成
され、外方部の領域では比較的小さく形成され、
液の付着量が少くなるように構成されている。そ
して、塗布ローラの両端部付近の領域には凹部は
ほとんど形成されていない。凹部の大きさ(又は
深さ)は、中央部から両外方部の各領域ごとに段
階的に変化しているので、塗布ローラの外周面の
表面状態も、中央部の凹凸の多い領域から比較的
滑かな外方部の領域まで段階的に変化している。 前記凹部は、例えばサンドブラストによつて形
成することができ、塗布ローラの中央部を加工す
る時は、他の部分を覆つた上で、比較的粒度の大
きい砂を使つてブラストし、外方部を加工する時
は、他の部分を覆つた上で、比較的粒度の小さい
砂を使つてブラストすればよい。 [考案の効果] 以上説明したように、本考案のロールコータ
は、塗布ローラの外周面に凹部を形成して、塗布
液の付着量が塗布ローラ中央部で多く、外方部で
は少くなるように構成したので、基板の表面に塗
布液を均一に塗布することができるという効果が
ある。 前記の効果を確認するため、第8図に示すよう
に、幅500mm、長さ1000mmのガラス基板に有機In
化合物5%含有薄膜形成液と有機Sn化合物5%
含有薄膜形成液とを、本考案のロールコータで付
着させて薄膜を形成させた。そして、第8図に示
すような15点の位置における面抵抗値を測定した
ら下記の表に示すようなデータを得た。
[Industrial Application Field] The present invention relates to a roll coater that can uniformly apply a coating liquid to the surface of a flat substrate. For example, if the coating liquid is a thin film forming liquid, It can be used in operations to form thin films. The present invention is particularly useful for forming thin films as exemplified below. For example, a transparent conductive film is provided on the inner surface of the front plate to shield external electric fields in a fluorescent display tube whose display part is observed through the front plate, and a so-called front-emitting type fluorescent display tube whose display part is observed through the substrate. In an optical display tube, it can be used as a coating device for a conductive film forming liquid in order to form a transparent conductive film provided on an anode substrate as an anode conductor and a wiring conductor. Furthermore, transparent conductive films used for electrodes of liquid crystal display devices, transparent oxide films formed on the surface of glass plates as a barrier to prevent the elution of alkaline components, and
To form a thin film that is formed on the surface of a glass plate to strengthen it, and a thin film that is applied to the surface of a glass plate to provide various features such as anti-reflection and improved heat reflection. It can also be used as a coating device for thin film forming liquid. [Prior Art] A three-roll roll coater shown in FIG. 9 is known as an apparatus for applying a thin film forming liquid to the surface of a substrate such as glass in order to form a thin film on the surface of the substrate. ing. A conventional roll coater 1 includes a backup roller 3 that supports a substrate 2 from below, and a coating roller 5 that is pressed against the upper surface of the substrate 2 and transfers a thin film forming liquid 4 onto the substrate 2. 4
is poured onto a doctor roller 6, spread uniformly by the doctor roller 6, and supplied to the coating roller 5. Furthermore, a depping method is known as another method for applying a thin film forming liquid to the surface of a substrate. The depping method is a method in which a tank large enough to accommodate the entire substrate is provided, the tank is filled with a thin film forming liquid, and the substrate is immersed and then pulled up to apply the thin film forming liquid to both sides of the substrate. [Problems to be solved by the invention] Conventional roll coaters cannot be applied when the thin film forming liquid is unstable. for example,
Consider the case of a thin film forming liquid in which an organometallic compound (alkoxy compound) containing indium, tin, titanium, etc. is dissolved in an organic solvent that has a low boiling point and is easily volatile. Before the liquid is transferred as a thin film onto the substrate 2, pressure is applied twice between the doctor roller 6 and the coating roller 5 and between the coating roller 5 and the substrate 2. Further, since the solvent component of the liquid continues to volatilize from the stage when the liquid is supplied to the doctor roller 6, the liquid is not uniformly transferred to the coating roller 5. Therefore, of the liquid adhering to the coating roller 5, the part where the solvent component has not volatilized is transferred to the substrate 2, but the part where the solvent component has evaporated remains attached to the coating roller 5 and is transferred to the substrate 2. is not transcribed. Therefore, the thin film forming liquid transferred to the substrate 2 becomes non-uniform. Further, according to the conventional roll coater using three rolls, it is necessary to sandwich the substrate 2 between the back-up roller 3 and the coating roller 5.
When processing substrates of different thicknesses, the roller spacing must be adjusted. Therefore, when using an unstable thin film forming liquid as mentioned above, the above-mentioned dipping method is applied, but this method requires a sufficient amount of liquid to immerse the entire substrate. However, there was a problem that it was not economical because the amount of liquid deteriorated over time increased. Also, when the substrate is pulled out of the liquid after immersion,
The thickness of the thin film-forming liquid that adheres to the substrate is not constant because volatilization starts from the top of the substrate that was lifted first, and the liquid that flows down the surface of the substrate after being lifted tends to accumulate in the lower part of the substrate. There was a problem. Furthermore, since the entire substrate is immersed, there is a problem that the thin film forming liquid cannot be applied to only one side of the substrate as in the case of the roll coater method. [Purpose of the invention] The present invention was made to solve the above-mentioned problems, and it is possible to uniformly apply the coating liquid to only one side of the substrate, and it is particularly effective in forming thin films, which can be unstable. It is an object of the present invention to provide an economical roll coater that can be used with a thin film forming liquid and uses a small amount of the thin film forming liquid. [Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the roll coater of the present invention includes a saucer for storing the coating liquid, and a tray that is partially immersed in the coating liquid so that the coating liquid adheres to the outer peripheral surface. In a roll coater equipped with a rotating coating roller and a transfer roller that intermittently transfers a substrate onto the coating roller, on the outer circumferential surface of the coating roller, so that the coating amount is different between the central part and the outer part, The coating roller is characterized in that minute recesses are formed on the outer peripheral surface of the coating roller to change the surface condition of the coating roller. [Function] Since the coating roller rotates with a portion immersed in the coating liquid in the saucer, the coating liquid always adheres to the outer peripheral surface of the coating roller that rises from the coating liquid. A plurality of minute recesses such as grooves and dotted recesses are formed on the outer circumferential surface of the application roller, and the surface condition is largely uneven at the center of the outer circumferential surface and less uneven at the outer circumferential surface. Therefore, the amount of the coating liquid that adheres to the above-mentioned outer circumferential surface is larger in the central part than in the outer part. Here, the substrate is sent onto the coating roller by the transfer roller, but when the tip of the substrate comes into contact with the top of the outer peripheral surface of the coating roller, the transfer roller temporarily stops driving. The coating roller rotates with the tip of the substrate in contact with the top of the coating roller, and the coating liquid adheres to the outer peripheral surface of the coating roller and is drawn up. As the application roller rotates, a pool of application occurs in the gap in front of the contact portion between the substrate and the application roller. The application liquid in the pooled portion is pressed between the application roller and the substrate by the rotation of the application roller, and therefore moves toward the outside of the application roller where the substrate is not in contact. However, since the amount of the coating liquid that adheres to the outer peripheral surface of the coating roller and is drawn up is originally larger in the central portion, the shape of the pooled portion is stable. That is, the amount of the coating liquid accumulated is constant at any location on the coating roller. When the amount of liquid in the reservoir reaches a predetermined amount, the transfer roller starts transferring the substrate again. The bottom surface of the substrate comes into contact with the pool of coating liquid and is coated with the coating liquid, but some of the attached coating liquid is pushed back in the rotational direction of the coating roller at the contact area between the substrate and the coating roller. The coating liquid is uniformly applied to the lower surface of the substrate. [First Example] Hereinafter, a first example of the present invention will be described. FIG. 1 is a plan view showing the roll coater of the first embodiment, and FIG. 2 is an enlarged sectional view taken along the line - in FIG. 1. The roll coater 7 of this embodiment is incorporated in a part of a thin film forming apparatus that applies an unstable thin film forming liquid to a glass substrate 8 and then bakes it to form a thin film. Although not shown, the thin film forming apparatus includes a cleaning device for the substrate 8, a drying device for heating and drying the cleaned substrate 8, a cooling device for cooling the substrate 8 whose temperature has increased due to heating, and a substrate 8. It is equipped with a roll coater 7 for applying a thin film forming liquid to the substrate 8 and a heating device for baking the substrate 8 coated with the liquid. Now, in the figure, 9 is a transfer roller of the roll coater 7 which is disposed continuously next to the cooling device. The transfer roller 9 is configured such that a pair of guide rollers 11, 11 are respectively provided on a plurality of rotation shafts 10 that are rotationally driven by a drive source (not shown). As shown in FIG. 1, the guide roller 11 is
It is composed of a disk-shaped roller section 11a that supports both sides of the substrate 8 and conveys the substrate 8, and a dish-shaped guide section 11b provided on the outer end surface of the roller section 11a. The outer diameter of the guide portion 11b is preferably set to be at least larger than the outer diameter of the roller portion 11a. The outer circumferential surface of the portion 11b is set to protrude outward from the center of the rotating shaft 10, and serves as a guide for the board 8.
Ensures retention. Further, the inner end surface of the guide portion 11b is formed into a tapered surface that expands outward from the center of the rotating shaft 10. Even if the substrate 8 that is being transferred comes off the roller section 11a for some reason, the substrate 8 is guided by the tapered surface on both sides, so that it can easily return to the outer peripheral surface of the roller section 11a. In addition, a pair of guide rollers 11, 1
At least one of the substrates 1 can be slid freely in the direction of the rotating shaft 10 and fixed at any desired position, and is configured to be able to guide and transport substrates 8 of various sizes. Further, in this embodiment, a pair of guide rollers 1 are provided on a common rotating shaft 10.
1 and 11 to constitute the transfer roller 9, a shaft may be provided for each guide roller 11 so that each guide roller 11 is rotated independently. Further, the transfer roller 9 is provided with a height adjustment mechanism (not shown), and the transfer roller 9 is connected to the substrate 8.
The substrate 8 is moved in the vertical direction as a whole while maintaining the transfer direction in a horizontal state, and is configured such that the position at which the substrate 8 is fed to the coating roller 13, which will be described later, can be arbitrarily set. Next, in a portion adjacent to the transfer roller 9 in the transfer direction,
A tray 12 and an application roller 13 are provided. The saucer 12 has the shape of a cylinder divided in half in the axial direction, and is oriented such that the direction in which the substrate 8 is transferred and the axis (longitudinal direction) are orthogonal to each other, and the transfer roller 9 transfers the substrate 8. It is located below the transport plane. Although not shown, a drive mechanism is attached to the tray 12 so that it can be moved downward from the above-mentioned position during cleaning or the like. Further, inside the saucer 12, a thin film forming liquid 14 (hereinafter abbreviated as liquid 14) is stored as a coating liquid. In this embodiment, the liquid 14 in particular is a liquid that contains a thin film-forming component in a volatile organic solvent and is easily deteriorated. Although not shown, an automatic supply device for the liquid 14 is connected to the lower part of the saucer 12 via a supply pipe, and is configured to maintain the amount of liquid in the saucer 12 at a minimum constant level. ing. Further, on both side edges of the opening of the saucer 12, flange-shaped covers 12a are provided facing inward in order to suppress volatilization of the liquid. A portion of the applicator roller 13 enters inward from the opening of the tray 12 and is disposed at a position slightly away from the inner surface of the peripheral wall of the tray 12, so that a portion of the applicator roller 13 is always inside the tray 12. It is designed to be immersed in a liquid 14 stored in the container. The topmost position of the outer peripheral surface of the coating roller 13 is configured to be slightly above the lower surface of the substrate 8 transferred by the transfer roller 9. Further, the application roller 13 is connected to a drive source 15 and is configured to be freely driven according to the work order. Further, as shown in FIG. 3, a large number of vertical grooves 17 having a substantially constant depth are formed on the outer circumferential surface 16 of the application roller 13 as recesses for adhering and temporarily retaining the liquid 14. There is. The vertical grooves 17 are provided parallel to each other along the circumferential direction of the outer circumferential surface 16, and are formed densely in the central portion 16a of the application roller 13 and relatively sparsely in the outer portion 16b. The outer circumferential surface 16 near both ends of the application roller 13 is provided with a portion where almost no vertical grooves 17 are formed. Since the distribution density of the vertical grooves 17 changes continuously from the center portion 16a to both outer portions 16b, the surface condition of the outer circumferential surface 16 of the application roller 13 and the amount of adhesion vary depending on the center portion 16a.
It changes continuously from to the outer part 16b. Note that the above-mentioned surface condition indicates the roughness (that is, unevenness) of the outer circumferential surface 16 of the application roller 13, and the magnitude of this roughness is determined by the recesses (in this example, the vertical grooves 17) as in this example. It is determined by the density of the distribution of liquid 14, and also by the size of the depth of the recess itself (or the volume of the recess in which the liquid 14 is held). For example, as in this embodiment, the depth of the vertical grooves 17 may be constant and the surface condition may be changed by changing the distribution.
Although concavities are uniformly distributed throughout 6,
The surface condition may be changed so that the depth of the concave portion near the center portion 16a increases (so that the amount of liquid 14 that can be held increases) so that the amount of adhesion increases. Furthermore, the surface condition of the outer circumferential surface 16 of the application roller 13 may be changed by changing the density and density of the distribution of the recesses in combination with the depth and width of the recesses. The vertical grooves 17 can be easily formed by rotating the application roller 13 and applying a tool such as a file or a cutting tool to the outer peripheral surface 16. In this case, the depth, shape, distribution, etc. of the vertical grooves 17 can be varied in various ways by changing the rotational speed of the application roller 13, the feeding speed of the file, the roughness of the file, etc. Further, the material of the application roller 13 is made of metal with a long life in this embodiment, but ceramics or the like may be used, or resin or the like may be used as long as the material is not eroded by the liquid 14. Next, a press roller 18 is provided above the application roller 13. The presser roller 18 is
It can be moved downward by a drive means (not shown), and is configured to press the upper surface of the substrate 8 being transferred on the coating roller 13 by its own weight, thereby preventing the substrate 8 from lifting up. Next, adjacent to the application roller 13 in the rotational direction, a discharge-side transfer roller 19 is provided for transporting the substrate 8 from above the application roller 13 . The transfer roller 19 has substantially the same configuration as the transfer roller 9, and is configured to guide and convey the substrate 8, the lower surface of which is coated with a thin film of the liquid 14, while supporting only both sides. As described above, a heating device is continuously disposed adjacent to the transfer roller 19 on the discharge side in the transfer direction, and the substrate 8 coated with the liquid 14 on the lower surface is heated by the transfer roller 19. and is configured to be fed into a heating device. In this embodiment, the liquid 14 applied to the substrate 8 is unstable and easily deteriorates, and dust in the atmosphere poses an obstacle to the thin film forming operation.
Preferably, the substrate 8 and the liquid 14 are not exposed directly to the outside air. For example, roll coater 7
If the parts of the cleaning equipment, drying equipment, etc. where the substrate 8 is transferred are covered with a cover, etc., and configured so that the temperature, humidity, etc. inside the cover can be freely adjusted, dust and moisture in the outside air can be eliminated from the process. This enables consistent thin film formation operations under optimal environmental conditions. Next, the operation of the configuration described above will be explained. After the substrate 8 is cleaned by a cleaning device, it is heated by a drying device to remove moisture. The substrate 8 whose temperature has increased due to heating is conveyed while being cooled by a cooling device, and sent to the transfer roller 9 of the roll coater 7 . The transfer roller 9 transfers the substrate 8 while supporting both sides of the substrate 8 by the roller portions 11a of the guide rollers 11. Therefore, the upper and lower surfaces of the clean substrate 8 will not be contaminated during transportation. Next, the substrate 8 is fed into the coating roller 13 from a position slightly lower than the upper part of the outer peripheral surface of the coating roller 13. The substrate 8 is coated with a coating roller 13.
The lower edge of the tip contacts the outer peripheral surface 16 of the
The application roller 13 is moved by the driving force of the transfer roller 9.
While maintaining contact with the applicator roller 1, tilt it slightly.
I will move up to 3. From the time when the substrate 8 comes into contact with the coating roller 13, as shown in FIG. It becomes possible to be supported only by the department. Therefore, even if the substrate 8 is distorted or the rotation axis of the coating roller 13 is not kept horizontal, the tip of the substrate 8 and the coating roller 13
will definitely come into contact with. Furthermore, since the rear end of the substrate 8 is supported only by the pair of guide rollers 11, vibrations transmitted from the transfer roller 9 to the substrate 8 (and the contact portion with the coating roller 13) can be suppressed to a minimum. ing. When the tip of the substrate 8 reaches the top of the coating roller 13, the operation of the transfer roller 9 is temporarily stopped, but the coating roller 13 continues to rotate. The liquid 14 always adheres to the outer peripheral surface of the application roller 13 that rises from the liquid 14 stored in the saucer 12, and this adhered liquid 14, as shown in FIGS. 1 and 2, It is stopped forward in the rotational direction at the contact portion with the substrate 8. Then, as the application roller 13 rotates, the application roller 13
A pool 20 of the liquid 14 is formed in the gap between the substrate 8 and the application roller 13 (at the front in the rotational direction) due to capillary action.
will arise. Here, the pumping up of the liquid 14 by the application roller 13 and the formation of the reservoir 20 are explained in FIGS. 5 to 7.
This will be explained in more detail with reference to the drawings. As shown in FIG. 5, the liquid 14 that adheres to the outer peripheral surface 16 of the coating roller 13 and is drawn up and enters the reservoir 20 is transferred to the substrate 8 by the rotation of the coating roller 13.
, the substrate 8 tends to move toward the outer part 16b of the application roller 13 with which it is not in contact. Therefore, as shown in FIG.
The surface condition of the outer peripheral surface 16 of is uniform, and the attached liquid 1
If the amount of liquid 14 is approximately constant at any part of the outer circumferential surface 16, a large amount of liquid 14 will collect near both ends of the substrate 8, and the amount of liquid 14 will be relatively small at the center of the substrate 8, causing the substrate 8 The overall shape of the pool 20 formed on the lower side becomes uneven. However, since the applicator roller 13 of this embodiment has the vertical grooves 17 formed on the outer circumferential surface 16, the liquid 14
The amount of adhesion is greatest at the center portion 16a of the application roller 13, and decreases toward the outer portion 16b. Therefore, as shown in FIG. 7, due to the movement of the liquid 14 inside the pool 20 described above, the overall shape of the pool 20 is stabilized, and the amount of the liquid 14 accumulated at any part of the application roller 13 is almost constant. will be maintained. Since almost no vertical grooves 17 are formed on the outer circumferential surface near both ends of the application roller 13, there are some parts where the amount of liquid 14 adhered is small, so the liquid moves outward on the outer circumferential surface 16. 14
are successively discharged to both end surfaces of the application roller 13. In addition, the substrate 8 may be damaged by the application roller 13 for some reason.
If it floats away from the substrate 8, a gap will be created between the substrate 8 and the coating roller 13, and the reservoir 20 will no longer be able to maintain a constant amount of liquid, resulting in instability. However, as described above, in this embodiment, the contact between the substrate 8 and the coating roller 13 is ensured, and the vibration transmitted to the contact portion between the substrate 8 and the coating roller 13 is small. Therefore, as the application roller 13 rotates, the pool 2
0 grows smoothly and stably, has a constant liquid volume as described above, and has a regular shape with a constant width in the transfer direction of the substrate 8. Now, when the amount of liquid in the reservoir 20 reaches a predetermined amount, the presser roller 18 moves downward and the substrate 8
The substrate 8 is in contact with the upper surface of the substrate 8, and prevents the substrate 8 from lifting up due to distortion or the like due to its own weight. Then, the transfer roller 9 begins to transfer the substrate 8 again. The lower surface of the substrate 8 comes into contact with the reservoir 20 of the liquid 14 and is coated with the liquid 14, but a portion of the attached liquid 14 is mixed with the rotational direction of the coating roller 13 at the contact area between the substrate 8 and the coating roller 13. Since it is pushed back in the opposite direction, the liquid 14 is uniformly applied to the lower surface of the substrate 8. Note that in this step, instead of applying pressure to the liquid 14 and transferring it to the substrate 8, the application roller 13
A reservoir 20 of the liquid 14 is formed in the gap between the substrate 8 and the substrate 8, and the liquid 14 is applied by bringing the substrate 8 into contact with the reservoir 0. Therefore, it is sufficient that there is enough liquid in the saucer 12 to soak at least a portion of the application roller 13, and an automatic supply device is installed so that the amount of liquid in the saucer 12 is maintained at a constant minimum necessary amount. Just adjust it. In addition, since the saucer 12 is provided with a cover 12a and the volatilization of the liquid 14 is suppressed, it is possible to always apply the liquid 14 of a constant quality, and the yield of the liquid 14 is further improved. A low-cost thin film formation operation can be realized. Next, the substrate 8 is sent forward by the discharge side transfer roller 19 and taken out from the coating roller 13. Since the transfer roller 19 on the discharge side only contacts both sides of the substrate 8, it does not stain the back surface of the substrate 8 on which the liquid 14 has just been applied. Also,
Since the liquid 14 in this example contains volatile components,
The liquid 14 applied to the substrate 8 dries to some extent while being carried to the next step by the transfer roller 19. Next, the substrate 8 is fed into a heating device. Then, the liquid 1 attached to the bottom surface of the substrate 8
4 is heated and dried to form a uniform thin film. Further, in the above embodiments, a thin film forming liquid that is easily deteriorated was used as a coating liquid, but it goes without saying that the present invention can be applied to other stable thin film forming liquids as well as various other liquids. In addition, in the embodiment, one presser roller 18 was provided above the application roller 13, but when processing a light substrate, etc., it is necessary to prevent the substrate 8 from floating.
In order to ensure more reliable contact between the substrate 8 and the application roller 13, a plurality of presser rollers may be provided before and after the application roller 13. [Second Embodiment] Next, a second embodiment of the present invention will be described. This embodiment is different from the first embodiment in the shape of the recess formed in the outer circumferential surface 16 of the application roller 13 and in the manner in which the surface condition of the outer circumferential surface 16 is changed. The other configurations and operations are substantially the same as those in the first embodiment, so their explanations will be omitted. As shown in FIG. 4, a large number of lateral grooves 23 as recesses are formed on the outer circumferential surface 22 of the application roller 21. As shown in FIG. The horizontal groove 23 is connected to the rotation shaft 2 of the application roller 21.
4, and are formed at a relatively narrow interval in the central region A of the application roller 21, and with a slight interval in the outer regions B, B.
Then, a region C near both ends of the application roller 21,
In C, almost no lateral grooves 23 are formed. The density of the distribution of the lateral grooves 23 changes stepwise from the central part to both outer parts, so that the applicator roller 21
The surface condition of the outer peripheral surface 22 of
There is a stepwise change from 1 to 3, to region C where the amount of adhesion is relatively small. The lateral grooves 23 may be formed using sandpaper or the like with an appropriate particle size for each region, and the relationship between the depth of the lateral grooves 23 and the interval (density of distribution) between the lateral grooves 23 will be explained in the section of the first embodiment. As you can see, various settings can be made. [Third Embodiment] Next, a third embodiment of the present invention will be described. In this example, the shape of the recess formed on the outer peripheral surface of the application roller is different from the first example and the second example, and the way to change the surface condition of the outer peripheral surface is the same as in the second example. It is also said to be gradual. The other configurations and operations are substantially the same as those in the first embodiment, so their explanations will be omitted. Although not shown, a knurled groove serving as a recess is formed on the outer peripheral surface of the application roller. The knurled groove is a mesh-like groove composed of grooves in two directions that intersect with each other.The central area of the applicator roller has a relatively fine mesh and a large number of grooves, and the outer area has a large number of grooves. It is formed with a slightly rougher texture. Further, almost no knurling grooves are formed in the areas near both ends of the application roller.
Since the size of the knurled grooves changes stepwise from the center to the outer areas, the surface condition of the outer circumferential surface of the applicator roller also changes from a rough area with many unevenness in the center to a relatively rough area. There is a gradual change to the smooth outer region. The knurled grooves may be formed using sandpaper or the like with an appropriate particle size for each region, and the relationship between the depth of the knurled grooves and the spacing between the knurled grooves (density of distribution) will be explained in the section of the first embodiment. As you can see, various settings can be made. Further, in place of the knurled groove of this embodiment, an oblique groove inclined with respect to the rotation axis of the application roller may be provided. [Fourth Example] Next, a fourth example of the present invention will be described. In this example, the shape of the recess formed on the outer peripheral surface of the application roller is different from the first to third examples, and the way to change the surface condition of the outer peripheral surface is the same as in the first example. It is also considered continuous. The other configurations and operations are substantially the same as those in the first embodiment, so their explanations will be omitted. Although not shown in the drawings, irregular grooves with a substantially constant depth are formed as recesses on the outer circumferential surface of the application roller. Irregular grooves are composed of grooves in various directions that intersect at various angles, with a large number of grooves being relatively densely formed in the center of the applicator roller and relatively sparsely forming in the outer part. , are formed with spaces between them.
In addition, almost no irregular grooves are formed near both ends of the application roller. Since the density of the irregular groove distribution changes continuously from the center to both outer parts, the surface condition of the outer peripheral surface of the application roller also changes.
It changes continuously from the rough central part to the relatively smooth outer part. In addition, irregular grooves can be formed by rubbing the outer peripheral surface in various directions with sandpaper of an appropriate particle size, and the relationship between the depth of the irregular grooves and the density of the distribution was explained in the section of the first embodiment. It can be set in various ways. [Fifth Example] Next, a fifth example of the present invention will be described. In this example, the shape of the recess formed on the outer peripheral surface of the application roller is different from the first to fourth examples, and the way to change the surface condition of the outer peripheral surface is the same as in the second example. It is also said to be gradual. The other configurations and operations are substantially the same as those in the first embodiment, so their explanations will be omitted. Although not shown, dot-like (matte-like) recesses are formed on the outer circumferential surface of the application roller. The recess is formed relatively large in the central region of the application roller so that a large amount of liquid adheres thereto, and is formed relatively small in the outer region,
It is configured to reduce the amount of liquid attached. In addition, almost no recesses are formed in the areas near both ends of the application roller. Since the size (or depth) of the recesses changes stepwise from the center to each outer region, the surface condition of the outer circumferential surface of the applicator roller also varies from the center with many irregularities. There is a gradual change to a relatively smooth outer region. The recesses can be formed, for example, by sandblasting. When processing the central part of the applicator roller, the other parts are covered and blasted using relatively large-grained sand, and the outer part is When processing, you can cover the other parts and blast using relatively small-grained sand. [Effects of the invention] As explained above, the roll coater of the invention forms a concave portion on the outer peripheral surface of the coating roller so that the amount of coating liquid attached is large at the center of the coating roller and small at the outer portion. This configuration has the effect that the coating liquid can be uniformly applied to the surface of the substrate. In order to confirm the above effect, organic In was placed on a glass substrate with a width of 500 mm and a length of 1000 mm, as shown in
Thin film forming solution containing 5% compound and 5% organic Sn compound
The containing thin film forming liquid was applied using the roll coater of the present invention to form a thin film. Then, when sheet resistance values were measured at 15 positions as shown in FIG. 8, data as shown in the table below was obtained.

【表】 薄膜の面抵抗は、その薄膜の厚さに比例するこ
とが知られているので、面抵抗値のバラツキから
膜厚のバラツキを類推することができる。上記の
結果と測定誤差範囲から類推すると、膜厚は均一
であることがわかる。
[Table] It is known that the sheet resistance of a thin film is proportional to the thickness of the thin film, so it is possible to infer the fluctuation in film thickness from the fluctuation in the sheet resistance value. By analogy with the above results and the measurement error range, it can be seen that the film thickness is uniform.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本考案の第1実施例を示す平面図、
第2図は、第1図における−線断面図、第3
図は、第1実施例の塗布ローラの平面図、第4図
は、第2実施例の塗布ローラの平面図、第5図
は、作動中の塗布ローラの斜視図、第6図は、形
状が不均一な溜りを有する塗布ローラと基板の平
面図、第7図は、形状が均一な溜りを有する塗布
ローラと基板の平面図、第8図は、本考案のロー
ルコータを利用して形成した薄膜の面抵抗測定点
を示す図、第9図は、従来使用されているロール
コータの側面図である。 7……ロールコータ、8……基板、9,19…
…移送ローラ、13,21……塗布ローラ、14
……塗布液としての薄膜形成液、16……外周
面、16a……中央部、16b……外方部、17
……凹部としての縦溝、23……凹部としての横
溝。
FIG. 1 is a plan view showing a first embodiment of the present invention;
Figure 2 is a sectional view taken along the - line in Figure 1;
The figure is a plan view of the applicator roller of the first embodiment, FIG. 4 is a plan view of the applicator roller of the second embodiment, FIG. 5 is a perspective view of the applicator roller in operation, and FIG. 6 is the shape FIG. 7 is a plan view of a coating roller and a substrate that have uneven pools, FIG. 8 is a plan view of a coating roller and a substrate that have pools that are uniform in shape, and FIG. FIG. 9 is a side view of a conventionally used roll coater. 7...Roll coater, 8...Substrate, 9, 19...
... Transfer roller, 13, 21 ... Application roller, 14
... Thin film forming liquid as a coating liquid, 16 ... Outer peripheral surface, 16a ... Central part, 16b ... Outer part, 17
...Vertical groove as a recess, 23...Horizontal groove as a recess.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】 (1) 塗布液を入れる受け皿と、塗布液に一部が浸
漬して塗布液を外周面に付着させながら回転す
る塗布ローラと、塗布ローラ上に基板を断続的
に移送させる移送ローラと、を具備するロール
コータにおいて、前記塗布ローラの外周面に塗
布液を保持する微小な凹部を複数形成して、外
周面の中央部では該凹部の容積を大きくし、外
周面の外方部では該凹部の容積を小さくしたこ
とを特徴とするロールコータ。 (2) 前記塗布ローラの外周面における凹部の容積
が中央部から外方部にかけて連続的に小さくな
るようにした実用新案登録請求の範囲第1項記
載のロールコータ。 (3) 前記塗布ローラの外周面における凹部の容積
が中央部から外方部にかけて段階的に小さくな
るようにした実用新案登録請求の範囲第1項記
載のロールコータ。 (4) 前記凹部が塗布ローラの回転方向と平行な縦
溝である実用新案登録請求の範囲第1項又は第
2項又は第3項記載のロールコータ。 (5) 前記凹部が塗布ローラの回転軸と平行な横溝
である実用新案登録請求の範囲第1項又は第2
項又は第3項記載のロールコータ。 (6) 前記凹部がローレツト溝である実用新案登録
請求の範囲第1項又は第2項又は第3項記載の
ロールコータ。 (7) 前記凹部が不規則溝である実用新案登録請求
の範囲第1項又は第2項又は第3項記載のロー
ルコータ。 (8) 前記凹部が点状凹部である実用新案登録請求
の範囲第1項又は第2項又は第3項記載のロー
ルコータ。
[Scope of Claim for Utility Model Registration] (1) A saucer into which a coating liquid is placed, a coating roller that is partially immersed in the coating liquid and rotates while adhering the coating liquid to the outer peripheral surface, and a substrate that is intermittently placed on the coating roller. In the roll coater, a plurality of minute recesses for retaining the coating liquid are formed on the outer peripheral surface of the application roller, the volume of the recesses is increased in the center of the outer peripheral surface, and A roll coater characterized in that the volume of the recess is reduced in the outer part of the surface. (2) The roll coater according to claim 1, wherein the volume of the recess on the outer circumferential surface of the application roller decreases continuously from the central part to the outer part. (3) The roll coater according to claim 1, wherein the volume of the recess on the outer circumferential surface of the application roller decreases stepwise from the center to the outer part. (4) The roll coater according to claim 1, 2, or 3, wherein the recessed portion is a vertical groove parallel to the rotation direction of the coating roller. (5) Utility model registration claim 1 or 2, wherein the recess is a lateral groove parallel to the rotation axis of the application roller.
The roll coater according to item 1 or 3. (6) The roll coater according to claim 1, 2, or 3, wherein the recessed portion is a knurled groove. (7) The roll coater according to claim 1, 2, or 3, wherein the recessed portion is an irregular groove. (8) The roll coater according to claim 1, 2, or 3, wherein the recesses are point-like recesses.
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