JPS6236541Y2 - - Google Patents
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- JPS6236541Y2 JPS6236541Y2 JP1985091584U JP9158485U JPS6236541Y2 JP S6236541 Y2 JPS6236541 Y2 JP S6236541Y2 JP 1985091584 U JP1985091584 U JP 1985091584U JP 9158485 U JP9158485 U JP 9158485U JP S6236541 Y2 JPS6236541 Y2 JP S6236541Y2
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- Coating Apparatus (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本考案は、平板状の基板の表面に塗布液を均一
に塗布することのできるロールコータにおいて、
基板を所定方向に移送するための移送装置に関す
るものであり、特に基板の下面側に塗布液を塗布
する形式のロールコータに使用して有用なもので
ある。[Detailed description of the invention] [Industrial application field] The present invention is a roll coater that can uniformly apply a coating liquid to the surface of a flat substrate.
The present invention relates to a transfer device for transferring a substrate in a predetermined direction, and is particularly useful for use in a roll coater that applies a coating liquid to the lower surface of a substrate.
[従来の技術]
例えばガラス等の基板の表面に薄膜を被着形成
させるために、基板の表面に薄膜形成液を塗布す
る装置としては、第6図に示す3本ロールによる
ロールコータが知られている。[Prior Art] A three-roll roll coater shown in FIG. 6 is known as an apparatus for applying a thin film forming liquid to the surface of a substrate such as glass in order to form a thin film on the surface of the substrate. ing.
従来のロールコータ1は、基板2を下面から支
えるバツクアツプローラ3と、基板2の上面に圧
着されて薄膜形成液4を該基板2の上面2aに転
写するコーテイングローラ5とを具備し、薄膜形
成液4は、ドクターローラ6上に注がれ、該ドク
ターローラ6によつて均一に伸ばされて前記コー
テイングローラ5に供給されるように構成されて
いる。 A conventional roll coater 1 includes a back up roller 3 that supports a substrate 2 from below, and a coating roller 5 that is pressed against the upper surface of the substrate 2 and transfers a thin film forming liquid 4 onto the upper surface 2a of the substrate 2. The forming liquid 4 is poured onto a doctor roller 6, spread uniformly by the doctor roller 6, and supplied to the coating roller 5.
そして、前記コーテイングローラ5をはさん
で、基板2の移動方向の前後両位置には、基板2
の移送装置が設けられている。この移送装置は、
前記基板2の下面2bに接触して基板2を移送す
るものであり、例えば第4図及び第5図に示す構
造のものが知られている。 Then, the substrate 2 is placed at both the front and rear positions in the moving direction of the substrate 2 with the coating roller 5 in between.
A transfer device is provided. This transfer device is
The device transfers the substrate 2 by contacting the lower surface 2b of the substrate 2, and, for example, structures shown in FIGS. 4 and 5 are known.
第4図は、ロール式移送装置7の斜視図であ
り、回転軸8aが互いに平行となるように並設さ
れた複数の送りロール8を具備し、これらの送り
ロール8が同方向に回転して、外周面8b上に支
えた基板を、前記3本ロールへ向けて送り出し、
又は3本ロールから搬出する構成とされている。 FIG. 4 is a perspective view of the roll-type transfer device 7, which includes a plurality of feed rolls 8 arranged in parallel so that their rotating shafts 8a are parallel to each other, and these feed rolls 8 rotate in the same direction. and feed the substrate supported on the outer peripheral surface 8b toward the three rolls,
Alternatively, it is configured to be carried out from three rolls.
第5図は、コンベア式移送装置9の斜視図であ
り、回転軸10aが互いに平行となるように並設
された一対のプーリ10,10の外周面に移送ベ
ルト11を巻掛けてある。そして、基板2は、下
面2bを前記移送ベルト11に接触させて、前記
3本ロールへ向けて送り出され、又は3本ロール
から搬出されるように構成されている。 FIG. 5 is a perspective view of the conveyor type transfer device 9, in which a transfer belt 11 is wound around the outer circumferential surfaces of a pair of pulleys 10, 10 arranged in parallel so that the rotating shafts 10a are parallel to each other. The substrate 2 is configured to be sent out toward the three rolls or unloaded from the three rolls with the lower surface 2b in contact with the transfer belt 11.
[考案が解決しようとする問題点]
従来のロールコータ1は、塗布液である薄膜形
成液が不安定である場合には適用することができ
なかつた。[Problems to be solved by the invention] The conventional roll coater 1 could not be applied when the thin film forming liquid, which is the coating liquid, was unstable.
例えば、インジウム、スズ、チタン等を含有す
る有機金属化合物(アルコキシ化合物)を、沸点
が低く揮発しやすい有機溶剤に溶解した薄膜形成
液の場合には、液はローラ相互間及びローラと基
板との間で2回も加圧も受け、かつ、ローラ表面
からは常に液の溶剤成分が揮発し続けている。従
つて、基板2に転写された薄膜形成液は不均一と
なつてしまう。 For example, in the case of a thin film forming liquid in which an organometallic compound (alkoxy compound) containing indium, tin, titanium, etc. is dissolved in an organic solvent with a low boiling point and easily volatile, the liquid is distributed between the rollers and between the rollers and the substrate. The roller is pressurized twice in between, and the solvent component of the liquid continues to volatilize from the roller surface. Therefore, the thin film forming liquid transferred onto the substrate 2 becomes non-uniform.
そこで、本件考案者は、新たな形成のロールコ
ータを案出した。このロールコータは、回転して
いる1本の塗布ローラの外周面に常に塗布液が付
着しているように構成し、基板を該塗布ローラの
外周面上に送り出して基板の下面側に塗布液を付
着させるものである。 Therefore, the inventor of the present invention devised a roll coater with a new configuration. This roll coater is constructed so that the coating liquid is always attached to the outer circumferential surface of one rotating coating roller, and the substrate is sent onto the outer circumferential surface of the coating roller, and the coating liquid is applied to the lower surface of the substrate. It attaches.
従つて、このロールコータでは、基板の下面側
は、液を塗布する前後に亘つて常に清潔に保たれ
なくてはならず、他の部材等と接触することは好
ましくない。 Therefore, in this roll coater, the lower surface side of the substrate must always be kept clean before and after applying the liquid, and it is not preferable for it to come into contact with other members.
ところが、従来の移送装置は、基板の下面に接
触して、該基板を支えて移送する構成とされてい
るため、前記新形式のロールコータに適用するこ
とができないという問題点があつた。 However, since the conventional transfer device is configured to contact the bottom surface of the substrate to support and transfer the substrate, there was a problem that it could not be applied to the new type of roll coater.
[考案の目的]
本考案は前記の問題点を解決するためになされ
たものであり、基板の下面側に塗布液を塗布する
形式のロールコータに使用することができる、ロ
ールコータの移送装置を提供することを目的とし
ている。[Purpose of the invention] The present invention was made in order to solve the above-mentioned problems, and provides a transfer device for a roll coater that can be used in a roll coater that applies a coating liquid to the lower surface of a substrate. is intended to provide.
[問題点を解決するための手段]
前記の目的を達成するため、本考案の移送装置
は、外周面に付着した塗布液を移送されてくる基
板の下面に塗布する塗布ローラと、前記塗布ロー
ラの前後に配設されて基板を移送する移送装置と
を有するロールコータにおいて、前記移送装置は
基板の両側端部にのみ接触して基板を移送する一
対のローラ部と、このローラ部の外側に、前記基
板を移送方向に案内する一対のガイド部をそれぞ
れ一体に設けて構成したガイドローラを具備する
ことを特徴としている。[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the transfer device of the present invention includes a coating roller that applies the coating liquid attached to the outer peripheral surface to the lower surface of the substrate being transferred, and a coating roller that applies the coating liquid that has adhered to the outer peripheral surface of the substrate. A roll coater has a transfer device disposed before and after the substrate to transfer the substrate, and the transfer device includes a pair of roller portions that transfer the substrate by contacting only both side ends of the substrate, and a roller portion outside the roller portion. The present invention is characterized by comprising a guide roller configured by integrally providing a pair of guide portions for guiding the substrate in the transfer direction.
[作用]
第1の移送装置において、基板は、両側端部の
下面側を、一対のローラ部の外周面に接触させ
て、該ローラ部上に支持される。[Operation] In the first transfer device, the substrate is supported on the pair of roller portions with the lower surfaces of both end portions in contact with the outer circumferential surfaces of the pair of roller portions.
ガイドローラが回転すると、前記基板は、ガイ
ド部によつて両側端部をガイドローラの回転方向
に案内されながら移送され、塗布ローラに送り込
まれる。 When the guide roller rotates, the substrate is transported while being guided by the guide portion at both ends thereof in the rotational direction of the guide roller, and is sent to the coating roller.
塗布ローラによつて下面側に塗布液を塗布され
た基板は、第2の移送装置によつて、ロールコー
タの系外に移送されていく。 The substrate, whose lower surface is coated with the coating liquid by the coating roller, is transferred to the outside of the roll coater system by the second transfer device.
前記の場合において、基板の下面側は、両側端
部の下面側のごく狭い範囲がローラ部に接触して
いるだけであり、下面の大部分の面積は他の部材
には全く接触していない。従つて、移送中に基板
の下面側が汚損されることはない。 In the above case, only a very small area of the lower surface of the substrate at both ends is in contact with the rollers, and the majority of the lower surface area is not in contact with any other members at all. Therefore, the lower surface of the substrate is not soiled or damaged during transportation.
[実施例] 以下、本考案の一実施例について説明する。[Example] An embodiment of the present invention will be described below.
第1図は、一実施例の移送装置を示す正面図で
あり、第2図及び第3図は、該移送装置を有する
ロールコータの平面図及び断面図である。 FIG. 1 is a front view showing a transfer device of one embodiment, and FIGS. 2 and 3 are a plan view and a sectional view of a roll coater having the transfer device.
本実施例のロールコータ12は、蛍光表示管の
陽極基板となるガラス製の基板13に不安定な薄
膜形成液を塗付した後、これを焼成して薄膜を形
成する薄膜形成装置の一部に組込まれているもの
である。 The roll coater 12 of this embodiment is a part of a thin film forming device that applies an unstable thin film forming liquid to a glass substrate 13 that becomes an anode substrate of a fluorescent display tube, and then bakes the liquid to form a thin film. It is incorporated into.
図示しないが、前記薄膜形成装置は、基板13
の洗浄装置と、洗浄された基板13を加熱して乾
燥させる乾燥装置と、加熱によつて温度の上昇し
た基板13を冷却する冷却装置と、基板13に薄
膜形成液を塗布するためのロールコータ12と、
液が塗布された基板13を焼成するための加熱装
置と、を具備している。 Although not shown, the thin film forming apparatus includes a substrate 13
a drying device for heating and drying the cleaned substrate 13, a cooling device for cooling the substrate 13 whose temperature has increased due to heating, and a roll coater for applying a thin film forming liquid to the substrate 13. 12 and
A heating device for firing the substrate 13 coated with the liquid is provided.
さて、図において14は、前記冷却装置の隣に
連続して配設されたロールコータ12の第1の移
送装置である。 Now, in the figure, 14 is a first transfer device of the roll coater 12, which is disposed continuously next to the cooling device.
移送装置14のフレーム15には、複数の駆動
軸16が等間隔で回動自在に取付けられている。
フレーム15より外方の駆動軸16の一端部には
スプロケツト17がそれぞれ設けられており、こ
れらのスプロケツト17には一体のチエン18が
噛み合わされている。このチエン18は、図示し
ない駆動源に連動連結されており、各駆動軸16
は互いに同期して回転駆動されるように構成され
ている。 A plurality of drive shafts 16 are rotatably attached to the frame 15 of the transfer device 14 at equal intervals.
Sprockets 17 are provided at one end of the drive shaft 16 outside the frame 15, and an integral chain 18 is meshed with these sprockets 17. This chain 18 is interlocked and connected to a drive source (not shown), and each drive shaft 16
are configured to be rotated in synchronization with each other.
前記駆動軸16には、それぞれガイドローラ1
9が取付けられている。ガイドローラ19は、基
板13を移送する一対の円盤形のローラ部20,
20と、ローラ部20の外側にローラ部20と一
体に設けられた一対のガイド部21,21とによ
つて構成されている。ローラ部20の幅は、数mm
以下で狭い方が適しており基板13を有効に使用
できる。ガイド部21は、円錐台形状をしてお
り、小径端面21aが前記ローラ部20の外側の
端面に一体に固着されている。ガイド部21は、
基板13の側端部22下面に当接して、該基板1
3を移送方向に案内するものであり、本実施例で
は小径端面21aの径を前記ローラ部20の径よ
り大径に設定して、基板13の案内をより確実に
しているが、小径端面21aの径をローラ部20
の径と同一にしてもよい。また、本実施例では、
ガイド部21の形状を円錐台形とし、ガイド部2
1の外周面がテーパ面23となるようにしたが、
ガイド部21はローラ部20より大径の円盤形の
部材によつて構成してもよい。 Each of the drive shafts 16 has a guide roller 1.
9 is installed. The guide roller 19 includes a pair of disk-shaped roller portions 20 that transport the substrate 13;
20, and a pair of guide portions 21, 21 provided outside the roller portion 20 and integrally with the roller portion 20. The width of the roller part 20 is several mm.
The smaller the width is, the more suitable it is, and the board 13 can be used more effectively. The guide portion 21 has a truncated conical shape, and a small diameter end surface 21 a is integrally fixed to the outer end surface of the roller portion 20 . The guide part 21 is
The substrate 1 is brought into contact with the lower surface of the side end 22 of the substrate 13.
In this embodiment, the diameter of the small-diameter end surface 21a is set to be larger than the diameter of the roller portion 20 to more reliably guide the substrate 13, but the small-diameter end surface 21a The diameter of the roller part 20
It may be made the same as the diameter of. In addition, in this example,
The shape of the guide part 21 is a truncated cone, and the guide part 2
The outer peripheral surface of 1 was made to be a tapered surface 23,
The guide portion 21 may be formed of a disk-shaped member having a larger diameter than the roller portion 20.
第1図に矢印Aで示すように、ガイドローラ1
9を構成している一方のローラ部20とガイド部
21は、駆動軸16の軸方向に自在にスライドさ
せて任意の位置で固定できるようになつており、
多様な寸法の基板13を移送できるように構成さ
れいる。 As shown by arrow A in FIG.
One of the roller parts 20 and the guide part 21 that make up the drive shaft 16 can be freely slid in the axial direction of the drive shaft 16 and fixed at any position.
The structure is such that substrates 13 of various sizes can be transferred.
また、移送装置14のフレーム15には、図示
しない高さ調節機構が設けられており、移送装置
14は、基板13の移送方向を水平状態に保ちな
がら、全体として上下方向に移送され、後述する
塗布ローラ25への基板13の送り込み位置を任
意に設定できるように構成されている。 Further, the frame 15 of the transfer device 14 is provided with a height adjustment mechanism (not shown), and the transfer device 14 as a whole is transferred in the vertical direction while keeping the transfer direction of the substrate 13 in a horizontal state. The configuration is such that the feeding position of the substrate 13 to the coating roller 25 can be set arbitrarily.
次に、前記移送装置14の移送方向隣部には、
受け皿24と塗布ローラ25が設けられている。 Next, in the adjacent portion of the transfer device 14 in the transfer direction,
A tray 24 and an application roller 25 are provided.
受皿24は、円筒を軸線方向に半分割した形状
をしており、基板13の移送方向と該軸線(長手
方向)とが直交する向きで、かつ、前記移送装置
14が基板13を移送してくる移送平面より下方
の位置に設けられている。図示しないが、受皿2
4には、駆動機構が取付けられており、清掃等の
際には、前記位置から下方へ移動できるようにな
つている。 The saucer 24 has the shape of a cylinder divided in half in the axial direction, and is oriented such that the transfer direction of the substrate 13 and the axis (longitudinal direction) are orthogonal to each other, and the transfer device 14 transfers the substrate 13. It is located below the transport plane. Although not shown, saucer 2
A drive mechanism is attached to 4 so that it can be moved downward from the above-mentioned position during cleaning or the like.
また、受皿24の内部には、塗布液として薄膜
形成液26(以下、液26と略称する。)が溜め
られている。本実施例では、特に液26は、薄膜
形成成分を揮発性の有機溶剤に含有させた変質し
やすい液であつても問題はない。 Further, inside the saucer 24, a thin film forming liquid 26 (hereinafter abbreviated as liquid 26) is stored as a coating liquid. In this embodiment, there is no problem even if the liquid 26 is a liquid that contains a thin film-forming component in a volatile organic solvent and is easily deteriorated.
図示はしないが、受皿24の下部には、液26
の自動供給装置が供給管を介して接続されてお
り、受皿24内の液量が必要最小限の一定量に維
持されるように構成されている。また、受皿24
の開口部の両側縁には、液の揮発をおさえるため
に、つば状の覆い24aが内側に向けて設けられ
ている。 Although not shown, there is a liquid 26 at the bottom of the saucer 24.
An automatic supply device is connected via a supply pipe, and is configured to maintain the amount of liquid in the saucer 24 at a constant minimum required amount. In addition, the saucer 24
Flange-shaped covers 24a are provided on both side edges of the opening facing inward in order to suppress volatilization of the liquid.
塗布ローラ25は、前記受皿24の開口部から
一部分が内方に入りこむと共に、受皿24の周壁
内面からはやや離れた位置に配設されており、塗
布ローラ25の一部分は、常に受皿24の内部に
収納されている液26に浸されるようになつてい
る。そして、塗布ローラ25の外周面最上部の位
置は、前記移送装置14によつて移送されてくる
基板13の下面よりも、やや上方となるように構
成されている。 A portion of the applicator roller 25 enters inward from the opening of the tray 24 and is disposed at a position slightly away from the inner surface of the peripheral wall of the tray 24, so that a portion of the applicator roller 25 is always inside the tray 24. It is designed to be immersed in a liquid 26 stored in the container. The topmost position of the outer peripheral surface of the application roller 25 is configured to be slightly above the lower surface of the substrate 13 transferred by the transfer device 14.
また、塗布ローラ25は、駆動源27に連結さ
れ、作業順序に従つて自在に運転される構成とな
つている。 Further, the application roller 25 is connected to a drive source 27 and is configured to be freely driven according to the work order.
また、塗布ローラ25の材質は、本実施例では
寿命の長い金属製とされているが、セラミツクス
等を用いてもよく、液26に侵されない材質であ
れば樹脂等を使用してもよい。 Further, the material of the application roller 25 is made of metal with a long life in this embodiment, but ceramics or the like may be used, or resin or the like may be used as long as the material is not eroded by the liquid 26.
次に、前記塗布ローラ25の上方には、押えロ
ーラ28が設けられている。押えローラ28は、
図示しない駆動手段によつて下方に移動させるこ
とができ、塗布ローラ25上を移送されていく基
板13の上面を自重によつて押え、基板13の浮
き上りを防止するように構成さている。 Next, a press roller 28 is provided above the application roller 25. The presser roller 28 is
It can be moved downward by a driving means (not shown), and is configured to press the upper surface of the substrate 13 being transferred on the application roller 25 by its own weight, thereby preventing the substrate 13 from lifting up.
次に、前記塗布ローラ25の回転方向隣部に
は、基板13を塗布ローラ25上から搬出するた
めの第2の移送装置29が設けられている。 Next, a second transfer device 29 for transporting the substrate 13 from above the application roller 25 is provided adjacent to the application roller 25 in the rotational direction.
第2の移送装置29は、前記第1の移送装置1
4と略同一の構成とされ、下面に液26の薄膜3
0が塗布された基板13を、両側端部22,22
のみを支えて案内・搬送できるように構成されて
いる。そして、前述したように、第2の移送装置
29の移送方向隣部には、加熱装置が連続して配
設されており、下面に液26が塗布された基板1
3は、移送装置29によつて加熱装置に送り込ま
れるように構成されている。 The second transfer device 29 is connected to the first transfer device 1.
4, with a thin film 3 of liquid 26 on the bottom surface.
The substrate 13 coated with
It is constructed so that it can be guided and transported while supporting only the robot. As described above, a heating device is continuously disposed adjacent to the second transfer device 29 in the transfer direction, and the substrate 1 whose lower surface is coated with the liquid 26
3 is configured to be fed into the heating device by a transfer device 29.
本実施例では、基板13に塗布する液26が不
安定で変質しやすい場合でも良質の薄膜が形成で
きるようにすると共に、薄膜形成作業には大気中
のちり等が障害になる場合が多いので、基板13
及び液26は、外気に直接さらされないようにす
ることが好ましい。例えば、ロールコータ12を
始め洗浄装置や乾燥装置等の基板13が移送され
る部分をカバー等で覆い、カバー内部の温度・湿
度等を自在に調節できるように構成すれば、外気
中の塵埃や水分を工程から排除して最適の環境条
件で一貫した薄膜形成作業を行なうことができ
る。 In this embodiment, a high-quality thin film can be formed even when the liquid 26 applied to the substrate 13 is unstable and prone to deterioration, and dust in the atmosphere is often an obstacle to the thin film forming process. , substrate 13
It is preferable that the liquid 26 and the liquid 26 are not directly exposed to the outside air. For example, if the parts of the roll coater 12, cleaning equipment, drying equipment, etc. where the substrate 13 is transferred are covered with a cover, etc., and the temperature, humidity, etc. inside the cover can be freely adjusted, dust in the outside air can be removed. By eliminating moisture from the process, consistent thin film formation can be performed under optimal environmental conditions.
次に、以上説明した構成における作用について
説明する。 Next, the operation of the configuration described above will be explained.
基板13は洗浄装置によつて洗浄された後、乾
燥装置によつて加熱され水分を除去される。加熱
によつて温度の上昇した基板13は、冷却装置に
よつて冷却されながら搬送され、ロールコータ1
2の第1の移送装置14に送り込まれる。 After the substrate 13 is cleaned by a cleaning device, it is heated by a drying device to remove moisture. The substrate 13 whose temperature has increased due to heating is transported while being cooled by a cooling device, and is transferred to the roll coater 1.
2 to the first transfer device 14.
送り込まれた基板13は、両側端部22,22
の下面側を一対のローラ部20,20の外周面に
接触させて、該ローラ部20上に支持される。そ
して、駆動源の駆動力がチエン18及びスプロケ
ツト17を介して各駆動軸16に伝達され、各ガ
イドローラ19が回転すると、前記基板13は、
ガイド部21の小径端面21aに両側端部22,
22の端面を当接させて、塗布ローラ25の方向
に案内・移送されていく。 The sent board 13 has both side ends 22, 22
is supported on the roller portions 20 with the lower surface side in contact with the outer peripheral surfaces of the pair of roller portions 20, 20. When the driving force of the driving source is transmitted to each drive shaft 16 via the chain 18 and sprocket 17 and each guide roller 19 rotates, the substrate 13
Both side end portions 22 are provided on the small diameter end surface 21a of the guide portion 21.
22 are brought into contact with each other and guided and transferred in the direction of the application roller 25.
前記基板13の下面13bの内、両側端部2
2,22の下面側というごく狭い範囲だけがロー
ラ部20に接触しており、下面13bの大部分の
面積は他の部材には全く接触していない。従つ
て、洗浄装置によつて清潔になつた基板13の表
面が再び汚損されることはない。 Both side ends 2 of the lower surface 13b of the substrate 13
Only a very narrow area on the lower surface side of the rollers 2 and 22 is in contact with the roller portion 20, and most of the area of the lower surface 13b is not in contact with any other member. Therefore, the surface of the substrate 13 that has been cleaned by the cleaning device will not be contaminated again.
また、基板13の移送中に、基板13が何らか
の原因でローラ部20から外れても、基板13の
側端部22は、前記テーパ面23をすべり、ロー
ラ部20の外周面上に容易に復帰することができ
る。 Further, even if the substrate 13 comes off the roller section 20 for some reason during the transfer of the substrate 13, the side end portion 22 of the substrate 13 slides on the tapered surface 23 and easily returns to the outer peripheral surface of the roller section 20. can do.
次に、前記基板13は、塗布ローラ25の外周
面上部よりもやや低い位置から、塗布ローラ25
に送り込まれてくる。該基板13は、塗布ローラ
25の外周面31に対し、先端部の下縁辺で接触
し、移送装置14の駆動力によつて、塗布ローラ
25との接触を保ちつつやや傾きながら塗布ロー
ラ25にのり上げていく。 Next, the substrate 13 is applied to the coating roller 25 from a position slightly lower than the upper part of the outer peripheral surface of the coating roller 25.
is sent to. The substrate 13 contacts the outer circumferential surface 31 of the coating roller 25 at the lower edge of its tip, and is moved onto the coating roller 25 while maintaining contact with the coating roller 25 and tilting slightly due to the driving force of the transfer device 14. I'm going to climb up.
基板13が塗布ローラ25と接触した時点から
は、第3図に示すように、基板13は、移送装置
14のあるガイドローラ19と塗布ローラ25と
によつて、板の前後両端部のみで支えられるよう
になる。従つて、基板13が歪んでいたり、塗布
ローラ25の回転軸が水平に保たれていない場合
でも、基板13の先端部と塗布ローラ25とは確
実に接触することになる。また、基板13の後端
部は一つのガイドローラ19のみによつて支えら
れているので、移送装置14から基板13(及び
塗布ローラ25との接触部)に伝えられる振動は
最小限におさえられている。 From the time the substrate 13 comes into contact with the coating roller 25, as shown in FIG. You will be able to do it. Therefore, even if the substrate 13 is distorted or the rotation axis of the coating roller 25 is not kept horizontal, the tip of the substrate 13 and the coating roller 25 will surely come into contact with each other. Furthermore, since the rear end of the substrate 13 is supported by only one guide roller 19, vibrations transmitted from the transfer device 14 to the substrate 13 (and the contact portion with the application roller 25) can be suppressed to a minimum. ing.
基板13の先端部が塗布ローラ25の最上部に
きたところで、移送装置14の運転は一時停止さ
れるが、塗布ローラ25は回転を続けている。受
け皿24に溜められた液26から上がつてくる塗
布ローラ25の外周面31には、常に液26が付
着しており、この付着した液26は、第2図及び
第3図に示すように、基板13との接触部で回転
方向前方にせき止められる。そして、塗布ローラ
25の回転につれて、前記接触部より前方(塗布
ローラ25の回転方向前方)の、基板13と塗布
ローラ25との隙間には、毛管現象によつて液2
6の溜り32が生じてくる。 When the tip of the substrate 13 reaches the top of the coating roller 25, the operation of the transfer device 14 is temporarily stopped, but the coating roller 25 continues to rotate. The liquid 26 always adheres to the outer circumferential surface 31 of the application roller 25 that rises from the liquid 26 stored in the saucer 24, and this adhered liquid 26 is removed as shown in FIGS. 2 and 3. , is blocked forward in the rotational direction at the contact portion with the substrate 13. As the coating roller 25 rotates, liquid 2 is generated in the gap between the substrate 13 and the coating roller 25 in front of the contact portion (in the rotational direction of the coating roller 25) due to capillary action.
A pool 32 of 6 is generated.
また、基板13が何らかの原因で塗布ローラ2
5から離れて浮き上つてしまうと。基板13と塗
布ローラ25との間には隙間ができてしまうの
で、溜り32は一定の形状をとれなくなり不安定
になつてしまうが、前述したように、本実施例に
おいては、基板13と塗布ローラ25との接触が
確保されていることや、基板13及び塗布ローラ
25との接触部に伝えられる振動が少いこと等の
ため、塗布ローラ25の回転につれて、溜り32
は円滑かつ安定的に成長し、基板13の移送方向
についての幅が一定な規則的形状となるもので
あ。 In addition, if the substrate 13 is damaged by the application roller 2
If the substrate 13 is separated from the coating roller 25 and floats up, a gap will be created between the substrate 13 and the coating roller 25, and the pool 32 will not be able to maintain a constant shape and will become unstable. However, as described above, in this embodiment, the contact between the substrate 13 and the coating roller 25 is ensured, and the vibration transmitted to the contact portion between the substrate 13 and the coating roller 25 is small, so that the pool 32 will gradually increase in size as the coating roller 25 rotates.
The crystals grow smoothly and stably, and assume a regular shape with a constant width in the direction in which the substrate 13 is moved.
さて、前記溜り32の液量が所定量に達したと
ころで、押えローラ28が下方に移動して基板1
3の上面13aに接し、自重によつて基板13の
歪等による浮き上りを防止する。そして、移送装
置14は再び基板13を移送しはじめる。基板1
3の下面13bは、前記液26の溜り32に触れ
て液26が付着するが、付着した液26の一部
は、基板13と塗布ローラ25との接触部におい
て、塗布ローラ25の回転方向と逆方向に押し返
されるので、基板13の下面には液26が均一に
塗布されていくことになる。 Now, when the amount of liquid in the reservoir 32 reaches a predetermined amount, the presser roller 28 moves downward to hold the substrate 1.
The substrate 13 is in contact with the upper surface 13a of the substrate 13, and prevents the substrate 13 from lifting up due to distortion or the like due to its own weight. Then, the transfer device 14 starts transferring the substrate 13 again. Board 1
The lower surface 13b of 3 touches the reservoir 32 of the liquid 26 and is coated with the liquid 26, but a part of the attached liquid 26 is in contact with the substrate 13 and the coating roller 25 in the rotational direction of the coating roller 25. Since it is pushed back in the opposite direction, the liquid 26 is uniformly applied to the lower surface of the substrate 13.
次に、前記基板13は、第2の移送装置29に
よつて前方に送られ、塗布ローラ25から取出さ
れる。第2の移送装置29は、基板13の両側端
部22,22の下面にのみ接触しているが、この
部分は、基板13から蛍光表示管の陽極基板を多
数個取りする際の取り代となる部分であり、元々
薄膜30を形成する必要のない部分である。そし
て、これ以外の下面13bには、ローラ部20は
接触していないので、液26が塗布されたばかり
の基板13の下面13bが汚損するおそれはな
い。また、本実施例の液26は揮発成分を含んで
いるので、移送装置29によつて次工程へ運ばれ
ていく間に、基板13に塗布された液26はある
程度乾燥することになる。 Next, the substrate 13 is sent forward by the second transfer device 29 and removed from the coating roller 25 . The second transfer device 29 contacts only the lower surfaces of both side ends 22 and 22 of the substrate 13, but this portion is used as a removal allowance when removing a large number of anode substrates for fluorescent display tubes from the substrate 13. This is a portion where there is no need to form the thin film 30 originally. Since the roller portion 20 is not in contact with the lower surface 13b other than this, there is no fear that the lower surface 13b of the substrate 13 to which the liquid 26 has just been applied will be soiled. Furthermore, since the liquid 26 of this embodiment contains volatile components, the liquid 26 applied to the substrate 13 will dry to some extent while being transported to the next step by the transfer device 29.
次に、前記基板13は、第2の移送装置29に
よつて加熱装置に送り込まれる。そして、基板1
3の下面13bに付着している液26は加熱・乾
燥され、均一な薄膜が形成されていく。 Next, the substrate 13 is fed into a heating device by a second transfer device 29. And board 1
The liquid 26 adhering to the lower surface 13b of 3 is heated and dried to form a uniform thin film.
また、以上の実施例では、塗布液として変質し
やすい薄膜形成液を例にあげたが、この他安定し
た薄膜形成液はもちろん、各種の液体についても
本考案の移送装置を備えたロールコータを使用で
きることは言うまでもない。 In addition, in the above embodiments, a thin film forming liquid which is easily deteriorated was used as a coating liquid, but the roll coater equipped with the transfer device of the present invention can be used not only for stable thin film forming liquids but also for various other liquids. Needless to say, it can be used.
また、本実施例では、各ガイドローラ19は各
1本の駆動軸16に取付けたが、各ローラ部20
及びガイド部21ごとに駆動軸を設けて、各ロー
ラ部20及びガイド部21ごとに、それぞれ独立
して回転駆動されるように構成してもよい。 Further, in this embodiment, each guide roller 19 is attached to one drive shaft 16, but each roller portion 20
A drive shaft may be provided for each guide portion 21, and each roller portion 20 and guide portion 21 may be configured to be independently rotationally driven.
[考案の効果]
以上説明したように、本考案に係るロールコー
タの移送装置は、ガイドローラによつて基板の両
側端部のみを支持し、該基板を案内・移送するよ
うに構成したので、基板の下面側に塗布液を塗布
する形式のロールコータにおいて、基板の下面側
をほとんど汚損することなく、該基板を移送する
ことができるという効果がある。[Effects of the Invention] As explained above, the transfer device for a roll coater according to the present invention is configured to support only both side ends of the substrate by guide rollers and guide and transfer the substrate. In a roll coater that applies a coating liquid to the lower surface of a substrate, there is an advantage that the substrate can be transferred without substantially contaminating the lower surface of the substrate.
第1図は、本考案の一実施例である移送装置の
正面図、第2図は、実施例の移送装置を有するロ
ールコータの平面図、第3図は、第2図における
−線断面図、第4図は、従来の移送装置の一
例であるロール式移送装置の斜視図、第5図は、
従来の移送装置の一例であるコンベア式移送装置
の斜視図、第6図は、従来のロールコータの一構
成例を示す側面図である。
12……ロールコータ、13……基板、13b
……基板の下面、14……第1の移送装置、19
……ガイドローラ、20……ローラ部、21……
ガイド部、22……基板の側端部、25……塗布
ローラ、26……塗布液としての薄膜形成液
(液)、29……第2の移送装置、31……塗布ロ
ーラ25の外周面。
FIG. 1 is a front view of a transfer device that is an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of a roll coater having the transfer device of the embodiment, and FIG. 3 is a sectional view taken along the line -- in FIG. , FIG. 4 is a perspective view of a roll-type transfer device, which is an example of a conventional transfer device, and FIG.
FIG. 6 is a perspective view of a conveyor-type transfer device, which is an example of a conventional transfer device, and a side view showing an example of the configuration of a conventional roll coater. 12...Roll coater, 13...Substrate, 13b
... Bottom surface of the substrate, 14 ... First transfer device, 19
... Guide roller, 20 ... Roller part, 21 ...
Guide part, 22... Side edge of the substrate, 25... Coating roller, 26... Thin film forming liquid (liquid) as coating liquid, 29... Second transfer device, 31... Outer peripheral surface of coating roller 25 .
Claims (1)
の下面に塗布する塗布ローラと、前記塗布ローラ
の前後に配設されて基板を移送する移送装置とを
有するロールコータにおいて、前記移送装置は基
板の両側端部にのみ接触して基板を移送する一対
のローラ部と、このローラ部の外側に、前記基板
を移送方向に案内する一対のガイド部をそれぞれ
一体に設けて構成したガイドローラを具備するこ
とを特徴とするロールコータの移送装置。 In a roll coater, the roller coater includes a coating roller that coats the lower surface of the transferred substrate with the coating liquid attached to the outer peripheral surface, and a transfer device that is disposed before and after the coating roller and transfers the substrate. A pair of roller portions that transfer the substrate by contacting only both side ends of the roller portion, and a pair of guide portions that guide the substrate in the transfer direction are integrally provided on the outside of the roller portion. A roll coater transfer device characterized by:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985091584U JPS6236541Y2 (en) | 1985-06-19 | 1985-06-19 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985091584U JPS6236541Y2 (en) | 1985-06-19 | 1985-06-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS621780U JPS621780U (en) | 1987-01-08 |
JPS6236541Y2 true JPS6236541Y2 (en) | 1987-09-17 |
Family
ID=30647604
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1985091584U Expired JPS6236541Y2 (en) | 1985-06-19 | 1985-06-19 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6236541Y2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5063028B2 (en) * | 2006-04-28 | 2012-10-31 | 富士フイルム株式会社 | Application method and apparatus and application line roller |
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JPS5224505A (en) * | 1975-08-19 | 1977-02-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Tape guide |
JPS60103352A (en) * | 1983-11-11 | 1985-06-07 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Apparatus for producing laminated plate for forming photoresist |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5954563U (en) * | 1982-09-30 | 1984-04-10 | 株式会社東芝 | Development and etching equipment |
-
1985
- 1985-06-19 JP JP1985091584U patent/JPS6236541Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5224505A (en) * | 1975-08-19 | 1977-02-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Tape guide |
JPS60103352A (en) * | 1983-11-11 | 1985-06-07 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Apparatus for producing laminated plate for forming photoresist |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS621780U (en) | 1987-01-08 |
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