JPS6310540A - 回転試料台 - Google Patents

回転試料台

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Publication number
JPS6310540A
JPS6310540A JP61154032A JP15403286A JPS6310540A JP S6310540 A JPS6310540 A JP S6310540A JP 61154032 A JP61154032 A JP 61154032A JP 15403286 A JP15403286 A JP 15403286A JP S6310540 A JPS6310540 A JP S6310540A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
hollow shaft
samples
conductive rings
reduced pressure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61154032A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshinao Kawasaki
義直 川崎
Katsuyoshi Kudo
勝義 工藤
Minoru Soraoka
稔 空岡
Tsunehiko Tsubone
恒彦 坪根
Hironori Kawahara
川原 博宣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP61154032A priority Critical patent/JPS6310540A/ja
Publication of JPS6310540A publication Critical patent/JPS6310540A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は回転試料台に係り、特に試料台を温度制御する
場合に好適な回転試料台に関するものである。
〔従来の技術〕
近年、半導体装置の集積度は飛躍的に向上し、その製造
工程においては、減圧下でプラズマを利用して基板を加
工する技術が盛んに用いられている。中でも、プラズマ
CVDや、プラズマエツチング、真空蒸着およびスパツ
ク等においては、薄膜形成時の膜質の制御や、薄膜エツ
チング時の処理速度制御な行うために、基板を載置する
試料台を温度制御する場合が多い。また一方では、薄膜
の形成速度の均一化や、エツチング速度の均一化な計る
ためには、試料を回転させることも重要である。
ところで、従来技術では、実開昭57−87058号公
報に記載されているように、熱源を固定し、固定熱源と
試料載置部との間に金属球を挾んで、熱伝導を利用して
試料載置部の温度を制御しつつ、該試料載置部を回転可
能としたものがある。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記従来技術は、熱の伝導効率向上の点畢こおいて配慮
されておらず、熱源を固定設置し試料載置台を回転させ
るようにしているため、熱伝導効率の観点から、直接試
料載置台に熱源を埋め込んだり、固定した場合に比べる
と熱伝導効率が劣り、したがって温度制御性も劣るとい
う問題があった。
さらに、試料の自動搬送に関する配慮が欠けており、試
料を直接、人手で載置台に載せなければならないという
問題もあった。
本発明の目的は上述の欠点をなくし、減圧下で良好な温
度制御ができ、併せて処理の均一化および試料の自動搬
送を容易に行うことのできる回転試料台を提供すること
にある。
〔問題点含解決するための手段〕
減圧下で処理される試料を載置する試料台において、試
料載置部を中空軸の上端に固定し、前記中空軸の下端部
に絶縁体を挾んでドーナツ状の導電リングな前記中空軸
の同心軸上に取付け、試料載置部に取付けた加熱源又は
加熱源とIli度センサーの電気配線を絶縁材を介して
前記中空軸内部に導入し、前記導電リングに接続すると
ともに、前記導電リングの外周部暑こ前記導電リングと
接触して通電可能にする導電ブラシを設け、前記中空軸
の軸心に前記試料載置部から前記試料を持ち上げる試料
押上手段を具備し、かつ、前記試料載置部を回転可能と
する回転駆動装置を設けることにより達成される。
し 〔作  用〕 回転可能な中空軸と同心軸上に絶縁物を挾んで取付けら
れた導電リングには、該導電リングの外周部に導電ブラ
シを介して容易に電気信号や加熱源用の電源電圧がかけ
られ、ヒータ等の熱源を試料載置部に直接固定でき、良
好な温度制御ができろ。また、試料押上部分は該試料押
上手段の駆動部とは分離されており、試料を上下させる
ための動力源、例えば電動機であれば電源線、空気シリ
ンダーであれば空気源等を回転体側へ供給する必要がな
く試料台の回転を容易薯こし、処理の均一化が図れると
ともに、試料の自動搬送が容易になる。
〔実 施 例〕
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。
試料載置部、例えばウェハ載置台1には加熱源であるヒ
ータ2と、ウェハ載置台1の一部に温度センサー3が取
付けてあり、ウェハ載置台lは中空軸4の端面フランジ
部に真空シール材5を挾んでボルト6にて固定されてい
る。
ウェハ7はウェハ載置台1の上面の座(゛り部に載置さ
れるよう、図示しない搬送装置により、真空容器8内に
搬入される。
中空軸4は、真空容器8に対して、回転可能に、かつ、
真空容器内部の減圧状態を保つため真空シール可能な回
転ンール軸受9で支持されている。
回転シール軸受9は、磁性流体シール軸受や、又は、0
リングなどの真空シール材と通常の転り軸受を組合せた
ものでも良い。
ドーナツ状の導体リング11 aおよび11 bは、中
空軸4の他端フランジ部とフランジ稔の間に、ドーナツ
状の絶縁リング10を挾んで、中空軸4およびフランジ
12と電気的に絶縁された状態で、中空軸4の回転中心
軸と同心軸上にボルト13により固定されている。
ウェハ載置台lとフランジ12の中心には、ウェハ7を
ウェハ載置台lより持ち上げるためのロッド14を上下
動可能に支持するブツシュ15および16が組込まれて
いる。ブツシュ15の上部番こは真空シール材5が設け
られ、ロッド14と接して真空シールを行なっている。
ロッド14の最上部にはウェハの支持台16が取付けら
れている。ロッド14の下部には、ケース17が、ナツ
ト18にて固定されており、ケース17と7ランジ12
の間に、圧縮バネ19が挿入され、ロッド14が常に下
方に引張られた状態でセットされている。
ナツト18の下部には、エンドピース(9)と適切な空
隙を設けて配置され、エンドピース(9)を上下動させ
るための駆動部であるシリンダhが、ブラケットnを介
して固定されている。シリンダ乙が伸びると、エンドピ
ース頷はナツト18と接触し、さらに圧縮バネ19の圧
縮力に抗してロッド14を持ち上げ、第1図中の2点鎖
線で示す如くウェハ7を持ち上げる。シリンダ21が縮
むと、エンドピースフとナツト18は適切な空隙(例え
ば2〜5龍)を作るように設定されている。
また、中空軸4の中間部には、ギヤnがポルトスにて固
定されており、回転駆動[26に取り付けたピニオン5
と噛み合っている。
導体リング11 aおよび11 bの外周部には、バネ
等により適切なる押付は力で導体ブラシで、28が接触
しており、端子器および(資)はそれぞれ、ヒータ用電
源およびi度センサー人力信号源として、図示しない外
部機器に接続される。
ヒータ2の電源線mは、中空軸4とは絶縁されるよう沓
こ、絶縁材であるフィードスルー諺を介して導体リング
11 aに、また、温度センサー3からの信号線(も同
様に、フィードスルー誦を介して導体リング11 bに
接続されている。フィードスルー32.34は、真空シ
ール機5にて真空シールされるように取付%jである〇 上記構成により、ウェハ載置台lを減圧下に保つた状態
で、ウェハ載置台1を回転させることが可能となり、回
転中においても、ウェハ載置台1に直接固定したヒータ
2により良好な温度制御ができ、かつウェハ上下機構の
駆動部が回転部とは切り離されているため、駆動部への
空気源の接続が容易となる。
以上、本−実施例によれば、ウェハ押し上げ機構をその
駆動部とは切り離して設けられ、ウェハ載置台に直接に
ヒータや温度センサーを取り付け、これらの配線を中空
軸と中心軸線上で該中空軸とは絶縁された導体リングに
接続し、外部固定の導電ブラシにより供電または信号を
取り出すことができるので、ウェハ載置台を回転させな
がら、良好な温度制御ができ、処理の均一化を図ること
ができるという効果がある。
また、ウェハ押し上げ機構と、試料台の回転機構とを組
み合わせることができるので、処理の均一化を図るとと
もに、ウェハの自動搬送を容易にすることができるとい
う効果がある。
また、ウェハ押し上げ機構の駆動部への空気源の接続が
容易となる効果もめる。
〔発明の効果〕
本発明によれば、試料載置部に直接加熱源を取り付けて
、試料載置部を回転させることができ、さらに、試料の
押し上げを行うことができるので、減圧下で良好な温度
制御ができるととも−こ、処理の均一化を図ることがで
き、さらに、試料の自動搬送を容易に行うことができる
という効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例である回転試料台を示す縦断
面図である。 l・・・・・・ウェハ載置台、2・・・・・・ヒータ、
3・・・・・・温度センサー、4・・・・・・中空軸、
7・・・・・・ウェハ、10・・・絶縁リング、lla
、1it)・・・・・・導体リング、14・・・・・・
ロッド、19・・・・・・圧縮バネ、4・・・・・・シ
リンダ、り・・・ギヤ、5・・・・・・ビニオン、I・
・・・・・回転駆動機、で。 イ1 口

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、減圧下で処理される試料を載置する試料台において
    、試料載置部を中空軸の上端に固定し、前記中空軸の下
    端部に絶縁体を挾んでドーナツ状の導電リングを前記中
    空軸の同心軸上に取付け、試料載置部に取付けた加熱源
    又は加熱源と温度センサーの電気配線を絶縁材を介して
    前記中空軸内部に導入し、前記導電リングに接続すると
    ともに、前記導電リングの外周部に前記導電リングと接
    触して通電可能にする導電ブラシを設け、前記中空軸の
    軸心に前記試料載置部から前記試料を持ち上げる試料押
    上手段を具備し、かつ、前記試料載置部を回転可能とす
    る回転駆動装置を設けたことを特徴とする回転試料台。
JP61154032A 1986-07-02 1986-07-02 回転試料台 Pending JPS6310540A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61154032A JPS6310540A (ja) 1986-07-02 1986-07-02 回転試料台

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JP61154032A JPS6310540A (ja) 1986-07-02 1986-07-02 回転試料台

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6310540A true JPS6310540A (ja) 1988-01-18

Family

ID=15575416

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61154032A Pending JPS6310540A (ja) 1986-07-02 1986-07-02 回転試料台

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JP (1) JPS6310540A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02148592A (ja) * 1988-11-28 1990-06-07 Nippon Koei Co Ltd 1次電線撚回、2次渦流発熱鋼管装置
JP2002222848A (ja) * 2001-01-24 2002-08-09 Tokyo Electron Ltd 熱処理装置
CN110785648A (zh) * 2017-06-21 2020-02-11 吉恩工具有限公司 测定装置和与其一起使用的测定设备

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CN110785648B (zh) * 2017-06-21 2023-12-22 吉恩工具有限公司 测定装置和与其一起使用的测定设备

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