JPS63102868A - Cutting wire - Google Patents

Cutting wire

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JPS63102868A
JPS63102868A JP24936986A JP24936986A JPS63102868A JP S63102868 A JPS63102868 A JP S63102868A JP 24936986 A JP24936986 A JP 24936986A JP 24936986 A JP24936986 A JP 24936986A JP S63102868 A JPS63102868 A JP S63102868A
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JP
Japan
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wire
cutting
saw
blade
base material
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Japanese (ja)
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Tatsuhiko Motomiya
本宮 達彦
Hiroyuki Watabe
弘行 渡部
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To make rapid feed performable and slice time reducible as well, by forming a diamond coating film on a wire base material, in case of a cutting wire for a wire saw. CONSTITUTION:A cutting wire is made up of forming a diamond coating film on a wire base material 12 consisting of alloys of Ni-Cr, Fe-Ni and Fe-Cr-Al systems and W, Mo metals, etc., in thickness of a range of about 0.01-50mum by means of an ion-beam process, a chemical conveyance process, a microwave plasma process and so on. For example, in the microplasma process, a Ni-Cr wire 12 is passed through the inside of a reactor 7, internal pressure is adjusted to 40 Torr by an exhauster 9, by way of example, and oxygen gas is fed of a bomb 11 and methane gas out of another bomb 10, respectively, while a microwave generator 8 is operated at about 900MHz and 1KW, making it generate plasma, and the diamond coating film is separated therefrom. Thus, a silicone ingot is sliceable well in productivity and yield.

Description

【発明の詳細な説明】 産−上の」 本発明は特にワイヤーソーを用いる切削方式に有効に使
用される切削用ワイヤーに関し、更に詳述すれば摩耗量
が少なく、寿命が長くかつ切削時間を大幅に短縮するこ
とができ、電子工業用、特に結晶インゴットスライス用
として好適に用いられる切削用ワイヤーに関する。
[Detailed Description of the Invention] The present invention relates to a cutting wire that is particularly effectively used in a cutting method using a wire saw. The present invention relates to a cutting wire that can be significantly shortened and is suitable for use in the electronic industry, particularly for slicing crystal ingots.

の   び 明が  しようとする山 へ従来より、シ
リコンインゴットをスライスしてウェハーを作製したり
、また各種化合物半導体、酸化物単結晶・多結晶セラミ
ックス、ガラス、金属などを切削して所定形状の切削物
を作製し、これらのウェハー、切削物を電子工業等の各
種工業に使用することが行われている。
Traditionally, silicon ingots have been sliced to create wafers, and various compound semiconductors, oxide single crystal/polycrystalline ceramics, glass, metals, etc. have been cut into predetermined shapes. 2. Description of the Related Art Products are manufactured and these wafers and cut products are used in various industries such as the electronic industry.

これらの各種材料を切削又はスライスする方法としては
、硬い鉱物質の微細な砥粒を工具とする砥粒加工法が精
密な仕上加工を行うのに好適な方法として知られている
。この砥粒加工法は固定砥粒による方法と遊離砥粒によ
る方法の二つの方法に大別され、現在、電子工業界でウ
ェハーの作製に使用されている内周刃方式が前者の固定
砥粒による方法に属し、ワイヤーソー及びプレードソー
を用いる方法が後者の遊離砥粒による方法に属する切削
方法である。
As a method for cutting or slicing these various materials, an abrasive processing method using fine abrasive grains of hard mineral material as a tool is known as a method suitable for precision finishing. This abrasive processing method is roughly divided into two methods: a method using fixed abrasive grains and a method using free abrasive grains. The method using a wire saw and the blade saw are the latter cutting methods that belong to the method using free abrasive grains.

上記の内周刃方式及びワイヤーソーやブレードソーを用
いてインゴットよりウェハーを切断する際の概略図を第
1図乃至第3図に示す。即ち、第1図はマルチワイヤー
ソーを用いるスライス方法を示し、図中1はインゴット
、2はインゴットホルダー、3はワイヤガイドローラー
、4が砥粒が付着したワイヤーであり、ガイドローラー
3を介してワイヤー4に適当な張力と往復運動を与え、
インゴット1に適当な圧力を加えながらインゴット1を
スライスするものである。また、第2図はマルチブレー
ドソーを用いるスライス方式を示し、砥粒を分散したス
ラリーをインゴット1に供給しながらブレード5により
インゴット1をスライスするものであり、これらマルチ
ワイヤーソ一方式及びマルチブレードソ一方式は同時に
多数枚のウェハーを作製することができる。なお、図中
2′はインゴットサポート(接着ワックス)である。更
に、第3図は内周刃方式によるスライス方式を示し、ド
ーナツ状円形地金部の内周部にダイヤモンド砥粒を電着
してなるブレード6が矢印方向に回転しつつ、インゴッ
ト1を切断するものである。
FIGS. 1 to 3 show schematic diagrams of cutting wafers from an ingot using the above-mentioned inner peripheral blade method and a wire saw or a blade saw. That is, FIG. 1 shows a slicing method using a multi-wire saw, in which 1 is an ingot, 2 is an ingot holder, 3 is a wire guide roller, and 4 is a wire with abrasive particles attached. Apply appropriate tension and reciprocating motion to the wire 4,
The ingot 1 is sliced while applying appropriate pressure to the ingot 1. In addition, Fig. 2 shows a slicing method using a multi-blade saw, in which the ingot 1 is sliced by a blade 5 while supplying slurry in which abrasive grains are dispersed to the ingot 1. In the conventional method, a large number of wafers can be manufactured at the same time. In addition, 2' in the figure is an ingot support (adhesive wax). Furthermore, FIG. 3 shows a slicing method using an inner peripheral blade method, in which a blade 6 made of diamond abrasive grains electrodeposited on the inner peripheral portion of a donut-shaped circular base metal portion cuts the ingot 1 while rotating in the direction of the arrow. It is something to do.

これら3種の方法は、後述する第4表に示したようにス
ライスロスの利用率においてワイヤーソ一方式が72.
7%で最も優れ、ブレードソ一方式が64.5%、内周
刃方式が51.3%の順となっている。また、平行度は
平均値で内周刃方式が8.5p、ワイヤーソ一方式が1
1.0/J1.プレートン一方式が28.511nであ
るが、最大値で比較するとワイヤーソ一方式35IJa
、ブレードソ一方式55p、内周刃方式55%となり、
ワイヤーソ一方式が優れている。
As shown in Table 4 below, these three methods have a slice loss utilization rate of 72.
The highest rate was 7%, followed by the blade saw type at 64.5% and the internal blade type at 51.3%. In addition, the average parallelism is 8.5p for the internal blade method and 1 for the wire saw method.
1.0/J1. One platen type is 28.511n, but when comparing the maximum value, wire saw type one type is 35IJa
, one blade saw type 55p, inner peripheral blade type 55%,
One type of wire saw is better.

一方、寸法精度としての厚さの精度(400±α戸)は
、内周刃方式がα=9p、ワイヤーソ一方式がα=12
Im、ブレードソ一方式がα=15pの順となり、内周
刃方式が優れている。更に生産能力としての1時間当り
の生産枚数はブレードソ一方式が33枚で最も良く、内
周刃方式が22枚、ワイヤーソ一方式が20枚の順であ
る。
On the other hand, the thickness accuracy (400±α doors) as dimensional accuracy is α=9p for the inner peripheral blade method and α=12p for the wire saw method.
Im, the blade saw type is in the order of α=15p, and the inner peripheral blade type is superior. Furthermore, in terms of production capacity, the blade saw type has the best number of sheets per hour at 33 pieces, followed by the inner peripheral blade type with 22 pieces and the wire saw type with 20 pieces.

また、コストの面から消耗材料を比較すると。Also, when comparing consumable materials from a cost perspective.

ワイヤーソ一方式では、ワイヤーを巻きつけているロー
ラー類が合成樹脂製であるため、使用中に消耗するので
その寿命がコストに及ぼす影響が大きく、プレートン一
方式ではブレードが1回の使用で消耗し、その都度交換
しなければならないので、コストが高くなる。上記の点
を考慮して内周刃方式、ワイヤーソ一方式、ブレードソ
一方式によりウェハーを作製した場合、1枚当りの消耗
材料費はそれぞれ60円、85円、70円と見積もられ
ている。更に、インゴットの切り代ロス(スライスロス
)を含めたトータルコストではプレートン一方式、ワイ
ヤーソ一方式、内周刃方式の順である。
In the wire saw type, the rollers around which the wire is wound are made of synthetic resin, so they wear out during use, so their lifespan has a large impact on costs, whereas in the platen type, the blade wears out after one use. However, it has to be replaced each time, which increases the cost. Considering the above points, when wafers are manufactured using the internal blade method, the wire saw method, and the blade saw method, the cost of consumable materials per wafer is estimated to be 60 yen, 85 yen, and 70 yen, respectively. Furthermore, in terms of the total cost including ingot cutting loss (slice loss), the platen type, the wire saw type, and the internal blade type are the most popular.

更に、上述したワイヤーソー、ブレードソー、内周刃の
各種方式の性能を比較すると、第1表に示す通りに評価
することができる。
Furthermore, when the performance of the various types of wire saws, blade saws, and internal blades described above are compared, the results can be evaluated as shown in Table 1.

第  1  表 C:悪い 従って、第1表に示した評価からも認められるように、
ワイヤーソーを用いる切削方法では生産性および歩留並
びに消耗材料費の点を改善すれば、高品質でかつ安価に
ウェハーを切削製造し得るものである。
Table 1 C: Bad Therefore, as can be seen from the evaluation shown in Table 1,
In the cutting method using a wire saw, if the productivity, yield, and cost of consumable materials are improved, wafers can be cut and manufactured with high quality and at low cost.

本発明は上記事情に鑑みなされたもので、摩耗量が少な
くて寿命が長く、かつ切削時間を大幅に短縮することが
でき、このため、ワイヤーソ一方式による切削方法に切
削治具として好適に用いられ、ワイヤーソ一方式におけ
る生産性・歩留と消耗材料費の問題を有効に解決し得る
切削用ワイヤーを提供することを目的とする。
The present invention was developed in view of the above circumstances, and has a long life with less wear and can significantly shorten cutting time. Therefore, it can be suitably used as a cutting jig in a wire saw-type cutting method. The object of the present invention is to provide a cutting wire that can effectively solve the problems of productivity, yield, and consumable material costs in a one-way wire saw method.

−〇占を   るための   び一 本発明者らは上記目的を達成するため鋭意検討を進めた
結果、Ni−Cr系、Fe−Ni系、Fe−Cr−Af
l系合金或いはW、Mo金属等のワイヤー基材にダイヤ
モンドコーティングを施すことによって得られた切削用
ワイヤーをワイヤーソ一方式における切削治具として用
いることにより、高速送りが可能になり、スライス時間
が短縮されること、更にワイヤーソーの摩耗量が少なく
なり、多数回の使用ができるようになったこと、このた
めワイヤーソ一方式による切削方法において大幅な生産
性向上とコストダウンが達成されることを見い出し、本
発明をなすに至ったものである。
- 〇For the divination The present inventors have carried out intensive studies to achieve the above objective, and as a result, we have found that Ni-Cr system, Fe-Ni system, Fe-Cr-Af
By using a cutting wire obtained by applying diamond coating to a wire base material such as L-based alloy or W or Mo metal as a cutting jig in a wire saw type, high-speed feeding is possible and slicing time is shortened. Furthermore, it was discovered that the amount of wear on the wire saw was reduced, making it possible to use it many times, and as a result, significant productivity improvements and cost reductions were achieved in wire saw-based cutting methods. , which led to the present invention.

従って、本発明はワイヤー基材上にダイヤモンドコーテ
ィング膜を有するワイヤーソ一方式の切削用治具として
好適に用いられる切削用ワイヤーを提供するものである
Therefore, the present invention provides a cutting wire that has a diamond coating film on a wire base material and is suitably used as a wire saw type cutting jig.

以下、本発明を更に詳しく説明する。The present invention will be explained in more detail below.

本発明に係る切削用ワイヤーは、ワイヤー基材上にダイ
ヤモンドコーティング膜を形成してなるものである。
The cutting wire according to the present invention is formed by forming a diamond coating film on a wire base material.

ここで、ワイヤー基材としては、ワイヤーソ一方式にお
ける切削治具として通常使用されているピアノ線はダイ
ヤモンド膜をコーティングする際の温度条件に耐えない
場合があり、このため耐熱性の高いNi−Cr系、Fe
−Ni系、Fe−Cr−AQ系合金やW、Mo金属など
が適している。
Here, as the wire base material, piano wire, which is normally used as a cutting jig in the wire saw type, may not be able to withstand the temperature conditions when coating with a diamond film, so Ni-Cr, which has high heat resistance, is used as the wire base material. system, Fe
-Ni series, Fe-Cr-AQ series alloys, W, Mo metals, etc. are suitable.

また、このワイヤー基材にコーティングされるダイヤモ
ンド膜は通常0.01〜50%の厚さに形成することが
好ましい。
Further, it is preferable that the diamond film coated on the wire base material is usually formed to have a thickness of 0.01 to 50%.

この場合、ワイヤーにダイヤモンド膜をコーティングす
る方法としては、従来から良く知られている各種の方法
を採用することができ、例えば■アーク放電とスパッタ
リングとを組合せて炭素の正イオンビームを生成せしめ
、これを加速し、更に集束して、ワイヤー基材表面に衝
突させてダイヤモンドを析出させるイオンビーム法、■
黒鉛、ワイヤー基材及び水素を封管中に入れ、黒鉛を高
温部に、基材を低温部に設置して封入すると共に、水素
ガスを熱又は放電によって解離して原子状水素を生成せ
しめ、不均化反応を利用して基材表面にダイヤモンドを
析出させる化学輸送法、■水素ガスと炭化水素との混合
ガスに300MHz以上のマイクロ波を導入してマイク
ロ波プラズマを発生させ、このマイクロ波プラズマ中に
ワイヤー基材を設置し、炭化水素を分解して基材表面に
ダイヤモンドを析出させる方法等を採用することができ
る。
In this case, as a method of coating the wire with a diamond film, various conventionally well-known methods can be adopted, such as: ① generating a carbon positive ion beam by combining arc discharge and sputtering; The ion beam method accelerates this, focuses it further, and collides with the surface of the wire base material to precipitate diamond.■
Graphite, a wire base material, and hydrogen are placed in a sealed tube, and the graphite is placed in a high temperature part and the base material is placed in a low temperature part and sealed, and the hydrogen gas is dissociated by heat or electric discharge to generate atomic hydrogen, A chemical transport method that uses a disproportionation reaction to deposit diamond on the surface of a substrate. ■ Microwaves of 300 MHz or higher are introduced into a mixed gas of hydrogen gas and hydrocarbons to generate microwave plasma. A method may be adopted in which a wire base material is placed in plasma, hydrocarbons are decomposed, and diamond is precipitated on the surface of the base material.

これらの中では、特に■の方法で得られたダイヤモンド
コーティング膜が、乱れた構造の炭素が生成されていな
いので、切削用には特に好適である。
Among these, the diamond coating film obtained by method (1) is particularly suitable for cutting because no carbon with a disordered structure is generated.

本発明の切削用ワイヤーは、上述したようにワイヤーソ
一方式による切削治具として有効に使用されるが、本発
明の切削用ワイヤーを用いてワイヤーソ一方式でシリコ
ンインゴット等を切削する場合の方法や条件等は、従来
のワイヤーソ一方式と相違はなく1通常の方法、条件が
採用されるが。
As mentioned above, the cutting wire of the present invention is effectively used as a cutting jig using a one-way wire saw. The conditions, etc. are the same as those of the conventional wire saw method, and the usual methods and conditions are adopted.

本発明の切削用ワイヤーは耐摩耗性に優れ、従来より寿
命が長いので、治具交換頻度を少なくすることができる
上、切削時間を短縮することができるものである。
The cutting wire of the present invention has excellent wear resistance and has a longer lifespan than conventional wires, so that the frequency of jig replacement can be reduced and cutting time can be shortened.

なお5本発明の切削用ワイヤーは、シリコンインゴット
をスライスしてウェハーを作製するだけでなく、化合物
半導体、酸化物単結晶・多結晶、セラミックス、ガラス
、金属等の切削にも使用することができ、優れた能力を
発揮する。
5 The cutting wire of the present invention can be used not only for slicing silicon ingots to produce wafers, but also for cutting compound semiconductors, oxide single crystals/polycrystals, ceramics, glass, metals, etc. , demonstrate superior ability.

tU針舛釆一 本発明に係る切削用ワイヤーは、Ni−Cr系。tU Harimasu Kaichi The cutting wire according to the present invention is Ni-Cr based.

Fe−Ni系、Fe  Cr’AQ系合金やW、Mo金
属等のワイヤー基材にダイヤモンドコーティング膜を形
成したことにより、摩耗量が少なく、寿命が長く、かつ
切削時間を短縮することができるので、切削を能率よく
行うことができ、しかも切削コストを低下させることが
できる。
By forming a diamond coating film on wire base materials such as Fe-Ni alloy, Fe Cr'AQ alloy, W, Mo metal, etc., it has less wear, has a long life, and can shorten cutting time. , cutting can be performed efficiently and cutting costs can be reduced.

以下、実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明は下
記実施例に制限されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be explained with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples.

〔実施例〕〔Example〕

第4図に示すダイヤモンドコーティング用装置を用いて
ニクロム線にダイヤモンドコーティングを施し、切削用
ワイヤーを作製した。
A cutting wire was produced by applying diamond coating to a nichrome wire using the diamond coating apparatus shown in FIG.

即ち、第4図はマイクロ波プラズマにより炭化水素を分
解してダイヤモンドを析出させる装置の概略を示すもの
で、第4図中7はマイクロ波発信装置8、排気装置9、
メタンガスボンベ10.水素ガスボンベ11が付設され
た反応機であり、この装置によりニクロム線12表面に
ダイヤモンドコーティングを施す場合は、まず排気装置
9を作動させて反応機7内の圧力を予め40torrに
調整した。次いで水素ガスボンベ11より水素ガスを1
00d/分の流量で、またメタンガスボンベ10よりメ
タンガスを0.5d/分の流量で流し、導管13から反
応機7内に供給すると共に、マイクロ波発信器8を周波
数900MHz、IKWで作動させてプラズマを発生さ
せた。このプラズマ中をニクロム線12を1o閣/hr
の速度で移動させ、厚さ5−のダイヤモンドコーティン
グ膜をニクロム線12に析出させた。なお、ニクロム線
12はニクロム線元ローラ−14より繰り出され。
That is, FIG. 4 schematically shows an apparatus for decomposing hydrocarbons using microwave plasma to precipitate diamonds. In FIG. 4, 7 is a microwave transmitting device 8, an exhaust device 9,
Methane gas cylinder 10. The reactor was equipped with a hydrogen gas cylinder 11, and when diamond coating was applied to the surface of the nichrome wire 12 using this device, the exhaust device 9 was first activated to adjust the pressure inside the reactor 7 to 40 torr in advance. Next, 1 liter of hydrogen gas is added from the hydrogen gas cylinder 11.
Methane gas was flowed from the methane gas cylinder 10 at a flow rate of 0.00 d/min, and was supplied from the methane gas cylinder 10 into the reactor 7 through the conduit 13, while the microwave transmitter 8 was operated at a frequency of 900 MHz and IKW. Generated plasma. The nichrome wire 12 is passed through this plasma for 1 hour/hr.
A diamond coating film having a thickness of 5 mm was deposited on the nichrome wire 12. Note that the nichrome wire 12 is fed out from the nichrome wire source roller 14.

ニクロム線巻取り装置15に巻取られるようにした。な
お、図中16は誘導加熱用アルミナ板である。
The nichrome wire was wound by a winding device 15. In addition, 16 in the figure is an alumina plate for induction heating.

次に、前記ダイヤモンドコーティングニクロム線を第1
図に示したワイヤーソ一方式の切削治具として使用し、
シリコンインゴットをスライスすることによりその切削
効果を評価した。
Next, the diamond-coated nichrome wire is
Used as a cutting jig for the wire saw shown in the figure,
The cutting effect was evaluated by slicing the silicon ingot.

なお、スライス条件は第2表に示す通りである。Note that the slicing conditions are as shown in Table 2.

従来のワイヤーソ一方式、ブレードソ一方式及び内周刃
方式によるウェハー製造の結果も併せて第3表に記載す
る。
Table 3 also shows the results of wafer manufacturing using the conventional wire saw method, blade saw method, and internal blade method.

第  2  表 なお、従来のワイヤーソ一方式における切削用ワイヤー
は銘木金属工業社製のワイヤーソー用ピアノ線を使用し
、ブレードソ一方式におけるブレードとしては旭ダイヤ
モンド社製のもの[サンカットスーパーCAD−2U)
]を使用し、内周刃方式ではディスコ社製IDソーを使
用した。また、切削条件は、従来のワイヤーソ一方式の
場合、ワイヤー線径140戸、砥粒GC#1O00、ワ
イヤースピード120m/minであり、ブレードソ一
方式の場合は、ブレードピッチ0.75w+ブレード枚
数201枚、砥粒GC#1O00、ブレード往復速度6
00往復/minであり、内周刃方式の場合は、刃の厚
さ130pのものを用い周速1500 m /111i
n、送り60 閣/ 1linで切削した。
Table 2 Note that the cutting wire used in the conventional one-wire saw type is piano wire for wire saws manufactured by Meiboku Kinzoku Kogyo Co., Ltd., and the blade used in the one-sided blade saw type is one made by Asahi Diamond Co., Ltd. [Suncut Super CAD-2U]. )
] was used, and an ID saw manufactured by DISCO was used for the inner peripheral blade method. In addition, the cutting conditions for the conventional wire saw type are: wire diameter 140, abrasive grain GC#1O00, and wire speed 120 m/min, and for the blade saw type, blade pitch is 0.75W + number of blades is 201. , abrasive grain GC#1O00, blade reciprocating speed 6
00 reciprocation/min, and in the case of the inner peripheral blade method, use a blade with a thickness of 130p and a peripheral speed of 1500 m/111i.
Cut with a feed rate of 60 mm/1 lin.

第3表の結果に示す通り、本発明のダイヤモンドコーテ
ィングワイヤーは、摩耗しないためにワイヤーにかける
圧力を増すことができ、従って高速でスライスすること
ができるので、1時間当りの生産枚数は、従来のワイヤ
ーソ一方式の場合は20枚であるのに対し、本発明のワ
イヤーソーを用いることにより32枚に増加し、またワ
イヤーのブレがすくなくなり、ウェハーの寸法精度も向
上することが認められた。
As shown in the results in Table 3, the diamond-coated wire of the present invention can increase the pressure applied to the wire to prevent wear, and therefore can slice at high speed. The number of wafers was 20 in the case of the one-type wire saw, but the number increased to 32 by using the wire saw of the present invention, and it was also confirmed that the wobbling of the wire was reduced and the dimensional accuracy of the wafer was improved. .

更に、従来のワイヤーソ一方式の場合に比較して、本発
明のワイヤーを用いたワイヤーソ一方式では、ウェハー
1枚当りのコストを30円低下させることができ、内周
刃方式よりも5円、ブレードソーよりも15円安価にな
った。しかも、スライスロス、取付段取り等の時間の節
約を含めると相当のコスト低下が実現した。
Furthermore, compared to the conventional wire saw method, the wire saw method using the wire of the present invention can reduce the cost per wafer by 30 yen, and 5 yen less than the internal blade method. It's 15 yen cheaper than a blade saw. Moreover, when time savings such as slice loss and installation setup are included, considerable cost reductions have been achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はワイヤーソ一方式による切削方法を説明する概
略図、第2図はブレードソ一方式による切削方法を説明
する概略図、第3図は内周刃方式による切削方法を説明
する概略図、第4図はダイヤモンドコーティング装置の
一例を示す概略図である。 1・・・インゴット、4・・・ワイヤー。
Fig. 1 is a schematic diagram illustrating a cutting method using a wire saw method, Fig. 2 is a schematic diagram explaining a cutting method using a blade saw method, and Fig. 3 is a schematic diagram explaining a cutting method using an internal blade method. FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of a diamond coating device. 1... Ingot, 4... Wire.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、ワイヤー基材上にダイヤモンドコーティング膜を形
成したことを特徴とする切削用ワイヤー。 2、ワイヤー基材がNi−Cr系、Fe−Ni系及びF
e−Cr−Al系合金並びにW及びMo金属から選ばれ
る線材よりなる特許請求の範囲第1項記載の切削用ワイ
ヤー。 3、結晶インゴットスライス用である特許請求の範囲第
1項又は第2項記載の切削用ワイヤー。
[Claims] 1. A cutting wire characterized in that a diamond coating film is formed on a wire base material. 2. The wire base material is Ni-Cr based, Fe-Ni based and F
The cutting wire according to claim 1, which is made of a wire selected from an e-Cr-Al alloy and W and Mo metals. 3. The cutting wire according to claim 1 or 2, which is used for slicing crystal ingots.
JP24936986A 1986-10-20 1986-10-20 Cutting wire Pending JPS63102868A (en)

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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9028948B2 (en) 2009-08-14 2015-05-12 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive articles including abrasive particles bonded to an elongated body, and methods of forming thereof
US9067268B2 (en) 2009-08-14 2015-06-30 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive articles including abrasive particles bonded to an elongated body
US9186816B2 (en) 2010-12-30 2015-11-17 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive article and method of forming
US9533397B2 (en) 2012-06-29 2017-01-03 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive article and method of forming
US9687962B2 (en) 2012-06-29 2017-06-27 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive article and method of forming
US9878382B2 (en) 2015-06-29 2018-01-30 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive article and method of forming
US9902044B2 (en) 2012-06-29 2018-02-27 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive article and method of forming

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9028948B2 (en) 2009-08-14 2015-05-12 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive articles including abrasive particles bonded to an elongated body, and methods of forming thereof
US9067268B2 (en) 2009-08-14 2015-06-30 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive articles including abrasive particles bonded to an elongated body
US9862041B2 (en) 2009-08-14 2018-01-09 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive articles including abrasive particles bonded to an elongated body
US9186816B2 (en) 2010-12-30 2015-11-17 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive article and method of forming
US9533397B2 (en) 2012-06-29 2017-01-03 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive article and method of forming
US9687962B2 (en) 2012-06-29 2017-06-27 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive article and method of forming
US9902044B2 (en) 2012-06-29 2018-02-27 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive article and method of forming
US10596681B2 (en) 2012-06-29 2020-03-24 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive article and method of forming
US9878382B2 (en) 2015-06-29 2018-01-30 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive article and method of forming
US10137514B2 (en) 2015-06-29 2018-11-27 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive article and method of forming
US10583506B2 (en) 2015-06-29 2020-03-10 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive article and method of forming

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