JPS6296396A - ダイヤモンド合成装置 - Google Patents

ダイヤモンド合成装置

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JPS6296396A
JPS6296396A JP23400085A JP23400085A JPS6296396A JP S6296396 A JPS6296396 A JP S6296396A JP 23400085 A JP23400085 A JP 23400085A JP 23400085 A JP23400085 A JP 23400085A JP S6296396 A JPS6296396 A JP S6296396A
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JP
Japan
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diamond
reactor
boride
emitting material
filament
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JP23400085A
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Tamotsu Hattori
服部 有
Nobue Ito
伊藤 信衛
Kazuhiro Inokuchi
和宏 井ノ口
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Soken Inc
Original Assignee
Nippon Soken Inc
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は化学気相法を利用したダイヤモンドの低圧合成
装置に関する。
〔従来の技術〕
近年、炭化水素ガスの分解を利用するダイヤモンドの低
圧合成法が注目され、研究が進んでいる。
この低圧合成法としては例えば特開昭58−91100
号公報に開示されている如(、メタン等の炭化水素と水
素ガスをタングステンフィラメントからなる熱電子放射
材によって熱分解し、基板上にダイヤモンド粒子を析出
させようとするものが知られている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら上記従来のダイヤモンド合成法においては
、熱電子放射材としてタングステンを使用し、このタン
グステンフィラメントを2000℃以上に加熱する必要
があるため以下のような問題が発生する。
filタングステンフィラメントが2000℃以上の加
熱により分解して、タングステン自身あるいは、メタン
の分解により生した炭素と反応したタングステンカーバ
イド(WC,W2C)となって基板表面にダイヤモンド
とともに不純物として混入する。
(2)タングステンフィラメントが分解消耗することに
より、長時間のダイヤモンド合成反応中に、フィラメン
トの抵抗値が徐々に増大していき、ついには破断してし
まうため、純粋なダイヤモンドを析出する条件を維持し
制御することが非常に困難となる。
〔問題点を解決するための手段〕
そこで上記の如き問題を解消するための本発明の手段と
は、外気より気密的に区画された反応室と、 該反応室内を排気する排気手段と、 前記反応室内に原料ガスを導入する導入手段と、前記反
応室内に配置され、ダイヤモンドを析出させる基板と、 該基板周囲を加熱する加熱手段と、 前記反応室内に配設され、少なくともランタン。
イツトリウム、バリウムおよびカルシウムよりなる群よ
り選ばれた金属のホウ化物を含有してなる熱電子放射材
とを備えたダイヤモンド合成装置を採用するものである
〔作用〕 上記手段によれば、ダイヤモンド合成ガス雰囲気中で高
温においてもきわめて安定なランタン。
イツトリウム、バリウムおよびカルシウムよりなる群よ
り選ばれた金属のホウ化物を含有する(熱電子放射材)
を用いているために、ダイヤモンド合成反応中(熱電子
放射材)が分解することがない。
〔発明の効果〕
従って本発明によれば、(熱電子放射材)の分解により
不純物が混入することがなく高純度なダイヤモンドが得
られるとともに、(熱電子放射材)の分解劣化による抵
抗値の変化がおこらず、ダイヤモンドの生成条件の維持
が容易になるという実用上きわめて優れた効果を奏する
〔実施例〕
以下本発明を図に示す実施例に基づいて説明する。第1
図は本発明のダイヤモンド合成装置の構造を示す断面模
式図で、■は石英よりなり本発明の反応室を区画する反
応管で装置部2上にOリング3を介して載置されている
。4はバルブ4aの制御によりこの反応管1内を排気す
る本発明の排気手段としてのロータリーポンプ、5は反
応管lの外周囲に設けられ通電により反応管内を900
℃以上まで加熱できるように構成された加熱手段として
の管状炉である。6aは装置部2に一端が固定され反応
管1内に鉛直に延在する支持棒でその先端部は円板状の
支持台6bを形成し、いずれも石英よりなる。支持台6
b上にはダイヤモンドが析出するタングステン、シリコ
ンウェハ等からなる基板7が載置されている。
この基板7の上方10龍には、本発明の(熱電子放射材
)であるコイル状フィラメント8が配設され、このフィ
ラメント8は、ホウ化ランタンCLaBa)よりなる。
そして第2図の部分拡大図に示す如く、フィラメント8
より電気抵抗の小さい一対の電極9にその両端がかしめ
等の方法で8a部で電気的に接続されている。なお電極
9はタングステン等の耐熱性金属よりなる。そして一対
の電極9は交流型′tA10に接続されフィラメント8
が2000 ’C以上にまで加熱できるよう構成されて
いる。またフィラメント80更に上方には原料ガス導入
管11が開口しておりこの導入管llは、この装置の外
部に設けられたメタンおよび水素ボンベ12.13と接
続され、流量調整バルブ12a、13aにより混合ガス
の流量および体積組成が制御される。なお管状炉5は支
持台6bと基板7、フィラメント8近傍が所定温度に加
熱できるように配置されている。
次に本発明のダイヤモンド合成装置の作動を説明する。
バルブ4aを開きロータリーポンプ4を作動させて、反
応管1内を充分に排気し、内部の空気および水分等を完
全に排出させたあと、バルブ12a、13aを開きメタ
ンと水素の混合ガス(メタンの体積含有率1%)を10
0 cc/minの流量で導入管11より反応管1内に
連続的に供給する。そしてバルブ4aを絞っていき、図
示しない圧力計を見ながら反応管1内が5QTorrで
一定となるよう制御する。次に管状炉5に通電し、図示
しない温度センサーより反応管内の支持台6bと基板7
.フィラメント8近傍が700〜900℃に加熱される
よう制御する。次にフィラメント8に約20Vの交流電
圧を印加することによりフィラメント8を2200°C
程度に発熱させる。なおフィラメントであるホウ化ラン
タンの比抵抗は5.6X10−6Ω/ cmである。
W入管11から供給された混合ガスは、フィラメント8
により2000℃程度に加熱されメタンガスが熱分解さ
れ、′M離炭素が基板7上にダイヤモンドとして析出す
る。一般に黒鉛の生成が有利である低温低圧条件下でダ
イヤモンドを析出させるには分解した炭素原子が励起状
態を保ち、基板上にダイヤモンド核を発生させることが
必要である。さらに、この炭素原子がSp3結合を生し
させるエネルギーを持ち、副生成物として生成する可能
性のある黒鉛(sp2)、カルビル(sp)等の生成を
抑制するとともに、生成した場合には、再び炭化水素ガ
スとして除去するための原子状水素が必要である。本発
明の方法では、管状炉5による予備加熱で励起状態の炭
化水素、原子状水素を生成させる。次に、2000℃以
上に加熱したフィラメント8により、炭素原子に化学的
に活性な性質とs p3結合を生じせしめるのに十分な
エネルギーを付与する。このことにより基板7上にはs
 p 3結合を持つダイヤモンドを析出し、黒鉛。
ダイヤモンド炭素の副生成物は、原子状水素との反応に
より速やかにエツチングされ、高純度のダイヤモンドを
得ることができる。
黒鉛、非ダイヤモンド炭素などの副生成を防止するため
、本発明法においては炭素水素ガス 水素ガスの混合比
は炭素水素/水素=0.1〜10体(責94であること
が望ましい。0.1%以下ではダイヤモンドの析出速度
が極端に低下し、10%以上では黒鉛の混入が防止でき
ない。管状炉5で加熱する温度は、適量の励起状態の炭
化水素、原子状水素を生成させるために、500〜10
00 ”Cが望ましい。またフィラメントの温度は、励
起状態の炭化水素と原子状水素を生成するのに必要な温
度として2000℃以上であり、かつホウ化ランタンの
安定領域である2500°C以下が望ましい(ホウ化ラ
ンタンの融点2530℃)。反応管1内の圧力は、10
〜100TOrrが望ましく :’ l 0Torr以
下ではダイヤモンド生成速度が低下し、100Torr
以上では黒鉛の混入が増加する。
上記実施例のダイヤモンド合成装置は、熱電子放射材と
してホウ化ランタンを用いているので合成したダイヤモ
ンド膜中へのタングステン、タングステンカーバイド等
の不純物の混入を防止できることが2次イオン質量分析
(SIMS)で、確認された。タングステンを熱電子放
射材として使用した場合、リチウム、ナトリウムなど基
板中の不純物の他、タングステン(W)、タングステン
カーバイド(WC,W、C)がダイヤモンド膜中から検
出されたが、末法では、タングステン及びその化合物は
全く検出されなかった。
また、フィラメント8のダイヤモンド合成反応中の抵抗
値の経時変化を第3図に示す。この図は直径0.15 
mmのタングステン線及びホウ化ランタン線を用いてダ
イヤモンドを合成中の熱電子放射材の電気抵抗変化を測
定したものである。
タングステンでは図中破線で示すように反応開始直後か
ら電気抵抗が上昇し続け、平均6時間で断線するが、ボ
ウ化ランタンを用いると抵抗値は図中実線で示す如く安
定し、40時間経過後も断線はなかった。したがって、
本発明のダイヤモンド合成装置では、一定電圧を印加す
れば長時間熱電子放射材の温度を一定に保つことができ
、均一な反応条件が容易に維持できるため、黒鉛等の副
生成のない高純度なダイヤモンド膜を再現性良く得るこ
とができる。
またホウ化ランタンは熱電子放射効率がタングステンに
比較して大きいために、効率よ(原料ガスであるメタン
の分解反応が進行しダイヤモンド析出速度が大きくなる
という効果も有している。
本発明において、熱電子放射材は、電気抵抗値を調整す
るため、ホウ化ランタンにホウ化セリウム(CeBa)
を添加して使用しても良く、CeBbを添加すると電気
抵抗値を上昇させることにより電流値を制限できる。
また本発明の熱電子放射材としてはホウ化ランタンの他
に、ホウ化イツトリウムCYB&)、ホウ化バリウム(
BaB、)、ホウ化カルシウム(CaB6)等の金属ボ
ウ化物であってもよく、これらのホウ化物はいずれも熱
電子放射効率が大きく、ダイヤモンド合成ガス雰囲気中
で2000℃以上の高温にさらされても安定であり、ホ
ウ化ランタンの場合と同様に高純度のダイヤモンドを効
率よく生成させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のダイヤモンド合成装置の構造を示す断
面模式図、第2図はその要部拡大図、第3図はフィラメ
ントの電気抵抗と反応時間との関係を示す特性図である
。 l・・・反応管、4・・・ロータリーポンプ、5・・・
管状炉、7・・・基板、8・・・フィラメント、11・
・・導入管。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 外気より気密的に区画された反応室と、 該反応室内を排気する排気手段と、 前記反応室内に原料ガスを導入する導入手段と、前記反
    応室内に配置され、ダイヤモンドを析出させる基板と、 該基板周囲を加熱する加熱手段と、 前記反応室内に配設され、少なくともランタン、イット
    リウム、バリウムおよびカルシウムよりなる群より選ば
    れた金属のホウ化物を含有してなる熱電子放射材とを備
    えたことを特徴とするダイヤモンド合成装置。
JP23400085A 1985-10-18 1985-10-18 ダイヤモンド合成装置 Granted JPS6296396A (ja)

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JP23400085A JPS6296396A (ja) 1985-10-18 1985-10-18 ダイヤモンド合成装置

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JP23400085A JPS6296396A (ja) 1985-10-18 1985-10-18 ダイヤモンド合成装置

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Publication Number Publication Date
JPS6296396A true JPS6296396A (ja) 1987-05-02
JPH0513118B2 JPH0513118B2 (ja) 1993-02-19

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63285192A (ja) * 1987-05-15 1988-11-22 Yoichi Hirose 気相法によるダイヤモンド合成法
KR100360281B1 (ko) * 2000-10-19 2002-11-09 신승도 다이아몬드 기상 합성 장치 및 이를 이용한 합성 방법

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60112698A (ja) * 1983-11-22 1985-06-19 Nec Corp ダイヤモンドの製造方法

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