JPS629594A - 連想メモリセル回路 - Google Patents

連想メモリセル回路

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JPS629594A
JPS629594A JP14962485A JP14962485A JPS629594A JP S629594 A JPS629594 A JP S629594A JP 14962485 A JP14962485 A JP 14962485A JP 14962485 A JP14962485 A JP 14962485A JP S629594 A JPS629594 A JP S629594A
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JP
Japan
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level
mos transistor
line
bit line
memory cell
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Pending
Application number
JP14962485A
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English (en)
Inventor
Mutsumi Kumazawa
熊澤 睦
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Oki Electric Industry Co Ltd
Original Assignee
Oki Electric Industry Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体連想メモリ装置における連想メモリセ
ル回路に関するものである。
(従来の技術) 半導体連想メモリ装置は、検索データを入力してこれと
記憶データの内容が一致する記憶セル群(該当するワー
ド)を探し出し、このワードに属する記憶データを読出
すもので、このような一致検索機能のほかに、アドレス
指定によってデータの書込みおよび読出しを行う通常の
メモリ機能も合せ持っている。
従来、このような分野の技術としては、アイ・ニスΦニ
ス・シ・シ85  ダイジェスト オフ テクニカル 
ペーパーズ(ISSCC85DIGEST 0FTEC
HNICAL PAPERS)、111 (1985−
2−13)1985アイ・イー・イー・イー国際半導体
回路協議会(1985IEEE Internatio
nal 5olid−8tate CircutgCo
nference)、(米国)、r 8kb連想メモリ
(An 8kb Content−Addressab
le and ReentrantMemory) J
 P、42.43に記載されるものがあった。
以下、その構成を図を用いて説明する。
第2図は半導体連想メモリ装置における従来のメモリセ
ル回路の一構成例を示す回路図である。
第2図において、lはワード線(アドレス線)、2.3
は第1と第2のビット線(データ出力線)、および4は
センス線であり、これらの線1〜4には、情報を記憶す
るスタティックメモリセル10と、一致検索機能を持つ
比較論理回路20とが接続されている。これらのスタテ
ィックメモリセル10及び比較論理回路20は、多数個
マトリクス状に配列されて半導体連想メモリ装置本体を
構成する。
スタティックメモリセル10は、6個のMOS トラン
ジスタ11,12,13,14,15.18からなり、
 MOS トランジスタ13.15で第1のインバータ
を、 MOS トランジスタ14.18で第2のインバ
ータをそれぞれ構成し、さらにこれら第1と第2のイン
バータで、データを保持するラッチ回路を構成している
。なお、図中、Plは第′1のインバータの出力点、P
2は第2のインバータの出力点を示している。
また、比較論理回路20は、4個のNOS トランジス
タ21,22.23.24からなる排他的否定論理和回
路(エクスクル−シブノア、以下E−NORという)で
構成される。
次に動作について説明する。
書込みモードの動作は、ワード線1を“H”レベルにチ
ャージ(充電)し、ビット線2,3にコンブリメント(
相補的)な“H″、“L”レベルの信号を入れる。する
と、ビット線2.3のデータが出力点PL、P2 <書
込まれる。
読出しモードの動作は、ワード線1を“H”レベルにチ
ャージして出力点PL、P2のデータをビット線2,3
から取出して読出しを行なう。
連想モードの動作は、まず、センス線4を“HItレベ
ルにプリチャージ(予備充電)する。
このとき、ビット線2.3及びワード線1はha L 
11レベルにディスチャージ(放電)されている。次に
、ビット線2,3に“H”、°L”レベルのコンブリメ
ントな信号を入れ、ワード線1を“L 11レベルのま
まにしておく、すると、ビット線2.3に与えられた信
号と、メモリセル10に書込まれているデータ(出力点
P、1.P2のデータ)とが、比較論理回路20で比較
される0両者が一致した場合は、 MOS トランジス
タ21〜24がオフ状態となってセンス線4がそのまま
の状態、つまり“H”レベルのままである。両者が一致
しなかった場合は、 MOS トランジスタ21〜24
がオン状態となり、センス線4がディスチャージされて
“°L″レベルとなる。このようにしてメモリセル10
に保持しているデータと、比較しようとするデータとが
、一致しているかどうかを判別できる。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、上記構成の回路では、 MOSトランジ
スタ11〜14.21〜24の数(10個)が多いため
、メモリセル回路を集積する場合にセル面稙が大きくな
るという問題点があった。さらに、センス線4に蓄えら
れた電荷をディスチャージするMOSトランジスタ21
.23および22 、24は、センス線4に2個直列に
接続されているため、MOS トランジスタ21.23
および22 、24のオン時の抵抗が大きく、それによ
ってディスチャージ時間が長くなり、動作速度が遅くな
るという問題点があった。
本発明は、前記従来技術が持っていた問題点として、素
子数が多いという点と、動作速度が遅いという点につい
て解決した連想メモリセル回路を提供するものである。
(問題点を解決するための手段) 本発明は、前記問題点を解決するために、ワード線およ
び第1.第2のビット線と第1.第2のビット線の情報
(データ)をそれぞれ保持する第1、第2のインバータ
を有するメモリセルと、第1、第2のビット線に与えら
れたデータと第1゜第2のインバータの出力をそれぞれ
比較する比較論理回路とを備えた連想メモリセル回路に
おいて、比較論理回路を、第1.第2および第3のMO
S トランジスタを用いたE−NORで構成したもので
ある。ここで、第1.第2および第3のMOS トラン
ジスタは、それぞれ第1および第2の電極とその電極間
を制御する制御電極とを有し、第1のMOS トランジ
スタはその第1の電極を第2のビット線に、その制御電
極を第1のインバータの出力側にそれぞれ接続し、第2
のMOS トランジスタはその第1の電極を第1のビッ
ト線に、その第2の電極を第1のkos トランジスタ
の第2の電極に、その制御電極を第2のインバータの出
力側にそれぞれ接続し、第3のMOSトランジスタはそ
の第1の電極を基準電位に、その第2の電極をセンス線
に、その制御電極を第1と第2のMOS トランジスタ
の第2の、電極にそれぞれ接続したものである。
(作 −用) 本発明によれlk、以上のように連想メモリセル回路を
構成したので、第1.第2のMOSトランジスタは、第
1.第2のビット線に与えられるデータと第1.第2の
インバータの出力とを比較し、その比較結果に応じて第
3のMOSトランジスタの導通状態を制御するように働
く。また、第3のMOSトランジスタは、センス線に対
する電荷の充、放電を行なうように働く、この第1.第
2および第3のMOS トランジスタによる信号処理に
よって、メモリセルの保持データと比較しようとするデ
ータとの一致の有無の判別が行えるのである。したがっ
て、素子数の低減と、第3のMOS トランジスタのみ
によるオン抵抗の低減が計れ、前記問題点を除去できる
のである。
(実施例) 第1図は本発明の実施例を示す連想メモリセル回路の回
路図である。
第1図において、31はワード線、32.33は第1と
第2のビット線、および34はセンス線であり、これら
の線31〜34には、6トランジスタ型のCMOSスタ
チックメモリセル40と、3トランジスタからなるE−
NORで構成された比較論理回路50とが接続されてい
る。これらのスタチックメモリセル40及び比較論理回
路50は、センス線34に多数個アレイ状に接続される
と共に、ビット線32.33には読出し用のセンスアン
プ等が接続されて半導体連想メモリ装置が構成される。
スタチックメモリセル40は、N型MO9トランジスタ
41,42,45,413及びP型MOS トランジス
タ43.44で構成され、これらの各MO8トランジス
タは第1の電極であるソースと、第2の電極であるドレ
インと、第1と第2の電極間の導通状態を制御するため
の制御電極であるゲートとを具えている。
ワード線31及びビット線32 、33に接続されたM
OSトランジスタ41.42の一方のMOSトランジス
タ41は、そのソースが出力点Q1に、そのドレインが
第1のビット線32に、そのゲートがワード線31にそ
れぞれ接続されている。他方のMOS トランジスタ4
2は、そのソースが出力点Q2に、そのドレインが第2
のビット線33に、そのゲートがワード線31にそれぞ
れ接続されている。
MOS トランジスタ41.42に接続されたMOS 
トランジスタ43〜48のうち、 MOSトランジスタ
43は、そのソースが電源VDDに、そのドレインが出
力点Q1に、そのゲートがMOSトランジスタ45のゲ
ートに、それぞれ接続されている。また、MOSトラン
ジスタ45は、そのソースが接地されると共にそのドレ
インが出力点Qに接続され、MOS トランジスタ43
と共に0MO8等の第1のインバータを構成する。
MOSトランジスタ44は、そのソースが電源VDDに
、そのドレインが出力点Q2に、そのゲートがMOS 
トランジスタ4Bのゲートに、それぞれ接続されている
。出力点Q2はMOS トランジスタ45のゲートに接
続されている。また、MOS トランジスタ48は、そ
のソースが接地されると共に、そのドレインが出力点Q
2に、そのゲートが出力点Q1にそれぞれ接続されてい
る。  MOSトランジスタ48はMOS トランジス
タ44と共にCMOS等の第2のイ゛ンバータを構成す
る。さらに、前記第1と第2のインバータでラッチ回路
を構成している。
比較論理回路50は、N型の第1.第2.第3のMOS
 トランジスタ51.52.53で構成される。第1の
MOS トランジスタ51は、そのソースが第2のビッ
ト線33に、そのドレインが第2のMOSトランジスタ
52のドレイン及び第3のMOSトランジスタ53のゲ
ートに、そのゲートが前記出力点Q1に、それぞれ接続
されている。第2のMOS トランジスタ52は、その
ソースが第1のビット線32に、そのゲートが前記出力
点Q2に、それぞれ接続されている。また、第3のMO
S トランジスタ53は、そのソースに基準電位、例え
ば接地電位が与えられると共に、そのドレインがセンス
線34に接続されている。
次に動作について説明する。
(1)書込みモード まず、初期状態にセットするためにワード線31を“L
”、レベルにし、ビット線32.33を“H”レベ彫に
プリチャージする。この際、センスi34は“L”レベ
ルにディスチャージしておく。次に、ワード線31を“
H”レベルにチャージし、ビット線32.33に書込み
用のコンブリメントな“H”、“L″レベルデータを入
力する。すると、 MOS トランジスタ41.42は
オンし、ビット線32.33のデータが出力点Ql、Q
2にラッチされる。
その後、ワード線31を“L”レベルにすると、MOS
 トランジスタ41.42がオフし、書込まれたデータ
が出力点Ql、Q2に保持される。
(2)読出しモード ワード線31を“L”レベルにし、ビット線32.33
を“H”レベルにプリチャージする。この際、センス線
34は“L”レベルにディスチャージしておく0次に、
ワード線31を“H”レベルにチャージすると、MOS
トランジスタ41.42がオンし、メモリセル40にラ
ッチされていたデータが、ビット線32.33にコンブ
リメントな信号になって生じる。この信号を該ビット線
32.33に接続されるセンスアンプによって増幅し、
読出す、その後、初期状態にセットするために、ワード
線31を“L”レベルにする。
(3)連想操作モード 連想操作モードは、次の真理値表に従って実行される。
真理値表 まず、ワード線31及びビット線32.33を“L”レ
ベルにディスチャージし、ざらにMOS トランジスタ
53の状態が不確定のためにセンス34を“H”レベル
にチャージしておく。この時、 MOS トランジスタ
51,52のいずれか一方はオンしているので、MOS
トランジスタ53のゲート電位が“L″レベルなって該
MO3トランジスタ53がオフしている。
次に、メモリセル40にラッチされているデータと比較
するデータを、コンブリメントな電圧レベルでビット線
32.33に印加する。
第1のインバータの出力点Qlが“H”レベル、第2の
インバータの出力点Q2がL”レベルとなっている場合
、 NOS トランジスタ51はオンし、MOS トラ
ンジスタ52はオフする。このとき、ビット線32に“
H”レベルのデータが、ビット線33に“L”レベルの
データがそれぞれ印加されると、MOS トランジスタ
51はオンしているので、 MOS トランジスタ53
のゲート電位が“L”レベルとなってオフする。そのた
め、センス線34に蓄えられて ・いる電荷はディスチ
ャージされず、“H”レベルを保持する。
次に、ビット線32に“L”レベルのデータが、ビット
線33に“H”レベルのデータがそれぞれ印加された場
合、MOSトランジスタ51がオンしていルノテ、 M
OS トランジスタ53のゲート電位は11 HItレ
ベルとなる。これによってMOS トランジスタ53は
オンし、センス線34の蓄積電荷がディスチャージされ
て該センス線34が“L″レベルなる。
同様に、出力点Q1が“°L”レベル、出力点Q2が“
H”レベルの場合、ビット線32に“H”レベルのデー
タが、ビット線33に“L”レベルのデータがそれぞれ
印加されると、 MOS トランジスタ53がオンして
センス線34が“L”レベルとなる。また、ビット線3
2に“L”レベルのデータが、ビット線33に“H”レ
ベルのデータがそれぞれ印加されると、 MOJ トラ
ンジスタ53はオフし、センス線34が“H″レベル保
持する。
このように、出力点Q1とビット線2の電位、出力点Q
2とビット線33の電位がそれぞれ一致したときは、 
MOSトランジスタ53がオフし、反対に両者が不一致
のと・きは、 MOS トランジスタ53がオンする。
メモリセル40及び比較論理回路50が多数個、センス
線34にアレイ状に配列されている場合、同一のセンス
線34に接続されるMOSトランジスタ53がすべてオ
フのときはセンス線34が“Hnレベルとなり1.その
うち少なくとも一つのMOSトランジスタ53がオンし
たときはセンス線34が“L”しベルとなる。このよう
にして連想メモリに保持しているデータと、比較しよう
とするデータとの一致の有無が判別される。
而して、本実施例によれば、9個のMOSトランジスタ
41〜413.51〜53を用いて読み書き可能な連想
メモリセル回路を構成したので、次のような利点がある
(i)従来の回路に比べてMOS トランジスタが1個
少なくなるため、メモリセルの搭載面積を約1割程度縮
小でき、これによってより高密度に集積できる。
(ii)センス線34の蓄積電荷をディスチャージする
MOSトランジスタを、従来の2偏重列から1個にした
ので、MOS トランジスタ53のオン時の抵抗を従来
の約半分にでき、これによってより高速な動作が可能と
なる。
なお、上記実施例において、N型MOSトランジスタ5
3をP型のMOS トランジスタとし、そのソースを電
源VDDに接続しても、上記実施例とほぼ同様の利点が
得られる。同様に、メモリセル40及び比較論理回路5
0を構成する各MOS トランジスタのP型、N型を種
々変形することにより、上記実施例とほぼ同様の作用、
効果を奏させることもでき墨。
(発明の効果) 以上詳細に説明したように1本発明によれば、比較論理
回路を3個のMOS トランジスタからなるE−NOR
で構成したので、素子数減少による高密度の集積化と、
動作速度の高速化という効果が期待できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例を示す連想メモリセル回路の回
路図、第2図は従来の連想メモリセル回路の回路図であ
る。 31・・・・・・ワード線、32・・・・・・第1のビ
ット線、32・・・・・・第2のビット線、34・・・
・・・センス線、40・・・・・・メモリセル、41〜
46・・・・・・MOSトランジスタ、50・・・・・
・比較論理回路、51〜53・・・・・・MOS トラ
ンジスタ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  ワード線と第1および第2のビット線とに接続され、
    該第1と第2のビット線の情報をそれぞれ保持する第1
    と第2のインバータと、センス線に接続され、前記第1
    のビット線の情報と前記第1のインバータの出力、およ
    び前記第2のビット線の情報と前記第2のインバータの
    出力をそれぞれ比較する比較論理回路とを備えた連想メ
    モリセル回路において、 前記比較論理回路を、 第1と第2の電極およびその両電極間の導通状態を制御
    する制御電極を有し、該第1の電極が前記第2のビット
    線に、該制御電極が前記第1のインバータの出力側にそ
    れぞれ接続された第1のMOSトランジスタと、 第1と第2の電極およびその両電極間の導通状態を制御
    する制御電極を有し、該第1の電極が前記第1のビット
    線に、該第2の電極が前記第1のMOSトランジスタの
    第2の電極に、該制御電極が前記第2のインバータの出
    力側にそれぞれ接続された第2のMOSトランジスタと
    、 第1と第2の電極およびその両電極間の導通状態を制御
    する制御電極を有し、該第1の電極に基準電位が与えら
    れ、該第2の電極が前記センス線に、該制御電極が前記
    第1および第2のMOSトランジスタの第2の電極にそ
    れぞれ接続された第3のMOSトランジスタとで、 構成したことを特徴とする連想メモリセル回路。
JP14962485A 1985-07-08 1985-07-08 連想メモリセル回路 Pending JPS629594A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013016243A (ja) * 2011-06-09 2013-01-24 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 記憶装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013016243A (ja) * 2011-06-09 2013-01-24 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 記憶装置

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