JPS6294842A - 感光性組成物 - Google Patents
感光性組成物Info
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- JPS6294842A JPS6294842A JP23354685A JP23354685A JPS6294842A JP S6294842 A JPS6294842 A JP S6294842A JP 23354685 A JP23354685 A JP 23354685A JP 23354685 A JP23354685 A JP 23354685A JP S6294842 A JPS6294842 A JP S6294842A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/031—Organic compounds not covered by group G03F7/029
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、フォトレジスト、２５版、プルーフ材等に用
いられる光酸化剤として有用な２，４．５−トリフェニ
ルイミダゾールニ量体を含有する感光性組成物に関する
。
いられる光酸化剤として有用な２，４．５−トリフェニ
ルイミダゾールニ量体を含有する感光性組成物に関する
。
（従来の技術）
光照射により発色し画像を形成する組成物は、フォトレ
ジスト、２５版等における重ね焼きの防止、フォトマス
クの位置確認のため有用であシ、また簡便なプルーフ材
としても用いられる（特開昭５５−１３７８０号、特開
昭５９−１４２５４５号）。これらの組成物としては有
機、ｔ’ ＩＪハロゲン化合物又は光酸化剤と各種ロイ
；染料の組合せ（特開昭５９−１４０４４７号、特開昭
５９−１４２５４５号、特開昭４７−１２８７９号）等
が代表的なものである。
ジスト、２５版等における重ね焼きの防止、フォトマス
クの位置確認のため有用であシ、また簡便なプルーフ材
としても用いられる（特開昭５５−１３７８０号、特開
昭５９−１４２５４５号）。これらの組成物としては有
機、ｔ’ ＩＪハロゲン化合物又は光酸化剤と各種ロイ
；染料の組合せ（特開昭５９−１４０４４７号、特開昭
５９−１４２５４５号、特開昭４７−１２８７９号）等
が代表的なものである。
（発明が解決しようとする問題点）
しかし、ぼりハロゲン化合物は毒性を有し、また光酸化
剤とロイコ染料の組合せでは未だ十分な感度が得られて
いないという欠点があった。
剤とロイコ染料の組合せでは未だ十分な感度が得られて
いないという欠点があった。
（問題点を解決するための手段）
本発明者らは上記の欠点を改良すべく鋭意検討した結果
、下記一般式（１）で表わされる２、 ４．５一トリフ
エニルイミダゾールニ量体が従来の光酸化剤よシ高感度
々ことを見い出し、本発明を完成させるに到った。すな
わち本発明は、定着剤とバインダーとからなる定着層、
発色剤としての酸化可能なロイコ染料、光酸化剤、発色
助剤及びバインダーからなる発色層とから構成される感
光性組成物において、光酸化剤として次の一般式（１）
、で表わされる２、４．５− ）リフェニルイミダゾー
ル二量体を用いる感光性組成物である。
、下記一般式（１）で表わされる２、 ４．５一トリフ
エニルイミダゾールニ量体が従来の光酸化剤よシ高感度
々ことを見い出し、本発明を完成させるに到った。すな
わち本発明は、定着剤とバインダーとからなる定着層、
発色剤としての酸化可能なロイコ染料、光酸化剤、発色
助剤及びバインダーからなる発色層とから構成される感
光性組成物において、光酸化剤として次の一般式（１）
、で表わされる２、４．５− ）リフェニルイミダゾー
ル二量体を用いる感光性組成物である。
ただし式中Ａは、式（Ｉｆ）、
（ただし式中Ｒ１〜Ｒ１１は水素原子、低級アル中ル基
、低級アルコキシ基、フッ素、塩素、臭素原子を示す）
であり、さらにビベロニル基又はフリル基である。
、低級アルコキシ基、フッ素、塩素、臭素原子を示す）
であり、さらにビベロニル基又はフリル基である。
本発明の感光性組成物は、ＰＳ版、フォトレジスト等に
おける重ね焼き防止又はフォトマスクの位置確認、ゾル
ーフ材等に好適に使用するととができる。
おける重ね焼き防止又はフォトマスクの位置確認、ゾル
ーフ材等に好適に使用するととができる。
本発明での定着層は、用途に応じて適宜選択しうるが、
さらに、必要に応じて定着層と感光層の間に樹脂膜によ
る中間層を設けることができる。
さらに、必要に応じて定着層と感光層の間に樹脂膜によ
る中間層を設けることができる。
また光酸化剤は通常不活性であるが、可視光線、紫外線
、Ｘ線のような活性輻射線に露光されるとロイコ染料を
その発色型に酸化する化学種を生ずるものであシ、本発
明では一般式（１）で示される２、４．５− ）リフェ
ニルイミダゾールニ量体がこの役割をはたしている。
、Ｘ線のような活性輻射線に露光されるとロイコ染料を
その発色型に酸化する化学種を生ずるものであシ、本発
明では一般式（１）で示される２、４．５− ）リフェ
ニルイミダゾールニ量体がこの役割をはたしている。
本発明に係る一般式（１）で表わされるイミダゾールニ
量体の具体例としては、２−（２−ＩＪｙルオロメチル
フェニル） ４＋５−シフェニルーイミダゾールニ量
体、２− （２−）リフルオロメチルフェニル）−４，
５−ビス（４−クロロフェニル）−イミダゾールニ量体
、２− （２−トリフルオロメチルフェニル）−４，５
−ビス（４−メトキシ７エール）−イミダゾールニ量体
、２−（２−）リフルオロメチルフェニル）−４，５−
ビス（３−メトキシフェニル）−イミダゾールニ量体、
２−（２−トリフルオロメチルフェニル）−４，５−ジ
ピベロニルーイミダゾールニ量体、２− （２−）リフ
ルオロメチルフェニル）−４，５−ジ（２−フリル）−
イミダゾールニ量体、２− （２−） ＩＪフルオロメ
チルフェニル）−４，５−ビス（ｐ−）１フル）−イミ
ダゾールニ量体、２−（２−）リフルオロメチルフェニ
ル）−４，５−ビス（４−エトキシフェニル）−イミダ
ゾールニ量体、２− （２−トリフルオロメチルフェニ
ル）−４，５−ビス（３−エトキシフェニル）−イミダ
ゾールニ量体、２−（２−） ＩＪフルオロメチルフェ
ニル）−４，５−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−
イミダゾールニ量体等である。
量体の具体例としては、２−（２−ＩＪｙルオロメチル
フェニル） ４＋５−シフェニルーイミダゾールニ量
体、２− （２−）リフルオロメチルフェニル）−４，
５−ビス（４−クロロフェニル）−イミダゾールニ量体
、２− （２−トリフルオロメチルフェニル）−４，５
−ビス（４−メトキシ７エール）−イミダゾールニ量体
、２−（２−）リフルオロメチルフェニル）−４，５−
ビス（３−メトキシフェニル）−イミダゾールニ量体、
２−（２−トリフルオロメチルフェニル）−４，５−ジ
ピベロニルーイミダゾールニ量体、２− （２−）リフ
ルオロメチルフェニル）−４，５−ジ（２−フリル）−
イミダゾールニ量体、２− （２−） ＩＪフルオロメ
チルフェニル）−４，５−ビス（ｐ−）１フル）−イミ
ダゾールニ量体、２−（２−）リフルオロメチルフェニ
ル）−４，５−ビス（４−エトキシフェニル）−イミダ
ゾールニ量体、２− （２−トリフルオロメチルフェニ
ル）−４，５−ビス（３−エトキシフェニル）−イミダ
ゾールニ量体、２−（２−） ＩＪフルオロメチルフェ
ニル）−４，５−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−
イミダゾールニ量体等である。
本発明で用いる発色剤としてのロイコ染料は、本出願人
に係る特願昭５９−２５７４３１号明細書、または特開
昭６０−５４３８１号公開公報に記載の染料、もしくは
次の一般式（ｆｆｉ） （式中、Ｒ６、Ｒ７は炭素数１〜４の低級アルキル基、
２−シアノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、Ｒ８は
水素原子、メチル基、エチル基、低級アルコキシ基、ク
ロル原子、ブロモ原子、Ｂはフェニル基、置換フェニル
基、ナフチル基、チェニル基、インドリル基を示す）で
表わされる酸化発色型ロイコトリアリールメタン系染料
、たとえば特公昭４５−４０１５０、特公昭４７−１７
８５５号公報記載の化合物が使用できる。具体的には、
トリス（４−ジエチルアミノ−０−）リル）メタン、ビ
ス（４−ジエチルアミン−〇−）リル）フェニルメタン
、ビス（４−ジエチルアミノ−０−）リル）チェニル−
２−メタン、ビス（２−／ロロー４−ジエチルアミノフ
ェニル）フェニルメタン等のトリアリールメタン系化合
物、２−（２−クロロフェニル）−アミノ−６−Ｎ、Ｎ
−ジブチルアミノ−９−（２−メトキシカルボニル）−
フェニルキサンチン、２− Ｎ、Ｎ−ジベンジルアミノ
−６−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミン−９−（２−メトキシカ
ルボニル）−７エニルキサンテン、ペン／（ａ）−６−
Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ−９−（２−メトキシカルボニ
ル）−７エニルキサンテン、２− （２−クロロフェニ
ル）−アミノ−６−Ｎ、Ｎ−ジブチルアミノ−９−（２
−メチルフェニルカルボキサミド）フェニルキサンチン
等のキサンチン化合物を使用できる。また上記染料の鉱
酸塩又は芳香族スルホン酸塩も使用できる。
に係る特願昭５９−２５７４３１号明細書、または特開
昭６０−５４３８１号公開公報に記載の染料、もしくは
次の一般式（ｆｆｉ） （式中、Ｒ６、Ｒ７は炭素数１〜４の低級アルキル基、
２−シアノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、Ｒ８は
水素原子、メチル基、エチル基、低級アルコキシ基、ク
ロル原子、ブロモ原子、Ｂはフェニル基、置換フェニル
基、ナフチル基、チェニル基、インドリル基を示す）で
表わされる酸化発色型ロイコトリアリールメタン系染料
、たとえば特公昭４５−４０１５０、特公昭４７−１７
８５５号公報記載の化合物が使用できる。具体的には、
トリス（４−ジエチルアミノ−０−）リル）メタン、ビ
ス（４−ジエチルアミン−〇−）リル）フェニルメタン
、ビス（４−ジエチルアミノ−０−）リル）チェニル−
２−メタン、ビス（２−／ロロー４−ジエチルアミノフ
ェニル）フェニルメタン等のトリアリールメタン系化合
物、２−（２−クロロフェニル）−アミノ−６−Ｎ、Ｎ
−ジブチルアミノ−９−（２−メトキシカルボニル）−
フェニルキサンチン、２− Ｎ、Ｎ−ジベンジルアミノ
−６−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミン−９−（２−メトキシカ
ルボニル）−７エニルキサンテン、ペン／（ａ）−６−
Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ−９−（２−メトキシカルボニ
ル）−７エニルキサンテン、２− （２−クロロフェニ
ル）−アミノ−６−Ｎ、Ｎ−ジブチルアミノ−９−（２
−メチルフェニルカルボキサミド）フェニルキサンチン
等のキサンチン化合物を使用できる。また上記染料の鉱
酸塩又は芳香族スルホン酸塩も使用できる。
発色助剤としては、強酸及び−ジエーテル類が有効であ
る。
る。
発色助剤の酸成分としては塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝
酸、リン酸等の鉱酸類又は一般式〔■〕又は（Ｖ） （ｍＶ） （Ｖ） （式中Ｒ９、ＲＩＯは水素原子、クロル原子、臭素原子
、炭素数１〜２０のアルキル基、ニトロ基を示す）で表
わされる化合物、たとえばｐ−）ルエンスルホン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、ｐ−／ロロベンゼンスルホン酸、ｏ
−ニトロベンゼンスルホン酸、ｍ−ニトロベンゼンスル
ホン酸、ドテシルベンゼンスルホン酸、１−ナフタレン
スルホン酸、２−ナフタレンスルホン酸等の芳香族スル
ホン酸類が使用できる。ポリエーテル類としては平均分
子量６００〜２ＱＯＯＯのポリエチレングリコール、平
均分子量Ｌｏｏｏ−４ｏｏｏのポリゾロビレ／グリコー
ル等が使用できる。
酸、リン酸等の鉱酸類又は一般式〔■〕又は（Ｖ） （ｍＶ） （Ｖ） （式中Ｒ９、ＲＩＯは水素原子、クロル原子、臭素原子
、炭素数１〜２０のアルキル基、ニトロ基を示す）で表
わされる化合物、たとえばｐ−）ルエンスルホン酸、ベ
ンゼンスルホン酸、ｐ−／ロロベンゼンスルホン酸、ｏ
−ニトロベンゼンスルホン酸、ｍ−ニトロベンゼンスル
ホン酸、ドテシルベンゼンスルホン酸、１−ナフタレン
スルホン酸、２−ナフタレンスルホン酸等の芳香族スル
ホン酸類が使用できる。ポリエーテル類としては平均分
子量６００〜２ＱＯＯＯのポリエチレングリコール、平
均分子量Ｌｏｏｏ−４ｏｏｏのポリゾロビレ／グリコー
ル等が使用できる。
発色層におけるバインダーとしては定着剤の浸透を妨げ
ないもの、たとえばＩリスチレン、ポリビニルブチラー
ル、ぼり塩化ビニル、ぼりメチルメタクリレート、ポリ
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ぼりカーボネート、
スチレン−ブタジェン共重合体及びアセチルセルロース
等が使用できる。また支持体としては紙、バライタ紙、
合成紙又は合成樹脂フィルム等が使用できる。
ないもの、たとえばＩリスチレン、ポリビニルブチラー
ル、ぼり塩化ビニル、ぼりメチルメタクリレート、ポリ
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ぼりカーボネート、
スチレン−ブタジェン共重合体及びアセチルセルロース
等が使用できる。また支持体としては紙、バライタ紙、
合成紙又は合成樹脂フィルム等が使用できる。
この際好適に使用される有機溶媒としては、たとえばベ
ンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、ア
セトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、アク
リロニトリル、メタノール、エタノール、メチルセロソ
ルブ、エチルセルロース、酢酸エチル又はジオキサン等
をあげることができ、さらにこれらの混合溶媒も好適に
使用することができる。
ンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、ア
セトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、アク
リロニトリル、メタノール、エタノール、メチルセロソ
ルブ、エチルセルロース、酢酸エチル又はジオキサン等
をあげることができ、さらにこれらの混合溶媒も好適に
使用することができる。
定着剤としては、１ｔ３−ジフェニルグアニジン、フェ
ニルグアニジン、１．３−ジー０−トリルグアニジン、
１−ｏ−）リルビグアニド、Ｎ−ベンジリデン−グアニ
ジノアミン等のグアニジ／類又はヘキサメチレンジアミ
ン、１，８−ジアミノオクタン、１．１２−ジアミノド
デカ７等のアルキレンジアミン類が使用できる１、 定着層バインダーとしては発色層に使用する溶媒に対し
て不溶性の樹脂が使用できる。たとえばポリビニルアル
コール、ぼりビニルピロリドン、メチルセルロース、エ
チルセルロース、アセチルセルロース等が使用できる。
ニルグアニジン、１．３−ジー０−トリルグアニジン、
１−ｏ−）リルビグアニド、Ｎ−ベンジリデン−グアニ
ジノアミン等のグアニジ／類又はヘキサメチレンジアミ
ン、１，８−ジアミノオクタン、１．１２−ジアミノド
デカ７等のアルキレンジアミン類が使用できる１、 定着層バインダーとしては発色層に使用する溶媒に対し
て不溶性の樹脂が使用できる。たとえばポリビニルアル
コール、ぼりビニルピロリドン、メチルセルロース、エ
チルセルロース、アセチルセルロース等が使用できる。
本発明を実施するに際して用いる各構成部分の好ましい
量的割合は以下の如くである。
量的割合は以下の如くである。
（実施例）
以下、実施例によシ本発明の詳細な説明するがこれらは
本発明の範囲を限定するものではない。
本発明の範囲を限定するものではない。
なお実施例および参考例中の部は特に説明のないｌａシ
重量部を表わす。また画像濃度及びかぶシ濃度はマクベ
ス反射濃度計ＲＤ−５１４型（ビジュアルフィルター）
で測定した結果を示す。
重量部を表わす。また画像濃度及びかぶシ濃度はマクベ
ス反射濃度計ＲＤ−５１４型（ビジュアルフィルター）
で測定した結果を示す。
合成例１
２−（２−）リフルオロメチルフェニル）−４゜５−ジ
フェニルイミダゾールの合成 氷酢酸５８０ ｆ、酢酸アンモニウム９１６ｆ。
フェニルイミダゾールの合成 氷酢酸５８０ ｆ、酢酸アンモニウム９１６ｆ。
ベンジル５０ｔを仕込み、４０℃で溶解した。次にＯ−
） ＩＪフルオロメチルベンズアルデヒド４２．．３ｔ
を添加した後、昇温し還流下で４時間攪拌した。
） ＩＪフルオロメチルベンズアルデヒド４２．．３ｔ
を添加した後、昇温し還流下で４時間攪拌した。
次に水１．３ｔを加え、反応生成物を沈澱させ、口割、
洗浄、乾燥により８２．ＩＰの２−（２−）リフルオロ
メチルフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾールを
得た。この化合物は白色粉状結晶で融点は２５９．５−
２６０．１℃であった。また下記の分析結果よりＣ２２
）Ｉｔｓ Ｎ２ Ｆ３であることを確認した。
洗浄、乾燥により８２．ＩＰの２−（２−）リフルオロ
メチルフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾールを
得た。この化合物は白色粉状結晶で融点は２５９．５−
２６０．１℃であった。また下記の分析結果よりＣ２２
）Ｉｔｓ Ｎ２ Ｆ３であることを確認した。
ＣＨＮ
理論値 ７２．５２ ４．１５ ７．６９分析値 ７Ｚ
７０ ４．００ ７．６０二量体の合成 水７１？、５０％苛性ン−１”５ ａ４ ｆ、 ７ｘ、
リシアン化カリ１５３．４ｆ及びトルエン４３０ｍｆｆ
１を仕込み、さらに２− （２−）リフルオロメチルフ
ェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール８２．ＩＰ
を添加し、７５〜８０℃で３時間攪拌した。析出した生
成物を口割し、７エリシアン化物がなくなるまで洗浄し
た。次に生成物にメタノール５００−を加え２時間還流
した後、口割、乾燥によシフ２．４ｔの２− （２−ト
リフルオロメチルフェニル）−４，５−ジフェニルイミ
ダゾールニ量体を得た。
７０ ４．００ ７．６０二量体の合成 水７１？、５０％苛性ン−１”５ ａ４ ｆ、 ７ｘ、
リシアン化カリ１５３．４ｆ及びトルエン４３０ｍｆｆ
１を仕込み、さらに２− （２−）リフルオロメチルフ
ェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール８２．ＩＰ
を添加し、７５〜８０℃で３時間攪拌した。析出した生
成物を口割し、７エリシアン化物がなくなるまで洗浄し
た。次に生成物にメタノール５００−を加え２時間還流
した後、口割、乾燥によシフ２．４ｔの２− （２−ト
リフルオロメチルフェニル）−４，５−ジフェニルイミ
ダゾールニ量体を得た。
黄色粉状結晶で融点は２０ｚＯ〜２０３．０℃であった
。
。
下記の分析結果よ’） Ｃ４４Ｈｚｓ Ｎ４ Ｆｓであ
ることを確−した。
ることを確−した。
ＣＨＮ
理論値 ’１７２ １８８ ７．７１
分析値 ７Ｚ８０ ３，６０ ７．５０実施例１
上記！及びＨの溶液を別々に調整し、パーコーダーを用
いてコーテイング紙に、まず■液を３０ｔ／−の割合で
塗布し乾燥する。更にその上に■液を２０ｔ／−の割合
で塗布し乾燥する。得られた感光紙にコダック社製ステ
ップタブレット扁２を重ね、真空焼枠（大日本スクリー
ン製造株式会社製Ｐ−１１３−Ｂ）で５分露光すると青
色画像が得られた。この後１００℃で５分加熱すると、
もはや再露光しても発色しない永久画像が得られた。
いてコーテイング紙に、まず■液を３０ｔ／−の割合で
塗布し乾燥する。更にその上に■液を２０ｔ／−の割合
で塗布し乾燥する。得られた感光紙にコダック社製ステ
ップタブレット扁２を重ね、真空焼枠（大日本スクリー
ン製造株式会社製Ｐ−１１３−Ｂ）で５分露光すると青
色画像が得られた。この後１００℃で５分加熱すると、
もはや再露光しても発色しない永久画像が得られた。
比較例として実施例１の溶液〔Ｉ〕の組成のうち、２−
（２−）ＩＪフルオロメチルフェニル）−４，５−ビス
（４−メトキシフェニル）−イミダゾール二量体の代わ
）に、２．２’−ビス（２−クロロフェニル） ４＝
Ｌ ４’ｓ ５’−テトラフェニル−１，２′−ビイ
ミダゾール１０８部を用いたものを調整し、実施例１と
同様に処理して青色画像を得た。以上の結果を表−１Ｋ
示す。
（２−）ＩＪフルオロメチルフェニル）−４，５−ビス
（４−メトキシフェニル）−イミダゾール二量体の代わ
）に、２．２’−ビス（２−クロロフェニル） ４＝
Ｌ ４’ｓ ５’−テトラフェニル−１，２′−ビイ
ミダゾール１０８部を用いたものを調整し、実施例１と
同様に処理して青色画像を得た。以上の結果を表−１Ｋ
示す。
表 −１
表−１の結果よシ、従来の光酸化剤よシ高感度な光酸化
剤が得られたことが確認された。
剤が得られたことが確認された。
実施例２〜６
実施例１における光酸化剤であるイミダゾール二量体に
代え、表−２に示した二量体を使用した以外は、実施例
１と同様な操作で永久画像を得た。
代え、表−２に示した二量体を使用した以外は、実施例
１と同様な操作で永久画像を得た。
これらの結果も表−２に示した。
（実施例２のみ、テトラヒドロフランの代わりにクロロ
ホルムを同容量使用した） 表−２の結果よシ、本発明の感光性組成物からは、優れ
た永久画像が得られた。
ホルムを同容量使用した） 表−２の結果よシ、本発明の感光性組成物からは、優れ
た永久画像が得られた。
保土谷化学工業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、定着剤とバインダーとからなる定着層、発色剤とし
ての酸化可能なロイコ染料、光酸化剤、発色助剤及びバ
インダーからなる発色層とから構成される感光性組成物
において、光酸化剤として次の一般式〔 I 〕で示され
る２，４，５−トリフェニルイミダゾール二量体を用い
ることを特徴とする感光性組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 ただし式中Ａはピペロニル基、フリル基または式〔II〕 ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 （ただし式中Ｒ＿１〜Ｒ＿５は水素原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、フッ素、塩素、臭素原子を示す
）を示す。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23354685A JPS6294842A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23354685A JPS6294842A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 感光性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6294842A true JPS6294842A (ja) | 1987-05-01 |
| JPH0555011B2 JPH0555011B2 (ja) | 1993-08-16 |
Family
ID=16956752
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23354685A Granted JPS6294842A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 感光性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6294842A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001095032A1 (en) * | 2000-06-02 | 2001-12-13 | Hodogaya Chemical Co., Ltd. | Photosensitive resin composition and photosensitive material using the same |
-
1985
- 1985-10-21 JP JP23354685A patent/JPS6294842A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001095032A1 (en) * | 2000-06-02 | 2001-12-13 | Hodogaya Chemical Co., Ltd. | Photosensitive resin composition and photosensitive material using the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0555011B2 (ja) | 1993-08-16 |
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