JPS6294809A - 距離検出機構 - Google Patents
距離検出機構Info
- Publication number
- JPS6294809A JPS6294809A JP60233230A JP23323085A JPS6294809A JP S6294809 A JPS6294809 A JP S6294809A JP 60233230 A JP60233230 A JP 60233230A JP 23323085 A JP23323085 A JP 23323085A JP S6294809 A JPS6294809 A JP S6294809A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- detection mechanism
- distance detection
- sample
- distance
- lens barrel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
- Measuring Arrangements Characterized By The Use Of Fluids (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[技術分野]
本発明は、距離検出技術、特に、半導体装置の製造にお
けるウェハの露光処理に用いられる露光光学系の焦点合
わせに適用して有効な技術に関する。
けるウェハの露光処理に用いられる露光光学系の焦点合
わせに適用して有効な技術に関する。
[背景技術]
近年、半導体基板、すなわちウェハに形成される集積回
路パターンは、集積回路素子に対する高密度化、高集積
化などの要求に伴ってますます微細化、複雑化の傾向を
強めている。
路パターンは、集積回路素子に対する高密度化、高集積
化などの要求に伴ってますます微細化、複雑化の傾向を
強めている。
このため、製造技術、とりわけ、微細パターンの加工に
直接関係するりソグラフィ技術において、露光時に解像
度の向上の面で有利な縮小投影露光装置を用いることが
考えられる。
直接関係するりソグラフィ技術において、露光時に解像
度の向上の面で有利な縮小投影露光装置を用いることが
考えられる。
すなわち、レチクル上のパターンを直接ウェハ面に縮小
投影することによって、ウェハに塗布されたフォトレジ
ストを露光し、露光時の解像度を向上させるものである
。
投影することによって、ウェハに塗布されたフォトレジ
ストを露光し、露光時の解像度を向上させるものである
。
一方、上記のような縮小投影露光装置のウェハ面に対す
る自動焦点合わせ方式としては、半導体レーザなどを用
いてウェハ面の斜め方向から点像を投影して反射させ、
この点像を2分割フォトセンサなどに結像させてウェハ
面の変位を検出する光行入射方式や、ウェハ面にノズル
から気体を噴射させ、該ノズル内の圧力変動によってウ
ェハ面とノズルとの間隙の変化を検出するエアマイクロ
方式、さらには、ウェハ面に対向して設けた電極と該ウ
ェハ面との間隙の静電容量からウェハ面の変位を検知す
る静電容量方式などが考えられる。
る自動焦点合わせ方式としては、半導体レーザなどを用
いてウェハ面の斜め方向から点像を投影して反射させ、
この点像を2分割フォトセンサなどに結像させてウェハ
面の変位を検出する光行入射方式や、ウェハ面にノズル
から気体を噴射させ、該ノズル内の圧力変動によってウ
ェハ面とノズルとの間隙の変化を検出するエアマイクロ
方式、さらには、ウェハ面に対向して設けた電極と該ウ
ェハ面との間隙の静電容量からウェハ面の変位を検知す
る静電容量方式などが考えられる。
しかしながら、上記の何れの方式においても、自動焦点
機構自体の信頼性を評価する機構が備えられていないた
め、自動焦点機構の経時的な性能の変化などをiI!!
握することができないという欠点があることを本発明者
は見いだした。
機構自体の信頼性を評価する機構が備えられていないた
め、自動焦点機構の経時的な性能の変化などをiI!!
握することができないという欠点があることを本発明者
は見いだした。
また、自動焦点機構の信頼性を確認する方法としては、
たとえば、最適と思われる焦点位置の近傍で幾つか試験
的に露光を行い、得られるパターンの精度などを光学顕
微鏡などで検査することが考えられるが、作業が複雑と
なるなどの問題点がある。
たとえば、最適と思われる焦点位置の近傍で幾つか試験
的に露光を行い、得られるパターンの精度などを光学顕
微鏡などで検査することが考えられるが、作業が複雑と
なるなどの問題点がある。
なお、ウェハの縮小投影露光技術について説明されてい
る文献としては、株式会社工業調査会、昭和57年11
月15日発行「電子材料」1983年別冊、P97〜P
I04がある。
る文献としては、株式会社工業調査会、昭和57年11
月15日発行「電子材料」1983年別冊、P97〜P
I04がある。
[発明の目的]
本発明の目的は、動作の信頼性を向上させることが可能
な距離検出技術を提供することにある。
な距離検出技術を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
[発明の概要]
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、つぎの通りである。
を簡単に説明すれば、つぎの通りである。
すなわち、載置台上に位置される試料に対して相対的に
変位可能に設けられ、該試料に対する距離を検知する距
離検出機構の前記f2載置の一部に、該距離検出機構の
較正を行う基準面を設けることにより、該基準面に対す
る距離検出動作によって、随時該距離検出機構の較正が
行われるようにして、動作の信頼性が向上されるように
したものである。
変位可能に設けられ、該試料に対する距離を検知する距
離検出機構の前記f2載置の一部に、該距離検出機構の
較正を行う基準面を設けることにより、該基準面に対す
る距離検出動作によって、随時該距離検出機構の較正が
行われるようにして、動作の信頼性が向上されるように
したものである。
[実施例1コ
第1図は、本発明の一実施例である距離検出機構が、縮
小投影露光装置に装着される場合を示す説明図である。
小投影露光装置に装着される場合を示す説明図である。
図の左右方向および紙面に垂直な方向に移動自在なXY
テーブル1(i!載置台の上には、ウェハ2(試料)が
着脱自在に位置されている。
テーブル1(i!載置台の上には、ウェハ2(試料)が
着脱自在に位置されている。
さらに、このXYテーブルlの上方には、光軸をXYテ
ーブルlの上に載置されるウェハ2の平面に対してほぼ
垂直となるように、縮小投影光学系3aの鏡筒3が昇降
自在に設けられでいる。
ーブルlの上に載置されるウェハ2の平面に対してほぼ
垂直となるように、縮小投影光学系3aの鏡筒3が昇降
自在に設けられでいる。
前記鏡筒3の近傍には、光軸が該鏡筒3に対して平行と
なるように設けられた発光部4および受光部5、さらに
は、鏡筒3の軸に対して対称に配設された一対の反射t
lおよび反射鏡7などからなる距離検出機構A(焦点合
わせ機構)が設けられ、前記鏡筒3とともに昇降される
構造とされている。
なるように設けられた発光部4および受光部5、さらに
は、鏡筒3の軸に対して対称に配設された一対の反射t
lおよび反射鏡7などからなる距離検出機構A(焦点合
わせ機構)が設けられ、前記鏡筒3とともに昇降される
構造とされている。
そして、発光部4から放射され、反射鏡6. XYテ
ーブルlに載置されるウェハ2の平面、さらには反射鏡
7を経て受光部5に到達される検出光線8の到達位置の
変化から、距離検出機構A、すなわち該距離検出技術八
とともに昇降される鏡筒3の光軸方向におけるウェハ2
の平面の所定の部位の距離の変化が検知され、この距離
の変化を補正する方向に鏡筒3を適宜昇降させることに
よって、鏡筒3の内部に収容された縮小投影光学系3a
の焦点位置にウェハ2の平面の所定の部位が一致される
ように制御nされるものである。
ーブルlに載置されるウェハ2の平面、さらには反射鏡
7を経て受光部5に到達される検出光線8の到達位置の
変化から、距離検出機構A、すなわち該距離検出技術八
とともに昇降される鏡筒3の光軸方向におけるウェハ2
の平面の所定の部位の距離の変化が検知され、この距離
の変化を補正する方向に鏡筒3を適宜昇降させることに
よって、鏡筒3の内部に収容された縮小投影光学系3a
の焦点位置にウェハ2の平面の所定の部位が一致される
ように制御nされるものである。
この場合、ウェハ2が載置されるXYテーブル1の平面
の一部には表面が平滑な基準面9が設けられており、こ
の基準面9に対して前記の焦点合わせ操作を行うことに
より、距離検出機構Aの較正が行われる構造とされてい
る。
の一部には表面が平滑な基準面9が設けられており、こ
の基準面9に対して前記の焦点合わせ操作を行うことに
より、距離検出機構Aの較正が行われる構造とされてい
る。
さらに、鏡筒3の近傍には、該鏡筒3に対して独立に光
学式、静電容量式、磁気方式などの変位検出器である固
定センサlOが設けられており、鏡筒3の上下方向の変
位が検知されるように構成されている。
学式、静電容量式、磁気方式などの変位検出器である固
定センサlOが設けられており、鏡筒3の上下方向の変
位が検知されるように構成されている。
以下、本実施例の作用について説明する。
始めに、鏡筒3が適宜昇降され、縮小投影光学系3a−
の最適の焦点位置における検出光線8の受光部5に対す
る到達位置が保持される。
の最適の焦点位置における検出光線8の受光部5に対す
る到達位置が保持される。
次に、基準面9に対する焦点合わせ操作が行われ、その
時の鏡筒3の位置が、固定センサ1oによって検知され
保持される。
時の鏡筒3の位置が、固定センサ1oによって検知され
保持される。
その後、ウェハ2の所定の部位に鏡筒3の光軸が一致さ
れるようにXYテーブルlが駆動される。
れるようにXYテーブルlが駆動される。
そして、発光部4から放射され、ウェハ2の平面に反射
されて受光部5に到達される検出光線8の該受光部5に
対する到達位置が、前記の操作で保持された所定の位置
に一致されるように鏡筒3が適宜昇降されて焦点合わせ
操作が行われ、ウェハ2の所定の部位が縮小投影光学系
3aによって露光される。
されて受光部5に到達される検出光線8の該受光部5に
対する到達位置が、前記の操作で保持された所定の位置
に一致されるように鏡筒3が適宜昇降されて焦点合わせ
操作が行われ、ウェハ2の所定の部位が縮小投影光学系
3aによって露光される。
この操作を逐次繰り返することによって、ウェハ2の各
部の露光操作が行われる。
部の露光操作が行われる。
そして、上記の露光操作の過程で、随時基準平面9にお
ける焦点合わせ操作を行い、その時、受光部5における
検出光線8の到達位置が予め保持されている所定の位置
に一敗することを確認するとともに、鏡筒3の位置が固
定センサ10に対して所定の位置にあることを確認する
ことにより、距離検出機構Aの経時的な変化などに起因
する機械的な異常の発生が把握されるとともに、ずれ量
を適宜較正することにより、常に最適の焦点位置にウェ
ハ2の露光部位が一致され、縮小投影光学系3aによる
ウェハ2の正確な露光操作が継続される。
ける焦点合わせ操作を行い、その時、受光部5における
検出光線8の到達位置が予め保持されている所定の位置
に一敗することを確認するとともに、鏡筒3の位置が固
定センサ10に対して所定の位置にあることを確認する
ことにより、距離検出機構Aの経時的な変化などに起因
する機械的な異常の発生が把握されるとともに、ずれ量
を適宜較正することにより、常に最適の焦点位置にウェ
ハ2の露光部位が一致され、縮小投影光学系3aによる
ウェハ2の正確な露光操作が継続される。
このように、本実施例においては、XYテーブルlの一
部に設けられた基準面により、距離検出機構Aなどの機
械的な異常の発生の把握や、較正を随時行うことが可能
であり、距離検出機構Aおよび該距離検出機+MAが装
着される縮小投影露光装置の動作の信耗性が向上され、
焦点合わせ精度の経時的な変化に起因する露光不良によ
る製品歩留りの低下などが回避できる。
部に設けられた基準面により、距離検出機構Aなどの機
械的な異常の発生の把握や、較正を随時行うことが可能
であり、距離検出機構Aおよび該距離検出機+MAが装
着される縮小投影露光装置の動作の信耗性が向上され、
焦点合わせ精度の経時的な変化に起因する露光不良によ
る製品歩留りの低下などが回避できる。
さらに、距離検出機構Aなどの機構における異常の発生
の有無の把握や、較正を行うために、実際に試験的な露
光作業などを行う必要がな(、作業の簡略化および迅速
化が可能となる。
の有無の把握や、較正を行うために、実際に試験的な露
光作業などを行う必要がな(、作業の簡略化および迅速
化が可能となる。
また、距離検出機構Aに対して独立に設けられ、該距離
検出機構Aの所定の位置からの変位を検知する固定セン
サ10が設けられていることにより、距離検出機構Aの
較正などがより正確に行われる。
検出機構Aの所定の位置からの変位を検知する固定セン
サ10が設けられていることにより、距離検出機構Aの
較正などがより正確に行われる。
[実施例2コ
第2図は、本発明の他の実施例である距離検出機構が、
縮小投影露光装置に装着される場合を示す説明図である
。
縮小投影露光装置に装着される場合を示す説明図である
。
本発明実施例2においては、距離検出機構として、いわ
ゆるエアマイクロ方式を用いるものである。
ゆるエアマイクロ方式を用いるものである。
すなわち、縮小投影光学系3aが収納される鏡筒3の周
囲には、鏡筒3と一緒に上下動する距離検出機構B(焦
点合わせ機構)を構成するエアノズル11が設けられ、
鏡筒3の下端部の周囲から空気などの気体12が噴出さ
れる構造とされている。
囲には、鏡筒3と一緒に上下動する距離検出機構B(焦
点合わせ機構)を構成するエアノズル11が設けられ、
鏡筒3の下端部の周囲から空気などの気体12が噴出さ
れる構造とされている。
そして、鏡筒3の下端部とウェハ2の平面との間隙から
外部に噴出される気体12のエアノズル11の内部にお
ける圧力が、鏡筒3の下端部とウェハ2の平面との間の
距離の変化に応じて変動される現象に基づいて、鏡筒3
とウェハ2の平面との間の距離の変化が検知され、鏡筒
3の内部に収容された縮小投影光学系3aのウェハ2の
平面に対する焦点合わせ操作が行われるものである。
外部に噴出される気体12のエアノズル11の内部にお
ける圧力が、鏡筒3の下端部とウェハ2の平面との間の
距離の変化に応じて変動される現象に基づいて、鏡筒3
とウェハ2の平面との間の距離の変化が検知され、鏡筒
3の内部に収容された縮小投影光学系3aのウェハ2の
平面に対する焦点合わせ操作が行われるものである。
この場合、前記実施例1と同様に、ウェハ2(試料)が
載置されるXYテーブルl (載置台)の一部には基準
平面9aが設けられている。
載置されるXYテーブルl (載置台)の一部には基準
平面9aが設けられている。
このため、エアノズル11で構成される距離検出機構B
などのJa械的な異常の発生の把握や、較正を随時行う
ことが可能であり、距離検出機構Bおよび該距離検出機
構Bが装着される縮小投影露光装置の動作の信Iff性
が向上され、焦点合わせ精度の経時的な変化に起因する
露光不良による製品歩留りの低下などが回避できる。
などのJa械的な異常の発生の把握や、較正を随時行う
ことが可能であり、距離検出機構Bおよび該距離検出機
構Bが装着される縮小投影露光装置の動作の信Iff性
が向上され、焦点合わせ精度の経時的な変化に起因する
露光不良による製品歩留りの低下などが回避できる。
さらに、距離検出a横Bなどの機構における異常の発生
の把握や、較正を行うために、実際に試験的な露光作業
などを行う必要がなく、作業の簡略化および迅速化が可
能となる。
の把握や、較正を行うために、実際に試験的な露光作業
などを行う必要がなく、作業の簡略化および迅速化が可
能となる。
また、距離検出機構Bに対して独立に設けられ、該距離
検出機構Bの所定の位置からの変位を検知する固定セン
サ10が設けられていることにより、距離検出機構Bの
較正などがより正確に行われる。
検出機構Bの所定の位置からの変位を検知する固定セン
サ10が設けられていることにより、距離検出機構Bの
較正などがより正確に行われる。
[実施例3]
第3図は、本発明のさらに他の実施例である距離検出機
構が、縮小投影露光装置に装着される場合を示す説明図
である。
構が、縮小投影露光装置に装着される場合を示す説明図
である。
本実施例3においては、縮小投影光学系3aが内部に収
容される鏡筒3の下端部に電極13が装着されて距離検
出機構C(焦点合わせ機構)が構成されているところが
前記実施例1の場合と異なる。
容される鏡筒3の下端部に電極13が装着されて距離検
出機構C(焦点合わせ機構)が構成されているところが
前記実施例1の場合と異なる。
すなわち、鏡筒3の下端部に設けられた電極13とウェ
ハ2の平面との間の距離の変化に基づいて変動される該
電極13とウェハ2の平面との間の静電容量を検知する
ことによって、鏡筒3とウェハ2の平面との間の距離が
検出されるものである。
ハ2の平面との間の距離の変化に基づいて変動される該
電極13とウェハ2の平面との間の静電容量を検知する
ことによって、鏡筒3とウェハ2の平面との間の距離が
検出されるものである。
この場合、前記実施例1と同様に、ウェハ2 (試料)
が′R置されるXYテーブルl (載置台)の一部には
基準平面9bが設けられている。
が′R置されるXYテーブルl (載置台)の一部には
基準平面9bが設けられている。
このため、電極13で構成される距離検出機構Cなどの
機械的な異常の発生の把握や、較正を随時行うことが可
能であり、距離検出機構Cおよび該距離検出機構Cが装
着される縮小投影露光装置の動作の信頼性が向上され、
塊点合わせ精度の経時的な変化に起因する露光不良によ
る製品歩留りの低下などが回避できる。
機械的な異常の発生の把握や、較正を随時行うことが可
能であり、距離検出機構Cおよび該距離検出機構Cが装
着される縮小投影露光装置の動作の信頼性が向上され、
塊点合わせ精度の経時的な変化に起因する露光不良によ
る製品歩留りの低下などが回避できる。
さらに、距離検出機構Cなどの機構における異常の発生
の有無の把握や、較正を行うために、実際に試験的な露
光作業などを行う必要がなく、作業の簡略化および迅速
化が可能となる。
の有無の把握や、較正を行うために、実際に試験的な露
光作業などを行う必要がなく、作業の簡略化および迅速
化が可能となる。
また、距離検出機構Cに対して独立に設けられ、該距離
検出機ticの所定の位置からの変位を検知する固定セ
ンサ10が設けられていることにより、距離検出機構C
の較正などがより正確に行われる。
検出機ticの所定の位置からの変位を検知する固定セ
ンサ10が設けられていることにより、距離検出機構C
の較正などがより正確に行われる。
[効果コ
(1)、載置台上に位置される試料に対して相対的に変
位可能に設けられ、該試料に対する距離を検知する距離
検出機構における前記載置台の一部に該距離検出機構の
較正を行う基準面が設けられているため、距離検出機構
などの機械的な異常の発生の検知や、較正を随時行うこ
とができ、距離検出機構および該距離検出機構が装着さ
れる、たとえば縮小投影露光装置の動作の信頼性が向上
され、焦点合わせ精度の経時的な変化に起因する露光不
良による製品歩留りの低下などが回避できる。
位可能に設けられ、該試料に対する距離を検知する距離
検出機構における前記載置台の一部に該距離検出機構の
較正を行う基準面が設けられているため、距離検出機構
などの機械的な異常の発生の検知や、較正を随時行うこ
とができ、距離検出機構および該距離検出機構が装着さ
れる、たとえば縮小投影露光装置の動作の信頼性が向上
され、焦点合わせ精度の経時的な変化に起因する露光不
良による製品歩留りの低下などが回避できる。
(2)、前記(1)の結果、距離検出機構などのa械的
な異常の発生の検知や、較正を行うために、実際に試験
的な露光作業などを行う必要がなく、作業の簡略化およ
び迅速化が可能となる。
な異常の発生の検知や、較正を行うために、実際に試験
的な露光作業などを行う必要がなく、作業の簡略化およ
び迅速化が可能となる。
(i)、距離検出機構に対して独立に設けられ、該距離
検出機構の所定の位置からの変位を検知する固定センサ
が設けられていることにより、距離検出機構の較正がよ
り正確に行われる。
検出機構の所定の位置からの変位を検知する固定センサ
が設けられていることにより、距離検出機構の較正がよ
り正確に行われる。
(4)、前記fi+ないしく3)の結果、半導体装置の
製造における生産性が向上される。
製造における生産性が向上される。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
たとえば、距離検出機構を構成するものとしては前記の
3つの実施例に限定されるものではな(、他の如何なる
ものであっても良い。
3つの実施例に限定されるものではな(、他の如何なる
ものであっても良い。
[利用分野]
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である縮小投影露光装置の
焦点合わせ技術に適用した場合について説明したが、そ
れに限定されるものではなく、−最の計測技術などに広
く適用できる。
をその背景となった利用分野である縮小投影露光装置の
焦点合わせ技術に適用した場合について説明したが、そ
れに限定されるものではなく、−最の計測技術などに広
く適用できる。
第1図は、本発明の実施例1である距離検出機構が、縮
小投影露光装置に装着される場合を示す説明図、 第2図は、本発明の実施例2である距離検出機構が、縮
小投影露光装置に装着される場合を示す説明図、 第3図は、本発明の実施例3である距離検出機構が、縮
小投影露光装置に装着される場合を示す説明図である。 1・・・XYテーブル(載置台)、2・・・ウェハ(試
料)、3・・・鏡筒、3a・・・縮小投影光学系、4・
・・発光部、5・・・受光部、6゜7・・・反射鏡、8
・・・検出光線、9,9a。 9b・・・基準面、10・・・固定センサ、11・・・
エアノズル、12・・・気体、13 ・・電極、A、B
、C・・・距離検出機構。 第 1 図 第 2 図 翫 / 第 3 図
小投影露光装置に装着される場合を示す説明図、 第2図は、本発明の実施例2である距離検出機構が、縮
小投影露光装置に装着される場合を示す説明図、 第3図は、本発明の実施例3である距離検出機構が、縮
小投影露光装置に装着される場合を示す説明図である。 1・・・XYテーブル(載置台)、2・・・ウェハ(試
料)、3・・・鏡筒、3a・・・縮小投影光学系、4・
・・発光部、5・・・受光部、6゜7・・・反射鏡、8
・・・検出光線、9,9a。 9b・・・基準面、10・・・固定センサ、11・・・
エアノズル、12・・・気体、13 ・・電極、A、B
、C・・・距離検出機構。 第 1 図 第 2 図 翫 / 第 3 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、載置台上に位置される試料に対して相対的に変位可
能に設けられ、該試料に対する距離を検知する距離検出
機構であって、前記載置台の一部に該距離検出機構の較
正を行う基準面が設けられていることを特徴とする距離
検出機構。 2、前記距離検出機構に対して独立に設けられ、該距離
検出機構の所定の位置からの変位を検知する固定センサ
が設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の距離検出機構。 3、前記距離検出機構が、発光部から放射され、前記試
料面を介して受光部に到達される光線の受光部における
到達位置の変化を検知することによって、前記試料に対
する相対的な距離の変化を検知するように構成されてい
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の距離検
出機構。 4、前記距離検出機構が、前記試料面に対向して設けら
れた気体噴出ノズルの該試料面に対する距離の変化に応
じて変動される該気体噴出ノズル内の気体圧を検知する
ことによって、前記試料に対する相対的な距離の変化が
検知されるように構成されていることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の距離検出機構。 5、前記距離検出機構が、前記試料に対向して設けられ
た電極と該試料面との間の距離の変化に応じて変動され
る該電極と試料面との間の静電容量を検知することによ
って、前記試料に対する相対的な距離の変化が検知され
るように構成されていることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の距離検出機構。 6、前記試料がウェハであり、前記距離検出機構が縮小
投影露光装置の焦点合わせ機構であることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の距離検出機構。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60233230A JPS6294809A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 距離検出機構 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60233230A JPS6294809A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 距離検出機構 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6294809A true JPS6294809A (ja) | 1987-05-01 |
Family
ID=16951792
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60233230A Pending JPS6294809A (ja) | 1985-10-21 | 1985-10-21 | 距離検出機構 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6294809A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03103707A (ja) * | 1989-09-19 | 1991-04-30 | Rohm Co Ltd | 微少変位測定装置 |
JP2020170800A (ja) * | 2019-04-04 | 2020-10-15 | 株式会社荏原製作所 | 基板支持装置及び基板洗浄装置 |
-
1985
- 1985-10-21 JP JP60233230A patent/JPS6294809A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03103707A (ja) * | 1989-09-19 | 1991-04-30 | Rohm Co Ltd | 微少変位測定装置 |
JP2020170800A (ja) * | 2019-04-04 | 2020-10-15 | 株式会社荏原製作所 | 基板支持装置及び基板洗浄装置 |
US11766756B2 (en) | 2019-04-04 | 2023-09-26 | Ebara Corporation | Substrate support apparatus and substrate cleaning apparatus |
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