JPS6290713A

JPS6290713A - 流体混合比制御方法と装置

Info

Publication number: JPS6290713A
Application number: JP18119386A
Authority: JP
Inventors: ユージン・ホツジ・ブロードウエイ
Original assignee: KUULE UOOTAA KOOLE GASUIFUIKEI; KUULE UOOTAA KOOLE GASUIFUIKEISHIYON PUROGURAMU
Current assignee: KUULE UOOTAA KOOLE GASUIFUIKEI; KUULE UOOTAA KOOLE GASUIFUIKEISHIYON PUROGURAMU
Priority date: 1985-07-31
Filing date: 1986-07-31
Publication date: 1987-04-25
Also published as: EP0211612A3; CN86105523A; EP0211612A2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】ル匪立ユ■ 本発明は流体ａ合物内における成分比率を制御する装置
の分野に関する。更に特に本発明は、流体混合物の成分
比率が確実に設定最大比率を出えないこと、または設定
最小比率を下回らないことを保証する制御システムに関
する。

先ｌ立且韮流体混合物の成分比率制御を必要とする例が多ａある。

最も一般的な例は、燃焼用の種々のガスの混合および種
々の薬品の混合に関係する成分比率制御の従来の方法は
一般に、比率をある帯域部混合物の需要量に変化がある
場合、最終比率は一般に目標比率の周りに揺動する。目
標比率周りの帯域幅は使用システムにより変化する。こ
の変化は全体設ム１および１．１１　ｆｌｔｌ器の配置
の結束であって、得られる１ｄ小帯域は一般に使用され
る特定制御器の精密さと正確さとに関連する。しかしな
がらこれらのシステムは、最終比率が目標最大比率を超
えないこと、または目標最小比率を手回らないことを確
実に保証はできない。

ある適用例では、成分比率を制御するだけでなく、負荷
変動があった場合流体比率が確実に設定目標最大値を超
えないこと、または設定目標最小値を下回らないことの
保証が望ましいことがある。

特にこれが望まれる特別な一例は、合成石炭ガスの製造
である。合成石炭ガスの製造においては、ガス化装置の
反応温度に最適範囲が存在する。もし反応温度がこの範
囲の最高温度以上に上昇すると、スラグが材料内に侵入
し耐火物を崩壊させ、その結果としてガス化装置耐火物
の損傷という好ましくない影響を装置は受けることにな
る。逆にもし反応温度がこの最適範囲の最低温度以下に
低下すると、ガス化処理はスラグのハンドリングにおい
て問題が生ずる。低い反応温度による問題はそれでも処
理は容易であり、一般には反応温度が最適範囲の最１Ω
温度を超えたときのように高価な装置に過大な摩耗を生
じる結果とはならへい。従って、この場合は反応温度が
ある最高温度を超えるのを防止することが必要となる。

反応温度は主として、反応室に流入する酸素に対する燃
料（これは石炭スラリーである）〆の比率に依存し、こ
の比率に比例し、これはその通りである。ｐｏｏ　ｌ内
に記載のシステムは、最終比率が確実に目標比率を下回
らないことも保証していない。このようなシステムは合
成ガスの製造に使用するのは不適当である。

免且立１本発明は流体混合物内の成分比率を制御する装置に関す
る。本発明による装置は、一方の流体の他方の流体に対
する比率がほぼ一定に保持され、最終比率が目標比率を
超えないかまたは下回らないように２流体の混合物を制
＠する制御システムに関する。

混合物内の成分流体の＠終止率は本発明により、流体の
最終比率が目標比率を超えたりまたは下回ったりするこ
となく同時にほぼ一定の最終比率を維持するＪ：うに制
御される。本発明は最終混合物に対する需要（ｄｅｍａ
ｎｄ　）を目標流速および成分流速と比較する手段を含
み、この場合、需要が増加したときは流体成分の一方の
流速がまず増加され、需要が減少したときは他方の流体
成分の流速がまず減少され、これにより一方の流体の他
方の流体に対する最終比率が確実に目標比率を超えたり
または下回ったりしないことを保証する。

本発明は、その比率が制御されるべき第１の流体と第２
の流体との流速を決定する手段と、目標比率を入力する
手段とを含む。流体の目標流速は、ある適当な手段を介
して実際流速を目標比率と比較することにより決定され
る。最終混合物に対する需要を入力する子役は、需要を
第２の流体の目標流速と比較してその出力を第２の流体
の流速を調節可能な手段に入力する手段を有し、これに
より第２の流体の流速はこの出力とほぼ同一となる。

第２の流体の流速は需要と共にこれらの比較手段に入力
され、この比較手段の出力は適当な手段により目標比率
と比較されて第１の流体の目標流速を決定する。この目
標流速は第１の流体の流速を調節可能な他の制御手段に
入力され、これにより流速は目標流速とほぼ同一となる
。

この結果、流体の比率はほぼ一定に保持され、流体の比
率は目標比率を超えないかまたは下回らむいように設定
可能である。従って、本発明の目的は、流体混合物の成
分の比率がほぼ一定に保持され、最終比率は目標比率を
超えないかまた１上下回らないように流体混合物の比率
をｉｉｌ＋　Ｈする装置と方法を提供することである。

これ以外の目的や利点は以上に明らかにされるであろう
。

具体例最終混合物内の流体成分の比率制御は動的操作である。

装置と方法との理解を容易にするために、好ましい具体
例に関する下記の説明は静的観点にに立って行なう。実
際使用においては、信号値は負荷需要変動に応じて常に
変化することを記憶にとどめて欲しい。

第１図には、況含物内の２成分の最終比率が確実に目標
最大比率を超えないことを保証するゐ１１御系が記載さ
れている。第１の流体Ｆ１と第２の流体Ｆ２とは、最終
比率Ｆｌ　／Ｆ２を有する流体混合物を形成するために
組合わされる２成分である。

この系においては、流体混合物の需要の変化は第２の流
体の流速を基準にしている。第２の流体の需要を決定し
て需要信号Ｄｑ２を発生する方法はある通常の方法を介
して行なわれ、当業者には明らかなように、この方法は
適用例ごとに異なる。例えば、流体の需要が供給管内の
圧力変化を基準にして増減されるときは、圧カドランス
デューサが利用される。このとぎトランスデユーサは標
準制御器に適当な信号を伝送する。制ｔＩＩ器は、需要
変化を反映するところの圧力の増減を指示する適当な目
盛付き信号を出力することが可能であれば、空気式、電
気式または油圧式の何れでもよい。

目標最大比率は適用ごとに決まり、最大比率の決定と最
大比率信号Ｑ１／Ｑ２の発生とは当業者のよく知るとこ
ろである。合成石炭ガスの製造における最大比率の決定
方法は後に詳細に説明する。

第１の流体の流速を決定するために適当な手段が用いら
れる。好ましい具体例では第１の流Ｍ計ＦＥ１が使用さ
れる。第１の流量計ＦＥ１は第１の流体の流速を表示す
る第１の流速信号Ｑ１を発生する。流吊胴は、電磁式流
量計、オリフィスの両側の差圧伝送器または圧力および
温度補償測定装置なとの通常の型の何れでもよい。

第１の流速信号Ｑ１は、第１の流速信号Ｑ１を最大比率
ｑ１　／Ｑ２で除算する手段に入力され、この除算手段
は第２の流体Ｆ２の目標流速を決定して第２の流体の目
標流速信号ｑ２を発生する。

好ましい具体例では、第２の流体の目標流速信号ｑ２を
決定するのに除ｎ器１０が使用される。除算器１０は除
算機能を実行可能な標準アナログモジュールであれば何
れでもよい。例えば、標ｌｘ　ｙ／７乗算器／除専器し
ジュールは、ｙの人力設定を１として使用可能である。

第１の流速信号Ｑ１は、また第１の流体Ｆ１の流速制＠
手段にも入力される。好ましい具体例では、第１の制御
ＩＣＩと第１の弁Ｖ１とを有する第１の制御弁が使用さ
れる。制ｔｉｌｌ器Ｃ１は例えば、３から１ｓ　ｐｓｉ
の出力を有する空気式制御器のように、上述の積分およ
び比例帯域制御が可能な標準型制御器の何れでもよい。

第２の流体の目標流速信号ｑ２および需要信号［）　ｆ
１２によ、第２の流体の目標流速信号ｑ２と需要信号Ｄ
Ｑ２との何れか大なる方を決定する手段に入力される。

好ましい具体例においては、この２信号のうちの大なる
方を決定するために第１の高位／低位信号選択器（ｈｉ
（ｌｈ／ＩＯＷ　ｓｉｇｎａｌ　５ｅｌｅｃｔｏｒ）　
２０が使用される第１の高位／低位信号選択器２０は、
２信号のうちの大なる方を出力して高位信号Ｈ８を発生
する。第１の高位／低位信号選択器２０は、２人力信号
のうちの大なる方を選択しかつ２信号のうらの大なる方
に目盛を合わせた信号を出力可能な標準アナログモジュ
ールであれば何れでもよい。これには高位選択に設定さ
れた高位／低位信号選択器アナログモジュールが適当で
あろう。

高位信号１−Ｉ　Ｓは、第２の流体Ｆ２の流速制御手段
に入力される。好ましい具体例においては、第２の流体
Ｆ２の流速制御手段は、第２の制御器Ｃ２と第２の弁■
２とを有する第２の制御弁である。第１の制御器Ｃ１と
同様に、第２の制御器は通常の型の制御器の何れでもよ
く、制御弁■２は何れの型の自動制御弁でもよい。

第２の流体Ｆ２の流速を決定する適当な手段は、第２の
流体Ｆ２の流速を表示する第２の流速信号Ｑ２を発生す
る。好ましい具体例では第２の流量ｉｔ　Ｆ　Ｅ　２が
使用される。第１の流５１計ＦＥＩと同様に、系の他部
分に適合する標準流量測定器の何れも使用可能である。

第２の流速信号Ｑ２は高位信号Ｈ８と共に制ｙＤ器Ｃ２
に入力される。これらの信号に応答して、制御器Ｃ２は
第２の甘Ｖ２を開閉して第２の流体Ｆ２の流速を調節し
、これにより第２の流速信号Ｑ２は高位信号１−Ｉ　Ｓ
にほぼ等しくなる。

第２の流速信号０２と需要信号ＤＱ２とは両方とも、需
要信号Ｄｑ２ど第２の流速信号Ｑ２との何れか小なる方
を決定する手段に入力され、低位信号ＬＳを発生する。

好ましい具体例においては、第２の高位／低位信号選択
器３０が低位信号ＬＳを発生する。第２の高位／低位信
号選択器３０は、２信号を比較して入力信号の小なる方
を表示する信号を出力可能な通常のアナログモジュール
設計であれば何れでもよい。これには低位選択に設定さ
れた高位／低位信号選択器アナログモジュールが使用可
能である。

低位信号ＬＳと最大比率信号Ｑ１　／Ｑ２とは、２信号
の乗算手段に入力され、第１の流体の目標流速信号ｑ１
を発生する。好ましい具体例においては、第１の目標流
速信号ｑ１を発生するために乗算器４０が使用される。

除算器１０と同様に、入力を掛つり合わせ可能な標準ア
ナログモジュールは何れも使用可能である。標準ＸＶ／
Ｚ乗算器／除算器は、ｌの入力設定を１として使用可能
である。

第１の流体の目標流速信＠ｑ１と第１の流速信号Ｑ１と
は制御器Ｃ１に入力され、制御器Ｃ１は第１の流速信号
Ｑ１が第１の流体の目標流速信号ｑ１とほぼ同一となる
ように、第１の弁Ｖ１を介して第１の流体Ｆ１の流速を
調節する。

系が平衡に達すると、需要信号ＤＱ２と第２の流体の目
標流速ｑ２と第２の流速Ｑ２とは等しくなり、最終混合
物比率Ｆｌ　／Ｆ２は最大比率ｑ１／ｑ２に等しくなる
。運転中負荷変動により需要信号Ｄｑ２が第２の流体の
目標流速信号ｑ２より大となった場合はこの負荷変Ｖノ
に応答して、第１の高位／低位信号選択器２０は新たな
需要信号ＤＱ２を表示づ゛る高位信号Ｈ８を第２の制御
器Ｃ２に出力する。第２の制御器Ｃ２は信号を第２の弁
ｖ２に送り、第２の弁Ｖ２を開放し、第２の流体「２の
流速を増加７る第２の流量計ＦＥ２はこの変化を計測し
、新たな第２の流速信号Ｑ２を第２の制ｔｌｌ器Ｃ２に
送る。第２の制御２Ｄ器Ｃ２と第２の４Ｔ　Ｖ　２とは
、第２の流体「２の流速を増加するように操作を継続し
、これにより高位信号１−Ｉ　Ｓと第２の流速Ｑ２とは
ほぼ等しくなる。

第２の流速信号Ｑ２が増加すると、第２の高位／低位信
号選択器３０はこの値を需要信号ＤＱ２と比較し、新た
な低位信号ＬＳを乗算器４０に送る。゛刃型は増加した
ので需要信＠Ｄｑ２は第２の流速信号より大となり、低
位信ｇ選択器３０は第２の流速信号Ｑ２を表示する信号
を送ることになる。これにより、需要が増加したとき、
第１の流体Ｆ１の流速が増加する前に第２の流体Ｆ２の
流速が増加することを確実にづ゛る。このようにして確
実に最終混合比Ｆ１／Ｆ２が増加することはない。

第１の流体の目標流速信号ｑ１は第１の制御器Ｃ１に送
られ、ここでその値は第１の流速信号Ｑ１と比較され、
第１の弁Ｖ１が開放されこれにより２信号の値はほぼ等
しくなる。このように、負荷が最終混合物の量を増加す
るように変動したとき、第２の流体流速がまず増加し、
これにより最終比率Ｆ１／Ｆ２は確実に最大比率ｑ１／
Ｑ２を超えることはない。

逆に、運転中に負荷が変動して最終製品の需要を減少す
ることが必要な場合には、第１の流体がまず減少される
のでこの場合も、最終比率Ｆｌ／１：２が確実に最大比
率Ｑ１　／ｑ２を眉えることはない。需要信号ＤＣ＋２
の減少に当って高位信号Ｈ８は変化しない。即ち第２の
流体の目標流速信号ｑ２はそのまま変化することなく、
需要信ｆ”７　［）　ｑ２が減少する。従って第２の流
体の目標流速信号ｑ２は２信号のうちの大なるほうとな
る。一方、需要信号ＤＱ２は第２の流体の流速信号Ｑ２
より小となるので低位信号ＬＳは変化し、第２の高位／
低位信号選択器３０は減少した需要信号ＤＱ２を表示す
る新たな低位信号ＬＳを出力する。第１の流体Ｆ１の流
速は減少させられるので第１の流速信号Ｑ１は減少し、
これにより第２の流体の目標流速信号ｑ２を減少させる
。これはシステムが再び平衡に達するまで継続し、ここ
で需要信号ＤＧ２と第２の流速信号Ｑ２と第２の流体の
目標流速信号ｑ２とは等しくなる。

第２図は、最終比率Ｆｌ　／Ｆ２が目標比率ｑ１１０２
を確実に下回らないように本発明が適用される例を示す
。この配置においては、第１の高位／低位選択器３０１
は低位信号ＬＳを出力し、第２の高位／低位選択器２０
１は高位信号Ｈ８を出力する。この配置においては、需
要が増加した場合はまず第１の流体が増＋］０され、需
要が減少した場合はまず第２の流体が減少させられる。

流体混合物の比率制御装首を説明してきたので、流体混
合物の比率υ＋１１１方法の詳細な説明を順序として次
味行なう。この方法は、目標信号Ｄｑ２を発生する過程
と、目標比率Ｑｌ　／Ｑ２を発生する過程と、第１の流
体の流速を決定して第１の流速信号Ｑ１を発生する過程
とを含む。流体の流速を決定する方法は通常の何れの方
法でも実行可能である。好ましい具体例においては、流
量計ＦＥ１が使用される。

第１の流速信号Ｑ１は比率信号ｑ１　／ｑ２で割算され
て第２の流体の目標流速信号ｑ２を発生する。比率信号
Ｑ１　／ｑ２は後により詳細に説明するように、本発明
が応用される適用例に応じて確立される。比較は、上述
のように積分制ｕｌｌが可能な何れの制＠墓でも実行可
能である。

第２の流体の目標流速信号ｑ２と需要信号Ｄｑ２とが比
較される。もし本発明が、最終比率が目標比率Ｑ１／ｑ
２を超えないような適用例に使用されたときは、２信号
のうちの高位の方が出力されて高位信号Ｈ８を発生ずる
。もし本発明が、最終比率が目標比率ｑｌ　／ｑ２を下
回らないように適用例に使用されたときは、２信号のう
ちの小なる方が出力されて低位信号ＬＳを発生する。

第２の流体の流速が決定されて第２の流速信号Ｑ２を発
生ずる。第１の流速信号Ｑ１と同様に、この信号は、流
量計を介して発生される。第２の流体の流速は、第２の
流速信号Ｑ２が高位信号Ｈ８（または低位信号ＬＳ）と
ほぼ等しくなるように制御される。好ましい具体例にお
いては、第２の流体の流速は第２の制御器Ｃ２と第２の
弁ｖ２１とからなる第２の制御弁により制御される。

第２の流体の流速を決定すると、次に第１の流体の流速
を確定しなければならない。これは需要信号ＤＱ２と第
２の流速信号Ｑ２との小なる方（最小比率適用において
は大なる方〉を決定し、低位信号ＬＳ（高位信号）−Ｉ
ｓ）を発生し、低位信号ＬＳ（高位信号１−１８）を比
率信号１／Ｑ２と、掛は合わせて第１の流体の目標流速
信号ｑ１を発生することで実行される。最後に、第１の
流速信号Ｑ１が第１の流体の目標流速信号ｑ１とほぼ等
しくなるように第１の流体の流速は制御される。

第２の流体と同様に、好ましい具体例においては第１の
流体の流速は、第１の制御器と第１の弁とからなる第１
の制御弁によって制御される。

本発明をより理解しやすくするために、石炭ガス化プロ
セスにおいて、合成石炭ガスの製造の際に酸素の燃料に
対する比率を制御するのに、本発明がとのように使用さ
れているかを詳細に説明する。

”　−１′　・の第３図は、石炭のガス化における！ｌ！２素の燃料に対
づ゛る比率を制御する制御系に適用された本発明の概略
図である。酸素と、この適用例においては石炭スラリー
である燃料とはガス化装置内の反応室に供給され、ここ
で燃焼される。反応室内温度は主として酸素／燃料比率
に依存し、温度が目標運転範囲の最高温度を超えるとガ
ス化装置に損傷を与えることになるので、ＩＩ！２索／
燃料比が、最大反応温度を超えるような温度を発生さけ
る比率を超えないことが重要である。

最大比率を決定するときには酸素と炭素原子との比率が
用いられるが、石炭スラリーの密度、即ち石炭の炭素含
有量ならびにそれが発生可能な熱埴は可変であるので、
この比率を用いる方が目標温度に対しより正確な制御を
行なうことが可能である。また酸素の純度も変ることが
ある。

入力は手動であれオンラインであれ、総てマイクロプロ
セッサ制御器に入力される。マイクロプロセッサ制御器
は必要な暗算を行なうようにプログラムされ必要な出力
を提供する。

目標最大比率０／ＣはＭＬｌから手動で入力される。ス
ラリー密度はＳＤはＭＬ２から手動で入力される。酸素
純度ＯＰ　ｆ、ｔ　Ｍ　Ｌ　３から手動で入力される。

石炭の炭素含有量ＣＣはＭＬ４から手動で入力される。

酸素ガスの温度ＴＴ、圧力ＰＴおよびオリフィスの両側
の差圧ＦＴはマイクロプロセッリ゛制ｕ（ｌ器に入力さ
れる。マイクロプロセッサ制御器は、酸素の圧力および
温度補償質量流速を計Ｃ’Ｘ　Ｌ、その結果を酸素純度
ＭＬ３に乗じて純Ｍ素流速ＯＱ１を求める。同じ結果を
得るために別の圧力および温度補償流量計も使用可能で
ある。酸素流速はマイクロプロセッサ制御器の第１のち
り部器ＦＣ１により制御される。

ガス化装置燃料需要ＧＤ２は、石炭スラリー流速ＣＱ２
としてマイクロプロセッサ制御！Ｄ器に入力される。石
炭スラリー流速ＣＱ２は電磁式流量計で測定される。可
変速モータＭはマイクロプロセッサ制御器の第２の制ｔ
ＩＩ器ＦＣ２により制御される。

マイクロプロセッサ制御器は次式の計算を実行して目標
石炭スラリー流速を暗算する。

ＱＱｌ　／に２　＝ＣＱ２　　　　　　　　式１％式％ぞしてに１は換算係数でｆｔ３／ｇａｌ　　；パーセン
ト；酸素／炭素原子吊比およびｍｉｎ／　ｈｒマイクロプロセッサ制御器ｌ器は目標スラリー流速Ｃｑ
２をガス化装置燃ｒ１需要ＤＧｑ２と比較し、２信号の
うちの高位の方を表示する高位信号Ｈ８を発牛する。こ
の信号は第２の制御器ＦＣ２に出力される。

マイクロプロセッサ制御２ＩＩ各は石炭スラリー流速Ｃ
Ｑ２をガス化装首燃利需要ＧＤｑ２と比較し、２信号の
うちの低位の方を表示する低位信号ＬＳを発生する。

マイクロプロセッサ制御器は、次式の計算を実行して目
標酸素流速０（１１と泪算する。

し５ＸＫ２＝ＯＱ１　　　　　　　　　　　式２この信
号は第１の制御器ＦＣ１に出力される。

このような制御系を使用すると、Ｍ素の炭素に対する比
率は目標最大比率０／Ｃを超えることなく、従って反応
温度は確実に最適温度範囲内の最高温度を超えることは
ない。

このようにして、最終比率が確実に目標比率を超えたり
または下回ったりすることなく、この最終比率をほぼ一
定に維持するような流体混合比制御装置と方法とが開示
される。本発明の具体例と適用例とを図により説明して
きたが、当＄名には明らかなように、ここに記載の発明
の主旨から逸脱することなく更に多くの変更態様や適用
例が可能である。従って、本発明は記載の特許請求の範
囲の内容の範囲外まで制約されるものではない。

【図面の簡単な説明】

第１図は最終比率が目標比率を超えないものである本発
明の好適具体例の概略図、第２図は最終比率が目標比率
を下回らないものである本発明の好適具体例の概略図、
第３図は本発明を適用した石炭ガス化装置の制御系の概
略図である。１０・・・・・・除算器、２０、２０１・・・・・・高位信号選択器（比較手段）
、３０．３０１・・・・・・低位信号選択器（比較手段
）、４０・・・・・・乗筒器、ＣＩ　、Ｃ２・・・・・・第１および第２の制御器、Ｄ
（１２・・・・・・第２の流体の需要信号、Ｆｌ　、Ｆ
２・・・・・・第１および第２の流体、ＦＥｌ　、ＦＥ
２・・・・・・第１および第２の流量計、ＨＳ・・・・
・・高位信号、ＬＳ・・・・・・低位信号、Ｑｌ　、Ｑ２・・・・・・第１および第２の流速信号、
ｑｌ、ｑ２・・・・・・第１および第２の流体の目標流
速信号、ｑｌ　／ｑ２・・・・・・比率信号。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）流体混合比制御装置であって、 −需要信号を発生する手段と、 −比率信号を発生する手段と、 −第１の流体の流速を決定して第１の流速信号を発生す
る手段と、 −第２の流体の流速を決定して第２の流速信号を発生す
る手段と、 −前記第１の流速信号と比率信号とを比較して第２の流
体の目標流速信号を発生する手段と、−前記第２の流体
の目標流速信号と前記需要信号とを比較してその出力を
第２の流体の流速制御に使用する手段と、 −前記需要信号と前記第２の流速信号とを比較し、その
出力を前記比率信号と比較して第１の流体の目標流速信
号を発生する手段と、 −前記第１の流速信号が前記第１の流体の目標流速信号
とほぼ同一となるように前記第１の流体の流速を制御す
る手段と、を有する流体混合比制御装置。
（２）前記第２の流体の目標流速信号と前記需要信号と
の比較手段が、高位信号または低位信号を選択可能なア
ナログモジュールを含むものである、特許請求の範囲第
１項に記載の装置。
（３）前記需要信号と前記第２の流速信号との比較手段
が、高位信号または低位信号を選択可能なアナログモジ
ュールを含むものである、特許請求の範囲第１項に記載
の装置。
（４）流体混合比制御装置であつて、 −需要信号を発生する手段と、 −最大比率信号を発生する手段と、 −第１の流体の流速を決定して第１の流速信号を発生す
る手段と、 −第２の流体の流速を決定して第２の流速信号を発生す
る手段と、 −前記第１の流速信号と、最大比率信号とを比較して第
２の流体の目標流速信号を発生する手段と、 −前記第２の流体の目標流速信号と前記需要信号とを比
較してその出力を第２の流体の流速制御に使用する手段
と、 −前記需要信号と前記第２の流速信号とを比較し、その
出力を前記最大比率信号と比較して第１の流体の目標流
速信号を発生する手段と、前記第１の流速信号が前記第１の流体の目標流速信号と
ほぼ同一となるように前記第１の流体の流速を制御する
手段と、を有する流体混合比制御装置。
（５）前記第２の流体の目標流速信号と前記需要信号と
の比較手段が、高位信号を選択可能な高位信号選択器ア
ナログモジュールを含むものである、特許請求の範囲第
４項に記載の装置。
（６）前記需要信号と前記第２の流速信号との比較手段
が、低位信号を選択可能な低位信号選択器アナログモジ
ュールを含むものである、特許請求の範囲第４項に記載
の装置。
（７）前記第１の流速信号と最大比率信号とを比較して
第２の流体の目標流速信号を発生する手段が、少なくと
も２つの入力信号の商を出力可能なアナログモジュール
を含ものである、特許請求の範囲第４項に記載の装置。
（８）前記需要信号と前記第２の流速信号とを比較し、
その出力を前記最大比率信号と比較して第１の流体の目
標流速信号を発生する手段が、低位信号を選択可能な低
位信号選択器アナログモジュールと、少なくとも２つの
入力の積を出力可能なアナログモジュールとを含むもの
である、特許請求の範囲第４項に記載の装置。
（９）流体混合比制御装置であって、 −需要信号を発生する手段と、 −最小比率信号を発生する手段と、 −第１の流体の流速を決定して第１の流速信号を発生す
る手段と、 −第２の流体の流速を決定して第２の流速信号を発生す
る手段と、 −前記第１の流速信号と、最小比率信号とを比較して第
２の流体の目標流速信号を発生する手段と、 −前記第２の流体の目標流速信号と前記需要信号とを比
較してその出力を第２の流体の流速制御に使用する手段
と、 −前記需要信号と前記第２の流速信号とを比較し、その
出力を前記最小比率信号と比較して第１の流体の目標流
速信号を発生する手段と、 −前記第１の流速信号が前記第１の流体の目標流速信号
とほぼ同一となるように前記第１の流体の流速を制御す
る手段と、を有する流体混合比制御装置。
（１０）前記第２の流体の目標流速信号と前記需要信号
との比較手段が、低位信号を選択可能な低位信号選択器
アナログモジュールを含むものである、特許請求の範囲
第９項に記載の装置。
（１１）前記需要信号と前記第２の流速信号との比較手
段が、高位信号を選択可能な高位信号選択器アナログモ
ジュールを含むものである、特許請求の範囲第９項に記
載の装置。
（１２）前記第１の流速信号と最小比率信号とを比較し
て第２の流体の目標流速信号を発生する手段が、少なく
とも２つの入力信号の商を出力可能なアナログモジュー
ルを含むものである、特許請求の範囲第９項に記載の装
置。
（１３）前記需要信号と前記第２の流速信号とを比較し
、その出力を前記最小比率信号と比較して第１の流体の
目標流速信号を発生する手段が、高位信号を選択可能な
高位信号選択器アナログモジュールと、少なくとも２つ
の入力の積を出力可能なアナログモジュールとを含むも
のである、特許請求の範囲第９項に記載の装置。
（１４）第１の制御弁と、第２の制御弁と、第１の高位
／低位信号選択器と、第２の高位／低位信号選択器と、
第１の流量計と、第２の流量計と、除算器と、乗算器と
を有する流体混合比制御装置において、 −前記第１の流量計からの出力が前記除算器と前記第１
の制御弁とに入力され、 −前記除算器と前記乗算器とに比率を入力するための第
１の入力手段が設けられ、 −前記除算器の出力が前記第１の高位／低位信号選択器
に入力され、 −前記第２の流体に対する需要を前記第１の高位／低位
信号選択器と、前記第２の高位／低位信号選択器とに入
力するための第２の入力装置が設けられ、 −前記第１の高位／低位信号選択器の出力が前記第２の
制御弁に入力され、 −前記第２の流量計の出力が前記第２の制御弁と前記第
２の高位／低位信号選択器とに入力され、−前記第２の
流量計の出力が前記第１の高位／低位信号選択器の出力
とほぼ同一になるように前記第２の制御弁は第２の流体
の流れを調節可能であり、 −前記第２の高位／低位信号選択器の出力が前記乗算器
に入力され、前記乗算器の出力が前記第１の制御弁に入力され、 −前記第１の流量計の出力が前記乗算器の出力とほぼ同
一となるように前記第１の制御弁は第１の流体の流れを
調節可能である、ものである流体混合比制御装置。
（１５）前記乗算器はｘｙ／ｚアナログモジュールから
なり、ｚの入力設定を１としたものである、特許請求の
範囲第１４項に記載の装置。
（１６）前記除算器はｘｙ／ｚアナログモジュールから
なり、ｙの入力設定を１としたものである、特許請求の
範囲第１４項に記載の装置。
（１７）前記第１の高位／低位選択器が高位選択に設定
され、前記第２の高位／低位選択器が低位選択に設定さ
れるものである、特許請求の範囲第１４項に記載の装置
。
（１８）前記第１の高位／低位選択器が低位選択に設定
され、前記第２の高位／低位選択器が高位選択に設定さ
れるものである、特許請求の範囲第１４項に記載の装置
。
（１９）流体混合比制御法であって、 −需要信号を発生することと、 −比率信号を発生することと、 −第１の流体の流速を表わす第１の流速信号を発生する
ことと、 −第２の流体の流速を表わす第２の流速信号を発生する
ことと、 −前記第１の流速信号と比率信号とを比較して第２の流
体の目標流速信号を発生することと、−前記第２の流体
の目標流速信号と前記需要信号とを比較してその出力を
第２の流体の流速制御に使用することと、 −前記需要信号と前記第２の流速信号とを比較し、その
出力を前記比率信号と比較して第１の流体の目標流速信
号を発生することと、 −前記第１の流速信号が前記第１の流体の目標流速信号
とほぼ同一となるように前記第１の流体の流速を制御す
ることと、を包含する流体混合比制御方法。
（２０）流体混合比制御方法であつて、 −需要信号を発生することと、 −最大比率信号を発生することと、 −第１の流体の流速を表わす第１の流速信号を発生する
ことと、 −第２の流体の流速を表わす第２の流速信号を発生する
ことと、 −前記第１の流速信号と最大比率信号とを比較して第２
の流体の目標流速信号を発生することとと、 −第２の流体の目標流速信号と需要信号の大きい方を決
定して高位の信号を発生することと、−第２の流速信号
が高位の信号とほぼ同一となるように第２の流体の流速
を制御することと、−需要信号と第２の流速信号の小さ
い方を決定して低位の信号を発生することと、 −低位の信号と最大比率信号を比較して第１の流体の目
標流速信号を発生することと、 −第１の流速信号が第１の流体の目標流速信号とほぼ同
一となるように第１の流体の流速を制御することと、を包含する流体混合比制御方法。
（２１）流体混合比制御方法であつて、 −需要信号を発生することと、 −最小比率信号を発生することと、 −第１の流体の流速を表わす第１の流速信号を発生する
ことと、 −第２の流体の流速を表わす第２の流速信号を発生する
ことと、 −前記第１の流速信号と、最小比率信号とを比較して第
２の流体の目標流速信号を発生することと、 −第２の流体の目標流速信号と需要信号の小さい方を決
定して高位の信号を発生することと、−第２の流速信号
が低位の信号とほぼ同一となるように第２の流体の流速
を制御することと、−需要信号と第２の流速信号の小さ
い方を決定して高位の信号を発生することと、 −高位の信号と最小比率信号を比較して第１の流体の目
標流速信号を発生することと、 −第１の流速信号が第１の流体の目標流速信号とほぼ同
一となるように第１の流体の流速を制御することと、を包含する流体混合比制御方法。