JPS628770B2 - - Google Patents
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- JPS628770B2 JPS628770B2 JP55074142A JP7414280A JPS628770B2 JP S628770 B2 JPS628770 B2 JP S628770B2 JP 55074142 A JP55074142 A JP 55074142A JP 7414280 A JP7414280 A JP 7414280A JP S628770 B2 JPS628770 B2 JP S628770B2
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
- G02F1/31—Digital deflection, i.e. optical switching
- G02F1/315—Digital deflection, i.e. optical switching based on the use of controlled internal reflection
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電気光学変調器、詳しくいえば、複
数の電気信号から成る電気信号パターンをその電
気信号パターンにより定まる光強度分布を有する
光線列からなる像に変換してその信号パターンを
可視状態に表示する装置に関する。
数の電気信号から成る電気信号パターンをその電
気信号パターンにより定まる光強度分布を有する
光線列からなる像に変換してその信号パターンを
可視状態に表示する装置に関する。
最近では、米国特許第3958862号明細書及び同
第4125318号明細書に記載されたような特定の型
式の電気光学変調器が開発されている。これらの
変調器の動作は、対称的な電極パターンに電圧を
加え、光が全内面反射する光学素子表面領域にお
いて電気光学素子の屈折率の周期的変化を誘起す
る効果に依存している。この結果、電気光学素子
に向けられた光ビームの波面に誘起された対称的
な周期性位相変化により、ラマン−ナース
(Raman−Nath)形の遠視野パターンが零次エネ
ルギーのまわりに対称的に現われる。次にこの出
力ビームの零次成分は、電極パターンに印加する
電圧を調節することにより変調されて、その光ビ
ームを零次から高次へと分布させることができ
る。また、所望により零次成分を消去することも
できる。
第4125318号明細書に記載されたような特定の型
式の電気光学変調器が開発されている。これらの
変調器の動作は、対称的な電極パターンに電圧を
加え、光が全内面反射する光学素子表面領域にお
いて電気光学素子の屈折率の周期的変化を誘起す
る効果に依存している。この結果、電気光学素子
に向けられた光ビームの波面に誘起された対称的
な周期性位相変化により、ラマン−ナース
(Raman−Nath)形の遠視野パターンが零次エネ
ルギーのまわりに対称的に現われる。次にこの出
力ビームの零次成分は、電極パターンに印加する
電圧を調節することにより変調されて、その光ビ
ームを零次から高次へと分布させることができ
る。また、所望により零次成分を消去することも
できる。
一般に、電気光学効果は、中間段階として音波
領域を形成することなく、また無視できる程の入
射光線エネルギー損失による位相面の変調を行な
うことなく、電気駆動信号により光の位相面の極
めて迅速かつ直接的な変調を行ない、高い光の収
量効率を得ることができる。不幸にも、前記電気
光学は、熱変動に応答するため、製造がかなり複
雑であり、また高い駆動電圧及び電力が必要であ
つた。低い駆動電圧及びパワーは、光エネルギー
が全内面反射により小さな体積内に閉じ込められ
る導波管形状のものには適するが、これらの装置
では、まだ商業的効果が得られなかつた。
領域を形成することなく、また無視できる程の入
射光線エネルギー損失による位相面の変調を行な
うことなく、電気駆動信号により光の位相面の極
めて迅速かつ直接的な変調を行ない、高い光の収
量効率を得ることができる。不幸にも、前記電気
光学は、熱変動に応答するため、製造がかなり複
雑であり、また高い駆動電圧及び電力が必要であ
つた。低い駆動電圧及びパワーは、光エネルギー
が全内面反射により小さな体積内に閉じ込められ
る導波管形状のものには適するが、これらの装置
では、まだ商業的効果が得られなかつた。
この除外例が、前記特許明細書に記載したTIR
(全内面反射)変調器形状の装置である。この装
置は、製造が容易であり、頑丈であり、温度ドリ
フト及び熱負荷に対して比較的安定であり、極め
て高速である。この装置には、低い駆動電圧(代
表的には10Vないし80V)と低い入力容量(代表
的には20pfないし80pf)が必要である。
(全内面反射)変調器形状の装置である。この装
置は、製造が容易であり、頑丈であり、温度ドリ
フト及び熱負荷に対して比較的安定であり、極め
て高速である。この装置には、低い駆動電圧(代
表的には10Vないし80V)と低い入力容量(代表
的には20pfないし80pf)が必要である。
多くの用途にとつてTIR変調器を魅力的なもの
とするその独自の特性は、次のものである。
とするその独自の特性は、次のものである。
(1) 駆動電極を相互に近接して設置することによ
り、低い駆動電圧で高電界を発生することがで
き、したがつて大きな光の位相面変調を行なう
ことができる。電極のピツチは、代表的には
100μであるが、1μとしてもよい。
り、低い駆動電圧で高電界を発生することがで
き、したがつて大きな光の位相面変調を行なう
ことができる。電極のピツチは、代表的には
100μであるが、1μとしてもよい。
(2) 電極により誘起された電界は、電極表面に非
常に密接に閉じ込められるため、この指状電極
構造の装置は、低い容量を有する。これは、高
周数駆動にとつては、非常に価値のある特性で
ある。
常に密接に閉じ込められるため、この指状電極
構造の装置は、低い容量を有する。これは、高
周数駆動にとつては、非常に価値のある特性で
ある。
(3) この位相格子構造は、ポツケルセル
(Pockel′s cell)型変調器形状とは異なり、固
有の頑丈さを有しかつ温度に対して安定してい
る。
(Pockel′s cell)型変調器形状とは異なり、固
有の頑丈さを有しかつ温度に対して安定してい
る。
(4) 光ビームを閉込めることは、何ら必要でな
く、簡単な合焦操作を行なうだけでよい。
く、簡単な合焦操作を行なうだけでよい。
(5) 電極により誘起された電界が、電気光学結晶
内に浅く侵透した外皮電界であつても、光ビー
ムと電界との適当な相互作用は、電極表面をか
すめて通る反射により確保される。
内に浅く侵透した外皮電界であつても、光ビー
ムと電界との適当な相互作用は、電極表面をか
すめて通る反射により確保される。
本発明の目的上、光線列形成装置は、電気信号
パターンを、その電気信号パターンにより特定さ
れる線に沿つて光強度が分布した光線列から成る
像に変換する装置と規定する。光線列形成装置
は、特定の線位置にある像線に1つの光点を投射
し、前述のように時間に合わせてこの線位置を変
えるように用いることができる。
パターンを、その電気信号パターンにより特定さ
れる線に沿つて光強度が分布した光線列から成る
像に変換する装置と規定する。光線列形成装置
は、特定の線位置にある像線に1つの光点を投射
し、前述のように時間に合わせてこの線位置を変
えるように用いることができる。
実際の光線列形成装置の例は、1930年代のスコ
フオニー(Scophony)テレビジヨン装置に用い
られた光バルブである(例として、IRE会報、第
27巻、1939年8月号、第483頁ないし第486頁に掲
載のデイー、エム、ロビンソン(D.M.
Robinson)氏の“超音波光制御及びそのスコフ
オニーテレビジヨン受像機等のテレビジヨンへの
応用(The Supersonic Light Control and Its
Application to Television with Special
Reference to the Scophony Television
Receiver)”を参照)。このビデオ信号は、中間
機構として液体セルを通過する変調された搬送音
波を用いる光弾性効果により光の位相面を変調す
る。この搬送音波は、空間搬送波周波数すなわち
効果からいえばセルに入射した光を個々の回折次
数に分解する位相回折格子を形成する。この位相
面変調は、位相差顕微鏡使用技術により像線にお
いて対応的な強度変調に変換される。
フオニー(Scophony)テレビジヨン装置に用い
られた光バルブである(例として、IRE会報、第
27巻、1939年8月号、第483頁ないし第486頁に掲
載のデイー、エム、ロビンソン(D.M.
Robinson)氏の“超音波光制御及びそのスコフ
オニーテレビジヨン受像機等のテレビジヨンへの
応用(The Supersonic Light Control and Its
Application to Television with Special
Reference to the Scophony Television
Receiver)”を参照)。このビデオ信号は、中間
機構として液体セルを通過する変調された搬送音
波を用いる光弾性効果により光の位相面を変調す
る。この搬送音波は、空間搬送波周波数すなわち
効果からいえばセルに入射した光を個々の回折次
数に分解する位相回折格子を形成する。この位相
面変調は、位相差顕微鏡使用技術により像線にお
いて対応的な強度変調に変換される。
スコフオニー光バルブの欠点は、音波領域が液
体セルを通る音速とともに移動することである。
このような光バルブにより形成された像は、搬送
音波の分布を直接写像したものであるから、その
像も移動するにちがいない。この像を固定するた
めに、光学系に回転ミラーが必要とされる。スコ
フオニー光バルブのさらに重要な欠点は、有用な
光バルブ開口、及び、音の吸収、すなわち材料上
の制限により課される解像度及び速度の制限であ
る。
体セルを通る音速とともに移動することである。
このような光バルブにより形成された像は、搬送
音波の分布を直接写像したものであるから、その
像も移動するにちがいない。この像を固定するた
めに、光学系に回転ミラーが必要とされる。スコ
フオニー光バルブのさらに重要な欠点は、有用な
光バルブ開口、及び、音の吸収、すなわち材料上
の制限により課される解像度及び速度の制限であ
る。
今までのTIR形状の装置では、電極は、すべて
2つの電極ブロツク内に結合され、これらの2つ
のブロツクに1つの駆動電位が加えられている。
これにより、電極領域全体にわたつて一定の大き
さで周期的な光位相面の変形が生じる。望むらく
は、前述の構造上の利点を有するTIR装置を用い
て、電気信号パターンにより生じた周期的な光位
相面変形を、そのパターンにより特定される光強
度分布を有する光線列から成る像に変換する光線
列形成装置を提供することである。この装置は、
現在ラスタ走査装置に用いられている回転多面体
部材と、簡単にかつ経済的に置換えることができ
る。
2つの電極ブロツク内に結合され、これらの2つ
のブロツクに1つの駆動電位が加えられている。
これにより、電極領域全体にわたつて一定の大き
さで周期的な光位相面の変形が生じる。望むらく
は、前述の構造上の利点を有するTIR装置を用い
て、電気信号パターンにより生じた周期的な光位
相面変形を、そのパターンにより特定される光強
度分布を有する光線列から成る像に変換する光線
列形成装置を提供することである。この装置は、
現在ラスタ走査装置に用いられている回転多面体
部材と、簡単にかつ経済的に置換えることができ
る。
本発明は、TIR装置上に形成された電極の電位
を変えることにより光線列に沿つて複数のスポツ
トを変調させる装置を提供する。特に、複数の
個々の電気信号から成る電気信号パターンが、そ
の電気信号パターンにより決まる光強度分布を有
する光線列から成る像に変換され、その信号パタ
ーンを可視状態で表示する。本発明による装置に
は、それぞれ個々にアドレスされた電極対を有す
るTIR(全内面反射)型電気光学装置が用いられ
ている。表示された信号パターンを記録するため
に、この電気光学装置は、その電気光学装置のそ
れぞれ個々にアドレスされた素子が記録線に沿つ
た1画素に対する光変調器又は光ゲートとして働
くように、記録平面上に1つの列として像形成す
る。
を変えることにより光線列に沿つて複数のスポツ
トを変調させる装置を提供する。特に、複数の
個々の電気信号から成る電気信号パターンが、そ
の電気信号パターンにより決まる光強度分布を有
する光線列から成る像に変換され、その信号パタ
ーンを可視状態で表示する。本発明による装置に
は、それぞれ個々にアドレスされた電極対を有す
るTIR(全内面反射)型電気光学装置が用いられ
ている。表示された信号パターンを記録するため
に、この電気光学装置は、その電気光学装置のそ
れぞれ個々にアドレスされた素子が記録線に沿つ
た1画素に対する光変調器又は光ゲートとして働
くように、記録平面上に1つの列として像形成す
る。
従来のラスタ走査装置において、多面体のよう
な回転部材を用いる場合に固有な技術的問題は、
本発明により克服される。すなわち、本発明によ
れば、TIR電気光学装置を用いた装置は、記録平
面に沿つた複数の画素に対して光ビーム変調を行
なう一方でTIR型装置を利用することにより得ら
れる固有の利点を保持する。
な回転部材を用いる場合に固有な技術的問題は、
本発明により克服される。すなわち、本発明によ
れば、TIR電気光学装置を用いた装置は、記録平
面に沿つた複数の画素に対して光ビーム変調を行
なう一方でTIR型装置を利用することにより得ら
れる固有の利点を保持する。
前記TIR装置は、光線列位相変調器として別の
実用性を有し、かつ種々の光学装置における入力
装置としての用途を有することに注目されたい。
実用性を有し、かつ種々の光学装置における入力
装置としての用途を有することに注目されたい。
本発明をさらによく理解するとともに本発明の
他の目的及び別の特徴を理解するため、以下記載
する説明を添付図面とともに参照されたい。
他の目的及び別の特徴を理解するため、以下記載
する説明を添付図面とともに参照されたい。
第1図を参照すると、代表的な従来のTIR型変
調器10は、LiNbO3のXYカツト結晶12から作
られた電気光学材料から成つている。結晶12
は、3つの研摩面14,16及び18を有する。
面14及び16は、面18の平面にある角度で入
射する単一波長の平行光ビームが面14及び16
で屈折して面18において全内面反射を受けるよ
うに構成されている。図示する結晶形状以外の形
状でも全内面反射を達成することができることは
理解されたい。図示した形状のものでは、全体の
大きさが約4×4×15mmの結晶が満足な動作を与
える。
調器10は、LiNbO3のXYカツト結晶12から作
られた電気光学材料から成つている。結晶12
は、3つの研摩面14,16及び18を有する。
面14及び16は、面18の平面にある角度で入
射する単一波長の平行光ビームが面14及び16
で屈折して面18において全内面反射を受けるよ
うに構成されている。図示する結晶形状以外の形
状でも全内面反射を達成することができることは
理解されたい。図示した形状のものでは、全体の
大きさが約4×4×15mmの結晶が満足な動作を与
える。
電極パターン20は、その電極22が入射光ビ
ーム24に平行となるようにアレイ(第2図参
照)として表面18上に蒸着されている。電圧源
25から発生した電圧Vは、電極パターン20に
加えられ、面18付近に電界を誘起させ、その電
界が結晶の屈折率を変化させる。図示したパター
ンでは、変調器10は、位相回折格子と同様に作
用して光出力ビームを変化させ、また指状電極2
2は、周期的な電界を誘起してその電界が電気光
学材料12に侵透する。
ーム24に平行となるようにアレイ(第2図参
照)として表面18上に蒸着されている。電圧源
25から発生した電圧Vは、電極パターン20に
加えられ、面18付近に電界を誘起させ、その電
界が結晶の屈折率を変化させる。図示したパター
ンでは、変調器10は、位相回折格子と同様に作
用して光出力ビームを変化させ、また指状電極2
2は、周期的な電界を誘起してその電界が電気光
学材料12に侵透する。
出力ビームは、回折して、それぞれほぼ2−6
ミリラジアンだけ隔置された一連の次数成分とな
り、その強度は、電極電圧により変化する。たと
えば、70Vの代表的な全変調電圧Vが電極に加わ
るとすれば、出力光ビームは、最小の零次ビーム
エネルギーを含み、このエネルギーが、他の次数
へ遷移される。そこで、これらの次数の光ビーム
を障害物で妨げると、入射ビームすなわち最初の
ビームの方向は、電圧を印加することにより強度
変調されるように見える。
ミリラジアンだけ隔置された一連の次数成分とな
り、その強度は、電極電圧により変化する。たと
えば、70Vの代表的な全変調電圧Vが電極に加わ
るとすれば、出力光ビームは、最小の零次ビーム
エネルギーを含み、このエネルギーが、他の次数
へ遷移される。そこで、これらの次数の光ビーム
を障害物で妨げると、入射ビームすなわち最初の
ビームの方向は、電圧を印加することにより強度
変調されるように見える。
代表的な例として、電極は、幅が12μm、長さ
が3.5mmであり、各電極間のピツチは50μmであ
る。適当な電気光学材料には、LiNbO3、
LiTaO3、BSN、ADP、KDP、KDxP、KDA及び
Ba2NaNb5O15がある。
が3.5mmであり、各電極間のピツチは50μmであ
る。適当な電気光学材料には、LiNbO3、
LiTaO3、BSN、ADP、KDP、KDxP、KDA及び
Ba2NaNb5O15がある。
市販されているTIR装置では、電極はすべて2
つの導電性ブロツク26及び28内に結合されて
いる。そして、一つの駆動電位Vがブロツク26
及び28に印加される。これにより、電極パター
ン20の領域にわたつて大きさが一定の周期的な
光位相面が得られる。
つの導電性ブロツク26及び28内に結合されて
いる。そして、一つの駆動電位Vがブロツク26
及び28に印加される。これにより、電極パター
ン20の領域にわたつて大きさが一定の周期的な
光位相面が得られる。
第3図及び第4図は、それぞれ本発明のTIR変
調器29を示す頂面図及び側面図である。特に、
ブロツク31の各電極は、それ自身の個々の駆動
電圧に接続され、一方他のブロツク33は、接地
又は他の共通電圧に設定されている。詳述する
と、個々の指状電極30,32,34………36
及び38には、それぞれ別個の駆動電圧信号
V1,V2,V3,V4,………Vj-1及びVjが加えら
れ、電極40,42,………48は、ともに接続
されて、共通の電圧に接続、図示する実施例では
接地されている。変調器29の基本構造は、個々
にアドレスされた新しい電極配置を除き、上述の
変調器10と同じである。
調器29を示す頂面図及び側面図である。特に、
ブロツク31の各電極は、それ自身の個々の駆動
電圧に接続され、一方他のブロツク33は、接地
又は他の共通電圧に設定されている。詳述する
と、個々の指状電極30,32,34………36
及び38には、それぞれ別個の駆動電圧信号
V1,V2,V3,V4,………Vj-1及びVjが加えら
れ、電極40,42,………48は、ともに接続
されて、共通の電圧に接続、図示する実施例では
接地されている。変調器29の基本構造は、個々
にアドレスされた新しい電極配置を除き、上述の
変調器10と同じである。
電極30,32,34………36及び38の
各々に異なる電圧レベルを印加すると、各電極の
位置において、ビームの位相変調が生じ、その大
きさは、それぞれ加えられた電圧に関係する。
各々に異なる電圧レベルを印加すると、各電極の
位置において、ビームの位相変調が生じ、その大
きさは、それぞれ加えられた電圧に関係する。
入射光ビーム24は、第4図に示すように、電
極30,32,34………36及び38に広が
り、変調器29の全幅を実質的に満たすことに注
目されたい。好ましい実施例では、光ビーム24
は、変調器29の長さ方向に実質的に平行化さ
れ、変調器29の内面上の線27に沿つてくさび
形状に合焦される。この線27は、第3図に示す
ように、電極30,32,34………36及び3
8の幅方向に延びている。
極30,32,34………36及び38に広が
り、変調器29の全幅を実質的に満たすことに注
目されたい。好ましい実施例では、光ビーム24
は、変調器29の長さ方向に実質的に平行化さ
れ、変調器29の内面上の線27に沿つてくさび
形状に合焦される。この線27は、第3図に示す
ように、電極30,32,34………36及び3
8の幅方向に延びている。
位相面変調を利用して出力の強度変化を達成す
るため、位相差顕微境使用技術を用いて、各電極
が像線の局部領域内の像強度分布に影響を及ぼす
ようにしてもよい。この像線の領域は、電極アレ
イ内の電極の位置に直接対応する。
るため、位相差顕微境使用技術を用いて、各電極
が像線の局部領域内の像強度分布に影響を及ぼす
ようにしてもよい。この像線の領域は、電極アレ
イ内の電極の位置に直接対応する。
この変換のための位相差顕微境使用技術は、た
とえば、1968年ニユーヨークのマクグローヒルブ
ツクカンパニー(McGraw−Hill Book
Company)から出されたジエイ・ダブル・グツ
ドマン(J.W.Goodman)著のフーリエ光学入門
(Introduction to Fourier Optics)に記載され、
これは、中央暗領域技術から成る。位相差顕微境
使用技術は、すべて位相面変調を空間フイルタリ
ングにより、強度変調に変換することであり、用
いる空間フイルタリング関数の相違により種々の
技術がある。
とえば、1968年ニユーヨークのマクグローヒルブ
ツクカンパニー(McGraw−Hill Book
Company)から出されたジエイ・ダブル・グツ
ドマン(J.W.Goodman)著のフーリエ光学入門
(Introduction to Fourier Optics)に記載され、
これは、中央暗領域技術から成る。位相差顕微境
使用技術は、すべて位相面変調を空間フイルタリ
ングにより、強度変調に変換することであり、用
いる空間フイルタリング関数の相違により種々の
技術がある。
第5図は、入射光の位相面50がTIR変調器2
9により変調されて光の変調位相面52を発生す
る(簡単にするため接地電極は図示していな
い)。この変調された位相面52は、図示するよ
うにその対応する電極30,32,34………3
6及び38と実質的に同一の広がりを有し、電極
アレイの広がりと等しい線58(図示上、X方向
に示されている)に沿つて延びている。この変調
された位相面の各パルスの(矢印59の方向へ
の)大きさは、線58に沿つた点の位相に対応
し、さらにその付属電極に加えられた駆動電圧
(図で概略的に示す)に比例している。電極電圧
は、変調器29の用途に応じた多数の技術により
与えられる。さらに、変調された位相面を対応す
る光強度変化に変換する原理(第6A図ないし第
6E図並びに第7A図及び第7B図を参照してさ
らに詳細に後述する)は、米国特許第3922485号
明細書に示すレーザ印字装置のような光学記録装
置に適用できる。
9により変調されて光の変調位相面52を発生す
る(簡単にするため接地電極は図示していな
い)。この変調された位相面52は、図示するよ
うにその対応する電極30,32,34………3
6及び38と実質的に同一の広がりを有し、電極
アレイの広がりと等しい線58(図示上、X方向
に示されている)に沿つて延びている。この変調
された位相面の各パルスの(矢印59の方向へ
の)大きさは、線58に沿つた点の位相に対応
し、さらにその付属電極に加えられた駆動電圧
(図で概略的に示す)に比例している。電極電圧
は、変調器29の用途に応じた多数の技術により
与えられる。さらに、変調された位相面を対応す
る光強度変化に変換する原理(第6A図ないし第
6E図並びに第7A図及び第7B図を参照してさ
らに詳細に後述する)は、米国特許第3922485号
明細書に示すレーザ印字装置のような光学記録装
置に適用できる。
第6A図ないし第6E図並びに第7A図及び第
7B図は、電極の各々に電圧を加えたとき変調器
29により行なわれた位相面変調を対応する光強
度変化に変換し、それにより前述したようなTIR
光線列形成装置を形成する種々の形状の装置を簡
単に示したものである。
7B図は、電極の各々に電圧を加えたとき変調器
29により行なわれた位相面変調を対応する光強
度変化に変換し、それにより前述したようなTIR
光線列形成装置を形成する種々の形状の装置を簡
単に示したものである。
図示する形状の装置は、それぞれ光学装置のフ
ーリエ変換特性を使用している。特に、位相変調
器29に入射した光入力24は、視野レンズ61
を介して変調器29の後方に配置したフーリエ変
換平面62に合焦され、このフーリエ変換平面6
2において、この光入力24は、変調された位相
面の空間分布又はフーリエ変換に関係する光分布
を形成する。(このフーリエ変換平面62は、図
示するように(レンズ61を通過した光を集光し
て像形成する)像形成レンズ64の前方に配置し
てもよく、また使用する他の光学系及び照射ビー
ムの収束の度合に応じて像形成レンズ64の後方
に配置してもよい。しかしながら、この光入力
は、常に何の位相変調も行なうことなく入射平行
化ビームが合焦するような位置に合焦する。)第
6A図ないし第6E図に示す位相読出し装置は、
それぞれ光のフーリエ変換を修正する空間フイル
タリングパターンをこのフーリエ変換平面62に
配置し、それにより位相変調を強度変化として可
視化している。フーリエ変換平面に配置されたこ
のパターンは、透明なアパーチヤと不透明なアパ
ーチヤとから成つてもよいし、それ自体それに付
属する位相分布又は振幅分布を有してもよい。第
6A図では、フーリエ変換フイルタ66と呼ばれ
るこのパターンは、平面62内に配置されてい
る。最大のコントラストを与える好ましい技術
は、第6B図に示され、“暗領域読出し”又は
“中央暗領域読出し”と呼ばれている。これは、
フーリエ変換の0次及び低次のスペクトル項を、
絞り67(合焦された中央スポツト)により阻止
し、かつ高次スペクトル項がレンズ61を通過し
て像形成レンズ64により集光され、出力像形成
面68に像を形成することを包含する。第6B図
において形成された像の補償を行なう別の技術
は、第6C図に示す“明領域”技術であり、これ
によれば、高次スペクトル項は、絞り69により
阻止されて合焦されたスポツト及び第1次回折成
分の一部のみが透過される。第6D図では、絞り
67は、フリツツ−ゼルニケ(Fritz−Zernike)
位相差技術として知られている位相差配列の90゜
位相シフトプレート70と取換えられている。こ
の装置は、しばしば弱い回折位相物体とともに用
いられる。というのは、この装置は、このような
物体に対しその物体の位相に線形比列する強度を
与えるからである。この絞り67及び69並びに
プレート70は、フーリエ変換フイルタと考えら
れることに注目されたい。
ーリエ変換特性を使用している。特に、位相変調
器29に入射した光入力24は、視野レンズ61
を介して変調器29の後方に配置したフーリエ変
換平面62に合焦され、このフーリエ変換平面6
2において、この光入力24は、変調された位相
面の空間分布又はフーリエ変換に関係する光分布
を形成する。(このフーリエ変換平面62は、図
示するように(レンズ61を通過した光を集光し
て像形成する)像形成レンズ64の前方に配置し
てもよく、また使用する他の光学系及び照射ビー
ムの収束の度合に応じて像形成レンズ64の後方
に配置してもよい。しかしながら、この光入力
は、常に何の位相変調も行なうことなく入射平行
化ビームが合焦するような位置に合焦する。)第
6A図ないし第6E図に示す位相読出し装置は、
それぞれ光のフーリエ変換を修正する空間フイル
タリングパターンをこのフーリエ変換平面62に
配置し、それにより位相変調を強度変化として可
視化している。フーリエ変換平面に配置されたこ
のパターンは、透明なアパーチヤと不透明なアパ
ーチヤとから成つてもよいし、それ自体それに付
属する位相分布又は振幅分布を有してもよい。第
6A図では、フーリエ変換フイルタ66と呼ばれ
るこのパターンは、平面62内に配置されてい
る。最大のコントラストを与える好ましい技術
は、第6B図に示され、“暗領域読出し”又は
“中央暗領域読出し”と呼ばれている。これは、
フーリエ変換の0次及び低次のスペクトル項を、
絞り67(合焦された中央スポツト)により阻止
し、かつ高次スペクトル項がレンズ61を通過し
て像形成レンズ64により集光され、出力像形成
面68に像を形成することを包含する。第6B図
において形成された像の補償を行なう別の技術
は、第6C図に示す“明領域”技術であり、これ
によれば、高次スペクトル項は、絞り69により
阻止されて合焦されたスポツト及び第1次回折成
分の一部のみが透過される。第6D図では、絞り
67は、フリツツ−ゼルニケ(Fritz−Zernike)
位相差技術として知られている位相差配列の90゜
位相シフトプレート70と取換えられている。こ
の装置は、しばしば弱い回折位相物体とともに用
いられる。というのは、この装置は、このような
物体に対しその物体の位相に線形比列する強度を
与えるからである。この絞り67及び69並びに
プレート70は、フーリエ変換フイルタと考えら
れることに注目されたい。
前記実施例の装置は、レーザ照射源を用いるこ
とを要しないが、このようなレーザ照射源を設け
ることが好ましい。特に、幅広いスペクトルバン
ド幅を有する点源からの平行光線が、非常に満足
な結果を与えるだろう。フーリエ変換パターンの
位相変調度及び空間的な大きさは、レーザ照射源
のスペクトル内の各波長についていくらか異なる
だろう。これにより、非常に複雑なフーリエ変換
フイルタを用いる場合に、いくらかの問題が生ず
るが、第6B図及び第6C図に図示しかつ前述し
た暗領域技術及び明領域技術による実施例につい
ては性能の大きな低下は生じない。さらに、多数
の点から成る光源、ストリツプ光源又は他の形状
の光源は、暗領域零次領域絞りが、光源の各点に
より発生したフーリエ変換零次領域を適当に横切
るパターンである限り使用することができる。第
6E図は、暗領域照射を用いた装置を示してお
り、この装置には、多数点源72、平行レンズ7
4及びフーリエ変換平面に配置された多数の絞り
76が設けられている。
とを要しないが、このようなレーザ照射源を設け
ることが好ましい。特に、幅広いスペクトルバン
ド幅を有する点源からの平行光線が、非常に満足
な結果を与えるだろう。フーリエ変換パターンの
位相変調度及び空間的な大きさは、レーザ照射源
のスペクトル内の各波長についていくらか異なる
だろう。これにより、非常に複雑なフーリエ変換
フイルタを用いる場合に、いくらかの問題が生ず
るが、第6B図及び第6C図に図示しかつ前述し
た暗領域技術及び明領域技術による実施例につい
ては性能の大きな低下は生じない。さらに、多数
の点から成る光源、ストリツプ光源又は他の形状
の光源は、暗領域零次領域絞りが、光源の各点に
より発生したフーリエ変換零次領域を適当に横切
るパターンである限り使用することができる。第
6E図は、暗領域照射を用いた装置を示してお
り、この装置には、多数点源72、平行レンズ7
4及びフーリエ変換平面に配置された多数の絞り
76が設けられている。
TIR変調器の電極は、像形成装置の焦点探度に
比べて比較的長い。このため、像形成レンズの正
確な合焦は、いくらか不確定である。変調器29
が(電極の長さ全体にわたつて集積された)正味
の電気光学効果を得ることができる最適な合焦平
面を有すると仮定することにより、変調器があた
かも輪郭のはつきりした物体平面内に配置されて
いるかのように純粋な位相変化を生ぜしめること
ができる。この物体平面は、種々の電極をオンし
て暗領域絞りを除去した状態で画面のコントラス
トを観測することにより配置される。位相物体の
合焦像の出力は、高いコントラストの強度変動を
示す光パターンであるので、このテスト状態にお
いて最小のコントラストを与えるように設定する
と最適な合焦が観測された。レンズを焦点を通し
て移動させてその出力コントラストを最小にする
ことによりこのレンズの最適な位置が容易に判明
する。
比べて比較的長い。このため、像形成レンズの正
確な合焦は、いくらか不確定である。変調器29
が(電極の長さ全体にわたつて集積された)正味
の電気光学効果を得ることができる最適な合焦平
面を有すると仮定することにより、変調器があた
かも輪郭のはつきりした物体平面内に配置されて
いるかのように純粋な位相変化を生ぜしめること
ができる。この物体平面は、種々の電極をオンし
て暗領域絞りを除去した状態で画面のコントラス
トを観測することにより配置される。位相物体の
合焦像の出力は、高いコントラストの強度変動を
示す光パターンであるので、このテスト状態にお
いて最小のコントラストを与えるように設定する
と最適な合焦が観測された。レンズを焦点を通し
て移動させてその出力コントラストを最小にする
ことによりこのレンズの最適な位置が容易に判明
する。
第6A図ないし第6E図の実施例に示す位相読
出し技術は、全内面反射面の傷及び入射ビームに
非常に近接した結晶の横縁部の傷にいくらか感応
する。これらの傷は、電極がオン状態にあるかど
うかにかかわらず光を散乱させ、電極がオフ状態
にある場合でさえも背景領域に光分布を生ずる。
この傷は、優れた結晶縁部及びその表面を研摩す
ることにより最小にすることができるが、この分
散光に対する感応性がはるかに小さな装置の偏光
読出しを利用する別の技術もある。第7A図及び
第7B図を参照すると、入射光線は、偏光子81
によりTIR表面80上の入射平面(結晶配向平
面)の方へある角度、好ましくは45゜だけ偏光さ
れている。前記電気光学効果により、光のだ円偏
光が生じ、それにより、オン状態にある電極を通
過した光が変調器の後方に配置された検光子82
(初期偏光面を横切る方向に配置された、好まし
くは偏光子81に対し90゜に配置された偏光子)
を通過する。背景領域の分散光はこの技術を用い
て実質的に減少されるが、偏光子における損失が
あるため装置の収量はいくらか低下する。従つ
て、最適な読出し技術は、最大コントラスト(偏
光技術)又は最大の光の収量(位相差顕微鏡使用
技術)が必要な場合に応じてその用途とともに変
わる。第7A図及び第7B図に示すような両技術
を組合わせたものも最大の背景領域雑音除去のた
めに利用される(絞り67を除去すると、偏光技
術そのものとなる。)。
出し技術は、全内面反射面の傷及び入射ビームに
非常に近接した結晶の横縁部の傷にいくらか感応
する。これらの傷は、電極がオン状態にあるかど
うかにかかわらず光を散乱させ、電極がオフ状態
にある場合でさえも背景領域に光分布を生ずる。
この傷は、優れた結晶縁部及びその表面を研摩す
ることにより最小にすることができるが、この分
散光に対する感応性がはるかに小さな装置の偏光
読出しを利用する別の技術もある。第7A図及び
第7B図を参照すると、入射光線は、偏光子81
によりTIR表面80上の入射平面(結晶配向平
面)の方へある角度、好ましくは45゜だけ偏光さ
れている。前記電気光学効果により、光のだ円偏
光が生じ、それにより、オン状態にある電極を通
過した光が変調器の後方に配置された検光子82
(初期偏光面を横切る方向に配置された、好まし
くは偏光子81に対し90゜に配置された偏光子)
を通過する。背景領域の分散光はこの技術を用い
て実質的に減少されるが、偏光子における損失が
あるため装置の収量はいくらか低下する。従つ
て、最適な読出し技術は、最大コントラスト(偏
光技術)又は最大の光の収量(位相差顕微鏡使用
技術)が必要な場合に応じてその用途とともに変
わる。第7A図及び第7B図に示すような両技術
を組合わせたものも最大の背景領域雑音除去のた
めに利用される(絞り67を除去すると、偏光技
術そのものとなる。)。
上記事項は、前述のTIR変調器29を使用する
についての本発明の2つの別の特徴を実質上表わ
したものである。まず、個々にアドレスされた電
極を有するTIR変調器29は、それ自体1つの構
成要素である。この場合には、それは、TIR光線
列位相変調器として働き、光処理領域、ホログラ
フイーメモリ領域その他の関連領域に使用する入
力装置としての用途を有する。第2の、像形成レ
ンズ及びフーリエ変換フイルタ(空間フイルタ)
とともに用いられるTIR装置は、TIR光線列形成
装置(強度変調器)として働く。このような装置
は、光学記録装置(プリンタ)その他の電気的に
光強度パターンを発生させることを要する装置等
の多数の装置において用途を有する。
についての本発明の2つの別の特徴を実質上表わ
したものである。まず、個々にアドレスされた電
極を有するTIR変調器29は、それ自体1つの構
成要素である。この場合には、それは、TIR光線
列位相変調器として働き、光処理領域、ホログラ
フイーメモリ領域その他の関連領域に使用する入
力装置としての用途を有する。第2の、像形成レ
ンズ及びフーリエ変換フイルタ(空間フイルタ)
とともに用いられるTIR装置は、TIR光線列形成
装置(強度変調器)として働く。このような装置
は、光学記録装置(プリンタ)その他の電気的に
光強度パターンを発生させることを要する装置等
の多数の装置において用途を有する。
以上、本発明をその好ましい実施例をあげなが
ら説明してきたが、当業者であれば、本発明の真
の精神及び範囲から外れることなく種々の変更及
び、その要素に代えて等価な要素を用いることが
できることは理解されるであろう。さらに、本発
明の教示する本質的な技術から外れることなくそ
の本発明の技術に特定の条件及び材料を適合させ
るために多くの修正を行なうこともできる。
ら説明してきたが、当業者であれば、本発明の真
の精神及び範囲から外れることなく種々の変更及
び、その要素に代えて等価な要素を用いることが
できることは理解されるであろう。さらに、本発
明の教示する本質的な技術から外れることなくそ
の本発明の技術に特定の条件及び材料を適合させ
るために多くの修正を行なうこともできる。
第1図は、従来型式の変調装置の概略側面図で
ある。第2図は、従来の電極パターンを用いた第
1図の装置の頂面図である。第3図は、本発明の
TIR装置に入射ビームを合焦させた状態を示す側
面図である。第4図は、第3図に示すTIR装置、
なかんずくその上部に形成された個々にアドレス
された電極の頂面図である。第5図は本発明の装
置が入射光の位相面を変調する状態を示す図であ
る。第6A図ないし第6E図は、第3図ないし第
5図を示すTIR装置により形成された変調位相面
を対応する強度位相変化に変換する種々の位相差
顕微鏡使用形状の装置を示す図である。第7A図
及び第7B図は、像の背面領域のノイズを削減す
るための偏光読出し技術を示す図である。 10,29……TIR変調器、12……結晶、1
4,16,18……研摩面、20……電極パター
ン、22,30,32,………38,40,4
2,………48……電極、24……入射光ビー
ム、25……電圧源、26,28,31,33…
…導電ブロツク、50……入射光の位相面、52
……変調光の位相面、61……視野レンズ、62
……フーリエ変換平面、64……像形成レンズ、
66……フーリエ変換フイルタ、67,69……
絞り、68……出力画面、70……位相シフトプ
レート、72……多数光源、74……平行化レン
ズ、76……多数絞り、81……TIR表面、81
……偏光子、82……検光子。
ある。第2図は、従来の電極パターンを用いた第
1図の装置の頂面図である。第3図は、本発明の
TIR装置に入射ビームを合焦させた状態を示す側
面図である。第4図は、第3図に示すTIR装置、
なかんずくその上部に形成された個々にアドレス
された電極の頂面図である。第5図は本発明の装
置が入射光の位相面を変調する状態を示す図であ
る。第6A図ないし第6E図は、第3図ないし第
5図を示すTIR装置により形成された変調位相面
を対応する強度位相変化に変換する種々の位相差
顕微鏡使用形状の装置を示す図である。第7A図
及び第7B図は、像の背面領域のノイズを削減す
るための偏光読出し技術を示す図である。 10,29……TIR変調器、12……結晶、1
4,16,18……研摩面、20……電極パター
ン、22,30,32,………38,40,4
2,………48……電極、24……入射光ビー
ム、25……電圧源、26,28,31,33…
…導電ブロツク、50……入射光の位相面、52
……変調光の位相面、61……視野レンズ、62
……フーリエ変換平面、64……像形成レンズ、
66……フーリエ変換フイルタ、67,69……
絞り、68……出力画面、70……位相シフトプ
レート、72……多数光源、74……平行化レン
ズ、76……多数絞り、81……TIR表面、81
……偏光子、82……検光子。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 反射面を有する光学的に透明な単一の電気光
学素子と、平行光線を電気光学素子を通してほぼ
縦方向に伝搬させながら前記反射面により全内面
反射させるように選択した入射角で電気光学素子
に入射させる手段とを有する電気光学空間変調器
において、 電気的に独立な複数の電極と、前記反射面に沿
つて横方向に隔置された状態で縦方向に延びかつ
電気的に相互接続された複数の電極とが設けら
れ、電気的に相互接続された複数の電極は、それ
ぞれ電気的に独立な電極の間に互い違いに挟まれ
ており、 前記電気的に相互接続された電極に所定の基準
電位を与える手段が設けられ、さらに 前記電気的に独立な電極を個別にアドレスして
前記基準電圧に対するその電圧レベル、V1,
V2,V3,Vj-1,Vjを独立して決定し、この独立
して決定した電圧レベルに従つて前記平行光線を
空間的に変調する手段とが設けられたことを特徴
とする電気光学空間変調器。 2 前記平行光線は、レーザー光であることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の電気光学空
間変調器。 3 前記平行光線は、前記電気光学素子の反射面
に形成された焦点に入射されることを特徴とする
特許請求の範囲第1項記載の電気光学空間変調
器。 4 前記電気的に独立な複数の電極は、電気光学
素子の一辺に沿つて拡がり、前記平行光線は、こ
の電気光学素子の一辺に沿つた電気的に独立な複
数の電極の拡がりと少なくとも同様な拡がりを有
することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の電気光学空間変調器。 5 実質上独立して強度変調された複数の光スポ
ツトから成るライン像を形成する装置において、 反射面をもつ単一の電気光学素子と、電気的に
独立な電極で成る第1電極群と、電気的に相互接
続された電極で成る第2電極群とを具備し、前記
電極群はいずれも前記反射面に沿つて横方向に隔
置された状態で横方向に延びかつ電気的に相互接
続された電極は、それぞれ電気的に独立な電極の
間に互い違いに挟まれている電気光学変調器と、 前記電気光学素子の全幅を実質的に照射するの
に十分な幅の波面をもつ平行光線を、電気光学素
子を通してほぼ縦方向に伝搬させながら、前記反
射面により全内面反射させるように選択した入射
角で電気光学素子に入射させる手段と、 前記電気的に相互接続された電極に所定の基準
電位を与える手段と、 前記電気的に独立な電極の前記基準電位に対す
る電圧レベルを独立して決定し、この独立して決
定した電圧レベルに従つて平行光線の波面を空間
的に変調する手段と、 前記空間変調波面の同一位相成分をフーリエ変
換平面内に合焦させる手段と、 前記フーリエ変換平面内に配置され、前記空間
変調波面の同一位相成分を他の成分と分離する空
間フイルタ手段と、 前記空間変調波面の同一位相成分または他の成
分のいずれかを選択的に出力像形成面上に合焦さ
せ、前記平行光線の波面の空間変調を、対応して
変調された強度分布を有するライン像に変換する
像形成手段と、 から成るライン像形成装置。 6 前記平行光線は、レーザー光であることを特
徴とする特許請求の範囲第5項記載の装置。 7 前記平行光線は、前記電気光学素子の反射面
に形成された焦点に入射されることを特徴とする
特許請求の範囲第5項記載のライン像形成装置。 8 前記電気的に独立な複数の電極は、電気光学
素子の一辺に沿つて拡がり、前記平行光線は、こ
の電気光学素子の一辺に沿つた電気的に独立な複
数の電極の拡がりと少なくとも同様な拡がりを有
することを特徴とする特許請求の範囲第5項記載
のライン像形成装置。 9 前記空間フイルタ手段は、電気光学素子によ
り回折された光の零次成分を阻止する光絞りから
成ることを特徴とする特許請求の範囲第5項記載
のライン像形成装置。 10 前記空間フイルタ手段は、前記電気光学素
子により回折された光の高次成分を阻止する光絞
りから成ることを特徴とする特許請求の範囲第5
項記載の装置。 11 前記平行光線は、多数の点光源からの光で
構成され、前記空間フイルタ手段は多数の絞りか
ら構成されていることを特徴とする特許請求の範
囲第5項記載のライン像形成装置。 12 前記電気光学素子の前方に偏光子を設け、
後方に検光子を設けたことを特徴とする特許請求
の範囲第5項記載のライン像形成装置。
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