JPS6284290A

JPS6284290A - 流動層炉における加熱装置及び方法

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Publication number: JPS6284290A
Application number: JP18612286A
Authority: JP
Inventors: ロジャー　ダルトン; ジェームス　イー　ヘス
Original assignee: SAMIYUERU SUTORATSUPINGU SYST; SAMIYUERU SUTORATSUPINGU SYST Ltd
Current assignee: SAMIYUERU SUTORATSUPINGU SYST; SAMIYUERU SUTORATSUPINGU SYST Ltd
Priority date: 1985-08-07
Filing date: 1986-08-07
Publication date: 1987-04-17
Also published as: CA1238183A

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）杖発明は，製品の熱処理に於ける改良に関し、特に、外
部から加熱される流動層による製品の熱処理に於ける改
良に関する。

がＣ動層炉における斯かる改良加熱方式は　ｆｔＦ状（
ｓｔｒｉｐ）製品を炉に通すことにより行う２Ａ　Ｖ品
の］！１！続処理における使用に適し、更に，高温での
製品のパンチ処理、例えば、高速度切削鋼のパッチ処理
にも適している。この方式によれば赤外線ランプが　流
動層の粒子の境界層を直接的に加熱し、このエネルギが
、波動層の優れた伝熱特性により、流動層全体に速やか
に拡散される。即ち。

ランプより放出された赤外線が流動層の境界層を構成す
る粒子に照射され，次いで，流動層の動きにより流動層
全体に熱が拡散せしめられる。

この独特な方式により次の如き，数多くの利点が得られ
る。１１００℃乃至１３００℃の範囲の温度に於ける非
汚染性旋動層中での高速度鋼製品の熱処理，ランプへの
電気エネルギを変化させて粒子の露出境界層が吸収する
赤外線エネルギを直接的に変化させることによりなされ
る流動層に与える熱エネルギの優れた制御性、更には，
流動層を運転温度まで持って行く際の遅れを少なくする
始動特性の改良等。

（従来の技術）ＡＩ’Ｗされた雰囲気を伴うと否とを問わず流動層中で
の全屈の加熱処理はこれまで多くの用途向けに提案され
て来ており、流動層の歴史及び諸種の士支術が．　Ｃｏ
ｎｔｒｏｌｌｅｄ　Ａｔｍｏｓｐｈｅｒｅ　Ｆｌｕｉｄ
ｉｚｅｄ　Ｂｅｄｆａｒ　Ｈｅａｔ　Ｔｒｅａｔｍｅｎ
ｔ　ｏｆ　Ｍｅｔａｌｓ　（金属の熱処理の為の調節雰
囲気流動層）なる標題を付して、　１９７７年１月、刊
行物Ｈｅａｔ　Ｔｒｅａｔｍｅｎｔ　ｏｆ　Ｍｅｔａｌ
ｇ　（金属（７）　Ｑ処理）に発表されたＲ、　Ｍ、　
Ｒｅｙｎｏｌｄｓｏｎによる論文中に良く説明されてい
る。この論文中には、成る流動層炉が示されていて、そ
こでは、内部抵抗式加８要素が製品のバッチ処理の為の
流動層中に置かれている。上記論文は、流動層の内部及
び／又は上方で実施され得る諸種の燃焼プロセスに付い
ても言及している。尚、一般に、燃焼によって加熱され
た流動層は、運転温度が６００℃から８００°Ｃの間に
あり、高温の用途には不向きである。

旋動層に於いて、それも、如何なる製品に付いてであれ
その加熱処理に於いては、均一な加熱を行うことが重要
であると同時に、速やかに始動できる方式をとることも
大切である。

そこで、流動層中での燃焼を維持すべく適切なガス混合
気を与えつつもガスが層の流動化を補助する形になるよ
うに可燃性ガスの導入を図るべく、これ迄、ｆＩ多くの
研究が成されて来た。だが、調節された雰囲気を必要と
する場合、まず燃焼プロセスが一部の粒子を加熱するた
めに一部でのみ行なわれ１次いで、これらの粒子が燃焼
ガスから離れて流動層内に戻り２層中の残余粒子を加熱
すると共に処理中の製品を加熱する。斯くて、処理中の
製品は、燃焼を維持する上で必要な雰囲気から遮断され
ている。

（発明が解決しようとする問題点）流動層の加熱源に対して望まれることは、流動層の温度
を周囲温度から熱処理温度まで、好ましくは、１２００
°Ｃ近くまで速やかに上昇可能なことである。又、この
過熱源は、流動層が一旦その運転温度に達した後は、層
の均一的な加熱を行い得るべきである。然るにこれまで
の処、流動層の温度を運転レベルまで速やかに上昇させ
１次いで、その温度を製品が均一に加熱される如く保持
する点に関しては、幾つかの流動層で可能となっている
が、ガス焚層の場合、高い方の温度に付き問題が生じて
いる。

一方、１１００°Ｃ乃至１３００°Ｃのオーダの高温で
の熱処理、特に、高速度鋼の熱処理は、環境に対する危
険物質であり作業場所が危険な溶融塩浴に、通常、制約
されていた。そこで、高速度鋼の高温熱処理に流動層を
用いる試みが幾つか為されて来ている。流動層に付いて
の一つの提案は、導電性の流動層粒子を用い、その粒子
の電気抵抗を電気的に利用して流動層を加熱することで
ある。だが、この方法は、導電性の被処理物には不向き
である。

又、高温がｔ動層には、外部より電気的に加熱したレト
ルトを使用できる。電気抵抗式ヒータをレトルトの周り
に配置してその外壁を加熱し、持って、流動層粒子の加
熱を行うのである。しかしなから、斯かる流動層は始動
時間が長く、又、そうした高温では、電気ヒータの期待
寿命が短い。また　金属製のレトルトを用いた場合、ブ
レークダカンに伴う問題が生じる。

（問題点を解決するための手段）ハツチ又はｉ１！続方式での製品の加熱処理の為に、流
動化されたＩＩＩＦ＃火性粒子の層の均−且つ速やかな
加熱を行うことは、上記流動層の境界層を形成する粒子
に臨ませた高強度赤外線ランプを用い、放出輻射赤外線
エネルギを上記境界層粒子で吸収させることにより、可
能なことが分った。

そこで、前記問題点を解決すべく、本発明は。

適切なガスにより流動化された適切な耐火性粒子による
正常な流動層を備えて成り、該流動層の表面がそれを加
熱する為の高強度赤外線にさらされている装置を提供す
る。赤外線源は旋動層の上方に配置されて上記粒子に吸
収させる赤外線エネルギを放出する。吸収されたエネル
ギは、流動層の伝熱特性に従って、該層仝体に亘り速や
かに放散される。斯うした組合せによれば、赤外線源へ
の人力エネルギを制御することにより変化させることが
できる輻射レベルの増大に対して極めて応答性良く加熱
された流動層を得ることができる。被処理物は流動層を
通過させ、好ましくは、輻射赤外線と直接的に接触させ
ること無く通過させる。

この点、燃焼加熱式の旋動層と異なり１粒子は先ず輻射
若しくは伝導により加熱される。

（実施例）第１図中、（２）はチャンネル形流動層炉の全体を示し
、（４）は流動層を、（６）はその耐火性粒子等を流動
せしめるガス流を夫々包括的に示している。流動ガスは
、処理中の製品及び得ようとする処理後の表面状態に応
じて選定される。このガスは、幾通りかある既知の方法
のいずれかにより、耐火断熱材（１０）の基部に近接さ
せて導入される。

断熱材の外部は、炉体支持用の適宜な手段を含む外部鋼
殻及び形鋼のケース（８）となっている、この場合、流
動ガス入口（１２）が耐火断熱材（ｌＯ）の基部の上面
に設けられている。

波動層の加熱は、第１図及び第２図に包括的に（１４）
で示す赤外線源により行われる。この線源は、流動層（
４）の表面の直上に通常位置する高強度赤外線ランプ（
１６）を備える。ランプの端部（１８）は、ランプ両端
を冷却する為の冷却コンジット（２２）中に位置してい
る。ランプ端部を低温に保ってランプの寿命を増す為に
、コンジット（２２）を介して冷却ガスを循環させてい
る。ランプ（１８）上方で冷却コンタン）　（２２）間
には頂部パネル（２４）を設け、その下面を赤外線ラン
プに臨ませている。該下面は、好ましく　＋２、ランプ
から輻射されパネルに当たった赤外線を、再び下方、流
動層（４）の表面へと向けさせる形状及び材料とする。

上記チャンネル形流動層炉（２）は、流動層への製品の
導入及び取出しの為の入口及び出口を有しており、第２
図ではこれらを夫々（３０）　、（３２）により包括的
に示す。

場合によっては、導入した製品が炉（２）の全艮を通過
する間、これを埋没状態に保って輻射赤外線と直接に接
触させない様にする為埋没式のローラその他の装置を必
要とすることが有る。

流動層を通過させる製品は、線材、帯材（ｓｔｒｉｐ）
等であっても良く、実際の製品によっては炉を介して押
し引きすることもできる。製品は、入口（３０）から出
口（３２）までの移動の間、加熱され、流動層は略々所
定の温度に保たれる。流動層は粒子から成り、処理中の
製品を、赤外線源（１４）の輻射赤外線から遮蔽するべ
く機能する。他種製品の処理も可能であり、帯材や線材
への適用に限られない。

流動層の粒子は、好ましくは、アルミニウム又はジルコ
ニウムの酸化物粒子とするが、その他の！耐火性粒子も
適用できる。流動層粒子は、如何なる流動層への適用に
際しても要求される通常的特性に加え、接触した赤外線
を吸収する性向を有し、よって、この赤外線に対し強い
反射性を示さないものとする。

流動層炉々長に沿って配置された高強度赤外線ランプ（
１Ｇ）相互間の間隔は、炉の最大温度容量に応じて変え
ることができるが２この点、ランプを流動層に対して横
架し層長に沿ったその相互間の間隔を約１乃至４インチ
とした場合、流動層を周囲温度から運転温度まで急速に
加熱可能なことが分った。

上記構成によれば、赤外線ランプで流動層の表面が直接
的に加熱され、吸収された赤外線エネルギが流動層の伝
熱特性に基づき流動層全体に速やかに伝達される。また
、赤外線ランプ、特に、電力式高強度短波長赤外線ラン
プは、頂部加熱方式であれば、最高的１２００℃の範囲
の運転温度まで急速に流動層の温度を上昇可撤なことが
見出されており、その後は、流動層を所望の温度に維持
するに足るレベルまでランプへの供給電力を減らすこと
ができる。つまり、ヵ゛（外線ランプへの電力供給に対
応した同ランプの応答特性をこのように制御して流動層
を一旦四転温度まで速やかに只温した後、この温度に保
持して流動層全体に亘り均一な熱分布を得る。各ランプ
は、−斉に、成るいはグループ分けして制御し、流動層
の検出温度に応じて電気的入力を変化させても良い。斯
かる方式によれば、運転特性が改善され、そのコストが
低減される。

：ｊＳ１図に於いて、破線で示す如く、赤外線源は、こ
れを動かしてサービス位置へ持って行き。

波動層の上面を露呈させると共に赤外線ランプを露呈さ
せて点検及び保守に供することができる。

又、好ましくは、冷却コンジット（２２）の一方を外部
鋼漣・形鋼ケース（８）にヒンジを介して正着し、線源
（１４）を適宜な位置で保守可能とする。

尚、第１図中、（２０）は石英製のリミット部材で、流
動層表面部の層粒子及び高温ガス流（６）からランプ（
１Ｂ）を隔離する役目を有している。このリミ・ント部
材は、すべての場合に必要とされる訳ではないが、高温
での用途に於いては、ランプの寿命を長くすることがで
きる。

以上、連続処理に関して装置及び方法の説明を行って来
たが１本発明に係る製品の加熱処理はバッチ方式により
行うことも可能である。

第３図及び第４図中、（５２）は変更例に係るバッチ炉
の全体を示し、該炉（５２）は耐火断熱材（５Ｇ）を囲
　する鋼製炉殻（５４）を有しており、断熱材（５６）
は更に、高強度赤外線ランプ（６０）が内部に支持され
た内室（５８）を囲　している、上記ランプ（６０）は
、流動自在な粒子の暦（９４）を内抱する石英製レトル
）　（８２）の周りに相互に離間して配設されている。

粒子は、好ましくは、耐火品位アルミニウム又はジルコ
ニウムの酸化物粒子等とするが、これに限ることなく、
１１００℃乃至１３００℃の範囲の温度まで加熱されて
も被処理物に対し不活性の侭であり、且つ赤外線を吸収
するものであれば、如何なる流動自在な粒子であっても
良い、こうした粒子を流動化させる為に、矢印（６Ｂ）
で示す窒素ガスその他の適宜な不活性ガスの流れが、レ
トル）　（１１１２）の下部に隣接した入口（７７）を
介して導入される。

流動層（１４）中への窒素ガスの流量は、他の流動操作
の例に洩れず、流動層の特性に応じて決まる。

層の流動化に供されるガスは、好ましくは、循環させて
用いる。尚、エンドプレー）　（７０）により内室（５
８）の外部に隔離されたランプ端部（＋３８）＋７）冷
却用としてもガス流が使用されている。ランプ端部（６
８）は、ランプ（６０）の期待寿命を増す上で冷却する
必要が有る。

高強度赤外線ランプ（８０）は、同ランプへの電力供給
に応じた諸種レベルの赤外線輻射を行える。

ランプからの輻射赤外線は、流動層（９４）を保持する
為に用いられたレトル）　（１３２）の石英壁（７３）
を通して伝搬される０石英は、赤外線に対し実質的に透
明であり、従って、赤外線はそれを通過して進み、レト
ル）　（１３２）の壁（７３）に隣接した流動層（６４
）の境界層に当る。そこで１粒子により吸収された線１
８分の熱エネルギが生じ、これが流動層の動き番こより
該層全体に亘って速やかに放散され、均一な温度分布が
得られる。レトルｈ　（＋３２）の石英壁（７３）は、
８膨張に関して比較的安定しており、この為、斯かる高
温での用途に適している。

尚１本願に於ける流動層の流動化は、様々な方法による
ことができ、窒素ガスその他の不活性流動ガスを流動層
中に送り込むいずれかの特定の方法に限られるものでは
ない。例えば、レトルト（６２）の基部（７５）に分配
板又は多孔質のタイルを設け、これを介して層（ｅ４）
に流動ガスを送り込んでも良く、成るいは、レトルト（
Ｅ１２）の基部（７５）上の層（６４）中に配設した分
配管を通してガスを導入しても良い。

：５３．４図に示した炉（５２）は、高速度鋼等のパン
チ処理に適しており、＆ｌ！品は、流動層中に導入され
た後、所定の処理時間、そこに保持される。尚、赤外線
ランプ（６０）の効率を上げる為に、反射板を併設し、
ランプからの輻射赤外線をレトルト（６２）の石英壁（
７３）の方へ照らし返すようにすることもできる。斯う
した反射板は幾分なりとも冷却することが望ましい場合
もあり、必要であれば、空気を流して反射板の背部から
熱を奪うこともできる。ところで、ランプの石英壁は流
動層（６４）と直接的にガス接触してはおらず、従って
、ランプの冷却が必要な場合、空気を用いることができ
る。

又、高強度赤外線ランプは、約１乃至４インチ置きにレ
トルト（８２）の周りに配としても良く、この場合、特
に入力エネルギの変化に対する応答性がよい、この方式
によれば、ランプから輻射され流動層（６４）の境界層
で吸収される赤外線のエネルギを正確に調節して、流動
層の最終温度を所望の温度範囲に限定することができる
０例えば、流動層の温度検出を行ない、検出温度に応じ
てランプへの電力入力を自動的に制御することが可能で
ある。しかも、ランプの輻射赤外線がレトルト側壁（７
３）に隣接する流動層の粒子に直接的に伝搬されると共
にそれより生じる熱エネルギが流動層全体に亘り速やか
に伝達されるため、赤外線ランプは、流動層（６４）の
粒子の温度を速やかに上げることができる。この層温度
は被処理物の均一な加熱のために均一であり、従って、
木炉では、既存の塩浴技術に比較し、短い時間で運転温
度まで昇温可能である。又、流動層の温度を速やかに運
転レベルまで昇温可能であることから、流動層炉をその
非使用時に停止ヒして運転コストを低減することができ
る。尚、ランプへの電力を変化させることにより正確な
制御を行えるということは、被処理物が溶融温度に近付
いて温度がオーバシュートすると被処理物が駄目になっ
てしまうことから、重要な事柄である。

又１石英レトルトは、赤外線に対し木質的に透明である
ことに加え、斯うした高温において安定していて、熱膨
張の問題が生じない。

更に、石英レトルトは、流動層の運転温度になる流動粒
子及び流動ガスからランプを隔離しており、しかも、ラ
ンプの配列、延いては石英レトルトの構成上、流動層の
頂面がクリヤであることがら、流動ガスの循環を簡易に
行える。

次いで、第５図疎び第６図は更なる変更例に係る炉（８
２）を示したもので、：ｆｒＪ３図及び第４図の構成に
較べ１石英レトルト（９２）が略々方形の断面を有し赤
外線ランプ（９０）が垂直では無く水平に設置されてい
る点が、異なっている。木炉は、包括的に（６４）で示
される鋼製の外部容器を備え、包括的に（６６）で示す
断熱材で大気への熱損失を阻止成るいは少なくとも低減
せしめている。赤外線う／ブは、（８８）として示され
た内室状構造物中に首かれてこの室をよぎり、ランプの
両端部を室の外方に位置せしめる形で延在している。つ
まり、ランプ端部は包括的に（＋０２）で示すコーナボ
スト（ｃｏｒｎｅｒ　ｅｎｃｌｏｓｕｒｅ）中に置かれ
ている。このコーナボストは、ランプ端部の冷却を可能
にする為のもので、コンジッｈ　（１０８）を介し冷却
空気流が導入されている。又、コーナボスト（１０２）
では、包括的に（＋０４）で示す電気的ファスナを介し
てランプの接続を行い、その電気的結線を簡易化するこ
とも可能となっている。

石英レトルト（９２）の基部には、流動ガス入口（９６
）が設けられていて、これにより、包括的に（９４）で
示す適宜な粒子から成る流動層中へ窒素その他の適宜な
不活性ガスを送り込むことができる。上記入口（９６）
は分配チューブ（９８）にガスを購入するクロスフィー
ドチューブ（１００）に接続され１分配チューブ（９日
）は、上面に流動ガスが通る多くの通孔を有している。

第５．６図の石英レトルトの形状は水平に配設された赤
外線ランプ（９０）による加熱により適した側面形状を
有するとともに、ランプ端部の冷却及びランプの電源へ
の電気的接続を簡単化するのに適している。

尚、以上の流動層炉を用いれば、８００　’０を越える
温度での製品加熱を可能としつつも、６００℃以下の低
温用途に用い得る構成が得られる。高温処理が可能なこ
とは、　１１００℃乃至１３００℃の温度範囲で製品の
バッチ処理が行われることから明らかである。しかも、
流動層を運転温度まで加熱する為の所定時間を短縮でき
１例えば、溶融塩のパスを約８００℃の温度に昇温する
上で必要な時間の半分に満たない設定時間で済む。

以上、本発明の好適実施例を詳細に説明して来たが、当
業者であれば、本発明の木質若しくはこれに付随する請
求の範囲を越えることなく様々な変更を行い得ることが
知られよう。

（発明の効果）以上の説明から明らかな如く、未発明に係るシステムに
よれば、エネルギが輻射により流動層の粒子へ伝達され
るに伴ない、流動ガスが初期の加熱段階から分離され、
その結果、効果的且つ速やかな熱伝達が行われる。流動
層の温度特性は、吸収した輻射を層の残部へ急速に放散
せしめ、又、高強度赤外線ランプは、最大出力で作動し
て流動層の温度を速やかに上昇させることができる一方
、低出力設定値で作動して層の均一加熱を行うことがで
きる。赤外線により流動層の境界層を加熱し、これを流
動層の伝達特性と協働させる形で行゛うことで、流動層
の長さ、幅及び深さ方向の全体に亘り、均−且つ速やか
に熱伝達が行われる。

ランプからの輻射赤外線エネルギは該ランプへの入力電
力を調整することにより制御でき、又、連続的なプロセ
スにおいては、好ましくは、ランプを流動層の長さ方向
に沿って配置しておき、初めから層表面に臨ませておく
。斯うした炉は８００℃を越える温度で製品の加熱処理
若しくは加熱を行う場合に、特に適している。

上記システムは、高強度赤外線ランプを用いることが好
ましく、斯かるランプによれば極めて高い初期入力エネ
ルギを流動層に与えて運転温度を達成することが可能で
あり、その後は、所望の流動層温度を保持するに足る輻
射レベルまで出力を下げることになる。又、このシステ
ムによれば、始動時間を短縮した上に流動層の温度制御
を正確に行うことができる。

更に、高温での製品の処理、例えば、１１００℃乃至１
３００℃の範囲の温度でのバッチ方式による高速度鋼の
処理に於いては、石英の壁を有するレトルトを用い、そ
の壁の外側に高強度赤外線ランプを配設することが好ま
しく、レトルトの石英壁を流動層粒子の境界層に広く露
呈させることで赤外線を直接吸収できる。

尚、本発明に係る装置は、線材、帯材及び特殊形状の長
寸帯材等の金属製品を、赤外線により加熱された流動層
に通して、連続方式により加熱処理を行うのに適してい
る。

【図面の簡単な説明】

第１図はストリップ製品の連続処理に適した流動層炉の
断面図、第２図は第１図のＡ−Ａ線断面図、第３図は石
英壁を有するレトルトを用いた加熱処理装置の平面図、
第４図は第３図の装置の垂直断面図、第５図は変更例に
係る加熱処理装置の平面図、そして第６図は第５図の６
−６線断面図である。 −〆−コ

Claims

【特許請求の範囲】

（１）製品が加熱されるべき温度に適した粒子の流動層
（４、５４、９４）と、該流動層の調節加熱を行う為の
手段（１０、６６、９０）とを備える、約６００℃を越
える温度まで製品を加熱する為の流動層炉における加熱
装置（２、５２、８２）に於いて、前記流動層を加熱す
る為の手段は電源に接続され高強度赤外線を輻射する複
数の赤外線ランプ（１０、６６、９０）を備え、該赤外
線ランプ（１０、６６、９０）は、当該ランプにより生
じた輻射エネルギが前記流動層（４、５４、９４）の露
出粒子により吸収されこの吸収された輻射エネルギが流
動層（４、５４、９４）の伝熱特性に基づき該層全体に
亘り速やかに且つ均一に行き渡るように配置されており
、上記赤外線ランプ（１０、６６、９０）は必要に応じ
て輻射赤外線エネルギを変化させる制御がなされること
を特徴とする流動層炉における加熱装置。
（２）前記流動層（４、５４、９４）は線材、帯材その
他の長尺物等の金属製品の連続加熱処理を、同製品を当
該流動層（４、５４、９４）に通すことにより行え、上
記流動層はその一端に斯かる製品を導入して当該層中に
埋没せしめる為の入口（３０）を備えると共にその製品
をそこから取り出す為の出口（３２）を当該層の対向端
に備えており、前記赤外線ランプ（６６）は上記流動層
の上方に設置され、該層の表面はその輻射赤外線にさら
されていることを特徴とする前記特許請求の範囲第１項
に記載の装置。
（３）前記ランプ（６６）を前記流動層に掛け渡して設
けると共に相互間を略々等間隔に離間せしめたことを特
徴とする前記特許請求の範囲第１項乃至第２項に記載の
装置。
（４）前記ランプ（１０）を前記流動層（４）の略々全
長に亘り１乃至４インチの範囲で離間して配置し、以っ
て、溶融塩浴で必要とされる時間の約半分未満の時間で
上記流動層を周囲温度から運転温度まで上げることがで
きる様にしたことを特徴とする前記特許請求の範囲第１
項乃至第３項のいずれか一つに記載の装置。
（５）前記流動層の温度を検出すると共にこの検出温度
に応じて前記ランプへの入力電力を調整する様にしたこ
とを更に特徴とする前記特許請求の範囲第１項乃至第４
項のいずれか一つに記載の装置。
（６）前記流動層（５４、９４）を石英壁（７３）を有
するレトルト（６２、９２）中に保持すると共に前記赤
外線ランプ（６０、９０）を上記レトルト（６２、９２
）の周り且つ上記石英壁（７３）の外側に配置して、該
ランプ（６０、９０）により輻射された赤外線が上記石
英壁を通りその背後に露出した流動層粒子に当たるよう
にしたことを特徴とする前記特許請求の範囲第１項に記
載の装置。
（７）前記流動層は耐火品位アルミニウム又はジルコニ
ウムの酸化物粒子（６４、９４）から成ることを特徴と
する前記特許請求の範囲第１項乃至第６項のいずれか一
つに記載の装置。
（８）前記流動層を流動化させる為に用いるガスの導入
を調節する為の要素（１２、７５、９８）を備え、該要
素を拡散プレート、多孔質タイル又は分配チューブとし
たことを特徴とする前記特許請求の範囲第１項乃至第７
項のいずれか一つに記載の装置。
（９）前記流動層を石英レトルト（６２、９２）中に保
持し、前記複数のランプ（６０、９０）から生じる高強
度短波長赤外線を上記石英レトルトの壁（７３）に隣接
する露出流動層粒子（６４、９４）に吸収させることを
特徴とする前記特許請求の範囲第１項乃至第８項のいず
れか一つ記載の装置。
（１０）前記流動層は１１００℃乃至１３００℃の範囲
で製品の加熱処理を行うべく運転されることを特徴とす
る前記特許請求の範囲第１項乃至第９項のいずれか一つ
に記載の装置。
（１１）流動層炉において高速度鋼等の材料を８００乃
至１３００℃の範囲の温度で加熱処理する方法に於いて
、流動層の少なくとも境界層を高強度赤外線輻射にさら
すと共に、流動層の温度を略々上記熱処理温度に維持す
る必要に応じて輻射強度を調節しつつ、耐火性粒子から
成る上記流動層を加熱することと、上記被加熱処理材料
を上記赤外線輻射と直接に接触させることなく上記流動
層中に置き、この被処理材料を該材料自身及び上記加熱
処理により求められる材料の性状により決まる時間だけ
上記流動層中に保持することと、その後上記被処理材料
を取り出すことから成る流動層炉における加熱方法。
（１２）前記材料は約１１００℃乃至１３００℃の範囲
の温度で加熱される前記特許請求の範囲第１１項に記載
の方法。