JPS6283307A - 窒化ケイ素粉末の製造装置 - Google Patents
窒化ケイ素粉末の製造装置Info
- Publication number
- JPS6283307A JPS6283307A JP21913185A JP21913185A JPS6283307A JP S6283307 A JPS6283307 A JP S6283307A JP 21913185 A JP21913185 A JP 21913185A JP 21913185 A JP21913185 A JP 21913185A JP S6283307 A JPS6283307 A JP S6283307A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- silicon nitride
- synthesis
- pressure chamber
- nitride powder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
−−の１
この発明は、窒化ケイ素粉末を合成するための窒化ケイ
素粉末の製造装置に関する。
素粉末の製造装置に関する。
支股仄１１
従来提案されている炉構造には、合成室を構成する炉壁
と炉外壁（缶体鉄皮）とを有する二重構造のものがある
。合成室炉壁と缶体鉄皮との間の窒素ガス圧力は、合成
室内圧力より高くなっており、その圧力を維持するため
にガスシールやベローズを介して缶体鉄皮からのガスリ
ーク及び合成室炉壁を通してのガスリークがない状態に
しなければならない。
と炉外壁（缶体鉄皮）とを有する二重構造のものがある
。合成室炉壁と缶体鉄皮との間の窒素ガス圧力は、合成
室内圧力より高くなっており、その圧力を維持するため
にガスシールやベローズを介して缶体鉄皮からのガスリ
ーク及び合成室炉壁を通してのガスリークがない状態に
しなければならない。
とりわけ、合成室炉壁はカーボンで構成されているが、
目地部からのガスリークが起りやすくガス圧が不足にな
るので、目地を極力少なくするために合成室をカーボン
の一体物で作成するか、あるいは大型ブロックから切り
出したリング状のカーボン材を積み重ねるかしなければ
ならない。
目地部からのガスリークが起りやすくガス圧が不足にな
るので、目地を極力少なくするために合成室をカーボン
の一体物で作成するか、あるいは大型ブロックから切り
出したリング状のカーボン材を積み重ねるかしなければ
ならない。
が ゛しよ とする口 １
ところが一体物のカーボンブロックの製造できる大きさ
には限界があるため、従来の炉構造では合成室の大きさ
に限界があった。その大きさは合成室炉壁外径で約１ｍ
である。
には限界があるため、従来の炉構造では合成室の大きさ
に限界があった。その大きさは合成室炉壁外径で約１ｍ
である。
また大型ブロックから切り出した部材を用いることは非
常に高価である。
常に高価である。
したがって流動層方式の合成室をより大型化するために
は、炉壁と缶体鉄皮の二重構造ではなく、圧力室を別個
に設は圧力室を構成する部材は密着してガスリークのな
い構造にする必要がある。
は、炉壁と缶体鉄皮の二重構造ではなく、圧力室を別個
に設は圧力室を構成する部材は密着してガスリークのな
い構造にする必要がある。
１１へ１Ｌ
この発明は、安価に合成室の大型化が図れ、ガスシール
やベローズなどの複雑な構造が不要である窒化ケイ素粉
末の製造装置を提供することを目的とする。
やベローズなどの複雑な構造が不要である窒化ケイ素粉
末の製造装置を提供することを目的とする。
（７）１Ｅ
この目的を達成するためにこの発明はガス分散板を有す
る流動層合成式のシリカ還元法窒化ケイ素粉末の製造装
置において、窒化ケイ素粉末を合成する合成室に対して
ガス分散板を介してこの合成室にガスを吹き込む圧力室
が別に設けてあり、吹込みガス加熱用及び合成室加熱用
の熱源を有する窒化ケイ素粉末の製造装置を要旨として
いる。
る流動層合成式のシリカ還元法窒化ケイ素粉末の製造装
置において、窒化ケイ素粉末を合成する合成室に対して
ガス分散板を介してこの合成室にガスを吹き込む圧力室
が別に設けてあり、吹込みガス加熱用及び合成室加熱用
の熱源を有する窒化ケイ素粉末の製造装置を要旨として
いる。
゛ るた の
窒化ケイ素粉末６を合成する合成室１に対して、圧力室
４からガス分散板３を介してたとえばＮ２ガスを吹込め
るように、圧力室４が別に設けである。吹込みガス加熱
用ヒータ１３は圧力室４内に設置する。合成室加熱用ヒ
ータ５は合成室１内にある。この下端は粉体６中に埋設
してもよい。
４からガス分散板３を介してたとえばＮ２ガスを吹込め
るように、圧力室４が別に設けである。吹込みガス加熱
用ヒータ１３は圧力室４内に設置する。合成室加熱用ヒ
ータ５は合成室１内にある。この下端は粉体６中に埋設
してもよい。
１」−
圧力室４から高温のガスを大型の合成室１内の高温の粉
体６に高圧で吹込み、粉体６をすみやかに循環して反応
させることができる。
体６に高圧で吹込み、粉体６をすみやかに循環して反応
させることができる。
合成室１は小ブロックを積重ねる構造でよい。
支ＩＬ
第１図と第２図はこの発明の第１の実施例を示している
。窒化ケイ素粉末の製造装置の合成室１は、カーボン製
の大型のライニング２により囲まれている。このライニ
ング２は円筒状で小ブロックを積み重ねた構造である。
。窒化ケイ素粉末の製造装置の合成室１は、カーボン製
の大型のライニング２により囲まれている。このライニ
ング２は円筒状で小ブロックを積み重ねた構造である。
この中には、合成室加熱用ヒータ５が吊り下げてあり、
ヒータ５は図示しない電源につながっている。
ヒータ５は図示しない電源につながっている。
合成室１の下部にはガス分散板３が設けてあり、さらに
このガス分散板３を介して圧力室４が合成室１とは別に
設けである。ガス分散板３は多数の貫通状の穴を有して
いる。
このガス分散板３を介して圧力室４が合成室１とは別に
設けである。ガス分散板３は多数の貫通状の穴を有して
いる。
圧力室４は逆円すい形の圧力部７により形成されている
。この圧力部７は一体物により作られていてもよいし、
第１図と第２図に示すように分割側壁８で構成してもよ
い。この分割側壁８は緻密質セラミックス、すなわちカ
ーボン、Ｓ ｉ Ｃ−Ｓ ｉ ３Ｎ４ Ｎサイアロンな
どでできている。
。この圧力部７は一体物により作られていてもよいし、
第１図と第２図に示すように分割側壁８で構成してもよ
い。この分割側壁８は緻密質セラミックス、すなわちカ
ーボン、Ｓ ｉ Ｃ−Ｓ ｉ ３Ｎ４ Ｎサイアロンな
どでできている。
実施例では、圧力部７はたとえば４分割された分割側壁
８で構成され、一部を代表して示した第２図のように、
これらは互いに密接部９で密接している。隣接する密接
部９の接触端面は精緻仕上げられ、その外側は凸部１Ｏ
となっている。
８で構成され、一部を代表して示した第２図のように、
これらは互いに密接部９で密接している。隣接する密接
部９の接触端面は精緻仕上げられ、その外側は凸部１Ｏ
となっている。
この２つの密接した凸部１０と、製造装置の外側の円筒
形の缶体鉄皮１１の内面との間には、押え部材１２が設
けである。
形の缶体鉄皮１１の内面との間には、押え部材１２が設
けである。
押え部材１２は、軸部１２ａの両端にバネ部１２ｂと凹
型押え１２ｃを設けた構造である。この凹型押え１２ｃ
は耐熱セラミックスでできていて、外側から押し付けて
分割側壁８間の目地が開くのを防止している。密接部９
の接触端面には必要に応じてガスシール用のペーストを
塗布する。
型押え１２ｃを設けた構造である。この凹型押え１２ｃ
は耐熱セラミックスでできていて、外側から押し付けて
分割側壁８間の目地が開くのを防止している。密接部９
の接触端面には必要に応じてガスシール用のペーストを
塗布する。
なお、圧力部７の各分割側壁８は、その上端部がガス分
散板３にすり合わせあるいはかみこみなどで密接固定し
である。また、各分割側壁８は、その下端部がすり合わ
せあるいはかみこみなどで圧力部７の底部材１４に固定
しである。それぞれの密接部には必要に応じてガラスシ
ール用のペーストを塗布する。
散板３にすり合わせあるいはかみこみなどで密接固定し
である。また、各分割側壁８は、その下端部がすり合わ
せあるいはかみこみなどで圧力部７の底部材１４に固定
しである。それぞれの密接部には必要に応じてガラスシ
ール用のペーストを塗布する。
圧力室４内には、圧力室４内のガスを加熱するためのヒ
ータ１３が設けである。このヒータ１３は、表面積を大
きくしてガスを加熱しやすくするためにフィン１５を有
している。
ータ１３が設けである。このヒータ１３は、表面積を大
きくしてガスを加熱しやすくするためにフィン１５を有
している。
ヒータ１３の下端は接続部材１６を介して缶体鉄皮１１
の外に導出しており、電源１７につながれている。
の外に導出しており、電源１７につながれている。
なお、ヒータ１３の形式としては、カーボン抵抗加熱、
クリブトル抵抗加熱のほかに、圧力室４の外部に設置し
たコイルに高周波電流を通して、圧力室４の内部のカー
ボン材を誘導加熱する、いわゆる高周波誘導加熱方式０
式％ また、缶体鉄皮１１と、ライニング２および圧力部７と
の間には断熱材２０が充填されている。
クリブトル抵抗加熱のほかに、圧力室４の外部に設置し
たコイルに高周波電流を通して、圧力室４の内部のカー
ボン材を誘導加熱する、いわゆる高周波誘導加熱方式０
式％ また、缶体鉄皮１１と、ライニング２および圧力部７と
の間には断熱材２０が充填されている。
また、接続部材１６と底部材１．４ａを介してＮ２ガス
を合成室４内に吹込めるようになっている。
を合成室４内に吹込めるようになっている。
使用に際しては、ヒータ５により合成室１内の原料の粉
末６をたとえば１４５０℃に加熱する。原料の粉末６と
してはシリカ・カーボン・窒化ケイ素の造粒体が採用で
きる。
末６をたとえば１４５０℃に加熱する。原料の粉末６と
してはシリカ・カーボン・窒化ケイ素の造粒体が採用で
きる。
一方ヒータ１３により圧力室４内をたとえば１４５０℃
に加熱する。
に加熱する。
このようにすることで、高温高圧のＮ２ガスをガス分散
板３を通して合成室１内に吹込める。したがって、合成
室１内の原料の粉末６を循環流動させながら熱効率よく
窒化反応させて窒化ケイ素を製造できる。
板３を通して合成室１内に吹込める。したがって、合成
室１内の原料の粉末６を循環流動させながら熱効率よく
窒化反応させて窒化ケイ素を製造できる。
次に、第３図により第２実施例を説明する。
この実施例では、合成室１０１側のヒータ１０５は合成
室１０１の天井１５０から吊下げてあり、保１管１６０
により保護されている。このヒータ１０５は電源１７０
につながれている。ヒータ１０５は板状あるいは丸棒状
のものを複数本吊下げてもよい。
室１０１の天井１５０から吊下げてあり、保１管１６０
により保護されている。このヒータ１０５は電源１７０
につながれている。ヒータ１０５は板状あるいは丸棒状
のものを複数本吊下げてもよい。
ヒータ１０５を合成室１０１の内部に設置することで、
第１実施例と同様に合成室外にヒータを設置するより熱
効率が高くなる。ヒータ１０５を合成室１０１の天井か
ら吊り下げることで、ヒータ熱膨張を逃がす。ヒータ１
０５を粉体中に埋没させる場合にはヒータ１０５の下端
を粉体１０６の中に埋没させることで、粉体１０６への
熱伝達が速かになり反応が促進される。
第１実施例と同様に合成室外にヒータを設置するより熱
効率が高くなる。ヒータ１０５を合成室１０１の天井か
ら吊り下げることで、ヒータ熱膨張を逃がす。ヒータ１
０５を粉体中に埋没させる場合にはヒータ１０５の下端
を粉体１０６の中に埋没させることで、粉体１０６への
熱伝達が速かになり反応が促進される。
また流動層底面積が大きくなるほど流動状態が不均一に
なりやすいが、粉体中に仕切り板や棒状突起物があると
より均一な流動状態が得られる。
なりやすいが、粉体中に仕切り板や棒状突起物があると
より均一な流動状態が得られる。
合成室１０１を形成する容器１８０は、排気口１８１を
有している。
有している。
合成室１０１の下部にはガス分散板１０３を介して別に
圧力室１０４があり、この中にはヒータ１１３がある。
圧力室１０４があり、この中にはヒータ１１３がある。
次に、第４図により第３実施例を説明する。
この例では、合成室２０１内に２本のヒータ２０５ａ
、２０５ｂが設けてあり、それらの下端は粉体２０６内
にある。
、２０５ｂが設けてあり、それらの下端は粉体２０６内
にある。
一方、ロート状の圧力室２０４は、ガス分散板２０３を
介して合成室２０１の下部に複数分割して設けられてい
る。それぞれの圧力室２０４にはヒ〜り２１３がある。
介して合成室２０１の下部に複数分割して設けられてい
る。それぞれの圧力室２０４にはヒ〜り２１３がある。
次に、第５図により第４実施例を説明する。
この例では、電源３０５ａに接続されたヒータ３０５の
周囲に小分割した合成室３０１を複数段けである。各合
成室３０１の下部には、ガス分散板３０３を介して圧力
室３０４が設けである。各圧力室３０４内にもヒータ３
１３が設けである。
周囲に小分割した合成室３０１を複数段けである。各合
成室３０１の下部には、ガス分散板３０３を介して圧力
室３０４が設けである。各圧力室３０４内にもヒータ３
１３が設けである。
ところで、この発明は、上述した各実施例に限定される
ものではない。
ものではない。
立ｊし医勿」Ｌ
圧力室を合成室とは別に設けるので、十分な圧力ガスを
合成室に吹き込める。従来のように高圧のガスを二重構
造体で保持する必要がないので、合成室を大型化でき、
しかも合成室をカーボンの小ブロックを積み重ねるだけ
の構造にできるので安価である。また、缶体鉄皮でのガ
スシールの必要がなく、ベローズなどの複雑な構造も必
要でない。しかも合成室と圧力室にそれぞれヒータを設
ければ合成時に熱効率よく粉体を反応できる。
合成室に吹き込める。従来のように高圧のガスを二重構
造体で保持する必要がないので、合成室を大型化でき、
しかも合成室をカーボンの小ブロックを積み重ねるだけ
の構造にできるので安価である。また、缶体鉄皮でのガ
スシールの必要がなく、ベローズなどの複雑な構造も必
要でない。しかも合成室と圧力室にそれぞれヒータを設
ければ合成時に熱効率よく粉体を反応できる。
第１図は、この発明の第１の実施例を示す断面図、第２
図は圧力室とその周辺構造の一部を示す第１図のＩＩ−
ＩＩ線における断面図、第３図〜第５図はこの発明の第
２〜第４実施例を示す断面図である。 １、、、、、合成室 ３、、、、、ガス分散室 ４、、、、、圧力室 ５．１３．、ヒータ ６、、、、、粉体 ８、、、、、分割側壁 １２、、、、押さえ部材 第１図 ｒ 第２図 第３図 第４図 と１６
図は圧力室とその周辺構造の一部を示す第１図のＩＩ−
ＩＩ線における断面図、第３図〜第５図はこの発明の第
２〜第４実施例を示す断面図である。 １、、、、、合成室 ３、、、、、ガス分散室 ４、、、、、圧力室 ５．１３．、ヒータ ６、、、、、粉体 ８、、、、、分割側壁 １２、、、、押さえ部材 第１図 ｒ 第２図 第３図 第４図 と１６
Claims (4)
- （１）ガス分散板を有する流動層合成式の シリカ還元法窒化ケイ素粉末の製造装置において、窒化
ケイ素粉末を合成する合成室に対してガス分散板を介し
てこの合成室にガスを吹き込む圧力室が別に設けてあり
、吹込みガス加熱用及び合成室加熱用の熱源を有する窒
化ケイ素粉末の製造装置。 - （２）前記吹込みガス加熱用熱源は圧力室 内に設置され、合成室加熱用熱源は合成室内にあり、こ
の下端は粉体中に埋没させてもよいし、させなくてもよ
い特許請求の範囲第１項記載の窒化ケイ素粉末の製造装
置。 - （３）前記圧力室は、分割側壁を互いに密 接して形成し、その密接部を押さえ部材で外方より支持
する特許請求の範囲第１項記載の窒化ケイ素粉末の製造
装置。 - （４）前記圧力室の側壁の上下端は、ガス 分散板と圧力室の底部材に密接されている特許請求の範
囲第３項記載の窒化ケイ素粉 末の製造装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21913185A JPS6283307A (ja) | 1985-10-03 | 1985-10-03 | 窒化ケイ素粉末の製造装置 |
| US06/838,566 US4640023A (en) | 1985-07-05 | 1986-03-11 | Apparatus for manufacturing powdered silicon nitride |
| DE19863608972 DE3608972A1 (de) | 1985-07-05 | 1986-03-18 | Vorrichtung zur herstellung pulverisierten siliciumnitrids |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21913185A JPS6283307A (ja) | 1985-10-03 | 1985-10-03 | 窒化ケイ素粉末の製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6283307A true JPS6283307A (ja) | 1987-04-16 |
| JPH0425203B2 JPH0425203B2 (ja) | 1992-04-30 |
Family
ID=16730722
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21913185A Granted JPS6283307A (ja) | 1985-07-05 | 1985-10-03 | 窒化ケイ素粉末の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6283307A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4818511A (en) * | 1986-03-08 | 1989-04-04 | Nihon Cement Co., Ltd. | Process and apparatus for producing non-oxide compounds |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5510730U (ja) * | 1978-07-04 | 1980-01-23 | ||
| JPS5891012A (ja) * | 1981-11-25 | 1983-05-30 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 窒化珪素粉末の製造方法及びその製造装置 |
| JPS58151302A (ja) * | 1982-03-04 | 1983-09-08 | Nippon Mining Co Ltd | 流動塩化装置 |
| JPS5945912A (ja) * | 1982-09-02 | 1984-03-15 | Kawasaki Steel Corp | サイアロン系物質の連続製造法 |
-
1985
- 1985-10-03 JP JP21913185A patent/JPS6283307A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5510730U (ja) * | 1978-07-04 | 1980-01-23 | ||
| JPS5891012A (ja) * | 1981-11-25 | 1983-05-30 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 窒化珪素粉末の製造方法及びその製造装置 |
| JPS58151302A (ja) * | 1982-03-04 | 1983-09-08 | Nippon Mining Co Ltd | 流動塩化装置 |
| JPS5945912A (ja) * | 1982-09-02 | 1984-03-15 | Kawasaki Steel Corp | サイアロン系物質の連続製造法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4818511A (en) * | 1986-03-08 | 1989-04-04 | Nihon Cement Co., Ltd. | Process and apparatus for producing non-oxide compounds |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0425203B2 (ja) | 1992-04-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CA2425524C (en) | Compact endothermic catalytic reaction apparatus | |
| JP5428146B2 (ja) | トリクロロシラン製造装置 | |
| US5032365A (en) | Reaction apparatus | |
| ES449169A1 (es) | Un intercambiador de calor de lecho fluidizado perfecciona- do. | |
| JP2509350B2 (ja) | 蓄熱器 | |
| EP0197880A2 (en) | Radiating sleeve for catalytic reaction apparatus | |
| JP2508287B2 (ja) | 反応装置 | |
| JPS6283307A (ja) | 窒化ケイ素粉末の製造装置 | |
| US4837423A (en) | Low temperature kiln | |
| US2445554A (en) | Heater | |
| EP0332709B1 (en) | Externally heated rotary kiln | |
| JPH03127A (ja) | 吸熱反応用の反応室における間接的加熱方法およびそれを実施する装置 | |
| US3617038A (en) | Apparatus for the continuous dehydration of aluminum fluoride hydrates | |
| JPS6323733A (ja) | 燃料改質装置 | |
| JPS63128559A (ja) | 固体電解質燃料電池モジユ−ル | |
| WO2001069155A3 (en) | Regenerative heat exchanger and method for heating a gas therewith | |
| US3782903A (en) | Support pillar for fluid bed grid | |
| JPH0271834A (ja) | 水蒸気改質装置 | |
| JP4041567B2 (ja) | 触媒改質型反応炉 | |
| JP2819049B2 (ja) | 水蒸気改質装置 | |
| JP2600950B2 (ja) | 吸熱反応装置 | |
| JP4231258B2 (ja) | 触媒改質型反応装置 | |
| JPH0381075B2 (ja) | ||
| JP2508252B2 (ja) | 反応装置 | |
| JP2572729B2 (ja) | 粉体用熱処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |