JPS6281271A - 金属材料のパルステイグ溶接法 - Google Patents

金属材料のパルステイグ溶接法

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JPS6281271A
JPS6281271A JP21914385A JP21914385A JPS6281271A JP S6281271 A JPS6281271 A JP S6281271A JP 21914385 A JP21914385 A JP 21914385A JP 21914385 A JP21914385 A JP 21914385A JP S6281271 A JPS6281271 A JP S6281271A
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tig welding
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Takehiko Watanabe
健彦 渡辺
Harukata Nakamura
中村 治方
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National Research Institute for Metals
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National Research Institute for Metals
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は金属材料のパルスティグ溶接法に関する。更に
詳しくは金属材料のパルスティグ溶接において、平均電
流としては極めて小電流値でありながら十分な溶込みが
得られ、かつ溶接部の冷却速度が極めて大きく、また溶
接部の結晶粒子が全域に亘って微細である溶接法に関す
る。
従来技術 従来のパルスティグ溶接法においては、通常、第1図に
示すように、波形の溶接電流を用い、ベース電流値とピ
ーク電流値の比が通常2〜3の範囲で、電流を脈動させ
、溶接ピード形状の改良、溶込みの安定化等をはかって
いる。
一般にアーク溶接部の組織は粗大化する。これは溶接ア
ークにより母板が過熱され結晶粒が粗大化することと、
凝固する溶接金属粒もその粗大粒を種として成長し粗大
粒となることによる。従って、溶接部組織を微細化する
ためには、母板の過熱を防ぐ必要がある。
従来のパルスティグ溶接法では、溶接表層部等の一部分
については組織の微細化は可能であるが、溶接部全域に
亘っての微細化は困難であった。
発明の目的 本発明は従来のパルスティグ溶接法における欠点を解消
せんとするものであり、その目的は小電流で十分な溶込
みが得られ、かつ溶接部の冷却速度が速いと共に溶接部
の結晶粒子が全域に亘って微細である溶接法を提供する
にある。
発明の構成 本発明者は前記目的を達成すべく鋭意研究の結果、パル
スティグ溶接において、十分な溶込みを確保するために
、極めて大きなピーク電流を短時間に発生させ、そのア
ーク力で母板を溶剤し、しかる後、極めて小さなベース
電流で母板および溶加材の溶融状態を維持し、かつ次の
ピーク電流までの間のアーク安定保持をはかれば母板の
過熱を防止することができ、これにより溶接部全域に亘
って組織微細化が達成することが可能であることを究明
し得た。この知見に基いて本発明を完成した。
本発明の要旨は、 パルスティグ溶接において、ベース電流値とピークを流
値の比を10以上とし、平均電流値が100A以下の小
電流を用い、かつ溶融池の共振周波数領域(20〜50
Hz未満)を除くパルス周波数を用いて溶接することを
特徴とする金属材料のパルスティグ溶接法にある。
本発明におけるベース電流値とピーク電流値の比が10
未満であると、本発明の効果である十分な溶込みを確保
し、かつ結晶粒粗大化を防止することが困難となるので
、10以上であることが必要である。
また、平均電流値が100Aを超えると、従来法のパル
ス溶接と類似の結果しか得られないので、100A以下
であることが必要である。
ベース電流は安定したアークを持続するためには、その
値が5A以上であることが好ましく、また、20Aを超
えると結晶粒が粗大化するので、5〜20Aであること
が適当である。
ピーク電流は300A未満であると、深溶込みが達成し
難いので300A以上であることが好ましく、その上限
は平均電流値を100A以下に保つことと、ベース電流
時間/ピーク電流時間比が8〜20であることにより定
まる値で、900Aであることが好ましい。
ベース電流時間/ピーク電流時間比は8〜2゜であるこ
とが適当である。この値は小電流溶接の特長を具備する
ことおよび溶接現象の安定維持する点から定まる。
パルス周波数は1〜5Hzであることが適当である。I
Hz未満では実用的でなく、5Hzを超えるとティグア
ークの安定性が阻害される。
次に本発明の溶接法を図面によって詳述する。
オーステナイトステンレス鋼を用いた第2図において、
平均電流値50Aの小電流条件下で、パルス周波数とベ
ース電流値を変化させて溶込みおよび溶接ビード性状を
調べると、ペース電流値が2OAを超えると(換言すれ
ば、ピーク電流値が32OAにならない場合)には深溶
込み現象が減少し、浅い苗込みとなってしまう(領域1
[)。
領域1[[においては、アークにより溶剤された部分に
溶融金属かなじみえないで、所謂トルネル状の不整ビー
ドな生する。
領域■においては、パルス周波数か溶融金属の共振周波
数とほぼ等しくなるために、縄の目状の不整ビードが生
ずる。
これに対し、領域lで示した範囲では、320〜410
Aのピーク電流によるアーク力で探く溶剤され、その後
を溶融金属が埋めてい(深溶込み正常ビードとなる。
炭素鋼、低合金鋼のようなフェライト鋼においても、第
3図に示すような領域図を求めろことができ、第2図と
ほぼ同様な溶込みおよびビード性状が認められる。
一方、これら各領域における溶融部の組織微細化の程度
を、母板のアークによる熱影響部(以下)IAZと記す
)のオーステナイト結晶粒径により測定すると、第2図
のオーステナイトヌテンレス鋼におい−〔は約70μm
(母板の粒径約70μm)、第3図のフェライト鋼にお
いては約60μm(母板の粒径約30μm)であり、全
領域にわたり母板の結晶粒径と殆んど変わらないか、ま
たは数倍程度の粗粒化で留まる微細な組織である。
第2図において不整ビードが発生する領域■および領域
■において、磁気攪拌を利用して正常ビードに復元させ
ることを試みた。第4図に示す例のように、母板面に沿
って流れる溶接電流に直交するように、磁束を作用させ
ると、その相互作用によりローレンツ力が働き、図の矢
印で示す方向に溶融金属の回転運動が生ずる。
交番磁場を作用させると、それに応じて回転方向が逆転
し、効果的な攪拌が可能となる。このような方法を不整
ビードが発生する領域に適用したところ、領域■でみら
れたトルネル状不整ビードは解消し、正常ビードが得ら
れた。しかし、領域■にみられた縄の目状不整ビードに
は殆んど影響を及はさなかった。領域lの深溶込み・細
粒ビードにおいて磁気攪拌を重畳すると、若千浴込みが
増加する傾向が認められる以外は影響か少なか−)た。
第3図における不整ビード発生領域に対する磁気攪拌の
効果は第2図におけると同様であった。
以上の結果から、本発明によるパルスティグ溶接におい
ては、磁気攪拌を併用すると不整ビード発生域を縮l」
・シ、かつ溶込みを向上させるのに有効であることがわ
かる。
この交番磁場における強さは0.02〜005Tである
ことが好ましい。0.02T未満では有効でな(,0,
05’l’を超えるとティグアークの安定性が阻害され
る。また、その周波数は0.25〜2Hzであることが
好ましい。0.25Hz未満では攪拌効果が少なく、2
Hzを超えると溶融金属が追随して動くことができなく
なる。
実施例1゜ オーステナイト鋼5tlS3108鋼4關厚の板を用い
て、従来のティグ、パルスティグ、本発明のパルスティ
グの各溶接法を行い、その溶込み深さおよび溶接部の冷
却状況を測定した。表1に各溶接法の溶接条件を示し、
表2に溶込み深さおよび冷却状況の測定結果を示す。溶
接速度は6 cm / mと一定にした。
表2 この結果が示すように、同−溶込み深さである場合には
、本発明の方法の場合の冷却は従来法に比べて約2倍と
なることがわかる。
実施例2゜ 炭素944 mm厚の板を用いて、実施例1におけると
同じ試験を行った。表3は各溶接法の溶接条件を示し、
表4に溶込み深さおよび冷却状況測定結果を示す。溶接
速度は6 an / mと一定して行った。
表3 光4 この結果が示すように、本発明の方法における冷却は、
従来法に比べて約1.7倍の速さであることがわかる。
上記の各溶接部について、結晶粒径を測定した結果を表
5に示す。
この結果が示すように、本発明の方法における組織微細
化が、従来法に比べて格段と優れていることがわかる。
発明の効果 本発明の方法によると、小tiで十分な溶込みが得られ
、かつ溶接部の冷却速度が早く、また、溶融部の結晶粒
子が全域に亘って微細となし得る優れた効果を奏し得ら
れる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来法のパルスティグ法による溶接における電
流波形図で、図中Ipはビーク′電流値、Iaは平均電
流値、lbはペース電流値、tpはピーク電流時間、t
bはベース電流時間である。 第2図はオーステナイト鋼におけるパルス周波数とベー
ス電流値との関係図、第3図はフェライト鋼におけるパ
ルス周波数とペース電流値との関係図(いずれもla 
= 5 OA、 ta/lp = 9の場合)で、図中 領域l二深浴込・細粒ピード 領域■:浅溶込・細粒ビード 贅 領域■二トンネル状不主ビード 整 領域■:縄の目状4釡ビード である。 第4図は交番磁場を作用させた場合における説明図で、
図中 a:溶!)−チ   b=タングステン電極C二不活性
ガス   d:磁束 e:溶接電流    f:溶融池 g:磁束発生コイル h:交番磁場発生電源力 ドローレンツ安 である。 特許出願人 科学技術庁金属材料技術研究所長中  川
  龍  − □時間 第1図 ベル人困シ皮枚(Hz) 第312

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)パルスティグ溶接において、ベース電流値とピーク
    電流値の比を10以上とし、平均電流値が100A以下
    の小電流を用い、かつ溶融池の共振周波数領域(20〜
    50Hz未満)を除くパルス周波数を用いて溶接するこ
    とを特徴とする金属材料のパルスティグ溶接法。 2)ベース電流範囲が5〜20Aで、ピーク電流範囲が
    900〜300Aであり、ベース電流時間/ピーク電流
    時間比が8〜20、パルス周波数が1〜5Hzで、かつ
    磁場強さが0.02〜0.05T、周波数0.25〜2
    Hzの交番磁場により溶融金属を強制的に攪拌するよう
    にした特許請求の範囲第1項記載のパルスティグ溶接法
JP21914385A 1985-10-03 1985-10-03 金属材料のパルステイグ溶接法 Granted JPS6281271A (ja)

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