JPS6278722A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6278722A JPS6278722A JP21822885A JP21822885A JPS6278722A JP S6278722 A JPS6278722 A JP S6278722A JP 21822885 A JP21822885 A JP 21822885A JP 21822885 A JP21822885 A JP 21822885A JP S6278722 A JPS6278722 A JP S6278722A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- jig
- substrate
- palladium
- activation treatment
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- Pending
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- Chemically Coating (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔惟莱上の利用分−ｉｆ ）
本発明は、非磁性の基板を活性化処理し無ｔＩｉ６磁性
めっきを行う磁気記録媒体の製造方法に関する。
めっきを行う磁気記録媒体の製造方法に関する。
本発明は磁気記録媒体の製造方法において、非磁性の基
板を４０℃から７０Ｃに加熱し、強アルカリ性パラジウ
ム溶液に支持治具ごと浸漬した後間−治具を用いて無魂
解磁性めっきを行うことができ、活性化処理の時間に関
係なく同一めっき浴で磁気特性を安定にしたものである
。
板を４０℃から７０Ｃに加熱し、強アルカリ性パラジウ
ム溶液に支持治具ごと浸漬した後間−治具を用いて無魂
解磁性めっきを行うことができ、活性化処理の時間に関
係なく同一めっき浴で磁気特性を安定にしたものである
。
従来、非磁性基板上に無ｌ！解磁性めっきを行う場合、
スズ−パラジウム合金により活性点を均一に作製するか
、非磁性基板上の酸ｒヒ物や汚れを除去するためにクリ
ーナー等を使用していた。
スズ−パラジウム合金により活性点を均一に作製するか
、非磁性基板上の酸ｒヒ物や汚れを除去するためにクリ
ーナー等を使用していた。
また特開昭５６−５４６４０号公報に示されているよう
に、非磁性基板上ＫＩ１４りのスズ−パラジウム溶液で
活性処理し、それをまた数通りの余分なスズ−パラジウ
ムを除去する溶液で処理することで、同一の磁性メッキ
ばからそれぞれ違う数通りの保磁力の磁気磁膜が得られ
たと述べていた。
に、非磁性基板上ＫＩ１４りのスズ−パラジウム溶液で
活性処理し、それをまた数通りの余分なスズ−パラジウ
ムを除去する溶液で処理することで、同一の磁性メッキ
ばからそれぞれ違う数通りの保磁力の磁気磁膜が得られ
たと述べていた。
しかし、前述のスズ−パラジウムによる活性化処理は、
非磁性基板にスズ−パラジウム合金を吸着させると同時
にその非磁性基板を支持する治具に対してもスズ−パラ
ジウム合金が吸着する。その状態で無を解磁性メッキを
行うと、活性化処理した治具にも磁性皮膜が析出しメツ
＝ｗ−Ｑ、の寿命が短くなる。そのために、治具は活性
ｆヒ処理用と磁性メッキ用の２種類必要になるという問
題がある。
非磁性基板にスズ−パラジウム合金を吸着させると同時
にその非磁性基板を支持する治具に対してもスズ−パラ
ジウム合金が吸着する。その状態で無を解磁性メッキを
行うと、活性化処理した治具にも磁性皮膜が析出しメツ
＝ｗ−Ｑ、の寿命が短くなる。そのために、治具は活性
ｆヒ処理用と磁性メッキ用の２種類必要になるという問
題がある。
また、非磁性基板に無電解磁性めっきを行う場合、基板
の活性度を上げるために、ソフトエ・ノチングやクリー
ナーで基板表面の酸化物や汚れを除去する必要があるが
、その処理液の組成や浸漬時・間を一定だしなければ、
後の無電解磁性めっき浴で磁気特性の一定な皮膜が析出
しないという問題がある。
の活性度を上げるために、ソフトエ・ノチングやクリー
ナーで基板表面の酸化物や汚れを除去する必要があるが
、その処理液の組成や浸漬時・間を一定だしなければ、
後の無電解磁性めっき浴で磁気特性の一定な皮膜が析出
しないという問題がある。
そこで本発明はこのような問題点を解決するもので、目
的は活性化処理から磁性メッキまで同一治具を使い、活
性化処理時間に関係なく磁気皮膜の磁気特性が変化しな
い磁気記録媒体を製造するところにある。
的は活性化処理から磁性メッキまで同一治具を使い、活
性化処理時間に関係なく磁気皮膜の磁気特性が変化しな
い磁気記録媒体を製造するところにある。
本発明は上記間柩点を解決するために、金属パラジウム
の吸着力が弱い、４０℃から７０℃に加熱した強アルカ
リ性のパラジウム溶液に非磁性基板を浸漬した後、磁性
めっきを行ったことを特徴とする。
の吸着力が弱い、４０℃から７０℃に加熱した強アルカ
リ性のパラジウム溶液に非磁性基板を浸漬した後、磁性
めっきを行ったことを特徴とする。
本発明で活性化処理液ｍ度を４０℃未満にして処理する
場合、非磁性基板へのパラジウムの吸着反応が大変遅く
な）、基板の表面状態の違いにより磁性皮膜の特性が変
化してしまう。
場合、非磁性基板へのパラジウムの吸着反応が大変遅く
な）、基板の表面状態の違いにより磁性皮膜の特性が変
化してしまう。
また活性化処理液温Ｉｆを７０℃以上にして処理する場
合、活性化処理糎の分解反応が起り、基板を支持する治
具までも金属パラジウムが吸潰し、この治具を磁性めっ
き液の中で使用することができなくなる。以上の理由に
より、強アルカリ性パラジウムの活性化処理Ｓ［度は上
述の範囲が望ましい。
合、活性化処理糎の分解反応が起り、基板を支持する治
具までも金属パラジウムが吸潰し、この治具を磁性めっ
き液の中で使用することができなくなる。以上の理由に
より、強アルカリ性パラジウムの活性化処理Ｓ［度は上
述の範囲が望ましい。
〔実施例１〕
強アルカリ性パラジウム溶液として、ワールドメタル社
製の活性ｆヒ処理削ＡＴ−８０′ｉｋ純水で４倍に希釈
し、液ｆ！を２０℃から８０℃まで２０℃毎に４水単変
化させた。それからこの処理液に非磁性基板と合成樹脂
製の支持治具を５０秒、１分。
製の活性ｆヒ処理削ＡＴ−８０′ｉｋ純水で４倍に希釈
し、液ｆ！を２０℃から８０℃まで２０℃毎に４水単変
化させた。それからこの処理液に非磁性基板と合成樹脂
製の支持治具を５０秒、１分。
５分、１０分、５０分浸漬し、その後に次に示す無電解
磁性めっき浴で磁気皮膜を作製しその磁気特性の代表と
して保磁力ｔ−第１表に示す。
磁性めっき浴で磁気皮膜を作製しその磁気特性の代表と
して保磁力ｔ−第１表に示す。
無電解磁性めっき浴組成
硫酸コバルト （ＬＯ８Ｍｏｊ／Ｊ硫酸ニッ
ケル １０２Ｍ０Ｉ／１酒石酸ナトリウム
αｚｏｕｏｊ／６りんご酸ナトリウム ［１
６０Ｍｏｊ／ＪｉＬｆ！アンモニウム ０．０５
Ｍ０Ｊ／Ｊ＊ｆ）ｆｌｉ ｌ ２
０ Ｍｏｌ／ １次組リン酸ナトリウム １２５ＭＣ
ＪＩ／ＩＦ）１９．５ 液湛度 ７０℃ 磁性めつき膜１１Ｅ７００ス また比較例として、活性化処理を次に示す組成の塩酸酸
性パラジウム溶液で行ったものも（比較例１〜５）同時
に、４１表に示す。
ケル １０２Ｍ０Ｉ／１酒石酸ナトリウム
αｚｏｕｏｊ／６りんご酸ナトリウム ［１
６０Ｍｏｊ／ＪｉＬｆ！アンモニウム ０．０５
Ｍ０Ｊ／Ｊ＊ｆ）ｆｌｉ ｌ ２
０ Ｍｏｌ／ １次組リン酸ナトリウム １２５ＭＣ
ＪＩ／ＩＦ）１９．５ 液湛度 ７０℃ 磁性めつき膜１１Ｅ７００ス また比較例として、活性化処理を次に示す組成の塩酸酸
性パラジウム溶液で行ったものも（比較例１〜５）同時
に、４１表に示す。
活性化処理時間組成
塩（ヒバラジウム Ｉｆ／１塩ｒ夕 ５７釜
６０ｍ１／１第 １表 第１表より強アルカリ性パラジウム溶液の温度が、４０
℃から６０℃の間で非磁性基板を支持する治具への析出
がなく（試料６〜１５）かつ、この温度範囲でその溶液
への浸漬時間を変化させても、無を解磁性めっき工程で
磁性皮膜厚全一定にすれば、その皮膜の磁気特性である
保磁力が一定になった。尚、比較例１〜５より塩酸酸性
パラジウム溶液では、治具への析出があシ冥用的ではな
い。
６０ｍ１／１第 １表 第１表より強アルカリ性パラジウム溶液の温度が、４０
℃から６０℃の間で非磁性基板を支持する治具への析出
がなく（試料６〜１５）かつ、この温度範囲でその溶液
への浸漬時間を変化させても、無を解磁性めっき工程で
磁性皮膜厚全一定にすれば、その皮膜の磁気特性である
保磁力が一定になった。尚、比較例１〜５より塩酸酸性
パラジウム溶液では、治具への析出があシ冥用的ではな
い。
〔実施例２〕
強アルカリ性のパラジウム溶液として、ＡＴ−８０を純
水で６倍に希釈し、液温′ｔ−２０℃から８０℃まで２
０℃毎に４水進変化させた。それからこの処理液に非磁
性基板と合成樹脂製の支持治具を５０秒、１分、５分、
１０分、５０分浸漬し、その後実施例１と同様の無電解
磁性めっき浴で磁性皮膜を作製、その特性を第２表に示
す。
水で６倍に希釈し、液温′ｔ−２０℃から８０℃まで２
０℃毎に４水進変化させた。それからこの処理液に非磁
性基板と合成樹脂製の支持治具を５０秒、１分、５分、
１０分、５０分浸漬し、その後実施例１と同様の無電解
磁性めっき浴で磁性皮膜を作製、その特性を第２表に示
す。
第２表
第２表より、・・強アルカリ性パラジウム溶液の希釈度
を変えても、この溶液温度が４０℃から６０℃の範囲で
、非磁性基板を支持する治具への析出がなく、かつ、こ
の温度範囲でその溶液への浸漬時間を変化させても、無
電解磁性めっき工程で磁性皮膜膜厚を一定にすれば、そ
の皮膜の磁気特性である保磁力が一定になった（試料６
〜１５）。
を変えても、この溶液温度が４０℃から６０℃の範囲で
、非磁性基板を支持する治具への析出がなく、かつ、こ
の温度範囲でその溶液への浸漬時間を変化させても、無
電解磁性めっき工程で磁性皮膜膜厚を一定にすれば、そ
の皮膜の磁気特性である保磁力が一定になった（試料６
〜１５）。
以上のように本発明によれば、非磁性基板とそれを支持
する治具をａＯＣから７０℃に加熱した強アルカリ性パ
ラジウム溶液に浸（責しだ後無電解磁注めつきを行った
ので、非磁性基板を支持する治具への析出が起らず、活
性化処理工程とＭｉ荘めっき工程で共通の治具が使用で
きた。その上無電解磁性めっき浴組成が同じならば強ア
ルカリ性パラジウム溶液に浸漬する時間が変イヒしても
、磁性皮膜の特性が安定したので、磁気記録媒体を所産
する場合、品質が一定するということで有効である。
する治具をａＯＣから７０℃に加熱した強アルカリ性パ
ラジウム溶液に浸（責しだ後無電解磁注めつきを行った
ので、非磁性基板を支持する治具への析出が起らず、活
性化処理工程とＭｉ荘めっき工程で共通の治具が使用で
きた。その上無電解磁性めっき浴組成が同じならば強ア
ルカリ性パラジウム溶液に浸漬する時間が変イヒしても
、磁性皮膜の特性が安定したので、磁気記録媒体を所産
する場合、品質が一定するということで有効である。
Claims (1)
- 非磁性の基板を４０℃から７０℃に加熱して強アルカリ
性パラジウム溶液に浸漬して、活性化処理を行つた後、
無電解磁性めつきを行うことを特徴とする磁気記録媒体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21822885A JPS6278722A (ja) | 1985-10-01 | 1985-10-01 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21822885A JPS6278722A (ja) | 1985-10-01 | 1985-10-01 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6278722A true JPS6278722A (ja) | 1987-04-11 |
Family
ID=16716614
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21822885A Pending JPS6278722A (ja) | 1985-10-01 | 1985-10-01 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6278722A (ja) |
-
1985
- 1985-10-01 JP JP21822885A patent/JPS6278722A/ja active Pending
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