JPS6277761A

JPS6277761A - 光走査読取装置

Info

Publication number: JPS6277761A
Application number: JP60217725A
Authority: JP
Inventors: Nobuharu Nozaki; 野崎　信春; Hiroshi Nishihara; 西原　浩; Toshiaki Suhara; 敏明栖原
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1985-09-30
Filing date: 1985-09-30
Publication date: 1987-04-09
Also published as: JPH0554754B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（発明の分野）本発明は光走査読取装置、特に詳細には光導波路に表面
弾性波を発生させ、この表面弾性波の回折作用によって
導波光を偏向させて光走査を行なうようにした光走査読
取装置に関するものである。

（従来の技術）周知の通り従来より、原稿を光で走査し、該原稿からの
透過光、反射光あるいは発光光を充電的に検出して、該
原稿に記録されている画像を読み取るようにした光走査
読取装置が種々提供されている。このような読取装置に
おいて読取光を１次元的に走査する光走査装置として従
来より、■例えばガルバノメータミラーやポリゴンミラ
ー（回転多面鏡）等の機械式光偏向器により光ビームを
偏向走査させるもの、 ■ＥＯＤ　（電気光学光偏向器ｒやＡＯＤ　（音響光学
光偏向器）など光偏向素子を用いた光偏□向器により光
ビームを偏向走査させるもの等□が知られている。

ところが上記■の機械式光偏向器は振動に対して弱く、
また機械的耐久性も低く、その上調整が面倒であるとい
う欠点を有している。さらに光ビームを振って偏向させ
るために光学系が大きくなり、読取装置の大型化を招く
という問題もある。

また■のＥＯＤやＡＯＤを用いる光走査装置にあっても
、上記と同様に光ビームを振って偏向させるために、読
取装置の大型化を招くという問題がある。特に上記ＥＯ
ＤやＡＯＤは光偏向角が大きくとれないので、■の機械
式光偏向器を用いる場合よりもさらに光学系が大きくな
りがちである。

そこで光導波路内を進む導波光を表面弾性波（ＳＡＷ：
５ｕｒｆａｃｅ　　ＡｃｏｕｓｔｉｃＷａｖｅ）によっ
て偏向させ、そしてこの偏向の角度を変化させることに
よって光を走査させるようにした光走査装置が考えられ
ている。この光走査装置は、表面弾性波が伝播可能な材
料から形成された光、導波路と、この光導波路内に光を入射させる光源と、上記光導波路
内を進む導波光を平行光とする光学系と、上記導波光の光路に交わる方向に進行して該導波光を偏
向させる表面弾性波を光導波路において発生させる手段
と、この表面弾性波発生手段を、連続的に周波数が変化する
表面弾性波を発生するように駆動する駆動回路とからな
るものであり、このような光走査装置を用いた光走査読
取装置は、耐久性、耐振動性に優れ、しかもある程度小
型に形成されるものとなる。

しかし上記のような光走査装置を用いる光走査読取装置
にあっては、偏向された導波光を光導波路外に出射させ
るためにプリズムカプラー等の光学素子が設けられ、さ
らには光導波路外に出射された走査光を読取原稿上にお
いて集束させるための集束レンズが設けられるため、十
分な小型化が達成され得ないという問題があった。また
上記導波光の偏向は、導波光と表面弾性波との音響光学
相互作用に基づ＜Ｂｒａｇｑ回折によるものであるが、
このような光偏向においては偏向角が太きくとれず、し
たがって光走査幅を大きく設定しようとすると光導波路
から読取原稿までの距離を長く設定しなければならず、
その結果読取装置が大型化してしまうという問題が生じ
る。

さらに、上記プリズムカプラーを用い”る場合には、プ
リズム底面と光導波路との間のギャップを精密に調整す
る必要があるので、そのための高価な微調整機構が必要
となり、またプリズムカプラーも高価であるので、読取
装置は高価なものとなってしまう。

また上述の調整作業に加え、光導波路と集束レンズとの
相対位置を精密に調整する作業も必要になるので、上記
光走査装置を用いる読取装置は調整が極めて面倒なもの
となる。そしてこのように多くの調整作業を必要とする
から、この種の光走査読取装置は信頼性も低いものとな
っていた。

さらに上記プリズムカプラーを用いて導波光を光導波路
外に出射させる場合、出射光の形状が、プリズム底陵と
平行な方向には平行光束、垂直な方向には発散光束とな
ってしまうので、走査光を円形スポットに絞るためには
通常の球面レンズ以外の特殊な集束レンズが必要になる
という問題もある。

さらに上記プリズムカプラーや集束レンズ等を用いる場
合、これらの光学素子や光導波路端面に欠損が生じると
走査ビームスポットの形状に影響が及び（特に光導波路
端面から光を出射させる場合には、この端面の欠損がそ
のまま走査ビームスポットの欠けにつながる）、精密走
査が不可能になる、という不具合もある。

（発明の目的）そこで本発明は、以上述べた種々の問題を解消すること
ができる光走査読取装置を提供することを目的とするも
のである。

（発明の構成）本発明の第１の光走査読取装置は、前述のような光導波
路と、光源と、導波光を平行光とする光学系と、表面弾
性波発生手段と、駆動回路とからなる光走査装置におい
て、偏向された導波光を光導波路外に出射させるとともに該
導波路外の空間において集束させる集光性回折格子（Ｆ
ＧＣ：Ｆｏｃｕｓｉｎｇ　　Ｇｒａｔｉｎｇ　　Ｑｏｕ
ｐｌｅｒ）が設けられ、さらにこの光走査装置に加えて
、上記集束された光が照射される位置に配された読取原
稿と光導波路とを、前記偏向によるこの光の走査の方向
と略直角な方向に相対移動させる副走査手段と、上記光
の照射によって得られる原稿からの透過光、反射光ある
いは発光光を充電的に検出する光検出器とが設けられて
なるものである。

また本発明の第２の光走査読取装置は、上述の第１の光
走査読取装置にさらに、相対向する両表面にそれぞれ光
反射層を有し、光導波路外に出射した光が前記集束の位
置に至る前に該両表面の間で反射を繰り返すように光導
波路の基板に接合されたガラスブロックが設けられてな
るものである。

（作　　用）表面弾性波による導波光の偏向については従来から知ら
れているが、ここで簡単に説明する。第１図に示すよう
に、例えば交叉くし形電極対（■ＤＴ：Ｉｎｔｅｒ　　
　Ｄｉｇｉｔａｌ　　　Ｔｒａｎｓｄｕｃｅｒ）１ｓに
よって発生されて光導波路１１を伝播する表面弾性波１
２の進行方向と、導波光１３の進行方向とがなす角（Ｂ
ｒａａｏ角）をθとすると、前述の音響光学相互作用に
よる導波光１３の偏向角δは、δ−２θとなる。そして
導波光１３の波長、実効屈折率をλ、Ｎｅとし、表面弾
性波１２の波長、周波数、速度をそれぞれ△、ｆ、ｖと
すれば、２θ−２５ｉｎ４　（λ／２Ｎｅ−八）二λ／Ｎｅ・八一／Ｉ　−ｆ／Ｎｅ　−ｖとなり、２０つまりδは表面弾性波の周波数ｆにほぼ比
例する。そこで電極対１５に印加するパルス状の電圧の
周波数を連続的に変化させて、表面弾性波１２の周波数
を連続的に変化させれば、偏向角δが連続的に変化する
ようになる。したがってこの導波光１３を光導波路１１
外に取り出せば、その光は１次元的に走査するようにな
る。

一方集光性回折格子（ＦＧＣ）１４は、曲りとチャープ
を有する回折格子であり、光導波路１１内の平面波と、
該光導波路１１外の空間の一点に焦点を有する球面波と
を直接結合する。したがって上述のように偏向された導
波光１３の光路において光導波路表向に、この集光性回
折格子１４を設けておけば、偏向された光は光導波路１
１外に取り出され、しかも該光導波路１１外の空間にお
いて集束される。

そこでこの光の集束位置に読取原稿３１を配置すれば、
この原稿３１は集束された円形のビームスポットによっ
て１次元的に走査されるようになる。

なお上述のような集光性回折格子については、例えば電
子通信学会技術研究報告ＭＷ８３−８８の４′７〜５４
ページ等に詳しく記載されている。

（実施態様）以下、図面に示す実施態様に基づいて本発明の詳細な説
明する。

第１図および第２図は、本発明の第１の光走査読取装置
の一実施態様を示すものである。図示されるようにこの
光走査読取装置は、光走査部１０と、副走査手段として
のエンドレスベルト装置３０と、光検出器としてのフォ
トマルチプライヤ−（光電子増倍管）４０と、このフォ
トマルチプライヤ−４０の受光面に接続された集光体５
０とを備えている。

まず上記光走査部１０について詳しく説明する。この光
走査部１０は、細長い基板１６上に形成された光導波路
１１と、この光導波路１１の側端部に設けられた交叉く
し形電極対１５と、この電極対１５にパルス状の電圧を
印加する駆動回路１７と、上記光導波路１１の一端面１
１ａ（エンドレスベルト装置３０と反対側の端面）に直
接結合された半導体レーザ１８とを有している。そして
上記一端面１１ａに近い位置において光導波路１１には
導波路レンズ１９が形成され、また上記一端面１１ａと
反対側の端面１１ｂに近い位置において光導波路１１の
表面には、曲りとチャープを有する集光性回折格子１４
が形成されている。

本実施態様においては一例として、基板１６にＬｉＮｔ
）Ｏｓウェハを用い、このウェハの表面にＴｉ拡散膜を
設けることによら光導波路１１を形成している。なお基
板１６としてその□他すファイア、＄１等からなる結晶
性基板が用いられてもよい。また光導波路１１も上記の
Ｔ１拡散に限らず、基板１６上にその他の材料をスパッ
タ、蒸着する等して形成することもできる。なお光導波
路については、例えばティー、タミール（Ｔ、Ｔａｍ１
　ｒ）編［インチグレイテッド　オプティクス（Ｉｎｔ
ｅａｒａｔｅｄ　　０ｐｔｉｃｓ）Ｊ　　（トピックス
・イン　アプライド　フィジックス（ＴＯｐＬｃｓｉｎ
　　Ａｐｐｌｉｅｄ　　ｐｈｙｓｉｃｓ）第７巻）スプ
リンガー　フエアラーグ（３ｐｒ　＋　ｎｇｅｒ−Ｖｅ
ｒｌａｇ）刊（１９７５）；西原、養老、栖原共著「光
集積回路」オーム社刊（１９８５゛）□等の成著に詳細
な記述があり、本発明では光導波路１１としてこれら公
知の光導波路のいずれをも使用できる。ただし、この光
導波路１１は、上記Ｔｉ拡散膜等、後述する表面弾性波
が伝播可能な材料から形成されなければならない。また
光導波路は２１１以上の積層構造を有していてもよい。

本実施態様における導波路レンズ１９は一例としてプロ
トン交換形導波路フレネルレンズであるが、このような
導波路レンズ１９は、上記光導波路１１の表面に３ｉＮ
ｘ膜を堆積し、その表面にポジ型電子線レジストを塗布
し、さらにその上にＡｕ導電用薄膜を蒸着し、フレネル
レンズパターンを電子線描画し、Ａｕ薄薄膜剥離用現像
て得られたレジストパターンをイオンエツチングして３
ｉＮｘ膜に転写し、レジストを剥離後公知のプロトン交
換を行なって形成することができる。また集光性回折格
子１４は、例えば上記導波路レンズ１９形成後ＳｉＮｘ
膜の表面にネガ型電子線レジストを塗布し、さらにその
上にＡｕ導電用薄膜を蒸着し、回折格子パターンを電子
線描画し、その後は上述のＡｕＨｕ剥離からレジストｇ
ＩＪＩＩＩＩまでの工程を実施することによって形成す
ることができる。また交叉くし形電極対１５は、例えば
光導波路１１の表面にポジ型電子線レジストを塗布し、
さらにその上にＡｕ導電用薄膜を蒸着し、電極パターン
を電子線描画し、ＡＵ薄膜を剥離後現像を行ない、次い
でＯｒ薄膜、ＡＩ薄膜を蒸着後、有機溶媒中でリフトオ
フを行なうことによって形成することができる。

なお電極対１５は、基板１６や光導波路１１が圧電性を
有する材料からなる場合には、直接光導波路１１内ある
いは基板１６上に設置しても表面弾性波１２を発生させ
ることができるが、そうでない場合には基板１６あるい
は光導波路１１の一部に例えばＺｎＯ等からなる圧電性
薄膜を蒸着、スパッタ等によって形成し、そこに電極対
１５を設置すればよい。

前述の半導体レーザ１８は光導波路１１の一端面（光入
射端面）１１ａから該光導波路１１内に向けてレーザビ
ーム（放射ビーム）１３°を射出する。この放射ビーム
１３′は導波路レンズ１９によって平行ビーム１３とさ
れ、このビーム１３は光導波路１１内において導波モー
ドで矢印へ方向に進行する。なお半導体レーザ１８を上
記のように光入射端面１１ａに直接結合せずに、レンズ
やカプラープリズム、回折格子（クレーティングカプラ
ー）等を介して、光導波路１１内にビーム１３′を入射
させるようにしてもよい。ここで特に回折格子を用いる
場合、それを導波路表面に形成された集光性回折格子と
すれば光導波路１１内に入射するビーム１３”を平行ビ
ームとすることができ、上記導波路レンズ１９に代える
ことができる。しかしこの実施態様におけるように半導
体レーザ１８を光入射端面１１ａに直接結合し、放射ビ
ーム１３′を平行ビーム化するために導波路レンズ１９
を用いれば、光走査部１０は極めて小型で、かつ信頼性
の高いものとなりうる。また走査光を発生する光源も上
述の半導体レーザ１８に限らず、その他例えばガスレー
ザや固体レーザ等が用いられてもよい。

上記構造の光走査読取装置によって原稿読取りを行なう
際、読取原稿３１はエンドレスベルト装置３０により、
第１図の矢印Ｙ方向に移送される。そして半導体レーザ
１８はレーザビーム１３′を射出するように駆動され、
それとともに電極対１５には駆動回路１７から連続的に
周波数が変化するパルス状電圧が印加される。電極対１
５にこのような電圧印加がなされることにより、光導波
路１１０表面を表面弾性波１２が第１図の矢印Ｂ方向に
進行する。電極対１５は、この表面弾性波１２が前記導
波光（平行ビーム）１３の光路に交わる方向に進行する
ように配設されている。したがって導波光１３は、表面
弾導波１２を横切るように進行するが、その際該導波光
１３は前述したように表面弾性波１２によって偏向され
る。そして電極対１５には上述のような電圧が印加され
るから、表面弾性波１２の周波数が連続的に変化するよ
うになり、その結果導波光１３の偏向角は連続的に変化
する。こうして偏向された導波光１３は、曲りとチャー
プを有する集光性回折格子１４により基板１６側に回折
されて光導波路１１外に出射し、該基板１６を通過して
、斜めにカットされた端面１６ｃから基板１６外に出射
する（第２図参照）。

それとともに導波光１３は集光性回折格子１４の作用に
より、光導波路１１外の空間において円形のスポットＰ
に集束される。上述の通り導波光１３の偏向角は連続的
に変化するので、このビームスポットＰは、第１図の矢
印Ｘ方向に１次元的に走査する。

したがってこのビームスポットＰによって照射される位
置に原稿３１を配置し、上記走査（主走査）の方向Ｘと
略直角な方向Ｙに前記副走査がなされるようにすれば、
この原稿３１はビームスポットＰによって２次元的に走
査されるようになる。

上記原稿３１は一例として、特開昭５５−１２４２９号
、同５６−１０４６４５号公報等に示される蓄積性螢光
体（輝尽性螢光体）シートであり、この蓄積性螢光体シ
ート３１は被写体を透過した放射線が照射されることに
より、該被写体の放射線画像情報を蓄積記録している。

この蓄積性螢光体シート３１が上述のようにしてビーム
スポットＰ（光１３）によって走査されると、該シート
３１の光１３が照射された箇所からは、蓄積記録された
放射線画像情報を担持する輝尽発光光３２が発せられる
（第１図参照）。この輝尽発光光３２は集光体５０によ
って集光され、フォトマルチプライヤ−４０により光電
的に検出される。このフォトマルチプライヤ−４０の出
力信号−（読取画像信号）Ｓは適当な画像処理を施され
てから図示しない画像再生装置に送られ、上記放射線画
像情報の再生に供せられる。

以上説明した実施態様においては、導波光１３は集光性
回折格子１４によって基板１Ｇ側に回折されるようにな
っているが、第３図に示すように導波光１３が基板１６
とは反対側に回折されて直接空気中に出射するように集
光性回折格子１４を形成してもよい。また長い主走査幅
が求められる場合には、以上述べた構造の光走査機構を
同一基板上に複数並設し、何本かの走査ビームによる各
走査線を合成して１本の主走査線を構成するようにして
もよい。

次に第４．５図を参照して、本発明の第２の光走査読取
装置の実施態様について説明する。なおこの第４．５図
において、前記第１．２図中の要素と同等の要素には同
番号を付し、それらについての説明は特に必要の無い限
り省略する。この実施態様装置の光走査部１０’におい
て、基板１６の底面１６ａにはガラスブロック６０が接
合されている。

このガラスブロックθ０は、上記基板１６に接合される
側の表面６０ａと、この表面６０ａに対向する表面６０
ｂにそれぞれ光反射層６１ａ、６１ｂを有している。

これらの光反射１６１ａ、６１ｂは例えば蒸着ミラー等
からなるものである。そして集光性回折格子１４は、導
波光１３の１次回折光が基板１Ｇ側に回折するように形
成され、また基板１６の半導体レーザ１８取付備の端面
１６ｂに対向する端＠　１６ｃは図中上方を向くように
斜めに形成されている。したがって、回折された光１３
は上記端面１６Ｃにおいて全反射し、ガラスブロック６
０内に入射する。なお当然ながら端面１１３ｃの斜めカ
ット角度は、上述の全反射が生じるような角度に設定さ
れ、またガラスブロック６０の表面６０ａにおいて、上
記光１３が入射する範囲には光反射層６１ａが形成され
ていない。

上記のようにしてガラスブロック６０内に入射した光１
３は相対向する２つの光反射１１６１ａ、Ｂｌｂとの閣
で反射を繰り返し、部分的に光反射層６１ｂが除かれた
表面６０ｂからガラスブロック６０外に出射する。した
がってこの場合も、ガラスブロック６０から出射した光
１３の集束スポットＰによりて照射される位置に読取原
稿３１を配置し、前述の副走査を行なわせれば、この原
稿３１は上記スポットＰによって２次元的に走査される
。

そしてこの光走査読取装置においては、上述のようにガ
ラスブロック６０内に走査光の折返し光路を形成したか
ら、ガラスブロック６０を含む光走査２０一部１０′を小型に形成しても、表面弾性波１２によって
偏向される部分から読取原稿３１までの光路長を十分長
く設定することができ、長い主走査幅を確保することが
可能になる。

なおガラスブロック６０内における折返し光路の長さを
より長くするために、そして端面１６ｃで反射した光１
３をより効率良くガラスブロック６０内に入射させるた
めに、当然ながら、光１３ができるだけ小さな入射角で
ガラスブロック６０内に入射するように、端面１６ｃの
斜めカット角度を設定するのが好ましい。また勿論なが
ら上記折返し光路の光路長は、光１３が、スポットＰに
集束する前にガラスブロック６０から出射するように設
定する必要がある。

次に第６図を参照して、本発明の第２の光走査読取装置
の別の実施態様について説明する。この実施態様装置に
おいて、基板１６の端面１ｅａは上記第４．５図の装置
におけるのと反対向きに斜めカットされており、ここに
ガラスブロック６０が接合されている。この場合端面１
６ｃの斜めカット角度は、上記光１３ができるだけ小さ
な入射角でガラスブロック６０内に入射するように設定
される。そのようにすれば、集光性回折格子１４におい
て回折された光（１次回折光）１３が効率良くガラスブ
ロック６０内に入射し、またガラスブロック６０内の折
返し光路の光路長が十分長く設定されうる。

以上のように構成された光走査読取装置においても、ガ
ラスブロック６０内において折返し光路が形成され、前
記第４．５図に示した装置におけるのと同様の効果が得
られる。

以上、蓄積性螢光体シートからの輝尽発光光を読み取る
装置として形成された実施態様について説明したが、本
発明の光走査読取装置は、原稿を光で走査し、その原稿
からの反射光あるいは透過光を光電的に検出して原稿画
像を読み取るように形成することも勿論可能である。

また副走査手段としては前記エンドレスベルト装置３０
に限らず、例えば回転ドラム等、その他の公知のものが
用いられてもよい。勿論、この副走査手段は読取原稿を
移動させるものの他、静置された原稿の表面に沿って光
走査部を移動させるものであってもよい。特に本発明装
置においては、機械的作動部分を持たない簡単な光走査
部が用いられているので、容易に光走査部を移動させる
ことができる。また光検出器も前記フォトマルチプライ
ヤ−４０に限られるものではなく、例えばフォトダイオ
ードアレイ等、その他の公知のものが用いられてもよい
。

さらに本発明の光走査読取装置は、光走査部を複数並置
して、複数本の光を同時に走査するように形成されても
よい。例えば光走査部を３つ並置して、それぞれにＲ，
Ｇ、Ｂ等の相異なる色フィルタ、あるいは相異なる発光
色の光源を組み合わせて、カラー原稿読取りのために使
用することも可能である。

（発明の効果）以上詳細に説明した通り本発明の光走査読取装置は、機
械的作動部分を備えない簡単な光走査部によって光走査
を行なうものであるから、耐久性、耐振動性に優れたも
のとなる。また本発明装置は、導波光を光導波路外に出
射させるためのプリズムカプラーや、走査光を集束させ
るための集束レンズ等を必要としないので、極めて小型
で、また調整も容易で、しかも安価に形成されるものと
なる。

特に本発明の第２の光走査読取装置は、ガラスブロック
内に折返し光路を形成しているので、主走査幅が比較的
長い場合でも読取原稿に近接させて光走査部を配置する
ことが可能となり、特に小型に形成されうるものとなる
。

さらに本発明の光走査読取装置は、導波光を光導波路外
に出射させそして集束させるために、冗長性を有する集
光性回折格子を用いているから、この回折格子部分に多
少の欠損があっても集束スポット形状に影響が及ぶこと
がなく、常に所定形状のビームスポットで精密な画像読
取りを行なうことが可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図はそれぞれ、本発明の第１の光走査
読取装置の一実施態様を示す概略斜視図と側面図、第３図は本発明の第１の光走査読取装置の他の実施態様
を示す概略側面図、第４図および第５図はそれぞれ、本発明の第２の光走査
読取装置の一実施態様を示す概略斜視図と側面図、第６図は本発明の第２の光走査読取装置の他の実／ｉＩ
！態様を示す側面図である。１０．１０’・・・光走査部　　１１・・・光導波路１
２・・・表面弾性波　　　　１３・・・導波光１４・・
・集光性回折格子　　１５・・・交叉くし形電極対１６
・・・基板　　　　　　　１６ａ・・・基板の底面ｉｅ
ｂ、ｃ・・・基板の端面　１７・・・駆動回路１８・・
・半導体レーザ　　　１９・・・導波路レンズ３０・・
・エンドレスベルト装置　３１・・・読取原稿４０・・
・フォトマルチプライヤ− ５０・・・集光体　　　　　　６０・・・ガラスブロッ
ク６０ａ１ｂ・・・ガラスブロックの表面６１ａ、ｂ・
・・光反射層　　Ｐ・・・ビームスポットＳ・・・読取
画像信号

Claims

【特許請求の範囲】

（１）表面弾性波が伝播可能な材料から形成された光導
波路と、この光導波路内に光を入射させる光源と、前記光導波路内を進む導波光を平行光とする光学系と、前記導波光の光路に交わる方向に進行して該導波光を偏
向させる表面弾性波を前記光導波路において発生させる
手段と、この表面弾性波発生手段を、連続的に周波数が変化する
表面弾性波を発生するように駆動する駆動回路と、前記光導波路の表面に形成され、偏向された導波光を該
光導波路外に出射させるとともに該光導波路外の空間に
おいて集束させる集光性回折格子と、前記集束された光が照射される位置に配された読取原稿
と前記光導波路とを、前記偏向によるこの光の走査の方
向と略直角な方向に相対移動させる副走査手段と、前記光の照射によつて得られる前記原稿からの透過光、
反射光あるいは発光光を光電的に検出する光検出器とか
らなる光走査読取装置。
（２）前記光学系が、前記光導波路に形成された導波路
レンズあるいは集光性回折格子からなることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の光走査読取装置。
（３）前記光源が、前記光導波路と同一の基板に結合さ
れていることを特徴とする特許請求の範囲第１項または
第２項記載の光走査読取装置。
（４）表面弾性波が伝播可能な材料から形成された光導
波路と、この光導波路内に光を入射させる光源と、前記光導波路内を進む導波光を平行光とする光学系と、前記導波光の光路に交わる方向に進行して該導波光を偏
向させる表面弾性波を前記光導波路において発生させる
手段と、この表面弾性波発生手段を、連続的に周波数が変化する
表面弾性波を発生するように駆動する駆動回路と、前記光導波路の表面に形成され、偏向された導波光を該
光導波路外に出射させるとともに該光導波路外の空間に
おいて集束させる集光性回折格子と、相対向する両表面にそれぞれ光反射層を有し、前記光導
波路外に出射した光が前記集束の位置に至る前に前記両
表面の間で反射を繰り返すように前記光導波路の基板に
接合されたガラスブロックと、前記集束された光が照射される位置に配された読取原稿
と前記光導波路とを、前記偏向によるこの光の走査の方
向と略直角な方向に相対移動させる副走査手段と、前記光の照射によって得られる前記原稿からの透過光、
反射光あるいは発光光を光電的に検出する光検出器とか
らなる光走査読取装置。
（５）前記集光性回折格子が前記基板側に向けて前記導
波光を回折するように形成され、前記ガラスブロックが
前記光導波路の基板の底面に接合され、前記基板の光入
射側の端面に対向する端面が、前記集光性回折格子によ
って回折された光を前記ガラスブロックに向けて全反射
するように斜めに形成されていることを特徴とする特許
請求の範囲第４項記載の光走査読取装置。
（６）前記集光性回折格子が前記基板側に向けて前記導
波光を回折するように形成され、前記基板の光入射側の
端面に対向する端面が斜めに形成されており、この端面
に、前記ガラスブロックが接合されていることを特徴と
する特許請求の範囲第４項記載の光走査読取装置。