JPS627642B2 - - Google Patents

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JPS627642B2
JPS627642B2 JP56215897A JP21589781A JPS627642B2 JP S627642 B2 JPS627642 B2 JP S627642B2 JP 56215897 A JP56215897 A JP 56215897A JP 21589781 A JP21589781 A JP 21589781A JP S627642 B2 JPS627642 B2 JP S627642B2
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JP
Japan
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copper
resin
conductive paste
parts
experiment
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JP56215897A
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Japanese (ja)
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JPS58117606A (en
Inventor
Tadashi Kitamura
Sumio Hirose
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Publication date
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

本発明は信頼性が高く又公害の発生がなく更に
容易且つ安価に達成できるスルーホール部の導電
方法に関する。 印刷配線板に於いてはスルーホール部の導電方
法として各種の方法が実用化されている。例え
ば、いわゆる銅スルーホールメツキ法、ハンダス
ルーホールメツキ法が代表的であるが、これらの
方法はメツキ工程を必要とする。メツキ工程に於
いてはメツキに長時間必要とするだけでなくメツ
キ浴の管理を厳密に行う事が必要でありはん雑で
ある。又メツキされるスルーホールの内壁の整面
状態が不充分な場合は信頼性に欠けるという欠点
がある。更にメツキ廃液の処理も厳重に行なわな
ければ公害の原因ともなる。スルーホール部の導
電方法の別の方法としてはいわゆる導電性ペース
トを塗布又は充填する方法がある。導電性ペース
トとしては銀等の貴金属を用いたペーストが実用
化されているがこれら貴金属ペーストは高価であ
り、又銀ペーストの場合は銀ペーストを焼き付け
る際に銅箔との接触面で問題が発生するケースが
多い。すなわち銅箔表面がごくわずか酸化される
ことにより酸化第一銅が生成し半導体を形成す
る。よつて微少電流を流した場合の電気特性に方
向性を生じるという重大な欠陥を起すことがしば
しばみうけられる。さらに高湿度下で電流付加を
続けると、いわゆるシルバーマイグレーシヨンを
起し導電回路を短絡させる危険性があり、こうし
た問題を解決する方法が強く望まれている。 本発明者は前記したようなスルーホール部の導
電方法の欠点を改良し、信頼性が高く、簡単で且
つ安価なスルーホール部の導電方法に関して鋭意
検討した結果本発明を達成した。 即ち本発明は(a)金属銅粉又は銅複合粉、(b)銅化
合物、(c)1・4又は1・2−ジヒドロキシベンゼ
ン環(以下、単にジヒドロキシベンゼン環と略
す)を有する還元剤、及び(d)樹脂を含有するか又
は前記(a)〜(d)に更に(e)キレート形成物質を含有す
る導電ペーストをスルーホール部に塗布又は充填
したのち硬化させることを特徴とするスルーホー
ル部の導電方法である。 本発明において(e)キレート形成物質を含まない
導電ペーストの場合には、機構は不明であるが、
導電ペーストの状態での貯蔵性がやや劣つてお
り、貯蔵時間の経過にしたがつて空気と接触して
いる導電ペーストの表面が硬化して品質が損なわ
れ、やがて使用不能となる現象(以後、皮ばり現
象と略記する。)を起す傾向が見うけられる。こ
の皮ばり現象があると、本発明の組成物を長い貯
蔵性を必要とする用途の実用に供しようとする場
合、調合後すみやかに使用する必要があり不便で
あるので、この解決を鋭意検討した結果、(e)キレ
ート形成物質を加えることによつて、これも機構
は不明であるが、他に何ら問題を招かずに実質上
皮ばり現象を防ぎ得ることを見出した。 本発明で用いる金属銅粉又は銅複合粉はその形
状に特に限定はなく、例えばフレーク状、樹枝
状、球状、不定形などの如きものがあり、その粒
径は通常100μ以下が好ましいが、場合によつて
は100μ〜1mmのものも使用可能である。 また、金属銅(箔状のものを含む。)を粉砕し
たもの、酸化第二銅や酸化第一銅などの還元によ
つて得る還元銅粉、熔融した銅を飛躍凝固せしめ
た銅粉、電解析出銅粉及びこれらの方法を2〜3
種類組み合わせて得た銅粉等が使用可能である。 本発明で用いる銅複合粉とは金属粒子が銅と他
の1種以上の金属特に銀、白金、パラジウム、水
銀、金等の貴金属とから構成されている金属粉末
を意味し、例えば銅粒子の表面を上記貴金属でメ
ツキした金属粉や銅と上記貴金属との合金粉等が
ある。この場合の合金とは広い意味での合金であ
り1つの金属粒子が単に銅及び他の金属から成り
立つている状態をいう。例えば銅及び他の金属を
混合融解して作られた原子的に溶け込んだ固溶体
状のものや、単なる成分金属の混合状態である共
晶状態のものや更に成分金属間の金属間化合物を
形成した状態のものがある。又それぞれの成分金
属粉末を混合し振動ミル、ボールミル、スタンプ
ミル等により機械的に強制接合した金属粉も含ま
れる。又銅と前記した貴金属以外の例えばニツケ
ル、亜鉛、スズ、鉛、鉄、アルミニウム、マンガ
ン、タングステン、チタン、ケイ素、マグネシウ
ム、クロム、カドミニウム、コバルト、モリブデ
ン、アンチモン、バナジウム等の金属を含有して
いてもよい。銅複合粉中の銅の含有量は主に経済
的理由から50重量%以上が好ましく、70重量%以
上が特に好ましい。 なお、金属銅粉又は銅複合粉としては、後に記
載する銅化合物の例である酸化第一銅や酸化第二
銅の如きが表面に例えば皮膜として存在する通常
の市販の銅粉でもよく、又、存在しないものや更
に例えば酸化防止処理をほどこしてあるもの、又
凝集防止等のために例えばステアリン酸等で処理
してあるものも使用可能である。又、勿論、金属
銅粉の形状や粒径の異なるものも混合使用しても
よい。 なお、本願において樹脂とは、次のような意味
である。 即ち、最終的に硬化する以前に既に高分子とな
つているもの、又は硬化時の反応によつて高分子
物質となるものであつて、且つ本発明に於ける導
電ペーストを硬化した際、導電性の硬化物を得る
ような物質を意味する。 本発明に於ける導電ペーストは(a)の他に(b)、(c)
及び(d)又は更にこれに(e)を含むことが必要である
が、(a)、(b)、(c)、(d)、(e)に対応する別個の4種類
又は5種類の物質を用いることは必らずしも必要
でなく、例えば(a)と(b)を兼ねた表面に酸化銅の皮
膜が存在する市販の金属銅粉や銅複合粉を用いた
り、又は(c)と(d)を兼ねたジヒドロキシベンゼン環
部を持つ樹脂を用いるなど(a)、(b)、(c)、(d)、(e)の
いくつかを兼ねた物質を用いることにより、4種
類、3種類或いは2種類の物質を混合するだけで
目的を達成することも可能である。以下、本発明
の導電ペーストに用いる各種の物質について代表
例を挙げて説明する。 (1) 銅化合物で(b)としての性質のみを有する物質 塩化第一銅、酸化第一銅、酸化第二銅、酢酸
銅、サリチル酸銅、ステアリン酸銅。 (2) ジヒドロキシベンゼン環部を持つ(c)としての
性質のみを有する物質 ハイドロキノン、カテコール、2−メチル−
ハイドロキノン、ビニルハイドロキノン、ター
シヤリブチルハイドロキノン、クロルハイドロ
キノン、フエニルハイドロキノンその他、次の
ような構造の物質。
The present invention relates to a conductive method for through holes that is highly reliable, does not cause pollution, and can be achieved easily and inexpensively. In printed wiring boards, various methods have been put into practical use as conductive methods for through-hole portions. For example, the so-called copper through-hole plating method and the solder through-hole plating method are representative, but these methods require a plating step. The plating process is complicated because it not only requires a long time for plating, but also requires strict control of the plating bath. Furthermore, if the inner wall of the through-hole to be plated is not sufficiently leveled, there is a drawback that reliability is lacking. Furthermore, if the waste liquid from the smelt is not treated strictly, it may cause pollution. Another method for conducting electricity in the through-hole portion is to apply or fill it with a so-called conductive paste. Pastes using noble metals such as silver have been put into practical use as conductive pastes, but these noble metal pastes are expensive, and in the case of silver pastes, problems occur when the silver paste comes into contact with copper foil when baked. There are many cases where That is, the surface of the copper foil is oxidized to a very small extent, thereby producing cuprous oxide and forming a semiconductor. Therefore, it is often seen that a serious defect occurs in that when a minute current is passed, the electrical characteristics become directional. Furthermore, if current is continued to be applied under high humidity, there is a risk that so-called silver migration will occur and the conductive circuit will be short-circuited, and a method to solve this problem is strongly desired. The present inventor has improved the above-mentioned drawbacks of the conductive method for through-hole portions, and has achieved the present invention as a result of extensive research into a highly reliable, simple, and inexpensive method for conducting conduction for through-hole portions. That is, the present invention provides (a) metallic copper powder or copper composite powder, (b) a copper compound, (c) a reducing agent having a 1.4 or 1.2-dihydroxybenzene ring (hereinafter simply referred to as dihydroxybenzene ring), and (d) a through-hole characterized in that a conductive paste containing a resin or further containing (e) a chelate-forming substance in addition to (a) to (d) is applied or filled into the through-hole portion and then cured. This is the conduction method of the part. In the present invention, in the case of (e) a conductive paste that does not contain a chelate-forming substance, the mechanism is unknown, but
The storability of the conductive paste is somewhat poor, and as the storage time progresses, the surface of the conductive paste that comes into contact with the air hardens, degrading its quality and eventually rendering it unusable (hereinafter referred to as a phenomenon). There is a tendency for this to occur (abbreviated as skin burr phenomenon). If the composition of the present invention is to be used in a practical application that requires a long shelf life, this scalding phenomenon is inconvenient as it must be used immediately after preparation, so we are actively investigating ways to solve this problem. As a result, we found that (e) the addition of a chelate-forming substance can prevent the parenchymal epithelial burr phenomenon without causing any other problems, although the mechanism is also unclear. The shape of the metallic copper powder or copper composite powder used in the present invention is not particularly limited, and may be flaky, dendritic, spherical, irregularly shaped, etc., and the particle size is usually preferably 100μ or less, but in some cases Depending on the situation, 100μ to 1mm can also be used. In addition, pulverized metallic copper (including foil-shaped ones), reduced copper powder obtained by reduction of cupric oxide or cuprous oxide, copper powder made by rapid solidification of molten copper, electric Analysis of copper powder and these methods 2-3
Copper powder etc. obtained by combining types can be used. The copper composite powder used in the present invention refers to a metal powder in which metal particles are composed of copper and one or more other metals, particularly noble metals such as silver, platinum, palladium, mercury, and gold. There are metal powders whose surfaces are plated with the above noble metals, alloy powders of copper and the above noble metals, and the like. The alloy in this case is an alloy in a broad sense, and refers to a state in which one metal particle is simply composed of copper and other metals. For example, copper and other metals may be mixed and melted to create an atomically dissolved solid solution, or a eutectic state that is simply a mixture of component metals, or an intermetallic compound formed between component metals. There is a condition. It also includes metal powders obtained by mixing component metal powders and mechanically forcibly joining them using a vibration mill, ball mill, stamp mill, etc. It also contains metals other than copper and the above-mentioned precious metals, such as nickel, zinc, tin, lead, iron, aluminum, manganese, tungsten, titanium, silicon, magnesium, chromium, cadmium, cobalt, molybdenum, antimony, and vanadium. Good too. The content of copper in the copper composite powder is preferably 50% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more, mainly for economic reasons. Note that the metallic copper powder or copper composite powder may be an ordinary commercially available copper powder in which cuprous oxide or cupric oxide, which are examples of copper compounds described later, are present as a film on the surface, or , those that do not exist, those that have been subjected to, for example, antioxidant treatment, and those that have been treated with, for example, stearic acid to prevent agglomeration, can also be used. Of course, metallic copper powders having different shapes and particle sizes may also be mixed and used. In addition, in this application, resin has the following meaning. That is, it is a material that has already become a polymer before it is finally cured, or a material that becomes a polymer substance through a reaction during curing, and when the conductive paste of the present invention is cured, it becomes conductive. It means a substance that produces a hardened product with a high temperature. In addition to (a), the conductive paste in the present invention includes (b) and (c).
and (d) or further includes (e), but four or five distinct types corresponding to (a), (b), (c), (d), and (e). It is not always necessary to use a substance; for example, commercially available metallic copper powder or copper composite powder with a copper oxide film on the surface that serves as both (a) and (b) may be used, or (c ) and (d) by using a substance that also serves as some of (a), (b), (c), (d), and (e), such as using a resin that has a dihydroxybenzene ring part that also serves as 4. It is also possible to achieve the objective simply by mixing three or two types of substances. Hereinafter, various substances used in the conductive paste of the present invention will be explained using representative examples. (1) Copper compounds having only the properties specified in (b) Cuprous chloride, cuprous oxide, cupric oxide, copper acetate, copper salicylate, copper stearate. (2) Substances having only the properties of (c) with a dihydroxybenzene ring: Hydroquinone, catechol, 2-methyl-
Hydroquinone, vinylhydroquinone, tertiarybutylhydroquinone, chlorohydroquinone, phenylhydroquinone, and other substances with the following structures.

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】【formula】

【式】 更に加熱や又は他の物質を加えることによつ
て前記したようなジヒドロキシベンゼン環部を
有する還元剤を生じる物質、例えばカテコー
ル、ハイドロキノン等とフエニルイソシアナー
トとのアダクト、2−メチルハイドロキノン2
モルとトリレンジイソシアナート1モルのアダ
クト等のような物質。 (3) 樹脂即ち(d)としての性質のみを有する物質 ユリア−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン−
ホルムアルデヒド樹脂、フエノール−ホルムア
ルデヒド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、熱硬
化性飽和ポリエステル樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ポリフエニレンオキサイド樹脂、ポリフ
エニレンサルフアイド樹脂、脂肪酸系アルキツ
ド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、エ
ポキシアクリレート樹脂、アリール樹脂(ジア
リルフタレート樹脂など)、エポキシ樹脂、ウ
レタン樹脂、ポリオキシメチレン樹脂、スピロ
アセタール樹脂、シリコーン樹脂、キシレン樹
脂、ケトン樹脂、ポリサルフアイドゴム、アク
リル樹脂、スチレン樹脂、オレフイン樹脂、ビ
ニルアルカノエート樹脂、ブタジエン系ゴム、
イソブチレン系ゴム、エチレン−プロピレン系
ゴム、クロロプレンゴム、エピクロルヒドリン
ゴム、セルロース系樹脂、ロジン系樹脂、フツ
素系樹脂、ホスホニトリルクロライド系樹脂、
エチルシリケートポリマー。 (4) ジヒドロキシベンゼン環を有する銅化合物、
即ち(b)と(c)を兼ねる物質 前記(2)項の物質の銅塩、 の銅塩。 (5) 樹脂状の銅化合物即ち(b)と(d)を兼ねる物質 飽和又は不飽和ポリエステル樹脂の銅塩、ビ
ニルクロライド−ビニルアセテート−マレイン
酸コポリマーの銅塩、スルホエチルメタアクリ
レート−エチルアクリレートの銅塩、ロジン系
樹脂の銅塩。 (6) ジヒドロキシベンゼン環を有する樹脂、即ち
(c)と(d)を兼ねる物質 ビニルハイドロキノンのポリマーやコポリマ
ー系樹脂、ハイドロキノン−ホルムアルデヒド
系フエノール樹脂、ハイドロキノン−フエノー
ル−ホルムアルデヒド系フエノール樹脂、カテ
コール−ホルムアルデヒド系フエノール樹脂、
1・4−ジヒドロキシナフタレン−ホルムアル
デヒド樹脂。 更に前記(2)の場合と同様に加熱又は他の物質
との反応等によつてジヒドロキシベンゼン環を
生じるような樹脂例えばビニルハイドロキノン
ポリマーとフエニルイソシアナートとのアダク
ト体や、J.Polymer Sci.、part A−1、
1275〜1278(1969)にN.NAKABAYASHIらに
よつて発表されたハイドロキノン−2・5−ビ
ス(エチル−2′−カルボン酸)のビスラクトン
とジアミンの混合物。 (7) ジヒドロキシベンゼン環を有する樹脂状銅化
合物即ち(b)、(c)及び(d)を兼ねる物質 ビニルハイドロキノン−メタアクリル酸コポ
リマーの銅塩、前記(6)項の樹脂の銅塩。 前記した本発明の(c)及び(c)を兼ねる物質のな
かで(c)と(d)を兼ねる物質や(b)と(c)及び(d)を兼ね
る物質が好ましく、(c)のみの物質や(b)と(c)を兼
ねる物質を用いると硬化した導電性樹脂をハン
ダ浴に浸漬した際に導電性の変化が少し大きか
つたり、又初期の導電性がやや劣るといつたよ
うな性能の低下をきたす場合がある。 (8) キレート形成物質、即ち(e)としての性質を示
す物質 本発明に適するキレート形成物質としては、
2価の銅イオンについての安定度定数Kmaの
対数値が、25℃、イオン強度0.1に於て3以
上、好ましくは5以上のものを用いる。これら
の物質としては以下のようなものがある。 8−1 脂肪族アミン及びその誘導体 エチレンジアミン、N−(2−ヒデロキシ
エチル)エチレンジアミン、トリメチレンジ
アミン、1・2−ジアミノシクロヘキサン、
トリエチレンテトラミン、2−アミノメチル
ピリジン。 8−2 芳香族ポリアミン プリン、アデニン、2−アミノメチルピリ
ジン、ヒスタミン。 8−3 β−ジケトン アセチルアセトン、トリフルオルアセチル
アセトン、4・4・4−トリフルオル−1−
フエニル−1・3−ブタンジオン、ヘキサフ
ルオルアセチルアセトン、ベンゾイルアセト
ン、ジベンゾイルメタン、5・5−ジメチル
−1・3−シクロヘキサンジオン。 8−4 フエノール性化合物 オキシン、2−メチルオキシン、オキシン
−5−スルホン酸、ジメチルグリオキシム、
1−ニトロソ−2−ナフトール、2−ニトロ
ソ−1−ナフトール、サリチルアルデヒド。 8−5 その他 2・2′−ジピリジン、1・10−フエナント
ロリン。 尚、(e)としての性質と他の(b)、(c)、(d)などの
性質を兼ねた物質も勿論使用できる。 本発明における銅化合物の使用割合は金属銅粉
及び銅複合粉に対する銅化合物の銅分として0.1
〜30重量%、好ましくは0.2〜10重量%となるよ
うにする。 本発明に於けるジヒドロキシベンゼン環を有す
る還元剤の使用割合は、銅化合物中の銅をすべて
還元するに足る量を基準として、80当量%以上が
好ましく、特に95当量%以上が好ましい。 本発明に於ける樹脂の使用割合は、本発明に用
いる組成物の全不揮発分に対する割合で5〜60重
量%、好ましくは8〜45重量%である。 本発明に於いて用いる樹脂は、それ自体は固体
であつてもよいが硬化の際、それ自身で又は有機
溶剤や水或いは可塑剤等の存在で実質或いはみか
け上液状になるものであればよい。樹脂の使用形
態としては、有機溶剤に溶かした溶剤型タイプ、
水溶性タイプ、水乳化タイプ、溶剤乳化タイプ、
100%液状樹脂タイプ、100%固体樹脂で硬化の際
の温度で液状となるタイプの如きいずれでもよ
く、特に制限はない。 本発明に於いて用いられる基板には特に制約は
なく、セラミツク、陶磁器、ガラス等の無機系の
基板や、いわゆる紙/フエノール積層板、紙/エ
ポキシ積層板やガラス繊維/エポキシ積層板等の
ような熱可塑性樹脂又は熱硬化性樹脂に紙、ガラ
ス繊維、シリカ、アルミナ、水酸化アルミ等のフ
イラーを配合したものやポリエステルフイルム、
ポリイミドフイルム等や更にアルミ、鉄、ステン
レス等の金属表面(スルーホール部も含む)を絶
縁性を有するように被覆したもの等が代表的であ
り、又これら基板には銅箔や導電ペーストによつ
て回路が形成されていてもよい。 前記した基板の形状は板状、薄膜状が一般的で
あるが特に制約はなく、立体的なある種の形に成
形されていてもよい。 又基板のスルーホール部に導電ペーストを塗布
又は充填する方法にも特に制約はなく、例えば細
い金属等の棒の先端に導電ペーストをつけてスル
ーホール部に塗布する方法(ピンあげ法)、スク
リーン印刷等によつてスルーホール部に導電ペー
ストを印刷しながら充填する方法(印刷法)、あ
る種のデイスペーサー、スプレーやインクジエツ
ト等を用いて塗布、充填を行う方法等が代表的で
ある。要は基板に設けられた穿穴に導電ペースト
を塗布又は充填することにより基板の表側と裏側
の間に導電性を付与できればよい。 本発明に於いてはスルーホール部に導電ペース
トを塗布又充填したのち硬化させるがこの際の温
度は通常250℃以下、好ましくは常温から200℃、
特に好ましくは50℃から180℃である。この際銅
化合物の金属銅への還元反応が起るのが好まし
く、還元反応が導電ペーストの硬化終了よりも早
く起つたり、あるいは遅すぎたりすると、本発明
の方法で得られるスルーホール部の導電性の耐久
性に影響する。従つてこのような条件を満足する
ようにジヒドロキシベンゼン環を有する還元剤、
金属銅粉、銅化合物、樹脂及びキレート形成物質
などの選定を行えばよい。 本発明に用いる導電ペーストを硬化させるには
この導電ペーストに用いる前記(d)樹脂の種類によ
り以下に示す方法を用いるとよい。 即ち、これらが、常温乾燥型樹脂(ラツカータ
イプ)の如き乾燥により揮発性物質を蒸発させな
がら硬化させるとか、又、これらが熱硬化性を有
する場合は、その種類に応じ、適宜、(1)熱で効果
させるか、(2)不飽和ポリエステル樹脂、アクリレ
ート樹脂の如き、ビニル重合で硬化する樹脂の場
合は、アゾビスイソブチロニトリル、ジ−t−ブ
チルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド
などの如き、公知の重合開始剤や電子線により、
エポキシ樹脂の場合はトリエチレンテトラミン、
ポリアミドポリアミン、ジアミノジシクロヘキシ
ルメタン、ジアミノジフエニルメタン、アジピン
酸ジヒドラジド、イミダゾール誘導体、ジシアン
ジアミド、三弗化硼素・エチルアミン錯体、ポリ
メルカプト化合物、多価カルボン酸やその無水物
などの如き、公知の硬化剤を用いて、フエノール
樹脂の場合にはヘキサメチレンテトラミン、パラ
ホルムアルデヒド、p−トルエンスルホン酸など
の如き硬化剤又は硬化促進剤により、又、酸化硬
化型の樹脂の場合にはナフテン酸鉛、オクチル酸
コバルトなどの如き公知のドライヤーなどを用い
ることにより、又、熱可塑性の場合には、加熱後
冷却することにより、それぞれ公知の手段で硬化
させればよい。要は、樹脂の種類性質に応じ、そ
れらを硬化させる公知の手段により硬化させれば
よい。 又、本発明に於て導電ペーストを硬化させる際
の雰囲気は、窒素、炭酸ガスの如き不活性ガス、
或いは空気中の如く、いずれの雰囲気下に於ても
よく、特に雰囲気の制限はない。 本発明の方法において導電ペーストを硬化させ
る際に、あらかじめ以下の如き公知の各種添加剤
を配合させてもよい。 例えば、メルカプトプロピオン酸、四臭化炭素
の如き分子量調節剤、p−ベンゾキノン、フエノ
チアジンの如き安定剤、ブチルグリシジルエーテ
ル、フエニルグリシジルエーテルの如き反応性希
釈剤、ジブチルフタレート、トリクレシルホスフ
エートの如き可塑剤、金、銀、パラジウムの如き
周期律表b族及び族に属する貴金属及びこれ
らの化合物、水酸化リチウム、水酸化カリウムの
如き無機塩基、ジメチルベンジルアミン、エタノ
ールアミン、トリス(N・N−ジメチルアミノメ
チル)フエノール、N・N−ジメチルアニリンな
どの如きアミノ化合物、酢酸、蓚酸、安息香酸の
如き酸類、正リン酸ソーダ、硼砂、酢酸カリの如
きPH調節剤、ポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドンの如き粘度調節剤、オレイン酸カリ、
ドデシルベンゼンスルホン酸ソーダ、ポリオキシ
エチレンラウリルエーテル、オクタデシルピリジ
ニウムクロライドの如き界面活性剤、水、トルエ
ン、メチルエチルケトン、エチレングリコールモ
ノエチルエーテルの如き溶剤やその他、パラフイ
ンワツクス、カーボンブラツク、メチルエチルケ
トオキシム、滑剤、難燃剤、着色剤、発泡剤、揺
変剤などがある。 本発明によつて得た導電性を保持したスルーホ
ール部については用途、使用環境、信頼性高揚な
どに留意した場合、以下の如き公知の各種保護処
理をしてもよい。 即ち、このような処理としては、ニツケル、銅
などによる電気又は化学メツキ処理、エポキシ樹
脂、フエノール樹脂、ロジン系物質、ポリエチレ
ンフイルム等による被覆、イミダゾール系処理
剤、シリコーン系処理剤などによる表面処理など
がある。 以下に実施例を記載するが、以下に記載する部
及び%はそれぞれ重量部及び重量%を意味し、ま
た例中に記載する濃度は全成分中の該成分の割合
を重量%で表わす。 (A) スルーホール基板の製作 両面銅張ガラス−エポキシ樹脂積層板、東芝
テコライトMEL−W−44−16(東京芝浦電気
株式会社商品)を用いて5mm間隔で内径1mmの
穴を20個あけた後、穴のランド部の銅箔を巾約
1mm、穴と穴の結ぶ直線部の銅箔を巾約1.5mm
残し、それ以外の銅箔は通常の方法でエツチン
グして第1図に示したようなパターンの基板を
作つた。 (B) スルーホール部の導電方法 上記方法によつて作製した基板のスルーホー
ル部に下記実施例におけるそれぞれの各実験番
号で得られる導電ペーストを0.7mmのドリルの
刃を用いて第2図に示したように充填したのち
80℃で60分間予備乾燥した。次に150℃で90分
間加熱硬化してスルーホール部に導電体を作つ
た。 (C) 性能評価 (C‐1) 導電性 上記(B)の方法で作つた基板の両端の抵抗を
ホイートストンブリツジ(横河電機製作所社
製、Type−2755)を用いて測定した。測定
値はスルーホール20個分の値に相当するので
スルーホール1個当りの抵抗値に換算した。 (C‐2) 耐湿テスト 上記(B)の方法で作つたスルーホール部を導
電ペーストで充填した基板を50℃、相対湿度
95%の恒温恒湿槽に入れ一定時間毎に取り出
し、2時間室温に放置したのち(C−1)の
方法で抵抗値を測定した。 (C‐3) ハンダ耐熱性 上記(B)の方法で作製した基板を260℃のハ
ンダ槽に20秒間浸漬し、室温に2時間放置し
たのち(C−1)の方法に従つて抵抗値の測
定を行つた。 (C‐4) 皮張り性 各実験番号で得た導電ペースト100gを100
mlのポリエチレン製の容器に密栓をして室温
に放置し、一定時間毎に導電ペーストの表面
の皮張りの有無を調べた。 実施例 1 下記実験番号1〜9で得た導電ペースト及び上
記(A)の方法で作つた基板を用いて上記(B)の方法で
スルーホール部に導電ペーストを充填した。次に
上記(C)の方法に従つて性能評価を行つた。結果は
表1にまとめた。 実験番号1(比較例) (イ)工業用銅粉(不定形、平均粒径15μ、酸化銅
約2.0%含有)を110部、(ロ)硬化後の樹脂分が80%
のレゾール型フエノール樹脂(フエノール1モル
とホルムアルデヒド2モル含有したホルマリンを
アンモニア触媒の存在下で反応させて得た樹脂の
エチレングリコールモノメチルエーテル溶液)23
部、(ハ)2−ヒドロキシ−3−フエノキシプロピル
ホスフアイト20部、(ニ)ジメチルアミノエタノール
4部からなる組成物にジアセトンアルコールとエ
チレングリコールモノメチルエーテルの1:1か
らなる混合溶剤を加えて80ポイズの粘度を持つた
導電ペーストを得た。 実験番号2 (イ)実験番号1で用いた工業用銅粉を110部、(ロ)
エチレングリコールモノメチルエーテルに溶解し
た樹脂分80%のハイドロキノン変性レゾール型フ
エノール樹脂(ハイドロキノン2モルとフエノー
ル0.5モルとホルムアルデヒド6モルを含有する
ホルマリンをアンモニア触媒の存在下で反応させ
て得た。)を42部、(ハ)トリス(N・N′−ジメチル
アミノメチル)フエノール0.2部、(ニ)アセト酢酸
エチル12部からなる組成物にジアセトンアルコー
ルとエチレングリコールモノメチルエーテルの
1:1混合溶剤を加えて80ポイズの粘度を持つた
導電ペーストを得た。 実験番号3 実験番号2において(ニ)として4・4・4−トリ
フルオル−1−フエニル−1・3−ブタンジオン
12部を用いる以外は同じ処方によつて80ポイズの
粘度の導電ペーストを得た。 実験番号4 実験番号2において(イ)として工業用フレーク状
銅粉(平均粒径20μ、酸化銅含有量約3.5%)を
20部と工業用電解銅粉(平均粒径15μ、酸化銅含
有量約0.5%)を90部用いる以外は同じ処方で粘
度80ポイズの導電ペーストを得た。 実験番号5 実験番号4において(ニ)として2・2′−ジピリジ
ル5部とアセト酢酸メチル7部を用いる以外は同
じ処方によつて粘度約80ポイズの導電ペーストを
得た。 実験番号6 実験番号4において(ロ)としてエチレングリコー
ルモノメチルエーテルに溶解した樹脂分80%の変
性レゾール型フエノール樹脂(メチルハイドロキ
ノン1.2モルとカテコール.3モルとターシヤリ
−ブチルフエノール0.5モル及びホルムアルデヒ
ド4モルを含有したホルマリンをアンモニア触媒
の存在下で反応させて得た。)を42部と(ニ)として
アセチルアセトン12部を用いる以外は同じ処方に
よつて粘度約80ポイズの導電ペーストを得た。 実験番号7 実験番号6において(イ)として銅−銀合金(フレ
ーク状、銅含有量60%、平均粒径13μ)を110部
及び酸化第二銅0.5部を用いる以外は同じ処方に
よつて粘度約60ポイズの導電ペーストを得た。 実験番号8 実験番号6において(イ)として銅−銀複合粉(85
%の電解銅粉と15%の銀粉を振動ミルによつて機
械的に強制接合して作つた。フレーク状、平均粒
子径15μ、酸化銅含有量0.58%)を110部用いる
以外は同じ処方によつて粘度約60ポイズの導電ペ
ーストを得た。 実験番号9 実験番号3において(イ)として工業用電解銅粉
(平均粒子径7μ、酸化銅含有量約1.6%)105
部、及びフレーク状銀粉(平均粒径3μ)5部を
用いる以外は同じ処方によつて粘度約70ポイズの
導電ペーストを得た。 実施例 2 実施例1の実験番号2と8及び下記の実験番号
10と11で得た導電ペーストを用いて(A)の方法で作
つた基板、(B)の方法、及び(C)の評価方法に従つて
実験した。その結果は表2にまとめた。 実験番号10 (イ)実験番号9において用いた工業用電解銅粉
110部、(ロ)エチレングリコールモノメチルエーテ
ルに溶解した樹脂分80%のレゾール型フエノール
樹脂(フエノール1.5モル、ターシヤリ−ブチル
フエノール0.5モル及びホルムアルデヒド4モル
を含有するホルマリンをアンモニア触媒の存在下
で反応させて得た。)を20部、(ハ)メチルハイドロ
キノン18部、カテコール7部、(ニ)トリス(N・
N′−ジメチルアミノメチル)フエノール0.2部、
(ホ)アセト酢酸エチル12部からなる組成物にジアセ
トンアルコールとエチレングリコールモノメチル
エーテルの1:1混合溶剤を加えて粘度約70ポイ
ズの導電ペースト得た。 実験番号11 (イ)実験番号8において用いた銅−銀複合粉を
110部、(ロ)エピコート#1001(油化シエルエポキ
シ株式会社商品)8部、ユーバン20SE(三井東
圧化学株式会社商品)13.3部、(ハ)カテコール23
部、ハイドロキノン2部、(ニ)トリス(N・N′−
ジメチルアミノメチル)フエノール0.2部、(ホ)ア
セチルアセトン5部、エチレングリコールモノメ
チルエーテル10部からなる組成にジアセトンアル
コールとエチレングリコールモノメチルエーテル
の1:1混合溶剤を加えて粘度約60ポイズの導電
ペーストを得た。
[Formula] A substance that produces a reducing agent having a dihydroxybenzene ring as described above by further heating or adding other substances, such as adduct of catechol, hydroquinone, etc. and phenyl isocyanate, 2-methylhydroquinone 2
A substance such as an adduct of 1 mole of tolylene diisocyanate and 1 mole of tolylene diisocyanate. (3) Resins, i.e. substances that have only properties as (d): urea formaldehyde resin, melamine
Formaldehyde resin, phenol-formaldehyde resin, unsaturated polyester resin, thermosetting saturated polyester resin, polycarbonate resin, polyphenylene oxide resin, polyphenylene sulfide resin, fatty acid alkyd resin, polyamide resin, polyimide resin, epoxy acrylate resin , aryl resin (such as diallyl phthalate resin), epoxy resin, urethane resin, polyoxymethylene resin, spiroacetal resin, silicone resin, xylene resin, ketone resin, polysulfide rubber, acrylic resin, styrene resin, olefin resin, vinyl alkano resin ate resin, butadiene rubber,
Isobutylene rubber, ethylene-propylene rubber, chloroprene rubber, epichlorohydrin rubber, cellulose resin, rosin resin, fluorine resin, phosphonitrile chloride resin,
Ethyl silicate polymer. (4) a copper compound having a dihydroxybenzene ring,
That is, a substance that serves both (b) and (c); a copper salt of the substance in item (2) above; copper salt. (5) Resin-like copper compounds, i.e. substances that serve as both (b) and (d) Copper salts of saturated or unsaturated polyester resins, copper salts of vinyl chloride-vinyl acetate-maleic acid copolymers, sulfoethyl methacrylate-ethyl acrylate Copper salt, copper salt of rosin resin. (6) Resin having dihydroxybenzene ring, i.e.
Substances that serve both (c) and (d) Vinyl hydroquinone polymers and copolymer resins, hydroquinone-formaldehyde phenolic resins, hydroquinone-phenol-formaldehyde phenolic resins, catechol-formaldehyde phenolic resins,
1,4-dihydroxynaphthalene-formaldehyde resin. Furthermore, as in the case of (2) above, resins that generate dihydroxybenzene rings by heating or reaction with other substances, such as adducts of vinyl hydroquinone polymer and phenyl isocyanate, and J. Polymer Sci. , part A-1, 7 ,
A mixture of bislactone and diamine of hydroquinone-2,5-bis(ethyl-2'-carboxylic acid) published by N.NAKABAYASHI et al. in 1275-1278 (1969). (7) A resinous copper compound having a dihydroxybenzene ring, that is, a substance that also serves as (b), (c), and (d): a copper salt of a vinylhydroquinone-methacrylic acid copolymer, a copper salt of the resin described in item (6) above. Among the substances that serve as (c) and (c) of the present invention described above, substances that serve as both (c) and (d), and substances that serve as (b), (c), and (d) are preferable, and only (c) When using a substance that functions as (b) and (c), the change in conductivity may be a little large when the cured conductive resin is immersed in a solder bath, or the initial conductivity may be slightly inferior. This may result in performance deterioration. (8) Chelate-forming substances, that is, substances exhibiting properties as (e) Chelate-forming substances suitable for the present invention include:
The logarithm value of the stability constant Kma for divalent copper ions at 25° C. and ionic strength of 0.1 is 3 or more, preferably 5 or more. These substances include the following: 8-1 Aliphatic amines and their derivatives Ethylenediamine, N-(2-hydroxyethyl)ethylenediamine, trimethylenediamine, 1,2-diaminocyclohexane,
Triethylenetetramine, 2-aminomethylpyridine. 8-2 Aromatic polyamine Purine, adenine, 2-aminomethylpyridine, histamine. 8-3 β-diketone acetylacetone, trifluoroacetylacetone, 4,4,4-trifluoro-1-
Phenyl-1,3-butanedione, hexafluoroacetylacetone, benzoylacetone, dibenzoylmethane, 5,5-dimethyl-1,3-cyclohexanedione. 8-4 Phenolic compounds oxine, 2-methyloxine, oxine-5-sulfonic acid, dimethylglyoxime,
1-Nitroso-2-naphthol, 2-nitroso-1-naphthol, salicylaldehyde. 8-5 Others 2,2'-dipyridine, 1,10-phenanthroline. Of course, it is also possible to use substances that have the property (e) and other properties such as (b), (c), and (d). The ratio of copper compound used in the present invention is 0.1 as the copper content of the copper compound to metallic copper powder and copper composite powder.
-30% by weight, preferably 0.2-10% by weight. The proportion of the reducing agent having a dihydroxybenzene ring used in the present invention is preferably 80 equivalent % or more, particularly preferably 95 equivalent % or more, based on the amount sufficient to reduce all the copper in the copper compound. The proportion of the resin used in the present invention is 5 to 60% by weight, preferably 8 to 45% by weight based on the total nonvolatile content of the composition used in the present invention. The resin used in the present invention may be solid in itself, but it may be one that becomes substantially or apparently liquid upon curing by itself or in the presence of an organic solvent, water, plasticizer, etc. . The usage form of resin is solvent-based type dissolved in organic solvent,
Water-soluble type, water emulsion type, solvent emulsion type,
It may be either a 100% liquid resin type or a 100% solid resin type that becomes liquid at the temperature during curing, and is not particularly limited. The substrate used in the present invention is not particularly limited, and may include inorganic substrates such as ceramic, ceramic, glass, etc., so-called paper/phenol laminates, paper/epoxy laminates, glass fiber/epoxy laminates, etc. Thermoplastic resin or thermosetting resin mixed with fillers such as paper, glass fiber, silica, alumina, aluminum hydroxide, polyester film,
Typical examples include polyimide films and metal surfaces such as aluminum, iron, and stainless steel (including through-holes) coated with insulating properties, and these substrates are coated with copper foil or conductive paste. A circuit may be formed therebetween. The shape of the substrate described above is generally plate-like or thin-film-like, but there are no particular restrictions, and it may be formed into a certain three-dimensional shape. There are also no particular restrictions on the method of applying or filling conductive paste into the through-holes of the board, such as applying conductive paste to the tip of a thin metal rod and applying it to the through-holes (pin-up method), screen method, etc. Typical methods include a method of printing and filling a conductive paste into a through-hole portion by printing or the like (printing method), and a method of applying and filling using a certain type of spacer, spray, or inkjet. The point is that conductivity can be imparted between the front side and the back side of the substrate by applying or filling the conductive paste into the holes provided in the substrate. In the present invention, the conductive paste is applied or filled into the through-hole portion and then cured, but the temperature at this time is usually 250°C or less, preferably room temperature to 200°C,
Particularly preferably the temperature is from 50°C to 180°C. At this time, it is preferable that a reduction reaction of the copper compound to metallic copper occur, and if the reduction reaction occurs earlier or too late than the completion of curing of the conductive paste, the through-hole portion obtained by the method of the present invention may Affects conductivity durability. Therefore, in order to satisfy such conditions, a reducing agent having a dihydroxybenzene ring,
Metallic copper powder, copper compounds, resins, chelate-forming substances, etc. may be selected. In order to harden the conductive paste used in the present invention, the following method may be used depending on the type of resin (d) used in the conductive paste. In other words, if these resins are cured while evaporating volatile substances by drying, such as ordinary temperature drying resins (Latzker type), or if they have thermosetting properties, depending on the type, (1) heat treatment may be applied as appropriate. (2) In the case of resins that are cured by vinyl polymerization, such as unsaturated polyester resins and acrylate resins, such as azobisisobutyronitrile, di-t-butyl peroxide, benzoyl peroxide, etc. Using known polymerization initiators and electron beams,
For epoxy resin, triethylenetetramine,
Known curing agents such as polyamide polyamines, diaminodicyclohexylmethane, diaminodiphenylmethane, adipic acid dihydrazide, imidazole derivatives, dicyandiamide, boron trifluoride/ethylamine complexes, polymercapto compounds, polycarboxylic acids and their anhydrides, etc. In the case of phenolic resins, curing agents or curing accelerators such as hexamethylenetetramine, paraformaldehyde, p-toluenesulfonic acid, etc. are used, and in the case of oxidation-curing resins, lead naphthenate, cobalt octylate, etc. It may be hardened by known means, such as by using a known dryer such as, for example, or, in the case of thermoplastic material, by heating and then cooling. In short, the resin may be cured by any known means depending on the type and nature of the resin. In addition, in the present invention, the atmosphere when curing the conductive paste is an inert gas such as nitrogen or carbon dioxide,
Alternatively, it may be in any atmosphere such as in the air, and there is no particular restriction on the atmosphere. When curing the conductive paste in the method of the present invention, various known additives such as those listed below may be added in advance. For example, molecular weight regulators such as mercaptopropionic acid, carbon tetrabromide, stabilizers such as p-benzoquinone, phenothiazine, reactive diluents such as butyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, etc. Noble metals belonging to group B and groups of the periodic table such as gold, silver, and palladium, and their compounds; inorganic bases such as lithium hydroxide and potassium hydroxide; dimethylbenzylamine, ethanolamine, and tris(N.N. - amino compounds such as (dimethylaminomethyl)phenol, N/N-dimethylaniline, acids such as acetic acid, oxalic acid, benzoic acid, PH regulators such as sodium orthophosphate, borax, potassium acetate, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone. Viscosity modifiers such as potassium oleate,
Surfactants such as sodium dodecylbenzenesulfonate, polyoxyethylene lauryl ether, octadecylpyridinium chloride, solvents such as water, toluene, methyl ethyl ketone, ethylene glycol monoethyl ether, paraffin wax, carbon black, methyl ethyl ketoxime, lubricants, These include flame retardants, colorants, blowing agents, and thixotropic agents. The through-hole portion that maintains conductivity obtained by the present invention may be subjected to various known protection treatments as described below, if consideration is given to the application, usage environment, and enhancement of reliability. That is, such treatments include electrical or chemical plating with nickel, copper, etc., coating with epoxy resin, phenolic resin, rosin-based substances, polyethylene film, etc., surface treatment with imidazole-based processing agents, silicone-based processing agents, etc. There is. Examples will be described below, in which parts and % hereinafter mean parts by weight and % by weight, respectively, and concentrations described in the examples represent the proportion of the component in all components in % by weight. (A) Fabrication of through-hole board Using a double-sided copper-clad glass-epoxy resin laminate and Toshiba Tecolite MEL-W-44-16 (product of Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd.), 20 holes with an inner diameter of 1 mm were drilled at 5 mm intervals. After that, the copper foil on the land part of the hole is about 1mm wide, and the copper foil on the straight part connecting the holes is about 1.5mm wide.
The remaining copper foil was etched using the usual method to produce a substrate with the pattern shown in FIG. (B) Conductive method for through-hole parts The conductive paste obtained for each experiment number in the following examples was applied to the through-hole parts of the board produced by the above method using a 0.7 mm drill bit as shown in Figure 2. After filling as shown
It was pre-dried at 80°C for 60 minutes. Next, the material was cured by heating at 150°C for 90 minutes to form a conductor in the through hole. (C) Performance evaluation (C-1) Conductivity The resistance at both ends of the board produced by the method (B) above was measured using a Wheatstone bridge (manufactured by Yokogawa Electric Corporation, Type-2755). Since the measured value corresponds to the value for 20 through holes, it was converted to the resistance value per through hole. (C-2) Moisture resistance test A substrate with conductive paste filled in the through-holes made by the method (B) above was heated at 50℃ and relative humidity.
It was placed in a 95% constant temperature and humidity chamber and taken out at regular intervals, and after being left at room temperature for 2 hours, the resistance value was measured using the method described in (C-1). (C-3) Solder heat resistance The board prepared by the method (B) above was immersed in a solder bath at 260℃ for 20 seconds, left at room temperature for 2 hours, and then the resistance value was determined according to the method (C-1). I took measurements. (C-4) Skin tension 100g of conductive paste obtained in each experiment number was
A ml polyethylene container was sealed and left at room temperature, and the presence or absence of a skin on the surface of the conductive paste was checked at regular intervals. Example 1 Using the conductive pastes obtained in Experiments 1 to 9 below and the substrate made by the method (A) above, the conductive paste was filled into the through-hole portions by the method (B) above. Next, performance evaluation was performed according to method (C) above. The results are summarized in Table 1. Experiment No. 1 (Comparative Example) (a) 110 parts of industrial copper powder (amorphous, average particle size 15μ, containing about 2.0% copper oxide), (b) Resin content after curing is 80%
resol type phenolic resin (ethylene glycol monomethyl ether solution of resin obtained by reacting formalin containing 1 mole of phenol and 2 moles of formaldehyde in the presence of an ammonia catalyst)23
(c) 20 parts of 2-hydroxy-3-phenoxypropyl phosphite, and (d) 4 parts of dimethylaminoethanol were mixed with a mixed solvent of diacetone alcohol and ethylene glycol monomethyl ether in a ratio of 1:1. In addition, a conductive paste with a viscosity of 80 poise was obtained. Experiment number 2 (a) 110 parts of the industrial copper powder used in experiment number 1, (b)
A hydroquinone-modified resol type phenolic resin (obtained by reacting formalin containing 2 moles of hydroquinone, 0.5 moles of phenol, and 6 moles of formaldehyde in the presence of an ammonia catalyst) with a resin content of 80% dissolved in ethylene glycol monomethyl ether was prepared at 42 (c) 0.2 parts of tris(N-N'-dimethylaminomethyl)phenol, and (d) 12 parts of ethyl acetoacetate by adding a 1:1 mixed solvent of diacetone alcohol and ethylene glycol monomethyl ether. A conductive paste with a viscosity of 80 poise was obtained. Experiment No. 3 4,4,4-trifluoro-1-phenyl-1,3-butanedione as (d) in Experiment No. 2
A conductive paste with a viscosity of 80 poise was obtained using the same recipe except that 12 parts were used. Experiment No. 4 In Experiment No. 2, industrial flake copper powder (average particle size 20μ, copper oxide content approximately 3.5%) was used as (a).
A conductive paste with a viscosity of 80 poise was obtained using the same recipe except that 20 parts and 90 parts of industrial electrolytic copper powder (average particle size 15μ, copper oxide content approximately 0.5%) were used. Experiment No. 5 A conductive paste having a viscosity of about 80 poise was obtained using the same recipe as in Experiment No. 4 except that 5 parts of 2,2'-dipyridyl and 7 parts of methyl acetoacetate were used as (d). Experiment No. 6 In Experiment No. 4, a modified resol type phenolic resin with a resin content of 80% (1.2 moles of methylhydroquinone, 3 moles of catechol, 0.5 moles of tert-butylphenol and 4 moles of formaldehyde was dissolved in ethylene glycol monomethyl ether as (b) in Experiment No. 4). A conductive paste with a viscosity of about 80 poise was obtained using the same recipe except that 42 parts of (obtained by reacting the formalin it contained) in the presence of an ammonia catalyst and 12 parts of acetylacetone were used as (d). Experiment No. 7 The viscosity was determined using the same recipe as in Experiment No. 6 except that 110 parts of copper-silver alloy (flake form, copper content 60%, average particle size 13μ) and 0.5 parts of cupric oxide were used as (a). A conductive paste of about 60 poise was obtained. Experiment No. 8 In Experiment No. 6, copper-silver composite powder (85
% electrolytic copper powder and 15% silver powder were mechanically forcibly joined using a vibration mill. A conductive paste with a viscosity of about 60 poise was obtained using the same recipe except that 110 parts of flake-like, average particle size 15 μm, copper oxide content 0.58% was used. Experiment No. 9 In Experiment No. 3, as (a), industrial electrolytic copper powder (average particle size 7μ, copper oxide content approximately 1.6%) 105
A conductive paste with a viscosity of about 70 poise was obtained using the same recipe except that 5 parts of flaky silver powder (average particle size: 3 μm) were used. Example 2 Experiment numbers 2 and 8 of Example 1 and experiment numbers below
Experiments were conducted using the conductive pastes obtained in steps 10 and 11 on a substrate made by method (A), method (B), and evaluation method (C). The results are summarized in Table 2. Experiment No. 10 (a) Industrial electrolytic copper powder used in Experiment No. 9
110 parts, (b) A resol type phenolic resin with a resin content of 80% dissolved in ethylene glycol monomethyl ether (formalin containing 1.5 moles of phenol, 0.5 moles of tert-butylphenol and 4 moles of formaldehyde is reacted in the presence of an ammonia catalyst. ), 18 parts of (c)methylhydroquinone, 7 parts of catechol, (ni)tris (N.
0.2 parts of N′-dimethylaminomethyl)phenol,
(e) A 1:1 mixed solvent of diacetone alcohol and ethylene glycol monomethyl ether was added to a composition consisting of 12 parts of ethyl acetoacetate to obtain a conductive paste with a viscosity of about 70 poise. Experiment number 11 (a) The copper-silver composite powder used in experiment number 8
110 parts, (b) Epicote #1001 (Yuka Ciel Epoxy Co., Ltd. product) 8 parts, Yuban 20SE (Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd. product) 13.3 parts, (c) Catechol 23
part, 2 parts of hydroquinone, (ni)tris (N・N'-
A 1:1 mixed solvent of diacetone alcohol and ethylene glycol monomethyl ether was added to a composition consisting of 0.2 parts of dimethylaminomethyl)phenol, 5 parts of (e)acetylacetone, and 10 parts of ethylene glycol monomethyl ether to form a conductive paste with a viscosity of about 60 poise. Obtained.

【表】【table】

【表】【table】 【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の実施例に用いたテスト用のス
ルーホール基板でAは平面図、Bはスルーホール
部の断面図、Cは底面図である。第2図はスルー
ホール部に導電ペーストを充填した状態を示す断
面図である。 1……基板、2……スルーホール、3……銅
箔、4……導電ペースト。
FIG. 1 shows a through-hole board for testing used in an embodiment of the present invention, in which A is a plan view, B is a sectional view of the through-hole portion, and C is a bottom view. FIG. 2 is a sectional view showing a state in which the through-hole portion is filled with conductive paste. 1... Board, 2... Through hole, 3... Copper foil, 4... Conductive paste.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 (a)金属銅粉又は銅複合粉、(b)銅化合物、(c)
1・4又は1・2−ジヒドロキシベンゼン環を有
する還元剤、及び(d)樹脂を含有するか又は前記(a)
〜(d)に更に(e)キレート形成物質を含有してなる導
電ペーストを基板上のスルーホール部に塗布又は
充填したのち硬化させることを特徴とするスルー
ホール部の導電方法。
1 (a) Metallic copper powder or copper composite powder, (b) Copper compound, (c)
A reducing agent having a 1,4 or 1,2-dihydroxybenzene ring, and (d) a resin, or the above (a)
A conductive method for a through-hole portion, which comprises applying or filling a conductive paste containing (e) a chelate-forming substance to the through-hole portion on a substrate in addition to (d) and then curing the paste.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6430018A (en) * 1987-07-24 1989-01-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd Rotary head device

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH064791B2 (en) * 1985-09-30 1994-01-19 タツタ電線株式会社 Conductive paint
JPH0619075B2 (en) * 1986-09-26 1994-03-16 タツタ電線株式会社 Conductive paint that can be soldered
JP2690744B2 (en) * 1988-06-03 1997-12-17 三井東圧化学株式会社 Multilayer printed circuit board
JP2541879B2 (en) * 1991-03-29 1996-10-09 タツタ電線株式会社 Conductive paint
JP2541878B2 (en) * 1991-03-29 1996-10-09 タツタ電線株式会社 Conductive paint
US5766670A (en) * 1993-11-17 1998-06-16 Ibm Via fill compositions for direct attach of devices and methods for applying same
JP3309231B2 (en) * 1993-08-25 2002-07-29 タツタ電線株式会社 Conductive paint with good adhesion to molded metal oxide
JP2007123375A (en) * 2005-10-26 2007-05-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd Conductive paste composition, printed wiring board using the same, and manufacturing method therefor

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5161545A (en) * 1974-11-27 1976-05-28 Mitsui Toatsu Chemicals
JPS5193394A (en) * 1975-02-13 1976-08-16 DODENYO SOSEIBUTSU

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5161545A (en) * 1974-11-27 1976-05-28 Mitsui Toatsu Chemicals
JPS5193394A (en) * 1975-02-13 1976-08-16 DODENYO SOSEIBUTSU

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6430018A (en) * 1987-07-24 1989-01-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd Rotary head device

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Publication number Publication date
JPS58117606A (en) 1983-07-13

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