JPS6275222A - 圧力・差圧伝送器 - Google Patents

圧力・差圧伝送器

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JPS6275222A
JPS6275222A JP21460885A JP21460885A JPS6275222A JP S6275222 A JPS6275222 A JP S6275222A JP 21460885 A JP21460885 A JP 21460885A JP 21460885 A JP21460885 A JP 21460885A JP S6275222 A JPS6275222 A JP S6275222A
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JP
Japan
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pressure
melting point
receiving diaphragm
diaphragm
pressure receiving
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Pending
Application number
JP21460885A
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English (en)
Inventor
Takao Sawa
孝雄 沢
Masashi Sahashi
政司 佐橋
Susumu Hashimoto
進 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] 本発明は受圧ダイヤプラムを備えた圧力・差圧伝送器に
関し、ざらに詳しくは、圧力に対する受圧ダイヤフラム
のたわみにの線形性に優れ、その結果検出感度が極めて
高く、しかも、ダイヤフラムとダイヤフラム座との接合
性が良好で両者の間の気密・液密性に優れた圧力−差圧
伝送器に関する。
[発明の技術的背景とその問題点] 受圧ダイヤプラムを設けた差圧伝送器としては、例えば
、第3図に示すような構成のものが知られている。
図において、高圧側被測定流体が流入する流入流入する
流入口2aを有するフランジ2とはそれぞれ受圧ダイヤ
フラム3および4を介してケーシング5.6および7に
は上記受圧ダイヤフラム3および4に対向して受圧ダイ
ヤフラム座3A、4Aが設けられている。上記ケーシン
グ5,13.7はフランジ1および2に対してシール部
8によって液密にシールされており、また、ケーシング
5.6間には中間ダイヤフラム8が介在されている。そ
してこの中間ダイヤフラム9と前記受圧ダイヤフラム3
によって形成される第1の空間10(これはケーシング
5両側に形成される)には圧力伝達媒体12Aが充填さ
れ、同様に中間ダイヤフラム9と前記受圧ダイヤフラム
4によって形成される第2の空間11(これはケーシン
グ6両側に形成される)には圧力伝達媒体12Bが充填
されている。また、前記ケーシング7内には半導体感圧
素子13が設けられていて、この感圧素子13はそれぞ
れ連通孔14.15を介して上記空間lo、 ttに連
通され、圧力伝達媒体12Aおよび12Bで伝達される
差圧力を検知してこれを電気信号に変換し、リード線1
6を介して外部に出力するようになっている。
−に記差圧伝送器において、中間ダイヤフラム9は過大
差圧力を保護する]]的で設けられたものであり、その
剛性が受圧ダイヤフラム3.4の剛性に比べて充分大き
くなるように配慮して設計されている。例えば高圧側に
、低圧側に比べて大きい圧力が加わると、中間ダイヤフ
ラム9は図の右方向に移動し、その撓みによって生じた
容積分だけ受圧ダイヤフラム3が右方向に移動する。受
圧ダイヤフラム4についても同様である。
かかる受圧ダイヤフラム3.4は被測定波体と圧力伝達
媒体12A 、 12Bを分離するためのもので、円形
であることが一般的であり、また、圧力をできる限り損
失なく伝えるように、剛性が低い材料で構成されること
が望ましい。
一般には中間ダイヤフラム9と受圧ダイヤフラム3.4
の剛性比を50=1以ヒに設定すれば、圧力損失率(受
圧ダイヤフラム3.4の外側の差圧が内側に伝達される
際の損失の割合)は3.8%以rとなり、実用上差し支
えない程度に向上する。
このように受圧ダイヤフラム3,4の剛性を低く抑える
ためにはダイヤフラムの板厚を可能な限り薄くし、かつ
、全体を例えば波形形状とすることにより有効径をでき
るだけ大きくすることが望ましい。
従来、受圧ダイヤフラムの構成材料としては5US31
8Lが一般に使用されていた。しかしながら、剛性を低
下せしめるために、5US318Lの板厚を薄くしよう
としても、材料の加工性および強度の点から、その板厚
は50μ程度が限界である。さらに、この5US318
Lはダイヤフラム系が小さい場合、圧力損失率が高く、
とくに低圧力下での感度が低く、被測定流体に対する耐
食性が充分でないなどの問題もある。
そのため、最近になって、受圧ダイヤフラムの構成材料
として、高い強度および低い弾性率を有するアモルファ
ス合金が検討されつつある。しかしながら、このアモル
ファス合金よりなる受圧ダイヤフラムの周縁部をケーシ
ングに接合する場合受圧ダイヤフラムで仕切られた内部
空間の気密・液密性を保持するために、従来の5US3
18L製のダイヤフラムは溶接法によってケーシングに
接合されていたが、アモルファス合金製のダイヤフラム
の場合、結晶化温度以上まで加熱すると直ちに結晶化し
て優れた機械的特性が消失してしまうので溶接法を適用
することができず、そのため、無害性、液密性を維持す
ることが困難であるという不都合がある。さらには、こ
のアモルファス合金よりなる受圧ダイヤフラムにおいて
、圧力に対するダイヤフラムのたわみ漬の直線性を向上
せしめるためには、前述した如き波形形状とすることが
好ましい、しかしながら、アモルファス合金は塑性変形
しにくい材料であるため、かかる形状に加工することが
極めて困難であるという問題が存在する。
[発明の目的] 本発明は従来のかかる問題を解消し、アモルファス合金
よりなる受圧ダイヤフラムを備えた圧の気密・液密性が
高く、シかも、圧力に対する該受圧ダイヤフラムのたわ
み量の直線性が良好で、とくに低圧力領域で感度が高い
圧力・差圧伝送器の提供を目的とする。
[発明の概要] 木発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねる
中で、前述したようにケーシングに接合されたアモルフ
ァス合金よりなる受圧ダイヤフラムの表面の少なくとも
該ケーシングとの接合部に低融点合金層を形成すると、
該低融点合金層を介して、例えば5US3113Lより
なるケーシングと低温にて接合することができるという
着想を得た。また、さらには、ダイヤフラムの全表面に
上述の低融点合金層を形成すると、該アモルファス合金
よりなる受圧ダイヤフラムを塑性変形せしめることが容
易となるという事実を見出し、本発明を完成・  する
に到った。
すなわち、本発明の圧力・差圧伝送器は、ケーシングに
接合されたアモルファス合金よりなる受圧ダイヤフラム
と、被測定流体の圧力を検出してそれを電気信号に変換
して外部に出力する感圧素子とを備えた圧力・差圧伝送
器において、該受圧ダイヤフラム表面の少なくとも該接
合部に低融点本発明の圧力・差圧伝送器は、前述したよ
うにその受圧ダイヤフラムの構成に特徴を有するもので
ある。
まず、受圧ダイヤフラムを構成するアモルファス合金と
しては、金属−半金属系、金属−金属系のいずれであっ
てもよい、金属−半金属系のものとしては、一般式: %式%(1) で示されるものがあげられる。但し、式(1)において
、にはFe、 Go、 Ni、 Cuよりなる群から選
ばれる少なくとも1種の元素を表わし、TはTi、 Z
r、If、 V 、 Wb、 Ta、 Cr、 Au、
 Ag、 No、W 、 Mn、 Re、Ru、 Rh
、 Ir、 Pt、 Pd、 Sn、 Pb、 Sb、
旧、Y、希土類元素よりなる群から選ばれる少なくとも
1種の元素を表わし、ZはB、P、Si、Ge、C,A
JLよりなる群から選ばれる少なくとも1種を表わす。
また、aは0≦a≦0.3を満足する数であり、m゛ 
 は10≦m≦40を満足する数である。式(1)にお
いて、Tは結晶化温度の向上および耐食性の改善に有効
な元素であり、0.01≦a≦0.15程度であるこ゛
  とが好ましい。一方、Zは非晶質化に寄与する元“
  素であり、BあるいはPは必須である。また、と1
3、。、67、Ge、。、4゜ttア−etv−y y
 xh*v>u□  晶化温度を高めるとともに、縦弾
性係数を低減□  し、その結果、強靭性と低弾性をあ
わせもつ材料、  を得る。ために有効である。このと
き、lがlO未満゛  もしくは40を超える場合は非
晶質化が困難とな:  る。
一方、金属−金属系のものとしては、一般式:%式%(
2) 号  で示されるものがあげられる。但し、式(2)に
お1  いて、X′はFe、 Go、 Niから選ばれ
る少なくとも11  種の元素を表わし、N”はV、 
Or、 Mn、 Cu、No、・i 、1Rh、Pd、Ag、W、Re、!「、Pt、 Au
よりなる群から□ jTi、Zr、Hf、Nb、Taよりなる群から選ばれ
る少なくとも1種の元素を表わし、YはSi、 B 、
 P、C、Geよりなる群から選ばれる少なくとも1種
の元素を表わす、また、!、!および2は、それぞれ、
0.01≦X≦0.20.6≦y≦25および0≦2≦
lOを満足する数である0式(2)において、「は主と
して耐熱性、ja械的特性の向上に有効であり、なかで
も、 Cr、Cu、Rh、 Pd、 Ru、 Ag。
It、 PtおよびAuは耐食性の他片にも寄与する元
素である。
かかるアモルファス合金において、耐環境性を考慮する
と非磁性材料であることが好ましく、具体的には、例え
ば金属−半金属系ではNi基のアモルファス合金が好適
である。さらに、アモルファス合金の縦弾性係数が15
,000kg/s層2以下の場合にその圧力伝達性が向
−ヒするが、この縦弾性係数があまりに低いと剛性が過
度に低くなって構造材として充分な機械的強度が発現し
ないという不都合があるため、好ましくは2,000〜
15,000kg/園腸2程度である。
ついで、上記のアモルファス合金により構成された受圧
ダイヤフラムの表面に形成される低融点合金層の材料と
しては、とくに制限されるものではなく1例えば、通常
のはんだ材料を使用することができる。この低融点合金
の融点は、使用するアモルファス合金の結晶化温度より
低いことは言うまでもないが、あまりに低いと接合強度
が低下するので、例えば、融点が140℃以上のものが
好ましい、具体例としては、 In−9b、 Sn −
In。
Bi −In、 Sn −Cd −Pb、 Sn −P
b −In、Sn −Pb −Bi、In−Pb、 5
n−Pb系の合金があげられる。
° さらに、かかる低融点合金層をアモルファス合金よ
りなる受圧ダイヤフラム表面に形成する場合、アモルフ
ァス合金と低融点合金層との密着性を向上せしめ、かつ
、低融点合金層を均一なものとするために1両者の間に
金属メッキ層を介在させることが好ましい、このような
金属としてはとくに限定されるものではないが、例えば
Cu、 Auなどをあげることができる。このような受
圧ダイヤフラムにあっては、各層の層厚はとくに制限さ
れるものではないが、受圧ダイヤフラムの板厚も含めて
トータルで20〜50−程度であることが好ましい。
この受圧ダイヤフラム表面には、少なくとも。
その接合部に上記の低融点合金層が形成されていればよ
い、すなわち、第1図に示すように、受圧ダイヤフラム
30表面において、ケーシング5および7(第3図)と
の接合部はその周縁部30aであるため、この領域に上
記の低融点合金層を形成する。なお、かかる受圧ダイヤ
フラム30を第3図に示したような圧力・差圧伝送器に
組み込む場合は、ケーシング5および7の接合面にも同
様に低融点合金層を形成しておくと、両者の接合強度を
高めるうえで有効である。
さらに、この受圧ダイヤフラムの全表面にわたって上記
低融点合金層を形成すると、前述したように、ダイヤプ
ラムを塑性変形せしめることが可能となるため、このダ
イヤプラムを例えば波形形状に加工し、受圧ダイヤプラ
ムの有効径を大きくすることができるため、圧力に対す
る受圧ダイヤフラムのたわみ量の直線性を高めるうえで
非常に効果的である。具体的には、例えば、円形のダ・
イヤフラムにおいて、中心から半径方向外方に向って同
心円状に波形が形成された構成とすることが好ましい。
なお、アモルファス合金とケーシングの接合時の熱によ
り良好に接合されてもアモルファス合金がたわむ場合が
あり、これをなくすために予め結晶化温度以下の温度で
脆化を起こさない程度の熱処理を行なうことが好ましい
[発明の実施例] 実施例1 Ni7aSi+oBt2よりなる組成のアモルファス合
金を幅Sowm、板厚30戸のE1帯としたのち、予め
、200°Cで5時間熱処理したのち、表面にCuメッ
キを施して、厚さ 2ILIIのCuメッキ層を形成し
た。このアモルファス合金薄帯をエツチングすることに
より直径50mmφの円形に加工したのち、表面のCu
メッキ層上にPb−3n系はんだよりなる厚さ 5戸の
低融点合金層を形成した。
このようにして得た受圧ダイヤプラム2枚を第3図に示
した差圧伝送器のケーシング5.6および7に接合する
ことにより本発明の差圧伝送器を完成した。なお、この
ときケーシング5,8.7の各接合部にも同様の低融点
合金層を設けた。かかる差圧伝送器において、圧力伝達
媒体としてHeガスを封入し、前記差圧伝送器を真空容
器内に保持後の、もれDelを測定することにより、耐
リーク試験を行なった。その結果、リーク度は 1.8
X lo−8ATM * cc/see以下であり、装
置として要求されるリーク度をヒ分満足する値であった
。なお、本実施例において、低融点合金として、In−
Pbに代えて、In −Sb、 Bi −In、ρb−
1nなどを使用したところ、−上記と同様の良好な耐リ
ーク性を備えていることが確認された。
実施例2 上記実施例1と同様の組成を有するアモルファス合金薄
帯表面にCuメッキを施したのち、エツチングして直径
5511■φの円形状とした。ついでCuメッキ層上に
Pb−5n系はんだ層を形成し、さらに、前述したよう
な同心円状の波形加工を施して直径50mmφの受圧ダ
イヤフラムを得た。
このようにして得た受圧ダイヤフラム2枚を第3図に示
した差圧伝送器のケーシング5.8および7に接合する
ことにより本発明の差圧伝送器を完成した。
かかる差圧伝送器において、差圧に対するダイヤプラム
(例えば3)の移動容積を調べて、その結果を第2図に
実線で示した。
なお、比較のために、従来使用されていた5us3te
t、(板厚50μ)よりなる受圧ダイヤフラムお′よび
Ni7eSi+oBt2よりなり波形が形成されておら
ず偏平な受圧ダイヤフラムを使用して、それぞれ上記実
施例2と同様にして差圧伝送器を製作し。
差圧に対するダイヤフラムの移動容積を調べ、結果を第
2図に破線および1点鎖線で示した0図より明らかに、
本発明に係るダイヤフラムは線形性に優れ、また、高感
度であることがわかる。
[発明の効果] 以上の説明から明らかなように、本発明の圧力・差圧伝
送器は、アモルファス合金よりなる受圧ダイヤフラムが
ケーシングに極めて気密・液密に接合されており、しか
も、受圧ダイヤフラムを波形形状とすることにより、差
圧に対するダイヤプラムのたわみ量、すなわち、移動容
積の直線性に優れるとともに、とくに、低差圧領域での
応答性が良好であるため、その工業的価値は極めて大で
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の圧力・差圧伝送器に使用する受圧ダイ
ヤフラムの構成を示す平面図、第2図は本発明の圧力働
差圧伝送器の特性を示す図、第3図は圧力・差圧伝送器
の一般的構造を示す縦断面図である。 3.4.30・・・受圧ダイヤフラム、13・・・感圧
素子、 30a・・・低融点金属層(接合部)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ケーシングに接合されたアモルファス合金よりなる
    受圧ダイヤフラムと、被測定流体の圧力を検出してそれ
    を電気信号に変換して外部に出力する感圧素子とを備え
    た圧力・差圧伝送器において、 該受圧ダイヤフラム表面の少なくとも該接合部に低融点
    合金層が形成されていることを特徴とする圧力・差圧伝
    送器。 2、該アルモファス合金は、予め結晶化温度以下で熱処
    理されていることを特徴とする特許請求の範囲第1項に
    記載の圧力・差圧伝送器。 3、該受圧ダイヤフラム表面全面に低融点合金層が形成
    されている特許請求の範囲第1項記載の圧力・差圧伝送
    器。 4、該受圧ダイヤフラム表面と該低融点合金層との間に
    、金属メッキ層が介在せしめられている特許請求の範囲
    第1項または第3項に記載の圧力・差圧伝送器。 5、該受圧ダイヤフラムが波形形状とされている特許請
    求の範囲第3項または第4項に記載の圧力・差圧伝送器
JP21460885A 1985-09-30 1985-09-30 圧力・差圧伝送器 Pending JPS6275222A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011519042A (ja) * 2008-04-29 2011-06-30 ザ・スウォッチ・グループ・リサーチ・アンド・ディベロップメント・リミテッド 圧力センサー
JP2012505378A (ja) * 2008-10-09 2012-03-01 キストラー ホールディング アクチエンゲゼルシャフト センサ膜

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