JPS627434A - 液体及び／又はガスの接触変換法並びにそれを実施するための装置 - Google Patents
液体及び／又はガスの接触変換法並びにそれを実施するための装置Info
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- JPS627434A JPS627434A JP61138435A JP13843586A JPS627434A JP S627434 A JPS627434 A JP S627434A JP 61138435 A JP61138435 A JP 61138435A JP 13843586 A JP13843586 A JP 13843586A JP S627434 A JPS627434 A JP S627434A
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- C10G49/002—Apparatus for fixed bed hydrotreatment processes
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- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
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- B01J2208/00008—Controlling the process
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- B01J2208/00327—Controlling the temperature by direct heat exchange
- B01J2208/00336—Controlling the temperature by direct heat exchange adding a temperature modifying medium to the reactants
- B01J2208/00353—Non-cryogenic fluids
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- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、液体及び／又はガスの接触変換法であって、
容器の上端にガス及び変換されるべき液体あるいは液体
及び変換されるべきガスを導入し、これらの液体及びガ
スを容器内の触媒粒子の床を通過せしめ、接触変換によ
って得られた流出物を容器の下端から除去する工程から
なる上記変換法に関する。
容器の上端にガス及び変換されるべき液体あるいは液体
及び変換されるべきガスを導入し、これらの液体及びガ
スを容器内の触媒粒子の床を通過せしめ、接触変換によ
って得られた流出物を容器の下端から除去する工程から
なる上記変換法に関する。
かかる変換法の例は、水添処理、水添脱硫又は水添分解
である。更なる例は、水素及び−酸化炭素からなる合成
ガスの、中質留出物の沸とう範囲にある炭化水素への接
触変換である。
である。更なる例は、水素及び−酸化炭素からなる合成
ガスの、中質留出物の沸とう範囲にある炭化水素への接
触変換である。
かかる変換法は発熱的である。触媒床の温度を制御する
ために、変換に関与する流体を触媒床から流出させそし
て透過性壁を備えた複数の中空棒中に流入させ、これら
の中空棒中で該流体を冷却流体と混合せしめ、そして冷
却された流体を該中空棒の下流の触媒床に流入させるこ
とが知られている。
ために、変換に関与する流体を触媒床から流出させそし
て透過性壁を備えた複数の中空棒中に流入させ、これら
の中空棒中で該流体を冷却流体と混合せしめ、そして冷
却された流体を該中空棒の下流の触媒床に流入させるこ
とが知られている。
この公知の方法の欠点は、透過性壁が触媒粒子の破片に
より又は流体からのコークスの沈着物により容易に閉塞
され得、そのため流体が中空棒内の混合帯域に達成する
ことが困難になり得ることである。
より又は流体からのコークスの沈着物により容易に閉塞
され得、そのため流体が中空棒内の混合帯域に達成する
ことが困難になり得ることである。
この発明の目的は、この欠点を解決することである。
この目的のために、本発明による液体及び／又はガスの
接触変換法は、容器の上端にガス及び変換されるべき液
体あるいは液体及び変換されるべきガスを導入し、これ
らの液体及びガスを容器内の触媒粒子の床を通過せしめ
、それらの液体及びガスを、触媒粒子の床中に配置され
た複数の案内要素の外面間で画定される複数の通路であ
って流れの方向において先狭部（だんだん狭くなってい
る部分）、狭部及び先広部（だんだん広くなっている部
分）を有する該複数の通路を通過せしめ、これらの通路
の先狭部にてあるいは狭部にて又は狭部の近くにて追加
的流体を該通路に導入し、そして接触変換によって得ら
れた流出物を容器の下端から除去する工程からなる。
接触変換法は、容器の上端にガス及び変換されるべき液
体あるいは液体及び変換されるべきガスを導入し、これ
らの液体及びガスを容器内の触媒粒子の床を通過せしめ
、それらの液体及びガスを、触媒粒子の床中に配置され
た複数の案内要素の外面間で画定される複数の通路であ
って流れの方向において先狭部（だんだん狭くなってい
る部分）、狭部及び先広部（だんだん広くなっている部
分）を有する該複数の通路を通過せしめ、これらの通路
の先狭部にてあるいは狭部にて又は狭部の近くにて追加
的流体を該通路に導入し、そして接触変換によって得ら
れた流出物を容器の下端から除去する工程からなる。
本明細書は更に、液体又はガスの接触変換法を実施する
ための装置であって、容器、流体及び触媒粒子を該容器
中に導入すために該容器の上端に配置された入口手段、
触媒粒子の床を該容器中に支持するための支持手段、及
び流出物及び触媒粒子を該容器から排出するために該容
器の下端に配置された排出手段からなる上記装置に関す
る。
ための装置であって、容器、流体及び触媒粒子を該容器
中に導入すために該容器の上端に配置された入口手段、
触媒粒子の床を該容器中に支持するための支持手段、及
び流出物及び触媒粒子を該容器から排出するために該容
器の下端に配置された排出手段からなる上記装置に関す
る。
公知の装置では、流体透過性外壁を有する中空棒の格子
が設けられ、正常な操作中冷却流体を該中空棒中に導入
するための噴霧手段が該中空棒に配置されており、しか
して冷却流体は、触媒床から中空棒中に入る流体と混じ
り合う。
が設けられ、正常な操作中冷却流体を該中空棒中に導入
するための噴霧手段が該中空棒に配置されており、しか
して冷却流体は、触媒床から中空棒中に入る流体と混じ
り合う。
この発明の目的は、改善された装置を提供することであ
る。
る。
この目的のため、本発明による液体及び／又はガスの接
触変換法を実施するための装置は、容器、流体及び触媒
粒子を該容器中に導入するために該容器の上端に配置さ
れた入口手段、触媒粒子の床を該容器中に支持するため
の支持手段、流出物及び触媒粒子を該容器から排出する
ために該容器の下端に配置された排出手段、及び流体の
流れの方向に実質的に垂直に該容器中に配置された案内
要素の格子からなり、しかも、隣接した案内要素の外面
の互に対向した部分間に、流体の流れの方向において先
決部、狭部及び先広部を存する通路が画定されており、
追加的流体を該通路に導入するための導入手段が該案内
要素に設けられており、該導入手段は該通路の先決部に
沿っであるいは狭部に又は狭部の近くに配置されている
。
触変換法を実施するための装置は、容器、流体及び触媒
粒子を該容器中に導入するために該容器の上端に配置さ
れた入口手段、触媒粒子の床を該容器中に支持するため
の支持手段、流出物及び触媒粒子を該容器から排出する
ために該容器の下端に配置された排出手段、及び流体の
流れの方向に実質的に垂直に該容器中に配置された案内
要素の格子からなり、しかも、隣接した案内要素の外面
の互に対向した部分間に、流体の流れの方向において先
決部、狭部及び先広部を存する通路が画定されており、
追加的流体を該通路に導入するための導入手段が該案内
要素に設けられており、該導入手段は該通路の先決部に
沿っであるいは狭部に又は狭部の近くに配置されている
。
本発明を、図面を参照して一層詳細に例示して説明する
。
。
第１図、第２図及び第３図を参照すると、本発明による
装置は容器１、容器Ｉの上端に配置された流体用入口部
２及び触媒用入口部３、容器１の下端に配置された流体
用出口部４及び触媒用出口部５からなる。更に、容器１
は、触媒粒子の床（図示されていない、）を容器１中で
支持するための支持円錐体８を備え、支持円錐体８は中
央開口部９を有し、中央開口部９は管１０によって触媒
用出口部５に連結されている。更に、触媒用出口部５に
は、容器１から触媒粒子を排出させたりあるいは触媒粒
子の排出を停止させたりするための弁手段（図示されて
いない。）が設けられている。
装置は容器１、容器Ｉの上端に配置された流体用入口部
２及び触媒用入口部３、容器１の下端に配置された流体
用出口部４及び触媒用出口部５からなる。更に、容器１
は、触媒粒子の床（図示されていない、）を容器１中で
支持するための支持円錐体８を備え、支持円錐体８は中
央開口部９を有し、中央開口部９は管１０によって触媒
用出口部５に連結されている。更に、触媒用出口部５に
は、容器１から触媒粒子を排出させたりあるいは触媒粒
子の排出を停止させたりするための弁手段（図示されて
いない。）が設けられている。
更に、容器Ｉには第１格子１２及び第２格子１３が設け
られており、これらの格子は、容器１を通過する流体の
流れの方向に実質的に垂直に、容器１の異なるレベルに
配置されている。各格子は案内要素１４からなり、それ
らの案内要素１４は環状支持部材１８に連結されており
、環状支持部材１８は容器１の側壁の内面に接合されて
いる。
られており、これらの格子は、容器１を通過する流体の
流れの方向に実質的に垂直に、容器１の異なるレベルに
配置されている。各格子は案内要素１４からなり、それ
らの案内要素１４は環状支持部材１８に連結されており
、環状支持部材１８は容器１の側壁の内面に接合されて
いる。
第１格子１２の案内要素は好ましくは、第２格子１３の
案内要素に対して少しずらして配列される。
案内要素に対して少しずらして配列される。
隣接した案内要素１４の外側の対向した部分間に、並び
に環状支持部材１８と隣接した案内要素の外面の対向し
た部分間に、参照番号２０で示される通路が画定される
。各通路２０は、流体の流れの方向において先決部２１
、狭部２２及び先広部２３からなる。明瞭化のため、ｉ
ｌ路２ｏのそれらの部分に言及する参照番号は、第３図
においてのみ示されている。
に環状支持部材１８と隣接した案内要素の外面の対向し
た部分間に、参照番号２０で示される通路が画定される
。各通路２０は、流体の流れの方向において先決部２１
、狭部２２及び先広部２３からなる。明瞭化のため、ｉ
ｌ路２ｏのそれらの部分に言及する参照番号は、第３図
においてのみ示されている。
各案内要素１４は、側壁２６及び底壁２８を有する三角
形状の流体供給用筋部２５（第３図参照）を有し、流体
供給用笠部２５中には流体用導管２９が設けられている
。各環状支持部材１８は、側壁２６及び底壁２８を有す
る流体供給用筋部３０を有し、流体供給用筒部３０中に
は流体供給用導管３１が設けられており、流体供給用導
管３１は、三角形状の流体供給用笠部２５中の流体用導
管２９及び追加的流体用入口部３２（第２図参照）と流
体連絡されるようになっている。
形状の流体供給用筋部２５（第３図参照）を有し、流体
供給用笠部２５中には流体用導管２９が設けられている
。各環状支持部材１８は、側壁２６及び底壁２８を有す
る流体供給用筋部３０を有し、流体供給用筒部３０中に
は流体供給用導管３１が設けられており、流体供給用導
管３１は、三角形状の流体供給用笠部２５中の流体用導
管２９及び追加的流体用入口部３２（第２図参照）と流
体連絡されるようになっている。
流体供給用筋部２５及び３０の各々は、支持ビーム３３
によって支持されている。流体供給用筋部は幅広く、底
壁２８が支持ビーム３３の長さに沿って支持ビーム３３
を越えて延びている。支持ビーム３３を越えて延びてい
る底壁２８の部分には、追加的流体を出口開口３５ （
第３図参ＷＩ）の列の形態で通路に導入するための手段
が配置されており、出口間口３５は流体用導管２９と流
体連絡されるようになっているか、あるいは環状支持部
材１８の出［コ開口３５は流体供給用導管３１と流体連
絡されるようになっている。
によって支持されている。流体供給用筋部は幅広く、底
壁２８が支持ビーム３３の長さに沿って支持ビーム３３
を越えて延びている。支持ビーム３３を越えて延びてい
る底壁２８の部分には、追加的流体を出口開口３５ （
第３図参ＷＩ）の列の形態で通路に導入するための手段
が配置されており、出口間口３５は流体用導管２９と流
体連絡されるようになっているか、あるいは環状支持部
材１８の出［コ開口３５は流体供給用導管３１と流体連
絡されるようになっている。
第２格子１３０案内要素及び環状支持部材についての上
記の詳細は、第１格子１２０案内要素及び環状支持部材
しこついて同様に当てはまる、ということが理解されよ
う。
記の詳細は、第１格子１２０案内要素及び環状支持部材
しこついて同様に当てはまる、ということが理解されよ
う。
水素を用いて硫黄含有炭化水素油を実質的に硫黄不含の
炭化水素油に接触変換する方法を記述する。支持円錐体
８より上の空間及び管１０中の空間が触媒粒子の床（図
示されていない、）で満たされるまで、触媒粒子が触媒
用入口部３を通じて供給される０次いで、３００℃ない
し５００℃の範囲の温度及び３ ＭＰａないし２５ＭＰ
ａの範囲の圧力の、硫黄含有炭化水素油と水素の混合物
が、流体用入口部２を通じて容器１中に導入される。
炭化水素油に接触変換する方法を記述する。支持円錐体
８より上の空間及び管１０中の空間が触媒粒子の床（図
示されていない、）で満たされるまで、触媒粒子が触媒
用入口部３を通じて供給される０次いで、３００℃ない
し５００℃の範囲の温度及び３ ＭＰａないし２５ＭＰ
ａの範囲の圧力の、硫黄含有炭化水素油と水素の混合物
が、流体用入口部２を通じて容器１中に導入される。
反応器中で発熱反応が起こり、水素と硫黄含有炭化水素
油中の硫黄とが反応して硫化水素及び実質的に脱硫され
た炭化水素油を生じる。炭化水素油と硫化水素の混合物
は下向きに流れそして管１０の壁中に配置された上方に
傾斜した分離スリット４０を通過して支持円錐体８の下
の流出物捕集空間４１に入り、そこから流体用出口部４
を通じて該混合物は排出される。冷却捗、生成した硫化
水素は適当な分離器（図示されていない。）中−で、脱
硫された炭化水素油から分離される。触媒が例えば６〜
１２ケ月後失活したとき・本方法は中断され、すべての
触媒粒子は容器１から排出され、容器１は次いで新鮮な
触媒粒子で満たされる。
油中の硫黄とが反応して硫化水素及び実質的に脱硫され
た炭化水素油を生じる。炭化水素油と硫化水素の混合物
は下向きに流れそして管１０の壁中に配置された上方に
傾斜した分離スリット４０を通過して支持円錐体８の下
の流出物捕集空間４１に入り、そこから流体用出口部４
を通じて該混合物は排出される。冷却捗、生成した硫化
水素は適当な分離器（図示されていない。）中−で、脱
硫された炭化水素油から分離される。触媒が例えば６〜
１２ケ月後失活したとき・本方法は中断され、すべての
触媒粒子は容器１から排出され、容器１は次いで新鮮な
触媒粒子で満たされる。
容器中の温度を制御するために、例えば冷却された脱硫
炭化水素油又は急冷ガスからなる冷却流体の形態の追加
的流体が、格子１２及び１３の少なくとも１つの格子の
追加的流体用入口部３２に供給され、しかしてその冷却
流体は通路２０の狭部２２の近くの出口開口３５を通じ
て通路２０に入る（第３図参照）。
炭化水素油又は急冷ガスからなる冷却流体の形態の追加
的流体が、格子１２及び１３の少なくとも１つの格子の
追加的流体用入口部３２に供給され、しかしてその冷却
流体は通路２０の狭部２２の近くの出口開口３５を通じ
て通路２０に入る（第３図参照）。
このようにして、通路が狭くされている領域従って流体
速度及び乱れが増大される領域において、反応生成物が
冷却される。かくして、熱い反応生成物と追加的流体と
の間の改善された熱交換が得られる。
速度及び乱れが増大される領域において、反応生成物が
冷却される。かくして、熱い反応生成物と追加的流体と
の間の改善された熱交換が得られる。
格子前後間の温和な圧力降下及び充分な熱交換を得るた
めに、通路２０の総断面積は、容器１の断面積の３０％
ないし６０％の範囲好ましくは４５％ないし５５％の範
囲にあるべきである。
めに、通路２０の総断面積は、容器１の断面積の３０％
ないし６０％の範囲好ましくは４５％ないし５５％の範
囲にあるべきである。
流体供給用筋部２５及び３０の底壁２８は、支持ビーム
３３を越えて延びている。容器が触媒粒子（図示されて
いない。）で満たされる場合、これらの粒子は、支持ビ
ーム３３を越えて延びている底壁２８の側部の下に、支
持ビーム３３の長さ方向に延在する触媒不含の分配空間
（触媒が分配されていない空間）４２（第３図参照）が
存在するように、容器１中に分配される。支持ビーム３
３を越えて延びている底壁２８の側部に流体用出口開口
３５が配置されているので、冷却流体が触媒粒子の床に
入る前に冷却流体が分配空間４２に均一に分配されるよ
うに、冷却流体は分配空間４２に導入される。これによ
り、通路２０における触媒床の不均一な温度分布変化が
低減される。
３３を越えて延びている。容器が触媒粒子（図示されて
いない。）で満たされる場合、これらの粒子は、支持ビ
ーム３３を越えて延びている底壁２８の側部の下に、支
持ビーム３３の長さ方向に延在する触媒不含の分配空間
（触媒が分配されていない空間）４２（第３図参照）が
存在するように、容器１中に分配される。支持ビーム３
３を越えて延びている底壁２８の側部に流体用出口開口
３５が配置されているので、冷却流体が触媒粒子の床に
入る前に冷却流体が分配空間４２に均一に分配されるよ
うに、冷却流体は分配空間４２に導入される。これによ
り、通路２０における触媒床の不均一な温度分布変化が
低減される。
各通路２０の先広部２３を通過する液体の均一な分配を
達成するために、先広部２３を画定する案内要素１４又
は環状支持部材１日の外面の部分と垂直面との間の鋭角
４３は、液体の広が杓角度と整合されるべきである。慣
用の触媒粒子の床を通過する液体の場合、鋭角４３は３
°ないし１０゜の範囲にある。
達成するために、先広部２３を画定する案内要素１４又
は環状支持部材１日の外面の部分と垂直面との間の鋭角
４３は、液体の広が杓角度と整合されるべきである。慣
用の触媒粒子の床を通過する液体の場合、鋭角４３は３
°ないし１０゜の範囲にある。
各通路２０の先広部２３における液体の均一な分配は、
反応効率に有益な効果を奏し、何故なら、液体と触媒の
不均一な接触従って触媒床の不均一な温度分布従って触
媒粒子の不均一な汚染が避けられるからである。
反応効率に有益な効果を奏し、何故なら、液体と触媒の
不均一な接触従って触媒床の不均一な温度分布従って触
媒粒子の不均一な汚染が避けられるからである。
上述した方法において、失活した触媒は、実質的に長い
期間後のみリフレッシュ（再活性化）される。本発明の
別の具体例では、ある容量の触媒粒子が容器から排出さ
れ、そして触媒用入口部３を通じて容器に導入されるあ
る容量の新鮮な触媒粒子により置き換えられる。ある容
量の失活した触媒粒子がある容量の新鮮な触媒粒子によ
り置き換えられるように、バンカーフローで触媒床を短
い距離移動させることが、短い間隔例えば１日１回行わ
れ得る。
期間後のみリフレッシュ（再活性化）される。本発明の
別の具体例では、ある容量の触媒粒子が容器から排出さ
れ、そして触媒用入口部３を通じて容器に導入されるあ
る容量の新鮮な触媒粒子により置き換えられる。ある容
量の失活した触媒粒子がある容量の新鮮な触媒粒子によ
り置き換えられるように、バンカーフローで触媒床を短
い距離移動させることが、短い間隔例えば１日１回行わ
れ得る。
通路２０の先狭部２１における触媒粒子が下向きに移動
するとき、先狭部２１を画定する面の近くの触媒粒子が
先狭部２Ｉの中央部における触媒粒子の速度とほぼ同じ
速度で移動するように触媒粒子が均一な具合で下向きに
移動することを確実にするためには、先狭部２１を画定
する案内要素１４又は環状支持部材１日の外面の部分と
垂直面との間の鋭角４４は、−団的な流れが生じるよう
に選ばれるべきである。慣用の触媒粒子の場合、鋭角４
４は１０’ないし４０’の範囲にある。
するとき、先狭部２１を画定する面の近くの触媒粒子が
先狭部２Ｉの中央部における触媒粒子の速度とほぼ同じ
速度で移動するように触媒粒子が均一な具合で下向きに
移動することを確実にするためには、先狭部２１を画定
する案内要素１４又は環状支持部材１日の外面の部分と
垂直面との間の鋭角４４は、−団的な流れが生じるよう
に選ばれるべきである。慣用の触媒粒子の場合、鋭角４
４は１０’ないし４０’の範囲にある。
別のプロセスでは、ガスが液体に変換され、しかしてこ
の目的のためガスと液体の混合物は流体用入口部２を通
じて容器中に導入される。
の目的のためガスと液体の混合物は流体用入口部２を通
じて容器中に導入される。
かかるプロセスの例は、水素及び−酸化炭素からなる合
成ガスの、中質留出物の沸とう範囲にある液体炭化水素
への変換である。
成ガスの、中質留出物の沸とう範囲にある液体炭化水素
への変換である。
この変換法においては、２００℃ないし２５０℃の範囲
の温度及び２ ＭＰａないし４ ＭＰａの範囲の圧力の
、合成ガスと再循環液体炭化水素の混合物が、反応器中
の触媒床に導入される。かかる変換法において、該液体
の目的は、容器中の触媒床の均一な温度分布を達成する
ように熱を移動させることである。正常な操作中、冷却
された再循環液体炭化水素生成物が追加的流体用入口部
３２に供給され、そして出口開口３５を通して容器１に
入り、生成物を冷却する。
の温度及び２ ＭＰａないし４ ＭＰａの範囲の圧力の
、合成ガスと再循環液体炭化水素の混合物が、反応器中
の触媒床に導入される。かかる変換法において、該液体
の目的は、容器中の触媒床の均一な温度分布を達成する
ように熱を移動させることである。正常な操作中、冷却
された再循環液体炭化水素生成物が追加的流体用入口部
３２に供給され、そして出口開口３５を通して容器１に
入り、生成物を冷却する。
第１図に言及して記述される装置は、案内要素の格子を
２個備えている。非常に小さい装置は案内要素の格子を
唯１個だけ設けられ得、比較的大きい装置は１個より多
い例えば３〜１０個の格子を容器中の異なるレベルにて
設けられ得る。
２個備えている。非常に小さい装置は案内要素の格子を
唯１個だけ設けられ得、比較的大きい装置は１個より多
い例えば３〜１０個の格子を容器中の異なるレベルにて
設けられ得る。
第３図に言及して記述される案内要素において、追加的
流体を通路中に導入される手段が、支持ビームを越えて
延びている底壁の側部に配置されて、正常な操作中追加
的流体は通路の狭部の近くで導入される。
流体を通路中に導入される手段が、支持ビームを越えて
延びている底壁の側部に配置されて、正常な操作中追加
的流体は通路の狭部の近くで導入される。
第４図を参照すると、第１図、第２図及び第３図に言及
して記述された格子１２及び１３の案内要素１４の一部
又はすべてが置き換えられ得る案内要素４５が示されて
いる。案内要素４５は、支持ビーム４７によって支持さ
れた三角形状の流体供給用筒部４６からなる。三角形状
の流体供給用筒部４６の各側壁は下部帯状体４８及び上
部帯状体４９からなり、下部帯状体４８及び上部帯状体
４９は、案内要素４５の長さに沿って延在しかつ、上部
帯状体４９の下部が下部帯状体４日の上部と重なり合う
よう上下関係に配置されている。追加的流体を出口開口
５０の列の形態で通路に導入するための手段は、上部帯
状体４９が下部帯状体４８と重なり合っている領域（こ
の領域は、案内要素４５に沿って延在する。）において
、通路の先狭部に沿って配置されている。
して記述された格子１２及び１３の案内要素１４の一部
又はすべてが置き換えられ得る案内要素４５が示されて
いる。案内要素４５は、支持ビーム４７によって支持さ
れた三角形状の流体供給用筒部４６からなる。三角形状
の流体供給用筒部４６の各側壁は下部帯状体４８及び上
部帯状体４９からなり、下部帯状体４８及び上部帯状体
４９は、案内要素４５の長さに沿って延在しかつ、上部
帯状体４９の下部が下部帯状体４日の上部と重なり合う
よう上下関係に配置されている。追加的流体を出口開口
５０の列の形態で通路に導入するための手段は、上部帯
状体４９が下部帯状体４８と重なり合っている領域（こ
の領域は、案内要素４５に沿って延在する。）において
、通路の先狭部に沿って配置されている。
更に、流体供給用筒部４６の底壁５３は幅広くて支持ビ
ーム４７を越えて延びており、追加的流体を導入するた
めの出口開口５４０列の形態の手段が、支持ビーム４７
を越えて延びている底壁５３の部分に配置されている。
ーム４７を越えて延びており、追加的流体を導入するた
めの出口開口５４０列の形態の手段が、支持ビーム４７
を越えて延びている底壁５３の部分に配置されている。
出口開口５０及び５４は、三角形状の流体供給用副部４
６内に配置された流体用導管５５と流体連絡されており
、流体用導管５５は環状支持部材１８の流体供給用導管
３１ （第３図参照）と流体連絡されている。
６内に配置された流体用導管５５と流体連絡されており
、流体用導管５５は環状支持部材１８の流体供給用導管
３１ （第３図参照）と流体連絡されている。
正常な操作中、帯状体４９が帯状体４８と重なり合って
いる領域の下に並びに支持ビーム４７を越えて延びてい
る底壁５３の側部の下に触媒不含の分配空間５６及び５
７が存在するように容器中に分配された触媒粒子の床（
図示されていない。）で、容器は満たされている。各格
子の案内要素４５の流体用導管５５に供給される追加的
流体は、開口５０及び５４を通じて各通路の先狭部中に
及び狭部の近くに導入されよう。
いる領域の下に並びに支持ビーム４７を越えて延びてい
る底壁５３の側部の下に触媒不含の分配空間５６及び５
７が存在するように容器中に分配された触媒粒子の床（
図示されていない。）で、容器は満たされている。各格
子の案内要素４５の流体用導管５５に供給される追加的
流体は、開口５０及び５４を通じて各通路の先狭部中に
及び狭部の近くに導入されよう。
環状支持部材の流体供給用筒部も同様に、支持部材に沿
って延在しかつ上部帯状体の下部が下部帯状体の上部と
重なり合うように配置された２つの帯状体からなる側壁
が設けられ得、しかして上部帯状体が下部帯状体と重な
り合う領域に、追加的流体を通路に導入する手段が配置
されている。
って延在しかつ上部帯状体の下部が下部帯状体の上部と
重なり合うように配置された２つの帯状体からなる側壁
が設けられ得、しかして上部帯状体が下部帯状体と重な
り合う領域に、追加的流体を通路に導入する手段が配置
されている。
帯状体の外面と垂直面との間の鋭角は、１０゜ないし４
０°の範囲にあるべきである。
０°の範囲にあるべきである。
三角形状の流体供給用筒部の側部は２つより多い例えば
３つないし５つの帯状体からなり得、しかしてこれらの
帯状部は案内要素に沿って延在しかつ、上部帯状体の下
部が下部帯状体の上部と重なり合うように上下関係で配
置され、上部帯状体が下部帯状体と重なり合っている領
域に、追加的流体を導入する手段が配置されて通路の先
狭部中に又は狭部に追加的流体が導入されるようにされ
る。
３つないし５つの帯状体からなり得、しかしてこれらの
帯状部は案内要素に沿って延在しかつ、上部帯状体の下
部が下部帯状体の上部と重なり合うように上下関係で配
置され、上部帯状体が下部帯状体と重なり合っている領
域に、追加的流体を導入する手段が配置されて通路の先
狭部中に又は狭部に追加的流体が導入されるようにされ
る。
出口開口３５ （第３図参照）、５ｏ及び５４（第４図
参照）の各列は、相当する案内要素に沿って延在してお
り、しかして出口開口のかがる列は、案内要素の少なく
とも一部に沿って延在するスリットによって少なくとも
部分的に置き換えられ得る。
参照）の各列は、相当する案内要素に沿って延在してお
り、しかして出口開口のかがる列は、案内要素の少なく
とも一部に沿って延在するスリットによって少なくとも
部分的に置き換えられ得る。
正常な操作中、接触変換に所要される流体の形態の追加
的流体が供給され得る。ががる追加的流体の例は、上述
した硫黄含有炭化水素油の接触変換法において硫黄含有
炭化水素油及び水素の所要容量比を維持するために供給
される水素ガスであ液体及び／又はガスの接触変換法が
吸熱的である場合、追加的流体は、加熱流体例えば水蒸
気又は接触変換に所要される加熱された流体からなる。
的流体が供給され得る。ががる追加的流体の例は、上述
した硫黄含有炭化水素油の接触変換法において硫黄含有
炭化水素油及び水素の所要容量比を維持するために供給
される水素ガスであ液体及び／又はガスの接触変換法が
吸熱的である場合、追加的流体は、加熱流体例えば水蒸
気又は接触変換に所要される加熱された流体からなる。
別の具体例では、流体は、開口５ｏを通じて流体供給用
筒部４６（第４図参照）の上部に吸引され得、追加的流
体と混合されそして開口５４を通じて通路に導入される
。
筒部４６（第４図参照）の上部に吸引され得、追加的流
体と混合されそして開口５４を通じて通路に導入される
。
第１図に言及して記述された装置Ｇとおいて、容器】中
に触媒粒子の床を支持するための支持手段は、支持円錐
体８からなる。本発明の別の具体例では、触媒床は有孔
板又は金網によって支持され得、しかしてそれらは触媒
／流体の分離を高めるという付加的利点を有する。触媒
床は、容器１の底壁によって支持されてもよい。更に、
ガス及び液体は、分離した入口手段を通じて容器に供給
され得る。
に触媒粒子の床を支持するための支持手段は、支持円錐
体８からなる。本発明の別の具体例では、触媒床は有孔
板又は金網によって支持され得、しかしてそれらは触媒
／流体の分離を高めるという付加的利点を有する。触媒
床は、容器１の底壁によって支持されてもよい。更に、
ガス及び液体は、分離した入口手段を通じて容器に供給
され得る。
本装置は容器中に軸方向に離隔された１つより多い触媒
粒子床を有し得、しかしてこれらの床の少なくとも１つ
に上述した案内要素が設けられる、ということが理解さ
れよう。
粒子床を有し得、しかしてこれらの床の少なくとも１つ
に上述した案内要素が設けられる、ということが理解さ
れよう。
第１図は本装置の縦断面を概略的に示し、第２図は第１
図に示された装置の■−■線に沿った断面を示し、第３
図は第１図の尺度よりも大きい尺度で描かれている、第
１図に示された装置の■の詳細を示し、第４図は案内要
素の別の具体例の断面を示す。 １−容器、２・−流体用入口部、３−触媒用入口部、４
−・流体用出口部、５・・・触媒用出口部、８−支持円
錐体、９−・−中央開口部、１０−・管、１２・・・第
１格子、１３−第２格子、１４−・案内要素、１８−・
環状支持部材、２０・−・通路、２１−先決部、２２−
狭部、２３・・−先広部、２５・・・流体供給用筒部、
２６・−・側壁、２８・−・底壁、２９−・・流体用導
管、３０・・・流体供給用筒部、３１−流体供給用導管
、３２・・−追加的流体用入口部、３３−・−支持ビー
ム、３５−・出口開口、４０−・・分離スリット、４１
−流出物捕集空間、４２−触媒不含の分配空間、４３−
鋭角、４４−鋭角、４５−案内要素、４６−・−流体供
給用筒部、４７−支持ビーム、４８・−下部帯状体、４
９−上部帯状体、５ｏ・−出口開口、５３・・−底壁、
５４−出口開口、５５−流体用導管、５６．５７−−・
触媒不含の分配空間。 代理人の氏名 川原１）−穂 ｌυ Ｆ１６２
図に示された装置の■−■線に沿った断面を示し、第３
図は第１図の尺度よりも大きい尺度で描かれている、第
１図に示された装置の■の詳細を示し、第４図は案内要
素の別の具体例の断面を示す。 １−容器、２・−流体用入口部、３−触媒用入口部、４
−・流体用出口部、５・・・触媒用出口部、８−支持円
錐体、９−・−中央開口部、１０−・管、１２・・・第
１格子、１３−第２格子、１４−・案内要素、１８−・
環状支持部材、２０・−・通路、２１−先決部、２２−
狭部、２３・・−先広部、２５・・・流体供給用筒部、
２６・−・側壁、２８・−・底壁、２９−・・流体用導
管、３０・・・流体供給用筒部、３１−流体供給用導管
、３２・・−追加的流体用入口部、３３−・−支持ビー
ム、３５−・出口開口、４０−・・分離スリット、４１
−流出物捕集空間、４２−触媒不含の分配空間、４３−
鋭角、４４−鋭角、４５−案内要素、４６−・−流体供
給用筒部、４７−支持ビーム、４８・−下部帯状体、４
９−上部帯状体、５ｏ・−出口開口、５３・・−底壁、
５４−出口開口、５５−流体用導管、５６．５７−−・
触媒不含の分配空間。 代理人の氏名 川原１）−穂 ｌυ Ｆ１６２
Claims (13)
- （１）液体及び／又はガスの接触変換法であって、容器
の上端にガス及び変換されるべき液体あるいは液体及び
変換されるべきガスを導入し、これらの液体及びガスを
容器内の触媒粒子の床を通過せしめ、それらの液体及び
ガスを、触媒粒子の床中に配置された複数の案内要素の
外面間で画定される複数の通路であって流れの方向にお
いて先狭部（だんだん狭くなっている部分）、狭部及び
先広部（だんだん広くなっている部分）を有する該複数
の通路を通過せしめ、これらの通路の先狭部にてあるい
は狭部にて又は狭部の近くにて追加的流体を該通路に導
入し、そして接触変換によって得られた流出物を容器の
下端から除去する工程からなる上記変換法。 - （２）追加的流体が冷却流体からなる、特許請求の範囲
第１項に記載の変換法。 - （３）追加的流体が、接触変換に所要される流体からな
る、特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の変換法。 - （４）ある容量の触媒粒子を容器の下端から排出し、こ
の排出される容量の触媒粒子と置き換えるべき容量の触
媒粒子を容器の上端に導入する、特許請求の範囲第１〜
３項のいずれか１つの項に記載の変換法。 - （５）液体及び／又はガスの接触変換法を実施するため
の装置であって、容器、流体及び触媒粒子を該容器中に
導入するために該容器の上端に配置された入口手段、触
媒粒子の床を該容器中に支持するための支持手段、流出
物及び触媒粒子を該容器から排出するために該容器の下
端に配置された排出手段、及び流体の流れの方向に実質
的に垂直に該容器中に配置された案内要素の格子からな
り、しかも、隣接した案内要素の外面の互に対向した部
分間に、流体の流れの方向において先狭部、狭部及び先
広部を有する通路が画定されており、追加的流体を該通
路に導入するための導入手段が該案内要素に設けられて
おり、該導入手段は該通路の先狭部に沿ってあるいは狭
部に又は狭部の近くに配置されている上記装置。 - （６）案内要素が、２つの側壁及び１つの底壁を有する
三角形状の流体供給用笠部からなり、この流体供給用笠
部は支持ビームによって支持されており、この支持ビー
ムの外面は逆三角形状の断面を有している、特許請求の
範囲第５項に記載の装置。 - （７）流体供給用笠部の側壁が少なくとも２つの帯状体
によって形成されており、これらの帯状体は該案内要素
に沿って延在しておりかつ上部帯状体の下部が下部帯状
体の上部と重なり合うように上下関係で配置されており
、該上部帯状体が下部帯状体と重なり合っている領域に
流体通路が配置されている、特許請求の範囲第６項に記
載の装置。 - （８）流体供給用笠部の底部が、この底壁が支持ビーム
を越えて延在するように幅広であり、追加的流体を導入
するための導入手段が、支持ビームを越えて延びている
底壁の部分に配置された開口からなる、特許請求の範囲
第６項又は第７項に記載の装置。 - （９）通路の総断面積が容器の断面積の３０％ないし６
０％の範囲にある、特許請求の範囲第５〜８項のいずれ
か１つの項に記載の装置。 - （１０）通路の先狭部を画定する案内要素の外面の部分
と垂直面との間の鋭角が１０°ないし４０°の範囲にあ
る、特許請求の範囲第５〜９項のいずれか１つの項に記
載の装置。 - （１１）通路の先広部を画定する案内要素の外面の部分
と垂直面との間の鋭角が３°ないし１０°の範囲にある
、特許請求の範囲第５〜１０項のいずれか１つの項に記
載の装置。 - （１２）容器中に異なるレベルに配置された１個又はそ
れ以上の、案内要素の格子を有する、特許請求の範囲第
５〜１１項のいずれか１つの項に記載の装置。 - （１３）格子の案内要素が、隣接格子の案内要素に対し
て少しずらして配列されている、特許請求の範囲第１２
項に記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB858515398A GB8515398D0 (en) | 1985-06-18 | 1985-06-18 | Catalytic conversion of liquid/gas |
| GB8515398 | 1985-06-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS627434A true JPS627434A (ja) | 1987-01-14 |
| JPH0755289B2 JPH0755289B2 (ja) | 1995-06-14 |
Family
ID=10580918
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61138435A Expired - Lifetime JPH0755289B2 (ja) | 1985-06-18 | 1986-06-16 | 液体及び／又はガスの接触変換法並びにそれを実施するための装置 |
Country Status (18)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4693807A (ja) |
| EP (1) | EP0212689B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0755289B2 (ja) |
| KR (1) | KR940000861B1 (ja) |
| CN (1) | CN1005383B (ja) |
| AR (1) | AR242512A1 (ja) |
| AU (1) | AU579935B2 (ja) |
| CA (1) | CA1274852A (ja) |
| DE (1) | DE3665073D1 (ja) |
| ES (1) | ES8801698A1 (ja) |
| GB (1) | GB8515398D0 (ja) |
| MX (1) | MX170862B (ja) |
| NL (1) | NL8601575A (ja) |
| NZ (1) | NZ216540A (ja) |
| PH (1) | PH24726A (ja) |
| SG (1) | SG75190G (ja) |
| SU (1) | SU1523047A3 (ja) |
| ZA (1) | ZA864475B (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2177318B (en) * | 1985-07-02 | 1989-01-18 | Shell Int Research | Catalytic conversion of gas or liquid in a multitube reactor |
| GB8729555D0 (en) * | 1987-12-18 | 1988-02-03 | Shell Int Research | Alkylation process |
| US5601797A (en) * | 1992-08-10 | 1997-02-11 | Glitsch, Inc. | Liquid-phase catalyst-assembly for chemical process tower |
| US5525311A (en) * | 1994-05-02 | 1996-06-11 | Uop | Process and apparatus for controlling reaction temperatures |
| US5600052A (en) * | 1994-05-02 | 1997-02-04 | Uop | Process and apparatus for controlling reaction temperatures |
| US5538700A (en) * | 1994-12-22 | 1996-07-23 | Uop | Process and apparatus for controlling temperatures in reactant channels |
| US5540899A (en) * | 1994-12-22 | 1996-07-30 | Uop | BI-directional control of temperatures in reactant channels |
| US7473405B2 (en) * | 2004-10-13 | 2009-01-06 | Chevron U.S.A. Inc. | Fluid distribution apparatus for downflow multibed poly-phase catalytic reactor |
| CN112707844A (zh) * | 2019-10-24 | 2021-04-27 | 中国石油化工股份有限公司 | 芳烃氨氧化生产芳腈的方法 |
Citations (1)
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| JPS5350053A (en) * | 1976-10-18 | 1978-05-08 | Kouji Watanabe | Gas treatment apparatus |
Family Cites Families (10)
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| US3073875A (en) * | 1957-02-15 | 1963-01-15 | Belge Produits Chimiques Sa | Process for preparation of acetylene |
| DE1645864C3 (de) * | 1966-11-10 | 1978-04-13 | Daizo Kunii | Anlage zur Erzeugung von Olefinen durch thermische Spaltung von Kohlenwasserstoffen im Wirbelfließverfahren und Verfahren zur Erzeugung von Olefinen unter Verwendung dieser Anlage |
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| US4371335A (en) * | 1981-04-17 | 1983-02-01 | Paraho Corporation | Zone separator for multiple zone vessels |
| GB2101905B (en) * | 1981-07-22 | 1984-06-27 | Shell Int Research | Apparatus for contacting fluid with particulate solid material |
| GB8326856D0 (en) * | 1983-10-07 | 1983-11-09 | Shell Int Research | Moving catalyst bed reactor |
-
1985
- 1985-06-18 GB GB858515398A patent/GB8515398D0/en active Pending
-
1986
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- 1986-05-28 CA CA000510163A patent/CA1274852A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-06-11 US US06/873,029 patent/US4693807A/en not_active Expired - Fee Related
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- 1986-06-16 JP JP61138435A patent/JPH0755289B2/ja not_active Expired - Lifetime
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- 1986-06-18 NL NL8601575A patent/NL8601575A/nl not_active Application Discontinuation
-
1990
- 1990-09-11 SG SG751/90A patent/SG75190G/en unknown
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|---|---|---|---|---|
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